JPH08316290A - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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- JPH08316290A JPH08316290A JP14127095A JP14127095A JPH08316290A JP H08316290 A JPH08316290 A JP H08316290A JP 14127095 A JP14127095 A JP 14127095A JP 14127095 A JP14127095 A JP 14127095A JP H08316290 A JPH08316290 A JP H08316290A
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板の支持姿勢が適正かどうかを迅速に判別
する。 【構成】 基板Ｗを支持する支持部材５…と基板Ｗの外
周端面に当接して水平方向の移動を規制する規制部材６
…とを備えた基板保持部材３の周囲に、基板保持部材３
に保持された基板Ｗの存否を検出する第１の投光器８と
第１の受光器９とを設け、かつ、投光軌跡Ｔが平面視に
おいて基板保持部材３に保持された基板Ｗに重複すると
ともに交差するように、水平方向に光を投射する第２の
投光器１１，１１と、その投射された光を受ける第２の
受光器１２，１２とを設け、第１および第２の受光器
９，１２，１２それぞれからの信号をマイクロコンピュ
ータ１３に入力し、基板Ｗを回転させずに、第２の受光
器９の遮光により基板Ｗの存在を検出するとともに第２
の受光器１２，１２での受光光量減少により基板Ｗを正
常に保持したことを判断する。
する。 【構成】 基板Ｗを支持する支持部材５…と基板Ｗの外
周端面に当接して水平方向の移動を規制する規制部材６
…とを備えた基板保持部材３の周囲に、基板保持部材３
に保持された基板Ｗの存否を検出する第１の投光器８と
第１の受光器９とを設け、かつ、投光軌跡Ｔが平面視に
おいて基板保持部材３に保持された基板Ｗに重複すると
ともに交差するように、水平方向に光を投射する第２の
投光器１１，１１と、その投射された光を受ける第２の
受光器１２，１２とを設け、第１および第２の受光器
９，１２，１２それぞれからの信号をマイクロコンピュ
ータ１３に入力し、基板Ｗを回転させずに、第２の受光
器９の遮光により基板Ｗの存在を検出するとともに第２
の受光器１２，１２での受光光量減少により基板Ｗを正
常に保持したことを判断する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハや液晶表
示装置用ガラス基板やフォトマスク用ガラス基板や光デ
ィスク用基板等の基板を基板支持体に適正な姿勢で支持
して回転させることにより、純水等の洗浄液を供給して
基板を洗浄したり、基板上にフォトレジスト等の塗布液
を供給して塗布液被膜を形成したり、基板上に現像液を
滴下して現像を行ったりするなどの処理を行うために、
基板を支持する支持部材と基板の外周端面に当接して水
平方向の移動を規制する規制部材とを備えた基板保持部
材を鉛直方向の軸芯回りで回転可能に設け、基板保持部
材に保持された基板の存否を検出する基板存否センサを
備えた回転式基板処理装置に関し、さらに詳しくは、基
板保持部材による基板の保持姿勢か適正かどうかを検出
することのできる回転式基板処理装置に関する。
示装置用ガラス基板やフォトマスク用ガラス基板や光デ
ィスク用基板等の基板を基板支持体に適正な姿勢で支持
して回転させることにより、純水等の洗浄液を供給して
基板を洗浄したり、基板上にフォトレジスト等の塗布液
を供給して塗布液被膜を形成したり、基板上に現像液を
滴下して現像を行ったりするなどの処理を行うために、
基板を支持する支持部材と基板の外周端面に当接して水
平方向の移動を規制する規制部材とを備えた基板保持部
材を鉛直方向の軸芯回りで回転可能に設け、基板保持部
材に保持された基板の存否を検出する基板存否センサを
備えた回転式基板処理装置に関し、さらに詳しくは、基
板保持部材による基板の保持姿勢か適正かどうかを検出
することのできる回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】スピンコータ、スピンデベロッパ、スピ
ンスクラバ等の回転式基板処理装置では、基板が正しい
姿勢で基板保持部材に支持されず、傾いていたり、規制
部材上に載り上げていたりすると、回転に伴って基板が
基板保持部材から脱落離脱して破損する危険がある。
ンスクラバ等の回転式基板処理装置では、基板が正しい
姿勢で基板保持部材に支持されず、傾いていたり、規制
部材上に載り上げていたりすると、回転に伴って基板が
基板保持部材から脱落離脱して破損する危険がある。
【０００３】そのため、基板を処理するための回転に先
立ち、基板を基板保持部材に支持させた直後にその保持
姿勢が適正かどうかを判別する必要があった。
立ち、基板を基板保持部材に支持させた直後にその保持
姿勢が適正かどうかを判別する必要があった。
【０００４】そこで、従来では、例えば、特開平２−８
６１４４号公報や実開平６−２９１３１号公報に開示さ
れるものが知られている。この従来例によれば、基板を
間にした上下の一方に、光ビームを投射する投光器を設
け、他方に、投光器からの光ビームを受光して受光信号
を出力する受光器を設け、基板が正常な姿勢で基板保持
部材に支持されているときには、基板を１回転させる間
に基板により投光器と受光器との光軸が常に遮られるよ
うに配置し、基板を低速で１回転させ、その１回転の間
に受光信号の出力があるかどうかによって、基板保持部
材への基板の保持姿勢が適正かどうかを判別するように
構成されている。
６１４４号公報や実開平６−２９１３１号公報に開示さ
れるものが知られている。この従来例によれば、基板を
間にした上下の一方に、光ビームを投射する投光器を設
け、他方に、投光器からの光ビームを受光して受光信号
を出力する受光器を設け、基板が正常な姿勢で基板保持
部材に支持されているときには、基板を１回転させる間
に基板により投光器と受光器との光軸が常に遮られるよ
うに配置し、基板を低速で１回転させ、その１回転の間
に受光信号の出力があるかどうかによって、基板保持部
材への基板の保持姿勢が適正かどうかを判別するように
構成されている。
【０００５】すなわち、正常な姿勢であれば、１回転の
間中にわたって光ビームが基板によって遮光されるため
に受光信号の出力が無く、逆に、正常な姿勢で無い場合
には、基板が１回転するうちの少なくとも１箇所におい
て投光器からの光ビームが受光器に受光されて受光器か
ら受光信号が出力されることになり、受光信号の出力の
有無によって、基板の保持姿勢が適正かどうかを判別で
きるのである。
間中にわたって光ビームが基板によって遮光されるため
に受光信号の出力が無く、逆に、正常な姿勢で無い場合
には、基板が１回転するうちの少なくとも１箇所におい
て投光器からの光ビームが受光器に受光されて受光器か
ら受光信号が出力されることになり、受光信号の出力の
有無によって、基板の保持姿勢が適正かどうかを判別で
きるのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように、基板の保持姿勢が適正かどうかを判別するため
に、基板を基板保持部材上に搬入した後、その基板を低
速で１回転させなければならず、判別処理に時間を要す
る欠点があった。
ように、基板の保持姿勢が適正かどうかを判別するため
に、基板を基板保持部材上に搬入した後、その基板を低
速で１回転させなければならず、判別処理に時間を要す
る欠点があった。
【０００７】本発明に係る回転式基板処理装置は、基板
を基板保持部材上に搬入した後、瞬時に基板の保持姿勢
が適正かどうかを判断できるようにすることを目的とす
る。
を基板保持部材上に搬入した後、瞬時に基板の保持姿勢
が適正かどうかを判断できるようにすることを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
上述のような目的を達成するために、基板を支持する支
持部材と前記基板の外周端面に当接して水平方向の移動
を規制する規制部材とを備えた基板保持部材を鉛直方向
の軸芯回りで回転可能に設け、前記基板保持部材に保持
された基板の存否を検出する基板存否センサを備えた回
転式基板処理装置において、基板保持部材の周囲に、平
面視において基板保持部材に保持された基板に重複する
とともに互いに平行ではなく、かつ、水平方向に複数の
投光軌跡を有する投光器と、対の受光器と、基板存否セ
ンサと受光器それぞれの信号に基づいて基板を正常に保
持したことを判断する基板保持状態判断手段とを設けて
構成する。
上述のような目的を達成するために、基板を支持する支
持部材と前記基板の外周端面に当接して水平方向の移動
を規制する規制部材とを備えた基板保持部材を鉛直方向
の軸芯回りで回転可能に設け、前記基板保持部材に保持
された基板の存否を検出する基板存否センサを備えた回
転式基板処理装置において、基板保持部材の周囲に、平
面視において基板保持部材に保持された基板に重複する
とともに互いに平行ではなく、かつ、水平方向に複数の
投光軌跡を有する投光器と、対の受光器と、基板存否セ
ンサと受光器それぞれの信号に基づいて基板を正常に保
持したことを判断する基板保持状態判断手段とを設けて
構成する。
【０００９】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置に、そ
の投光軌跡が平面視において互いに平行ではない投光器
と受光器をそれぞれ複数個設けた。
理装置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置に、そ
の投光軌跡が平面視において互いに平行ではない投光器
と受光器をそれぞれ複数個設けた。
【００１０】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置に、投
光器と受光器が単数であり、投光器からの投光が受光器
に入射するように構成された反射部材を設けた。
理装置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置に、投
光器と受光器が単数であり、投光器からの投光が受光器
に入射するように構成された反射部材を設けた。
【００１１】
【作用】請求項１に係る発明の回転式基板処理装置の構
成によれば、基板を基板保持部材上に搬入して保持させ
るに伴い、基板存否センサによって基板が存在している
かどうかを検出する。それと略同時に、基板の存在を検
出した状態で、受光器からの受光状態に基づき、その受
光光量が設定値より少ないとか受光されないといった、
複数の投光軌跡のいずれかにおいて基板による遮光があ
るときには基板が傾斜していたり規制部材上に載り上げ
ているといったように異常であると判断し、基板による
遮光が無ければ基板を正常に保持したと判断することが
できる。
成によれば、基板を基板保持部材上に搬入して保持させ
るに伴い、基板存否センサによって基板が存在している
かどうかを検出する。それと略同時に、基板の存在を検
出した状態で、受光器からの受光状態に基づき、その受
光光量が設定値より少ないとか受光されないといった、
複数の投光軌跡のいずれかにおいて基板による遮光があ
るときには基板が傾斜していたり規制部材上に載り上げ
ているといったように異常であると判断し、基板による
遮光が無ければ基板を正常に保持したと判断することが
できる。
【００１２】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置の構成によれば、基板の保持姿勢が適正かどうか
の判断が確実に行える。
理装置の構成によれば、基板の保持姿勢が適正かどうか
の判断が確実に行える。
【００１３】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置の構成によれば、基板の保持姿勢が適正かどうか
の判断が単純な構成で行える。
理装置の構成によれば、基板の保持姿勢が適正かどうか
の判断が単純な構成で行える。
【００１４】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１５】＜第１実施例＞図１は本発明に係る回転式
基板処理装置の第１実施例を示す全体概略側面図、図２
は全体概略平面図であり、電動モータ１の駆動軸２の上
端に、鉛直方向の軸芯Ｐ回りで一体回転可能に基板保持
部材３が取り付けられている。
基板処理装置の第１実施例を示す全体概略側面図、図２
は全体概略平面図であり、電動モータ１の駆動軸２の上
端に、鉛直方向の軸芯Ｐ回りで一体回転可能に基板保持
部材３が取り付けられている。
【００１６】基板保持部材３は、回転台４上に、基板Ｗ
の外周端縁の下部を載置支持する支持部材５…を周方向
に所定間隔を隔てて取り付けるとともに、各支持部材５
…それぞれの上端に、基板Ｗの外周端面に当接して水平
方向の移動を規制する規制部材６を突設して構成されて
いる。図示しないが、回転台４には、その回転軸芯Ｐを
中心とする径方向に所定間隔を隔てて、支持部材５…を
付け替え可能に取り付ける取付孔が付設されていて、図
３の要部の側面図に示すように、大きいサイズの基板Ｗ
を支持する場合［図３の（ａ）］と、小さいサイズの基
板Ｗを支持する場合［図３の（ｂ）］とに対応できるよ
うに構成されている。上記支持部材５…と規制部材６…
とは回転台４に個別に取り付けるものでも良い。
の外周端縁の下部を載置支持する支持部材５…を周方向
に所定間隔を隔てて取り付けるとともに、各支持部材５
…それぞれの上端に、基板Ｗの外周端面に当接して水平
方向の移動を規制する規制部材６を突設して構成されて
いる。図示しないが、回転台４には、その回転軸芯Ｐを
中心とする径方向に所定間隔を隔てて、支持部材５…を
付け替え可能に取り付ける取付孔が付設されていて、図
３の要部の側面図に示すように、大きいサイズの基板Ｗ
を支持する場合［図３の（ａ）］と、小さいサイズの基
板Ｗを支持する場合［図３の（ｂ）］とに対応できるよ
うに構成されている。上記支持部材５…と規制部材６…
とは回転台４に個別に取り付けるものでも良い。
【００１７】基板保持部材３の周囲を覆うようにカップ
７が昇降可能に設けられ、純水による洗浄処理などの各
種の処理に際し、カップ７を上昇して基板保持部材３の
周囲を覆い、処理液が遠心力で飛散することを防止でき
るように構成されている。
７が昇降可能に設けられ、純水による洗浄処理などの各
種の処理に際し、カップ７を上昇して基板保持部材３の
周囲を覆い、処理液が遠心力で飛散することを防止でき
るように構成されている。
【００１８】カップ７よりも水平方向外側方で、かつ、
規制部材６の上端よりも上方になる所定箇所に、投光方
向がやや斜め下方に向かうように第１の投光器８が設け
られ、一方、カップ７よりも水平方向外側方で、かつ、
支持部材５の上端よりも下方になるとともに基板保持部
材３を間にして第１の投光器８と対応する箇所に、第１
の投光器８から投射された光を受ける第１の受光器９が
設けられ、基板保持部材３に保持された基板Ｗの存否を
検出する基板存否センサ１０が構成されている。
規制部材６の上端よりも上方になる所定箇所に、投光方
向がやや斜め下方に向かうように第１の投光器８が設け
られ、一方、カップ７よりも水平方向外側方で、かつ、
支持部材５の上端よりも下方になるとともに基板保持部
材３を間にして第１の投光器８と対応する箇所に、第１
の投光器８から投射された光を受ける第１の受光器９が
設けられ、基板保持部材３に保持された基板Ｗの存否を
検出する基板存否センサ１０が構成されている。
【００１９】また、カップ７よりも水平方向外側方で、
かつ、支持部材５の上端よりも上方になるとともに基板
Ｗの回転方向に約１／４回転分だけ位置を異ならせた所
定箇所に、水平方向に光を投射する第２の投光器１１，
１１が設けられ、一方、基板保持部材３を間にして第２
の投光器１１，１１それぞれと対応する箇所に、第２の
投光器１１，１１それぞれから投射された光を受ける第
２の受光器１２が設けられ、その投光軌跡Ｔ，Ｔが平面
視において基板保持部材３に保持された基板Ｗに重複す
るとともに十字状に交差するように構成されている。第
２の投光器１１，１１それぞれは、全体として基板Ｗの
厚み以上の上下幅で光を投射するとともに、その上下幅
内に複数個の投光部を有するように構成されている。第
２の受光器１２，１２それぞれも同様にして複数個の受
光部を有するように構成されている。
かつ、支持部材５の上端よりも上方になるとともに基板
Ｗの回転方向に約１／４回転分だけ位置を異ならせた所
定箇所に、水平方向に光を投射する第２の投光器１１，
１１が設けられ、一方、基板保持部材３を間にして第２
の投光器１１，１１それぞれと対応する箇所に、第２の
投光器１１，１１それぞれから投射された光を受ける第
２の受光器１２が設けられ、その投光軌跡Ｔ，Ｔが平面
視において基板保持部材３に保持された基板Ｗに重複す
るとともに十字状に交差するように構成されている。第
２の投光器１１，１１それぞれは、全体として基板Ｗの
厚み以上の上下幅で光を投射するとともに、その上下幅
内に複数個の投光部を有するように構成されている。第
２の受光器１２，１２それぞれも同様にして複数個の受
光部を有するように構成されている。
【００２０】第１および第２の投光器８，１１，１１、
ならびに、第１および第２の受光器９，１２，１２それ
ぞれが基板保持状態判断手段としてのマイクロコンピュ
ータ１３に接続されるとともに、マイクロコンピュータ
１３に、ブザーや点滅ランプ等の警報装置１４が接続さ
れている。
ならびに、第１および第２の受光器９，１２，１２それ
ぞれが基板保持状態判断手段としてのマイクロコンピュ
ータ１３に接続されるとともに、マイクロコンピュータ
１３に、ブザーや点滅ランプ等の警報装置１４が接続さ
れている。
【００２１】マイクロコンピュータ１３では、基板Ｗの
搬入後に第１および第２の投光器８，１１，１１から光
を投射させ、それに対応して第１および第２の受光器
９，１２，１２からの信号を受け、それらの受光状態に
基づいて基板Ｗを正常に保持したことを判断するように
なっている。
搬入後に第１および第２の投光器８，１１，１１から光
を投射させ、それに対応して第１および第２の受光器
９，１２，１２からの信号を受け、それらの受光状態に
基づいて基板Ｗを正常に保持したことを判断するように
なっている。
【００２２】すなわち、図４の（ａ）の要部の側面図に
示すように、基板Ｗの一部が規制部材６上に載り上げ、
支持部材５とによって傾斜状態で基板保持部材３に支持
されているときには、第２の受光器１２，１２の少なく
ともいずれか一方の受光光量が減少する。また、図４の
（ｂ）の要部の側面図に示すように、基板Ｗが規制部材
６上に載り上げて、支持部材５による支持位置よりも高
い位置で支持されているときには、第２の受光器１２，
１２の両方の受光光量が減少する。そして、図３に示す
ように、基板Ｗが支持部材５…に正常な位置で支持され
ている場合には第２の受光器１２，１２のいずれにおい
ても受光光量が減少しない。
示すように、基板Ｗの一部が規制部材６上に載り上げ、
支持部材５とによって傾斜状態で基板保持部材３に支持
されているときには、第２の受光器１２，１２の少なく
ともいずれか一方の受光光量が減少する。また、図４の
（ｂ）の要部の側面図に示すように、基板Ｗが規制部材
６上に載り上げて、支持部材５による支持位置よりも高
い位置で支持されているときには、第２の受光器１２，
１２の両方の受光光量が減少する。そして、図３に示す
ように、基板Ｗが支持部材５…に正常な位置で支持され
ている場合には第２の受光器１２，１２のいずれにおい
ても受光光量が減少しない。
【００２３】したがって、第１の受光器９から遮光状態
の信号が入力されるに伴って基板Ｗが存在することを検
出し、かつ、第２の受光器１２，１２のいずれにおいて
も遮光が無くて設定量以上の受光光量が有ることに基づ
いて基板Ｗを正常に保持したことを判断することができ
る。ここで、基板Ｗが正常に保持されていないと判断し
たときには、警報装置１４に警報信号を出力して警報を
発し、基板Ｗが正常に保持されていないことを作業者に
知らせることができる。
の信号が入力されるに伴って基板Ｗが存在することを検
出し、かつ、第２の受光器１２，１２のいずれにおいて
も遮光が無くて設定量以上の受光光量が有ることに基づ
いて基板Ｗを正常に保持したことを判断することができ
る。ここで、基板Ｗが正常に保持されていないと判断し
たときには、警報装置１４に警報信号を出力して警報を
発し、基板Ｗが正常に保持されていないことを作業者に
知らせることができる。
【００２４】この回転式基板処理装置を用いて基板Ｗを
洗浄処理するシステムの一例を示せば、次の通りであ
る。すなわち、カセットから基板Ｗを取り出し、基板反
転ユニットに供給して基板Ｗを反転する。その反転した
基板Ｗを回転式基板処理装置に搬入した後、基板Ｗの正
常保持状態を確認する。ここで、基板Ｗが正常に保持さ
れていないと判断したときには処理を中断する。一方、
正常と判断したときには、カップ７を上昇するとともに
基板Ｗを回転し、洗浄液を供給して洗浄処理する。洗浄
処理後にカップ７を下降し、処理基板Ｗを基板反転ユニ
ットに供給して元の姿勢に戻し、その基板Ｗを回転式基
板処理装置に供給して同様に洗浄処理し、最終的に基板
Ｗの両面を洗浄してからカセットに戻す。
洗浄処理するシステムの一例を示せば、次の通りであ
る。すなわち、カセットから基板Ｗを取り出し、基板反
転ユニットに供給して基板Ｗを反転する。その反転した
基板Ｗを回転式基板処理装置に搬入した後、基板Ｗの正
常保持状態を確認する。ここで、基板Ｗが正常に保持さ
れていないと判断したときには処理を中断する。一方、
正常と判断したときには、カップ７を上昇するとともに
基板Ｗを回転し、洗浄液を供給して洗浄処理する。洗浄
処理後にカップ７を下降し、処理基板Ｗを基板反転ユニ
ットに供給して元の姿勢に戻し、その基板Ｗを回転式基
板処理装置に供給して同様に洗浄処理し、最終的に基板
Ｗの両面を洗浄してからカセットに戻す。
【００２５】このような処理工程において、回転式基板
処理装置に基板Ｗを搬入して基板保持部材３に保持させ
た後、その保持状態で基板Ｗが適正な姿勢で支持されて
いるかどうかを即座に判断でき、基板Ｗの洗浄処理工程
に要する時間を短縮できるようになったのである。
処理装置に基板Ｗを搬入して基板保持部材３に保持させ
た後、その保持状態で基板Ｗが適正な姿勢で支持されて
いるかどうかを即座に判断でき、基板Ｗの洗浄処理工程
に要する時間を短縮できるようになったのである。
【００２６】比較実験の結果、従来の基板Ｗを１回転さ
せて適正な姿勢で支持されているかどうかを判断する場
合、８インチウエハでは７秒、そして、６インチウエハ
では４秒要していたが、上記実施例によれば、大小にか
かわらずいずれも１秒で済むことがわかった。
せて適正な姿勢で支持されているかどうかを判断する場
合、８インチウエハでは７秒、そして、６インチウエハ
では４秒要していたが、上記実施例によれば、大小にか
かわらずいずれも１秒で済むことがわかった。
【００２７】図５は、本発明に係る回転式基板処理装置
の第２実施例を示す平面図であり、第１実施例と異なる
ところは次の通りである。すなわち、第２の投光器１１
および第２の受光器１２をいずれも１個にし、鏡や鏡面
部材などの反射部材１５を用い、第２の投光器１１から
の光を反射部材１５に投射し、その反射部材１５で反射
した光を第２の受光器１２に受けさせ、第２の投光器１
１から反射部材１５に至る平面視における投光軌跡Ｔ
と、反射部材１５から第２の受光器１２に至る平面視に
おける投光軌跡Ｔとが互いに平行にならないように構成
されている。他の構成は第１実施例と同じであり、同一
図番を付すことにより、その説明は省略する。
の第２実施例を示す平面図であり、第１実施例と異なる
ところは次の通りである。すなわち、第２の投光器１１
および第２の受光器１２をいずれも１個にし、鏡や鏡面
部材などの反射部材１５を用い、第２の投光器１１から
の光を反射部材１５に投射し、その反射部材１５で反射
した光を第２の受光器１２に受けさせ、第２の投光器１
１から反射部材１５に至る平面視における投光軌跡Ｔ
と、反射部材１５から第２の受光器１２に至る平面視に
おける投光軌跡Ｔとが互いに平行にならないように構成
されている。他の構成は第１実施例と同じであり、同一
図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００２８】この第２実施例によれば、反射部材１５を
付加するだけで、投光器および受光器のいずれをも１個
にでき、部材数を少なくできるとともに、マイクロコン
ピュータ１３で処理する変数も少なくできて構成が簡単
になり、安価に製作できる利点を有している。
付加するだけで、投光器および受光器のいずれをも１個
にでき、部材数を少なくできるとともに、マイクロコン
ピュータ１３で処理する変数も少なくできて構成が簡単
になり、安価に製作できる利点を有している。
【００２９】基板保持状態判断手段を構成するのに、上
述のようなマイクロコンピュータ１３を用いずに、例え
ば、第１および第２の受光器９，１２それぞれにおい
て、受光状態を１、遮光状態を０とし、第１の受光器９
からの信号をＮＯＴ回路に入力して反転し、そのＮＯＴ
回路からの出力信号と第２の受光器１２からの信号とを
ＡＮＤ回路に入力し、ＡＮＤ回路からの出力によって基
板Ｗが適正な姿勢で支持されているかどうかを判断する
とともに警報装置１４を起動したりするように構成して
も良い。
述のようなマイクロコンピュータ１３を用いずに、例え
ば、第１および第２の受光器９，１２それぞれにおい
て、受光状態を１、遮光状態を０とし、第１の受光器９
からの信号をＮＯＴ回路に入力して反転し、そのＮＯＴ
回路からの出力信号と第２の受光器１２からの信号とを
ＡＮＤ回路に入力し、ＡＮＤ回路からの出力によって基
板Ｗが適正な姿勢で支持されているかどうかを判断する
とともに警報装置１４を起動したりするように構成して
も良い。
【００３０】本発明は、液晶表示装置用ガラス基板やフ
ォトマスク用ガラス基板、さらに光ディスク用基板等、
円形状や角形状などの各種の基板に適用できる。
ォトマスク用ガラス基板、さらに光ディスク用基板等、
円形状や角形状などの各種の基板に適用できる。
【００３１】
【発明の効果】請求項１に係る発明の回転式基板処理装
置によれば、基板の保持姿勢が適正かどうか瞬時に判断
できるので、処理時間を短縮できる。
置によれば、基板の保持姿勢が適正かどうか瞬時に判断
できるので、処理時間を短縮できる。
【００３２】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置によれば、基板の保持姿勢が適正かどうかの判断
が確実に行える。
理装置によれば、基板の保持姿勢が適正かどうかの判断
が確実に行える。
【００３３】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置によれば、基板の保持姿勢が適正かどうかの判断
が単純な構成で行える。
理装置によれば、基板の保持姿勢が適正かどうかの判断
が単純な構成で行える。
【図１】本発明に係る回転式基板処理装置の第１実施例
を示す全体概略側面図である。
を示す全体概略側面図である。
【図２】第１実施例の全体概略平面図である。
【図３】基板支持状態を示す要部の側面図である。
【図４】基板支持状態を示す要部の側面図である。
【図５】本発明に係る回転式基板処理装置の第２実施例
を示す全体概略平面図である。
を示す全体概略平面図である。
３…基板保持部材 ５…支持部材 ６…規制部材 ８…第１の投光器 ９…第１の受光器 １０…基板存否センサ １１…第２の投光器 １２…第２の受光器 １３…基板保持状態判断手段としてのマイクロコンピュ
ータ １５…反射部材 Ｐ…鉛直方向の軸芯 Ｔ…投光軌跡 Ｗ…基板
ータ １５…反射部材 Ｐ…鉛直方向の軸芯 Ｔ…投光軌跡 Ｗ…基板
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を支持する支持部材と前記基板の外
周端面に当接して水平方向の移動を規制する規制部材と
を備えた基板保持部材を鉛直方向の軸芯回りで回転可能
に設け、前記基板保持部材に保持された基板の存否を検
出する基板存否センサを備えた回転式基板処理装置にお
いて、 前記基板保持部材の周囲に、平面視において前記基板保
持部材に保持された基板に重複するとともに互いに平行
ではなく、かつ、水平方向に複数の投光軌跡を有する投
光器と、対の受光器と、 前記基板存否センサと前記受光器それぞれの信号に基づ
いて前記基板を正常に保持したことを判断する基板保持
状態判断手段と、 を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項２】 その投光軌跡が平面視において互いに平
行ではない前記投光器と受光器がそれぞれ複数個設けら
れている請求項１に記載の回転式基板処理装置。 - 【請求項３】 前記投光器と受光器が単数であり、投光
器からの投光が受光器に入射するように構成された反射
部材を設けた請求項１に記載の回転式基板処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14127095A JP3544747B2 (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 回転式基板処理装置 |
| US08/644,376 US5853483A (en) | 1995-05-02 | 1996-05-10 | Substrate spin treating method and apparatus |
| KR1019960015818A KR100274125B1 (ko) | 1995-05-15 | 1996-05-13 | 기판회전처리방법 및 회전식 기판처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14127095A JP3544747B2 (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 回転式基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08316290A true JPH08316290A (ja) | 1996-11-29 |
| JP3544747B2 JP3544747B2 (ja) | 2004-07-21 |
Family
ID=15287995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14127095A Expired - Fee Related JP3544747B2 (ja) | 1995-05-02 | 1995-05-15 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3544747B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001068531A (ja) * | 1999-04-19 | 2001-03-16 | Applied Materials Inc | ウェーハ位置の検出方法 |
| KR100914743B1 (ko) * | 2007-09-06 | 2009-08-31 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 상기 장치의 기판 감지 방법 |
| JP2013016697A (ja) * | 2011-07-05 | 2013-01-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体 |
| JP2013016698A (ja) * | 2011-07-05 | 2013-01-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体 |
| JP2014036204A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-02-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP2014154776A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Toshiba Corp | 基板処理装置 |
| JP2015026688A (ja) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP2015079879A (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP2019117828A (ja) * | 2017-12-26 | 2019-07-18 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ＆サービス | 検出装置および測長ｓｅｍ |
-
1995
- 1995-05-15 JP JP14127095A patent/JP3544747B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100914743B1 (ko) * | 2007-09-06 | 2009-08-31 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 상기 장치의 기판 감지 방법 |
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| JP2013016698A (ja) * | 2011-07-05 | 2013-01-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体 |
| JP2014036204A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-02-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| US8865483B2 (en) | 2012-08-10 | 2014-10-21 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| JP2014154776A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Toshiba Corp | 基板処理装置 |
| JP2015026688A (ja) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP2015079879A (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP2019117828A (ja) * | 2017-12-26 | 2019-07-18 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ＆サービス | 検出装置および測長ｓｅｍ |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3544747B2 (ja) | 2004-07-21 |
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