JPH0831773A - 半導体装置とダイシングブレードおよびこれを用いたダイシング方法 - Google Patents

半導体装置とダイシングブレードおよびこれを用いたダイシング方法

Info

Publication number
JPH0831773A
JPH0831773A JP6186744A JP18674494A JPH0831773A JP H0831773 A JPH0831773 A JP H0831773A JP 6186744 A JP6186744 A JP 6186744A JP 18674494 A JP18674494 A JP 18674494A JP H0831773 A JPH0831773 A JP H0831773A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
chip
semiconductor device
dicing
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6186744A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Ito
仁 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP6186744A priority Critical patent/JPH0831773A/ja
Publication of JPH0831773A publication Critical patent/JPH0831773A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/0657Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/10155Shape being other than a cuboid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/10155Shape being other than a cuboid
    • H01L2924/10158Shape being other than a cuboid at the passive surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape
    • H01L2924/1816Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
    • H01L2924/18161Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a flip chip

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体チップとモールド樹脂との密着強度を
高めて半導体装置の信頼性向上を図る。 【構成】 一方の面2aに電気回路が形成された半導体
チップ2と、その回路形成面2aと反対側のチップ裏面
2bを露出する状態で半導体チップ2を封止するモール
ド樹脂4とを有する半導体装置1に対し、半導体チップ
2の回路形成面2aをチップ裏面2bよりも大きく形成
した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップを樹脂に
て封止してなる半導体装置とダイシングブレードおよび
これを用いたダイシング方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の半導体装置としては、TSOP
(Thin Small Outline Packa
ge)やTQFP(Thin Quad Flat P
ackage)などの薄型パッケージが知られている
が、近年では、さらなる薄型化を実現した半導体装置が
提案されている。
【0003】図7はそうした従来の樹脂封止型半導体装
置の一例を示す側断面図である。図示した半導体装置1
において、2は半導体チップ、3ははんだバンプ、4は
モールド樹脂である。半導体チップ2の一方の面2aに
は電気回路が形成されており、その回路形成面2aと反
対側のチップ裏面2bはモールド樹脂4から露出してい
る。したがって、上述したTSOPやTQFPタイプに
比較すると、チップ裏面側の樹脂厚分とリードフレーム
厚分だけパッケージ全体の薄型化が図られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで一般的に、ウ
エハ上に形成されている複数の半導体チップを個片に分
割する場合は、図8に示すように、ダイシングブレード
10を高速で回転させ、これを半導体チップ2の回路形
成面2a側から切り込んで、ウエハを個々の半導体チッ
プ2に分割する。その際、個々の半導体チップ2の切断
面2cは、回路形成面2aやチップ裏面2bに対してほ
ぼ直角に形成される。そのため、図7に示す従来の半導
体装置1の場合は、半導体チップ2とモールド樹脂4と
の密着強度が弱く、モールド樹脂4から半導体チップ2
が剥離しやすいなど、信頼性に欠けるものであった。
【0005】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、その目的とするところは、半導体チップと
モールド樹脂との密着強度を高めて半導体装置の信頼性
向上を図ることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、一方の面に電気回路が形
成された半導体チップと、その回路形成面と反対側のチ
ップ裏面を露出する状態で半導体チップを封止するモー
ルド樹脂とを有する半導体装置において、半導体チップ
の回路形成面がその反対側のチップ裏面よりも大きく形
成された構成となっている。
【0007】
【作用】本発明の半導体装置においては、半導体チップ
の回路形成面をチップ裏面よりも大きく形成すること
で、モールド樹脂の内部では半導体チップの側面部分が
モールド樹脂に対する引っ掛かり部分となり、これによ
ってモールド樹脂と半導体チップとの密着強度が高ま
る。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。なお、本実施例において、上記
従来例と同様の構成部分に同じ符号を付して説明する。
図1は本発明に係わる半導体装置の第1実施例を示す側
断面図である。図示した半導体装置1において、2は半
導体チップ、3はチップ上に形成されたはんだバンプ、
4は半導体チップ2を封止するモールド樹脂である。半
導体チップ2の一方の面(図1では上面)2aには、ウ
エハ処理プロセスにおける薄膜形成技術によって、様々
な機能を持つ電気回路が形成されている。この回路形成
面2aの周縁部には複数の電極パッド(不図示)が設け
られており、それぞれの電極パッド上に外部接続用電極
としてのはんだバンプ3が形成されている。半導体チッ
プ2はモールド樹脂4によって封止されてはいるが、上
述した回路形成面2aと反対側のチップ裏面2bだけは
モールド樹脂4から露出し、これによってチップ裏面側
の樹脂厚分とリードフレーム厚分だけTSOPやTQF
Pタイプよりもパッケージ全体の薄型化が図られてい
る。
【0009】ここで本第1実施例の半導体装置1におい
ては、半導体チップ2を断面略台形状に成形することに
より、一方の回路形成面2aがその反対側のチップ裏面
2bよりも大きく形成されている。つまり、モールド樹
脂4によって封止されている回路形成面2aの方が、モ
ールド樹脂4から露出しているチップ裏面2bよりも広
い面積で形成されている。これにより、モールド樹脂4
の内部では半導体チップ2の側面部分2cがモールド樹
脂4に対する引っ掛かり部分となり、半導体チップ2に
抜け止め効果が働くようになるため、従来よりもモール
ド樹脂4と半導体チップ2との密着強度を格段に高める
ことができる。
【0010】続いて、図1に示す半導体チップ2をウエ
ハから個片に分割する際に用いられるダイシングブレー
ドとこれを用いたダイシング方法について説明する。図
2は本発明に係わるダイシングブレードの第1実施例を
説明する図であり、図中(a)はその正面図、(b)は
その側面図を示している。図2に示すダイシングブレー
ド10は、例えば円盤状のボンド材の中にダイヤモンド
砥粒を埋め込んで一体成形されたものであり、その刃先
部10aにはウエハ(不図示)の厚み寸法に対応した切
り込み領域Lが設定されている。このダイシングブレー
ド10では、刃先部10aの周縁側をテーパ状に薄く成
形することにより、その切り込み領域Lの内周側の厚み
T1が外周側の厚みT2よりも厚く成形されている。
【0011】図3は上記ダイシングブレード10を用い
たダイシング方法を説明する図である。図3において
は、ウエハ上に形成されている個々の半導体チップ2の
回路形成面2aが下向きの状態でウエハステージ(不図
示)にセットされている。この状態から、ダイシングブ
レード10を高速回転(約30000rpm)させて、
純水等の研削液をかけながら図示せぬウエハステージの
上昇によりダイシングブレード10を半導体チップ2の
裏面2b側から切り込むようにする。
【0012】次いで、ウエハステージの水平移動により
アップカット方式(ウエハをブレードの回転方向と逆方
向に送りながら切断する方式)またはダウンカット方式
(ウエハをブレードの回転方向と同じ方向に送りながら
切断する方式)でウエハに送りを与え、ダイシングブレ
ード10の刃先部20aによってウエハ上に切溝を形成
する。その後、水平方向におけるウエハとダイシングブ
レード10との相対位置を一定のピッチでずらしながら
上記同様の研削加工を繰り返すことによりウエハ上に采
の目状の切溝を形成し、その切溝に沿ってウエハを個々
の半導体チップ2に分割する。これにより、個々の半導
体チップ2の切断面2cはダイシングブレード10の刃
先形状に応じてテーパ状に成形されるため、図1に示す
チップ形状と同様、一方の回路形成面2aがその反対側
のチップ裏面2bよりも大きく形成された個片の半導体
チップ2を得ることができる。
【0013】図4は本発明に係わる半導体装置の第2実
施例を示す側断面図である。図示した半導体装置1にお
いて、2は半導体チップ、3ははんだバンプ、4はモー
ルド樹脂であり、これらの基本的な構成については上記
第1実施例の場合と同様である。本第2実施例において
は、モールド樹脂4によって封止された半導体チップ2
の側辺部分2cが断面略クランク状に成形され、これに
よって一方の回路形成面2aがその反対側のチップ裏面
2bよりも大きく形成されている。
【0014】これにより、上記第1実施例と同様に、モ
ールド樹脂4の内部では半導体チップ2の側面部分2c
がモールド樹脂4に対する引っ掛かり部分となり、半導
体チップ2に抜け止め効果が働くようになるため、従来
よりもモールド樹脂4と半導体チップ2との密着強度を
格段に高めることができる。
【0015】続いて、図4に示す半導体チップ2をウエ
ハから個片に分割する際に用いられるダイシングブレー
ドとこれを用いたダイシング方法について説明する。図
5は本発明に係わるダイシングブレードの第2実施例を
説明する図であり、図中(a)はその正面図、(b)は
その側面図を示している。図5に示すダイシングブレー
ド10の刃先部10aには、上記第1実施例と同様にウ
エハ(不図示)の厚み寸法に対応した切り込み領域Lが
設定されている。このダイシングブレード10の刃先部
10aは、その周縁部分を凸状に成形することにより、
切り込み領域Lの内周側の厚みT1が外周側の厚みT2
よりも厚く成形されている。
【0016】図6は上記ダイシングブレード10を用い
たダイシング方法を説明する図である。図6において
は、ウエハ上に形成されている個々の半導体チップ2の
回路形成面2aと反対側の面、つまりチップ裏面2bか
らダイシングブレード10を切り込んで上記同様にウエ
ハ上に采の目状の切溝を形成し、その切溝に沿ってウエ
ハを個々の半導体チップ2に分割する。これにより、個
々の半導体チップ2の切断面2cはダイシングブレード
10の刃先形状に応じてクランク状に成形されるため、
図4に示すチップ形状と同様、一方の回路形成面2aが
その反対側のチップ裏面2bよりも大きく形成された個
片の半導体チップ2を得ることができる。
【0017】なお、上記実施例においては、外部接続用
電極として半導体チップ2の電極パッド上にはんだバン
プ3が形成された半導体装置を例に挙げたが、本発明は
これに限定されることなく、例えば図示はしないが、半
導体チップ2の電極パッドにボンディングワイヤの一端
を接続し、さらにボンディングワイヤの他端を図示せぬ
リード片に接続した半導体装置などにも適用できること
は言うまでもない。
【0018】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
半導体チップの回路形成面がチップ裏面よりも大きく形
成されているため、半導体チップの側面部分がモールド
樹脂に対する引っ掛かり部分となり、モールド樹脂に対
する半導体チップの密着強度を格段に高めることができ
る。これにより、モールド樹脂からの半導体チップの剥
離を確実に防止できるため、信頼性に優れた薄型の半導
体装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる半導体装置の第1実施例を示す
側断面図である。
【図2】本発明に係わるダイシングブレードの第1実施
例を説明する図である。
【図3】本発明に係わるダイシング方法の第1実施例を
説明する図である。
【図4】本発明に係わる半導体装置の第2実施例を示す
側断面図である。
【図5】本発明に係わるダイシングブレードの第2実施
例を説明する図である。
【図6】本発明に係わるダイシング方法の第2実施例を
説明する図である。
【図7】従来の樹脂封止型半導体装置の一例を示す側断
面図である。
【図8】一般的なダイシング方法を説明する図である。
【符号の説明】
1 半導体装置 2 半導体チップ 2a 回路形成面 2b チップ裏面 3 はんだバンプ 4 モールド樹脂
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/28 Z 6921−4E H01L 21/78 V

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一方の面に電気回路が形成された半導体
    チップと、その回路形成面と反対側のチップ裏面を露出
    する状態で前記半導体チップを封止するモールド樹脂と
    を有する半導体装置において、 前記半導体チップの回路形成面がチップ裏面よりも大き
    く形成されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 ウエハを個々の半導体チップに分割する
    際に用いられるダイシングブレードであって、 その切り込み領域の内周側が外周側よりも厚く成形され
    ていることを特徴とするダイシングブレード。
  3. 【請求項3】 請求項2記載のダイシングブレードを用
    いたダイシング方法であって、 ウエハ上に形成されている個々の半導体チップの回路形
    成面と反対側の面からダイシングブレードを切り込んで
    切溝を形成し、その切溝に沿ってウエハを個々の半導体
    チップに分割することを特徴とするダイシング方法。
JP6186744A 1994-07-15 1994-07-15 半導体装置とダイシングブレードおよびこれを用いたダイシング方法 Pending JPH0831773A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6186744A JPH0831773A (ja) 1994-07-15 1994-07-15 半導体装置とダイシングブレードおよびこれを用いたダイシング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6186744A JPH0831773A (ja) 1994-07-15 1994-07-15 半導体装置とダイシングブレードおよびこれを用いたダイシング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0831773A true JPH0831773A (ja) 1996-02-02

Family

ID=16193892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6186744A Pending JPH0831773A (ja) 1994-07-15 1994-07-15 半導体装置とダイシングブレードおよびこれを用いたダイシング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0831773A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003060120A (ja) * 2001-08-21 2003-02-28 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
EP1570524A2 (en) * 2002-12-09 2005-09-07 Advanced Interconnect Technologies Limited Package having exposed integrated circuit device
JP2006073843A (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Nec Electronics Corp 半導体装置およびその製造方法
EP1949417A2 (en) * 2005-11-14 2008-07-30 Analog Devices, Inc. Method of fabricating an exposed die package
US7795545B2 (en) 2007-01-25 2010-09-14 Denso Corporation Hot melt water-resistant structure
CN108724493A (zh) * 2018-04-18 2018-11-02 昆山扬明光学有限公司 用于晶圆划片切割的刀片组件及包含其的切割机

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003060120A (ja) * 2001-08-21 2003-02-28 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
EP1570524A2 (en) * 2002-12-09 2005-09-07 Advanced Interconnect Technologies Limited Package having exposed integrated circuit device
EP1570524A4 (en) * 2002-12-09 2007-07-04 Advanced Interconnect Tech Ltd HOUSING HAVING AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE EXPOSED
US7554180B2 (en) 2002-12-09 2009-06-30 Unisem (Mauritius) Holdings Limited Package having exposed integrated circuit device
JP2006073843A (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Nec Electronics Corp 半導体装置およびその製造方法
EP1949417A2 (en) * 2005-11-14 2008-07-30 Analog Devices, Inc. Method of fabricating an exposed die package
EP1949417A4 (en) * 2005-11-14 2011-03-16 Analog Devices Inc PROCESS FOR PREPARING AN ILLUMINATED CHIP CAPSULE
US7795545B2 (en) 2007-01-25 2010-09-14 Denso Corporation Hot melt water-resistant structure
CN108724493A (zh) * 2018-04-18 2018-11-02 昆山扬明光学有限公司 用于晶圆划片切割的刀片组件及包含其的切割机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3526731B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
US7129116B2 (en) Partially patterned lead frames and methods of making and using the same in semiconductor packaging
JPH06163798A (ja) 半導体パッケージ及びその製造方法
US20050001292A1 (en) Semiconductor device and lead frame
JPH0831773A (ja) 半導体装置とダイシングブレードおよびこれを用いたダイシング方法
JPH02278740A (ja) 半導体装置のパッケージング方法
JP2004023007A (ja) 半導体パッケージ用リードフレーム及び半導体パッケージ並びに半導体パッケージの製造方法。
KR20030080432A (ko) 양면 반도체 칩을 위한 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP2006245459A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH07101698B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2000277550A (ja) 半導体装置およびその製造方法
KR20030017677A (ko) 휘어진 다이를 사용하는 반도체 패키지
JPH05121462A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH0936300A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH09330992A (ja) 半導体装置実装体とその製造方法
JPH11251510A (ja) リードフレームおよびこれを用いた半導体装置
JPH05299444A (ja) 薄型樹脂封止半導体装置の製造方法
JP3345759B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
KR0152953B1 (ko) 반도체 패키지용 리드프레임
KR100728956B1 (ko) 반도체 패키지의 제조방법
KR200292793Y1 (ko) 반도체패키지용마이크로필름의팬인탭리드구조
JPH11186447A (ja) 樹脂封止半導体装置、その製造方法及びその製造装置
JPH09223767A (ja) リードフレーム
JP2004140139A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2003151919A (ja) 半導体装置の製造方法