JP2019117828A - 検出装置および測長sem - Google Patents
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Abstract
Description
[測長SEMの構成]
本開示に係る検出装置および測長SEMの一態様について、図面に基づき説明する。
図1は、実施形態に係る検出装置が適用された測長SEM1の概略構成図である。測長SEM1は、局所クリーン化装置14と走査型電子顕微鏡本体20とを有し、局所クリーン化装置14内には、基板2を搬送する試料搬送装置10が設置されている。
次に、ロードロック室24を備えたロードロック部21の詳細な構成と、ロードロック室24に配置されているホルダへの基板2の載置手順について、図2および図3を参照しながら詳しく説明する。
図3は、ロードロック部21の部分側面断面図を示す。
図2および図3に示された例では、ロードロック部21は、直方体形状の中空の筐体31を備え、その中空部がロードロック室24を形成する。図2または図3に示された座標軸のX方向は、筐体31およびロードロック室24の幅方向を示し、座標軸のY方向は、筐体31およびロードロック室24の長さ方向を示し、座標軸のZ方向は、筐体31およびロードロック室24の高さ方向を示す。ここで、筐体31の長さ方向(Y方向)は、ロードロック室24から試料室25内のステージ部22へホルダ26を搬送する方向と同じ方向である。
図5は、本実施形態の検出装置の構成を示す図である。本実施形態の検出装置は、基板2が規定位置に配置された状態において基板2の上方を通過するビームを射出するN個(N≧2)の投光器40と、N個の投光器のそれぞれから射出されたビームを、基板2が規定位置に配置された状態において基板2の上方を通過する方向に反射する複数のミラー42と、複数のミラー42のそれぞれによって反射された反射ビームを受光するN−1個以下の受光器41と、を備える。図5に示された例では、検出装置は二つの投光器40と二つのミラー42と一つの受光器41を備える。検出装置は、基板2を保持する際に固定ピン44や可動ピン45に基板2の外縁が乗り上げた状態となる異常載置を検出する。基板2の異常載置は、ホルダ26に基板2を載置した時の位置ずれや角度ずれなどに起因する。
半導体搬送装置では、基板サイズごとに異なる位置に固定ピン44および可動ピン45を立設する必要があるため、通常、基板サイズに対応した異なる種類のホルダが用いられる。一方、基板2の位置ずれを検出する検出装置のセンサである投光器40、受光器41およびミラー42は、ロードロック室24に固定して配置されているため、どの種類のホルダが用いられてもビーム43の光路が固定ピン44および可動ピン45と干渉しないように配置される必要がある。
図8は、位置ずれを検出する検出装置が備えるセンサの異なる配置例を示す図である。上記の実施形態では、投光器40aおよび40b並びに受光器41は、それぞれ、ホルダ26に対して同じ側に配置され、ミラー42aおよび42bは、ホルダ26を挟んで反対側に配置された。即ち、ビーム43がロードロック室24の幅方向(X方向)の一方からもう一方へ進行しミラー42にて反射される構成であった。
図9は、位置ずれを検出する検出装置の別の構成例を示す図である。上記の実施形態とは異なり、図9に示された検出装置では、投光器40から射出されたビーム43が複数のミラー42によって複数回(この例では三回)反射された後、受光器41にて受光される。換言すると、複数のミラーのうち少なくとも二つのミラーは、同一の投光器から射出されたビームを反射する。或いは、複数のミラーのうち少なくとも一つのミラーは、別のミラーが反射した反射ビームを反射する。このようにすると、基板2が規定位置に載置されなかった場合、投光器40から射出されたビーム43の光量が、例えば、受光器41に到達するまでに射出時の光量の73%程度に減ずる。それ故、基板2の載置が異常と判定する光量の閾値に対する尤度が拡大する。したがって、異常検出の安定性が向上する。
12:試料搬送ロボット、13:基板収納ケース、
14:局所クリーン化装置、20:走査型電子顕微鏡本体
21:ロードロック部、22:ステージ部、23:鏡筒部、24:ロードロック室
25:試料室、26:ホルダ、27L〜27R:ホイール、28:載置面
29:試料ステージ、31:筐体、32L/32R、:ベース部、33L〜33R:レール
35:ゲートバルブ、36L〜36R:取付台、40a〜40b:センサ投光器
41:センサ受光器、42a〜42b:ミラー、43a〜43d:ビーム
44a〜44c:固定ピン、45:可動ピン、46:支持ピン
50:3inch基板、51:4inch基板、52:6inch基板、53:8inch基板
Claims (7)
- 基板の位置ずれを検出する検出装置であって、
前記基板が規定位置に配置された状態において前記基板の上方を通過するビームを射出するN個(N≧2)の投光器と、
前記N個の投光器のそれぞれから射出された前記ビームを、前記基板が前記規定位置に配置された状態において前記基板の上方を通過する方向に反射する複数のミラーと、
前記複数のミラーのそれぞれによって反射された反射ビームを受光するN−1個以下の受光器と、
を備える検出装置。 - 請求項1に記載の検出装置において、
前記N−1個以下の受光器のうち、少なくとも一つの受光器は、第1の投光器から射出された前記ビームの反射ビームと第2の投光器から射出された前記ビームの反射ビームとを合わせて受光する、
検出装置。 - 請求項2に記載の検出装置において、
前記第1の投光器が射出した前記ビームの光路と、前記第1の投光器が射出した前記ビームの反射ビームの光路と、に挟まれた角が所定の角度よりも大きい、
検出装置。 - 請求項1に記載の検出装置において、
前記複数のミラーのうち少なくとも一つのミラーは、別のミラーが反射した反射ビームを反射する、
検出装置。 - 請求項1に記載の検出装置において、
前記N個の投光器は、第1のサイズの基板が第1の規定位置に配置された状態および第2のサイズの基板が第2の規定位置に配置された状態において、前記基板の上方を通過する方向に前記ビームを射出し、
前記複数のミラーは、前記第1のサイズの基板が前記第1の規定位置に配置された状態および前記第2のサイズの基板が前記第2の規定位置に配置された状態において、前記基板の上方を通過する方向に前記ビームを反射する、
検出装置。 - 請求項1に記載の検出装置を備えるロードロック室と、
前記ロードロック室と隣接する試料室と、
前記ロードロック室に前記基板が保持されたホルダを搬送する搬送装置と、
を備える測長SEM。 - 請求項5に記載の検出装置を備えるロードロック室と、
前記ロードロック室と隣接する試料室と、
前記ロードロック室に前記基板が保持されたホルダを搬送する搬送装置と、
を備える測長SEM。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021150030A (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-27 | キオクシア株式会社 | 検査装置 |
JP7461820B2 (ja) | 2020-07-14 | 2024-04-04 | オークマ株式会社 | ワークテーブル |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08316290A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JPH11243130A (ja) * | 1998-02-26 | 1999-09-07 | Omron Corp | 薄板材状態検出装置および薄板材の状態検出方法 |
JP2012033594A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板保持具及び基板搬送システム |
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---|---|---|---|---|
JPH08316290A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JPH11243130A (ja) * | 1998-02-26 | 1999-09-07 | Omron Corp | 薄板材状態検出装置および薄板材の状態検出方法 |
JP2012033594A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板保持具及び基板搬送システム |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021150030A (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-27 | キオクシア株式会社 | 検査装置 |
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