JPH08334788A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH08334788A JPH08334788A JP14032795A JP14032795A JPH08334788A JP H08334788 A JPH08334788 A JP H08334788A JP 14032795 A JP14032795 A JP 14032795A JP 14032795 A JP14032795 A JP 14032795A JP H08334788 A JPH08334788 A JP H08334788A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- liquid crystal
- substrate
- display
- resistance layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
電極上と第1の電極から分離する島状の第2の電極3と
島状の第2の電極上に設ける非線形抵抗層と非線形抵抗
層にオーバーラップする第3の電極7とを有し、第3の
電極の一方は第1の電極と一部で接続し、第3の電極の
他方は表示電極と一部で接続することを特徴とする液晶
表示装置およびその製造方法。 【効果】 液晶の印加電圧による誘電異方性が起きても
電極の低抵抗化のためにクロストークの発生をきわめて
小さくできる。したがって、液晶表示装置の大画面化あ
るいは微細化による電極の負担が増加する場合において
も、外部信号のなまりの発生をきわめて小さくでき、外
部信号を薄膜ダイオード素子を介して有効に表示電極に
印加することが可能となる。
Description
晶表示装置の製造方法とに関し、とくに第1の基板に第
1の電極と第2の電極と、第3の電極を有し、第1の電
極と表示電極間に非線形抵抗素子を有し、島状の第2の
電極上に設ける非線形抵抗層として、第2の電極の陽極
酸化膜や酸化シリコン膜や窒化シリコン膜や炭化シリコ
ン膜や酸化タンタル膜や、あるいは酸化アルミ膜を有す
る金属−絶縁膜−金属構造からなる非線形抵抗素子を有
する液晶表示装置の構成に関するものである。
の表示容量は、大容量化の一途をたどっている。
置にマルチプレクス駆動を用いる手段は、高時分割化す
るに従ってコントラストの低下あるいは応答速度の低下
が生じ、200本程度の走査線を有する場合では、充分
なコントラストを得ることが難しくなる。
に、個々の画素にスイッチング素子を設けるアクティブ
マトリクスの液晶表示パネルが採用されている。
ルには、大別すると薄膜トランジスタを用いる三端子系
と、非線系抵抗素子を用いる二端子系とがある。これら
のうち、構造や製造方法が簡単な点で、二端子系が優れ
ている。
は、ダイオード型や、バリスタ型や、薄膜ダイオード
(TFD)型などが開発されている。
で、そのうえ製造工程が短いという特徴を備えている。
も高精細化が要求され、スイッチング素子の占有面積を
小さくする必要がある。
であるフォトリソグラフィー技術とエッチング技術とが
ある。しかしながら、大面積で微細加工を行いしかも低
コストを実現するには、非常に困難な技術である。
かもコスト低減に有効な薄膜ダイオード素子構造を、図
12と図13を用いて説明する。
装置の構成を示す平面図である。さらに図13は、図1
2の平面図におけるA−A線での断面を示す断面図であ
る。以下図12と図13とを交互に用いて従来技術を説
明する。
膜からなる第1の電極52と第1の信号電極49と張り
出し部48とを設ける。さらに、この第1の電極52と
信号電極49と張り出し部48上に陽極酸化膜である酸
化タンタル(Ta2 O5 )からなる非線形抵抗層53を
設ける。
第3の電極54を非線形抵抗層53上にオーバーラップ
するように設けて、第1の非線形抵抗素子50を構成す
る。さらに第3の電極54は、外部の回路から電圧を印
加する第2の信号電極57を設ける。またさらに、表示
電極用の第3の電極55を非線形抵抗層53上にオーバ
ーラップするように設けて第2の非線形抵抗素子51を
構成する。この第3の電極55の一部領域は、透明導電
性膜である酸化インジウムスズ(ITO)からなる表示
電極56と接続している。
基板47に形成するそれぞれの表示電極56の隙間から
の光の漏れを防止するために、クロム膜からなるブラッ
クマトリクス59を設けてある。
6と対向するように透明導電性膜である酸化インジウム
スズからなる対向電極61を、ブラックマトリクス59
と接触して短絡しないように、ポリイミド樹脂からなる
絶縁膜60を介して設ける。さらにまた、対向電極61
には、外部回路の信号を印加するためのデーター電極
(図示せず)を接続している。
極61と重なり合うように配置することにより、液晶表
示パネルの表示画素部となる。
とデーター電極とに外部回路より駆動波形を印加し、第
1の非線形抵抗素子50と第2の非線形抵抗素子51を
介して、表示電極56と対向電極61との間の領域の液
晶63の透過率変化により、液晶表示装置は所定の画像
表示を行う。
は、液晶63の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜62、62を設ける。
板47と第2の基板58とを所定の間隙寸法をもって対
向させ、第1の基板47と第2の基板58との間には、
液晶63を封入している。
設け、さらに第2の基板58上に偏光板65と光源部6
6を設ける。液晶表示装置は自己発光しないため、外部
の光源である光源部66が必要となる。そして液晶表示
装置は、この光源部66からの光を利用し、さらに液晶
63の光学特性変化を利用して所定の表示を行う。
ら信号電極あるいはデーター電極により非線形抵抗素子
に電圧を印加する場合に、従来例に示す構成では、信号
電極あるいはデーター電極の抵抗が大きい。そのため、
液晶に印加する電圧が表示内容により変化してしまう。
により液晶の誘電率が変化するいわゆる誘電率異方性に
より、液晶の負荷容量が変化するため、表示内容により
表示品質が変化してしまうことにより発生し、クロスト
ーク現象と呼ばれている。
晶表示装置の大型化により、液晶表示装置の画面内で抵
抗分布が発生し表示に分布が起きてしまう。
号電極あるいはデーター電極の抵抗を小さくし、表示内
容によるクロストーク現象の防止と画面内の均一表示を
達成することが可能な液晶表示装置の構造とその製造方
法とを提供することである。
に、本発明の液晶表示装置においては、下記記載の構成
と製造方法とを採用する。
設ける第1の電極と第1の電極上と第1の電極から分離
する島状の第2の電極と島状の第2の電極上に設ける非
線形抵抗層と非線形抵抗層にオーバーラップする第3の
電極とを有し、第3の電極の一方は第1の電極と一部で
接続し、第3の電極の他方は表示電極と一部で接続する
ことを特徴とする。
設ける信号電極と接続部からなる第1の電極と第1の電
極上と第1の電極から分離する島状の第2の電極と島状
の第2の電極上に設ける非線形抵抗層と非線形抵抗層に
オーバーラップする第3の電極とを有し、第3の電極の
一方は第1の電極の接続部にて接続しさらに第1の電極
の信号電極上に設け信号電極の一部とし、第3の電極の
他方は表示電極と一部で接続することを特徴とする。
設ける第1の電極と第1の電極上と第1の電極から分離
する島状の第2の電極と島状の第2の電極上に設ける非
線形抵抗層と非線形抵抗層にオーバーラップする第3の
電極とを有し、第3の電極の一方は第1の電極と一部で
接続し、第3の電極の他方は表示電極と一体であること
を特徴とする。
設ける第1の電極と第1の電極上と第1の電極から分離
する島状の第2の電極と第2の電極上に設ける第2の電
極の実体酸化膜からなる非線形抵抗層と非線形抵抗層に
オーバーラップする第3の電極とを有し、第3の電極の
一方は第1の電極と一部で接続し、第3の電極の他方は
表示電極と一部で接続することを特徴とする。
の基板上に第1の電極をパターン形成する工程と、第2
の電極を第1の電極上と第1の電極から張り出し部を有
する形状にパターン形成する工程と、第2の電極上に非
線形抵抗層をパターン形成する工程と、表示電極をパタ
ーン形成する工程と、第3の電極を非線形抵抗層とオー
バーラップさせ、さらに第3の電極の一方は第1の電極
と一部で接続し、しかも第3の電極の他方は表示電極と
一部で接続する形状にパターン形成する工程とを有する
ことを特徴とする。
の基板上に第1の電極をパターン形成する工程と、第2
の電極を第1の電極上と第1の電極から張り出し部を有
する形状にパターン形成する工程と、第2の電極上に非
線形抵抗層を陽極酸化法により形成する工程と、表示電
極をパターン形成する工程と、第3の電極を非線形抵抗
層とオーバーラップさせ、さらに第3の電極に一方は第
1の電極と一部で接続し、しかも第3の電極は他方が表
示電極と一部で接続する形状にパターン形成する行程
と、陽極酸化後に第2の電極の張り出し部を島状の第2
の電極にパターン形成する工程とを有することを特徴と
する。
電圧を印加する場合に、信号電極あるいはデーター電極
の抵抗を小さくすることが重要である。
線形抵抗素子の電流−電圧特性の変化を起こすことな
く、信号電極あるいはデーター電極の抵抗を小さくする
必要がある。
以前に信号電極あるいはデーター電極の低抵抗化を実施
するために、まず非線形抵抗素子を形成する島状の第2
の電極を形成する以前に低抵抗の第1の電極を設ける。
形抵抗素子に外部の信号を印加するために、第1の電極
と非線形抵抗素子とを接続する。すなわち、低抵抗の第
1の電極から第3の電極と非線形抵抗層と島状の第2の
電極と非線形抵抗層と表示電極用第3の電極と、さらに
表示電極へと接続する構成とする。
電極を第1の電極上を覆い露出することなく形成し、さ
らに、第1の電極から張り出し部を有する形状にパター
ン形成する。これにより、第2の電極をパターン形成す
る工程あるいは非線形抵抗層を第2の電極上に形成する
工程において、第1の電極の変質を防止できる。
ターン形成する行程と、表示電極をパターン形成する行
程と、第1の電極上の第2の電極の一部をパターン形成
し、第3の電極をこの第1の電極が第2の電極から露出
する部分と非線形抵抗層をオーバーラップする部分と、
さらに、非線形抵抗層にオーバーラップし、表示電極と
接続する部分に形成するため、非線形抵抗素子は、第1
の低抵抗電極を介して外部と接続する構成となる。
り、表示内容によるクロストーク現象の防止と画面内の
均一表示を達成することができる。
の構成とその製造方法とを、図面を使用して説明する。
晶表示装置の構成を、図1と図2を用いて説明する。図
1は本発明の第1の実施例における液晶表示装置を示す
平面図である。図2は図1の平面図のB−B線における
断面を示す断面図である。以下、図1と図2とを交互に
用いて本発明の第1の実施例を説明する。
モリブデンシリサイド(MoSi)からなる第1の電極
2として第1の信号電極2を設ける。
り出し部20とを有するタンタル膜からなる第2の電極
3を設ける。
て、第2の電極3の陽極酸化膜からなる酸化タンタル膜
を設ける。
第2の電極3上に非線形抵抗層5を設けた後にエッチン
グ除去し、島状の第2の電極21とする。さらに、第1
の電極2が第2の電極3から露出する接続部22を設け
る。
ムスズ膜からなる孤立する表示電極6を設ける。
続部22に接続し、かつ島状の第2の電極21上の非線
形抵抗素子5にオーバーラップする接続用の第3の電極
10をクロム膜にて設ける。また、表示電極6に接続
し、かつ島状の第2の電極21上の非線形抵抗素子5に
オーバーラップする表示電極用の第3の電極7をクロム
膜にて設ける。
状の第2の電極4とによって、薄膜ダイオード構造の第
1の非線形抵抗素子9を構成している。さらに、表示電
極用の第3の電極7と非線形抵抗層5と島状の第2の電
極4とによって薄膜ダイオード構造の第2の非線形抵抗
素子8を構成している。
に形成するそれぞれの表示電極6の隙間からの光の漏れ
を防止するために、ブラックマトリクス12を設けてあ
る。
対向するように対向電極14を、ブラックマトリクス1
2と接触して短絡しないように絶縁膜13を介して設け
る。
1の電極2と表示電極6と、第2の電極3と表示電極6
とは、所定寸法の間隙を有している。
14と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。
液晶16の透過率変化により、液晶表示装置は所定の画
像表示を行う。
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙をもって
対向させ、第1の基板1と第2の基板11との間には、
液晶16を封入している。
は接着層(図示せず)を介して偏光板23を設ける。さ
らにまた、第1の基板1側にも、接着層(図示せず)を
介して偏光板23を設ける。そして、液晶16の光学変
化を、この2枚の偏光板23と偏光板23とを利用して
行う。
晶表示装置の観察者側に第1の基板1を配置し、光源部
24をブラックマトリクス12を有する第2の基板11
側に配置する。
実施例の構成を採用することによって、信号電極は、第
1の電極2と第2の電極3との2層構造となるため、信
号電極は第2の電極3のみの場合に比較して低抵抗化で
きる。
デンシリサイド膜を利用することにより第1の基板1の
反りの問題を起こすことなく、低抵抗の信号電極を得る
ことができる。
表示装置の構成を、図3と図4とを用いて説明する。図
3は本発明の第2の実施例における液晶表示装置を示す
平面図である。図4は図3の平面図のC−C線における
断面を示す断面図である。以下、図3と図4とを交互に
用いて本発明の第2の実施例を説明する。
シリコン(Si)や銅(Cu)を含むアルミニウム(A
l)からなる第1の電極2として第1の信号電極を設け
る。
し部20を有するニオブ(Nb)とタンタル膜との2層
膜からなる第2の電極3を設ける。ニオブ膜をタンタル
膜の下地に設けることによりタンタル膜の結晶構造は、
ベータ(β)タンタル膜からアルファ(α)タンタル膜
に変化し、ベータ(β)タンタル膜が1層の場合に比較
し抵抗値を小さくすることができる。
2の電極3の多層膜の実体酸化膜からなる酸化ニオブ膜
(Nb2 O5 )と酸化タンタル膜とを設ける。
り出し部20の接続している部分の一部は、第2の電極
3上に非線形抵抗層5を設けた後にエッチング除去し、
島状の第2の電極21とする。さらに、第1の電極2が
第2の電極3から露出する接続部22を設ける。
に接続し、しかも島状の第2の電極21上の非線形抵抗
素子5にオーバーラップする接続用の第3の電極10
と、表示電極6に接続し、しかも島状の第2の電極21
上の非線形抵抗層5にオーバーラップする表示電極用第
3の電極7を透明導電性膜である酸化インジウムスズ膜
にて設ける。
を共通化することにより、第3の電極7と表示電極6と
を別の材料にする場合に比較し、製造工程を短くするこ
とが可能となる。
接続部22上に透明導電性膜である酸化インジウムスズ
からなる第3の電極25を設ける。この第3の信号電極
25を設けることにより、信号電極を第1の電極2と第
2の電極3と第3の電極25の多層構造にできる。以上
により信号電極の低抵抗化はもちろんのこと、複数の膜
を複数の形状に設けるため、異物などに起因する信号電
極の断線確立を低減することができる。
と島状の第2の電極4とによって、薄膜ダイオード構造
の第1の非線形抵抗素子9を構成している。また、表示
電極用の第3の電極7と非線形抵抗層5と島状の第2の
電極4とによって薄膜ダイオード構造の第2の非線形抵
抗素子8を構成している。
1に形成するそれぞれの表示電極6の隙間からの光の漏
れを防止するために、ブラックマトリクス12を設け
る。
と対向するように対向電極14を、ブラックマトリクス
12と接触して短絡しないように、絶縁膜13を介して
設けている。
1の電極2と表示電極6と、第2の電極3と表示電極6
とは、所定寸法の間隙を有している。
14と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。
液晶16の透過率変化により、液晶表示装置は所定の画
像表示を行う。
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙をもって
対向させ、第1の基板1と第2の基板11との間には、
液晶16を封入している。
接着層(図示せず)を介して偏光板23を設ける。さら
にまた、第1の基板1側にも、接着層(図示せず)を介
して偏光板23を設ける。そして、液晶の光学変化を、
この2枚の偏光板23、23を利用して行う。
晶表示装置の観察者側に第1の基板1を配置し、光源部
24をブラックマトリクス12を有する第2の基板11
側に配置する。
することにより、信号電極は、第1の信号電極2と第2
の信号電極3と第3の信号電極25との3層構造とな
る。このため、信号電極は第2の信号電極3のみの場合
に比較し低抵抗にできると同時に、複数の形状にできる
ため、異物などによる断線の低減が可能となる。
極2材料としては、低抵抗でしかも低応力のアルミニウ
ム膜を利用している。このことにより第1の基板1の反
りの問題を起こすことなく低抵抗の信号電極を得ること
ができる。
属膜を利用することにより、異物により所定の形状から
はみ出す部分ができ信号電極と部分的に接続する場合に
おいても、第1の信号電極2は第2の信号電極の陽極酸
化を行い、非線形抵抗層5を設ける際に同時に陽極酸化
を行うことが可能である。このため、第1の電極2と表
示電極6の電気的短絡を防止することが可能となる。
極6を共通化することにより、表示電極用第3の電極7
と表示電極6とを別の材料にする場合に比較し、製造工
程を短くすることが可能となり、低価格で高品質な液晶
表示装置を得ることが可能となる。
第1の信号電極の一部である接続部21上にも設けてい
る。このことにより、接続部21と接続用の第3の電極
10との接続が不安定な場合においても第3の電極25
がバックアップし、第3の電極25が直接、接続用の第
3の電極10に接続しているため問題ない。
表示装置の構成を、図5と図6とを用いて説明する。図
5は本発明の第3の実施例における液晶表示装置を示す
平面図である。図6は図5の平面図のD−D線における
断面を示す断面図である。以下、図5と図6とを交互に
用いて本発明の第3の実施例を説明する。なお本発明の
第3の実施例に示す液晶表示装置の構成は、薄膜ダイオ
ード構造の非線形抵抗素子をデーター電極を設ける基板
側に配置する。
タングステンシリサイド(WSi)からなる第1の電極
2として第1のデーター電極を設ける。
極となる第2の電極3と島状の第2の電極21をクロム
膜にて設ける。
コン(Si)と窒素(N)の化合物を設ける。非線形抵
抗層5は、シラン(SiH4 )とアンモニア(NH3 )
と水素(H2 )の混合ガスをプラズマ化学的気相成長法
(プラズマCVD法)を使用して設ける。
部分をエッチング除去し、第1の電極2が第2の電極3
から露出する接続部22を設ける。
ムスズ(ITO)膜からなる孤立する表示電極6を設け
る。
続部22に接続し、かつ島状の第2の電極21上の非線
形抵抗素子5にオーバーラップする接続用の第3の電極
10をモリブデン(Mo)膜にて設ける。また、表示電
極6に接続し、かつ島状の第2の電極21上の非線形抵
抗素子5にオーバーラップする表示電極用の第3の電極
7をモリブデン(Mo)膜にて設ける。
電極30は、第2の電極3上に設けてある。さらに、第
1の電極2からなる接続部22上において接続用の第3
の電極10は第3の電極30と接続する構造を有する。
このため、第1の電極2あるいは第2の電極3の一部が
断線した場合においても第3の電極30により外部信号
を各画素部に供給することが可能となる。
層5と島状の第2の電極4とによって、薄膜ダイオード
構造の第1の非線形抵抗素子9を構成している。また、
表示電極用の第3の電極7と非線形抵抗層5と島状の第
2の電極4とによって薄膜ダイオード構造の第2の非線
形抵抗素子8を構成している。
1に形成するそれぞれの表示電極6の隙間からの光の漏
れを防止するために、ブラックマトリクス12を設け
る。
と対向するように対向電極14を、ブラックマトリクス
12と接触して短絡しないように絶縁膜13を介して設
けている。
1の電極2と表示電極6と、第2の電極3と表示電極6
とは、所定寸法の間隙を有している。
14と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。
液晶16の透過率変化により、液晶表示装置は所定の画
像表示を行う。
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙をもって
対向させ、第1の基板1と第2の基板11との間には、
液晶16を封入している。
接着層(図示せず)を介して偏光板23を設ける。さら
にまた、第1の基板1側にも、接着層(図示せず)を介
して偏光板23を設け、液晶の光学変化を、この2枚の
偏光板23、23を利用して行う。
晶表示装置の観察者側に第1の基板1を配置し、光源部
24をブラックマトリクス12を有する第2の基板11
側に配置する。
することにより、データー電極は、第1の電極2と第2
の電極3と第3の電極30との3層構造となる。このた
め、データー電極は第2の電極3のみの場合に比較して
低抵抗にできる。
極2を低応力と耐エッチング性とに優れ、電流を流した
場合に発生するエレクトロマイグレーションを防止する
のに有効であるタングステンシリサイド膜を利用してい
る。このことにより基板1の反りの問題を起こすことな
く、低抵抗のデーター電極を得ることができる。
電極3上に第3の電極30を設けているが、第2の電極
3上に第3の電極30を設けていない場合においても本
発明の目的とするデーター電極の低抵抗化は可能であ
り、以上説明した本発明の第3の実施例の効果は得られ
る。
の実施例における液晶表示装置の構造を形成するための
製造方法を、図7から図11を用いて説明する。図7か
ら図11は本発明の実施例における液晶表示装置の製造
方法を示す断面図である。以下に、図7から図11を用
いて本発明の実施例における製造方法を説明する。
らなる第1の基板1上に、モリブデンシリサイド膜から
なる第1の電極2として第1の信号電極を形成する。
ッチング法を用いてエッチング加工を行う。反応ガスと
しては、四フッ化炭素(CF4 )と酸素(O2 )と不活
性ガスの混合ガスを用いる。
る第2の電極3と第2の電極3と一部で接続する張り出
し部20を第1の電極上とそれ以外の場所に形成する。
タンタル膜は、反応性イオンエッチング法を用いてエッ
チング加工を行う。反応性ガスとして、六フッ化イオウ
(SF6 )と酸素(O2 )との混合ガスを用いる。さら
に、第2の電極3と張り出し部20上に陽極酸化法によ
り、酸化タンタル膜からなる非線形抵抗層5を形成す
る。
酸化を行う工程の際に、第1の電極2が劣化しないため
に、第2の電極3が第1の電極2を覆う構造としてお
く。
と張り出し部20上に陽極酸化膜を形成した後に、第1
の電極2上に設ける第2の電極3の一部分と、第2の電
極3に接続する張り出し部20の一部を反応性イオンエ
ッチング法にてエッチング加工をおこない、第2の電極
3から分離する島状の第2の電極21と、第1の電極2
上に設ける接続部22とを形成する。
である酸化インジウムスズ膜からなる孤立する表示電極
6を設ける。酸化インジウムスズ膜のエッチング加工
は、塩化第二鉄(FeCl3 )と塩酸(HCl)の水溶
液を使用する。
をクロム膜にて形成する。第3の電極7は、接続用の第
3の電極10と表示電極用の第3の電極(図示せず)と
からなる。接続用の第3の電極10は、第1の電極2か
らなる接続部22に接続し、しかも島状の第2の電極2
1上の非線形抵抗素子5にオーバーラップしている。ま
た、表示電極用の第3の電極(図示せず)は、表示電極
6に接続し、しかも島状の第2の電極21上の非線形抵
抗素子5にオーバーラップしている。
層5と島状の第2の電極4とによって、薄膜ダイオード
構造の第1の非線形抵抗素子9を構成している。また、
表示電極用の第3の電極(図示せず)と非線形抵抗層5
と島状の第2の電極21とによって、薄膜ダイオード構
造の第2の非線形抵抗素子(図示せず)を構成してい
る。
1の実施例に示す薄膜ダイオード素子を有する第1の基
板1が形成できる。
板1あるいは第2の基板13上にカラーフィルターを設
けていない場合に関して説明したが、第1の基板1ある
いは第2の基板13上にカラーフィルターを設ける場合
においても、本発明の実施例に示す効果は得られる。
5として酸化タンタル膜と窒化シリコン膜について示し
たが、第2の電極3の陽極酸化膜や酸化シリコン膜や炭
化シリコン膜や、あるいは酸化アルミ膜を有する金属−
絶縁膜−金属構造からなる非線形抵抗素子である薄膜ダ
イオード素子を有する液晶表示装置においても、本発明
の実施例に示す効果は得られる。
液晶表示装置の構成と製造方法を用いることにより、低
抵抗な第1の電極が第2の電極下に設けてある。そのた
め、第2の電極は第1の電極により充分に低抵抗化して
いる。そのため、液晶の印加電圧による誘電異方性が起
きても電極の低抵抗化のためにクロストークの発生をき
わめて小さくできる。したがって、液晶表示装置の大画
面化あるいは微細化による電極の負担が増加する場合に
おいても、外部信号のなまりの発生をきわめて小さくで
き、外部信号を薄膜ダイオード素子を介して有効に表示
電極に印加することが可能となる。
ることなく、信号電極あるいはデーター電極を複数の配
線の多層にすることができる。さらに、もっとも重要な
第1の電極を基板上に最初に設けるため第1の電極の断
線確率が低減し、さらに、1層分の配線電極が断線をす
る場合においても、他の配線のバックアップにより配線
欠陥となることがない。
面化と微細化と低コスト化と歩留まりの向上と表示品質
の向上とを達成することができる。
示す平面図である。
示す断面図である。
示す平面図である。
示す断面図である。
示す平面図である。
示す断面図である。
法における製造工程を示す断面図である。
法における製造工程を示す断面図である。
法における製造工程を示す断面図である。
方法における製造工程を示す断面図である。
方法における製造工程を示す断面図である。
ある。
ある。
Claims (6)
- 【請求項1】 第1の基板上に設ける第1の電極と第1
の電極上と第1の電極から分離する島状の第2の電極と
島状の第2の電極上に設ける非線形抵抗層と非線形抵抗
層にオーバーラップする第3の電極とを有し、第3の電
極の一方は第1の電極と一部で接続し、第3の電極の他
方は表示電極と一部で接続することを特徴とする液晶表
示装置。 - 【請求項2】 第1の基板上に設ける信号電極と接続部
からなる第1の電極と第1の電極上と第1の電極から分
離する島状の第2の電極と島状の第2の電極上に設ける
非線形抵抗層と非線形抵抗層にオーバーラップする第3
の電極とを有し、第3の電極の一方は第1の電極の接続
部にて接続しさらに第1の電極の信号電極上に設け信号
電極の一部とし、第3の電極の他方は表示電極と一部で
接続することを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項3】 第1の基板上に設ける第1の電極と第1
の電極上と第1の電極から分離する島状の第2の電極と
島状の第2の電極上に設ける非線形抵抗層と非線形抵抗
層にオーバーラップする第3の電極とを有し、第3の電
極の一方は第1の電極と一部で接続し、第3の電極の他
方は表示電極と一体であることを特徴とする液晶表示装
置。 - 【請求項4】 第1の基板上に設ける第1の電極と第1
の電極上と第1の電極から分離する島状の第2の電極と
第2の電極上に設ける第2の電極の実体酸化膜からなる
非線形抵抗層と非線形抵抗層にオーバーラップする第3
の電極とを有し、第3の電極の一方は第1の電極と一部
で接続し、第3の電極の他方は表示電極と一部で接続す
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項5】 第1の基板上に第1の電極をパターン形
成する工程と、第2の電極を第1の電極上と第1の電極
から張り出し部を有する形状にパターン形成する工程
と、第2の電極上に非線形抵抗層をパターン形成する工
程と、表示電極をパターン形成する工程と、第3の電極
を非線形抵抗層とオーバーラップさせ、さらに第3の電
極の一方は第1の電極と一部で接続し、しかも第3の電
極の他方は表示電極と一部で接続する形状にパターン形
成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項6】 第1の基板上に第1の電極をパターン形
成する工程と、第2の電極を第1の電極上と第1の電極
から張り出し部を有する形状にパターン形成する工程
と、第2の電極上に非線形抵抗層を陽極酸化法により形
成する工程と、表示電極をパターン形成する工程と、第
3の電極を非線形抵抗層とオーバーラップさせ、さらに
第3の電極に一方は第1の電極と一部で接続し、しかも
第3の電極は他方が表示電極と一部で接続する形状にパ
ターン形成する行程と、陽極酸化後に第2の電極の張り
出し部を島状の第2の電極にパターン形成する工程とを
有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14032795A JP3559354B2 (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14032795A JP3559354B2 (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08334788A true JPH08334788A (ja) | 1996-12-17 |
JP3559354B2 JP3559354B2 (ja) | 2004-09-02 |
Family
ID=15266247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14032795A Expired - Fee Related JP3559354B2 (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3559354B2 (ja) |
-
1995
- 1995-06-07 JP JP14032795A patent/JP3559354B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3559354B2 (ja) | 2004-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6028652A (en) | Array substrate for display device and manufacturing method thereof | |
JP4354542B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
KR100238795B1 (ko) | 액정 표시 장치의 구조 및 그 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
JP2010108000A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
KR19990070487A (ko) | 액정 표시 장치 제조 방법 및 그 제조 방법에 의한 액정 표시 장치 | |
KR20030027861A (ko) | 액정 표시 장치용 기판 및 그것을 이용한 액정 표시 장치 | |
JPH10319431A (ja) | 薄膜トランジスタアレイ基板 | |
US6512556B1 (en) | Liquid crystal display and method of manufacturing the same | |
JPH112835A (ja) | アクティブマトリクス基板 | |
JPH10213812A (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置 | |
JPH02240636A (ja) | アクティブマトリクス基板とこれを用いた液晶表示素子 | |
JP3559354B2 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
JP2000250065A (ja) | 液晶画像表示装置および画像表示装置用半導体装置の製造方法 | |
JP2950737B2 (ja) | アクティブマトリクス基板及びその製造方法 | |
JPH10268346A (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置 | |
KR100235594B1 (ko) | 액정 표시 장치의 구조 및 그 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
KR100235593B1 (ko) | 액정 표시 장치 및 그 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
JPH06160877A (ja) | 薄膜配線構造及びそれを用いた液晶表示装置 | |
JP3199222B2 (ja) | アクティブマトリクス基板、そのアクティブマトリクス基板を備えた液晶表示装置及びそのアクティブマトリクス基板の製造方法 | |
JPH08236777A (ja) | 半導体装置 | |
JP3795562B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP3229905B2 (ja) | 液晶表示パネルとその製造方法 | |
JP3333335B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP3044771B2 (ja) | マトリクス基板及びその製造方法 | |
JP3006990B2 (ja) | アクティブマトリクス基板およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040511 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040521 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |