JPH08316119A - 割り込み処理方法および割り込み処理装置 - Google Patents
割り込み処理方法および割り込み処理装置Info
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- JPH08316119A JPH08316119A JP7115845A JP11584595A JPH08316119A JP H08316119 A JPH08316119 A JP H08316119A JP 7115845 A JP7115845 A JP 7115845A JP 11584595 A JP11584595 A JP 11584595A JP H08316119 A JPH08316119 A JP H08316119A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 割り込み処理方法と割り込み処理装置に関
し、物品に所要時間が異なる複数の処理を連続して施す
場合、各処理装置の稼働率を向上させる。 【構成】 第１の処理を施す第１の処理装置１1 〜１3
と第２の処理を施す第２の処理装置２1 ，２2 によって
物品に第１の処理と第２の処理をこの順で施す場合、溜
め込み用バッファと割り込み用バッファを有する搬送装
置３1 ，３2 によって相互に接続された第１の処理装置
１1 ，１2 と第２の処理装置２1 ，２2 と、独立した第
１の処理装置１3 を用い、相互に接続された第１の処理
装置によって第１の処理を施した物品を溜め込み用バッ
ファに一時溜め込み、相互に接続された第１の処理装置
１1 ，１2 によって第１の処理を施した物品を溜め込ん
でいる間に、独立した第１の処理装置１3 によって第１
の処理を施した物品を割り込み用バッファを介して第２
の処理装置２1 ，２2 に移送して第２の処理を施す。
し、物品に所要時間が異なる複数の処理を連続して施す
場合、各処理装置の稼働率を向上させる。 【構成】 第１の処理を施す第１の処理装置１1 〜１3
と第２の処理を施す第２の処理装置２1 ，２2 によって
物品に第１の処理と第２の処理をこの順で施す場合、溜
め込み用バッファと割り込み用バッファを有する搬送装
置３1 ，３2 によって相互に接続された第１の処理装置
１1 ，１2 と第２の処理装置２1 ，２2 と、独立した第
１の処理装置１3 を用い、相互に接続された第１の処理
装置によって第１の処理を施した物品を溜め込み用バッ
ファに一時溜め込み、相互に接続された第１の処理装置
１1 ，１2 によって第１の処理を施した物品を溜め込ん
でいる間に、独立した第１の処理装置１3 によって第１
の処理を施した物品を割り込み用バッファを介して第２
の処理装置２1 ，２2 に移送して第２の処理を施す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、割り込み処理方法およ
び割り込み処理装置、特に、半導体装置、液晶表示装
置、磁気ヘッド等を製造する場合のリソグラフィー工程
において、露光装置と現像装置等を稼働率よく運用する
方法とそのための装置に関する。
び割り込み処理装置、特に、半導体装置、液晶表示装
置、磁気ヘッド等を製造する場合のリソグラフィー工程
において、露光装置と現像装置等を稼働率よく運用する
方法とそのための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、露光装置と現像装置を用いた露光
現像方法として、次に説明する２つの方法が知られてい
た。
現像方法として、次に説明する２つの方法が知られてい
た。
【０００３】図６は、従来の露光現像方法の説明図であ
り、（Ａ），（Ｂ）は第１の態様の露光現像方法を示し
（Ｃ）は第２の態様の露光現像方法を示している。この
図において、３１，３１1 ，３１2 ，３１3 は露光装
置、３２，３２1 ，３２2 は現像装置、３３は搬送装
置、３４1 ，３４2 ，３４3 ，３４4 ，３４5，３４6
は運搬径路である。
り、（Ａ），（Ｂ）は第１の態様の露光現像方法を示し
（Ｃ）は第２の態様の露光現像方法を示している。この
図において、３１，３１1 ，３１2 ，３１3 は露光装
置、３２，３２1 ，３２2 は現像装置、３３は搬送装
置、３４1 ，３４2 ，３４3 ，３４4 ，３４5，３４6
は運搬径路である。
【０００４】第１の態様の露光現像方法（図６（Ａ）参
照） この態様の露光現像方法においては、露光装置（第１の
処理装置）３１と現像装置（第２の処理装置）３２を直
列に接続し、その間を搬送装置３３によって連結してい
る。そして、連続的に供給されたウェハ（物品）は、露
光装置３１によって露光（第１の処理）され、搬送装置
３３によって現像装置３２に移送されて、現像装置３２
によって現像（第２の処理）するようになっている。こ
の態様によると、要求される処理量に応じて、必要とす
る数の露光装置３１と現像層３２の工程ラインを設置す
ることになる。
照） この態様の露光現像方法においては、露光装置（第１の
処理装置）３１と現像装置（第２の処理装置）３２を直
列に接続し、その間を搬送装置３３によって連結してい
る。そして、連続的に供給されたウェハ（物品）は、露
光装置３１によって露光（第１の処理）され、搬送装置
３３によって現像装置３２に移送されて、現像装置３２
によって現像（第２の処理）するようになっている。こ
の態様によると、要求される処理量に応じて、必要とす
る数の露光装置３１と現像層３２の工程ラインを設置す
ることになる。
【０００５】第２の態様の露光現像方法（図６（Ｃ）参
照） この態様においては、第１の態様において説明したよう
に露光装置（第１の処理装置）３１と現像装置（第２の
処理装置）３２の間を結合する搬送装置３３を用いるこ
となく、必要とする処理量から割り出した数の露光装置
３１1 ，３１2，３１3 と現像装置３２1 ，３２2 を用
い、露光装置３１1 ，３１2 ，３１3 によって露光（第
１の処理）されたウェハ（物品）を運搬径路３４1 ，３
４2 ，３４3 ，３４4 ，３４5 ，３４6 を経て現像装置
３２1 ，３２2 に供給して、現像装置３２1 ，３２2 に
おいて現像（第２の処理）するようになっている。
照） この態様においては、第１の態様において説明したよう
に露光装置（第１の処理装置）３１と現像装置（第２の
処理装置）３２の間を結合する搬送装置３３を用いるこ
となく、必要とする処理量から割り出した数の露光装置
３１1 ，３１2，３１3 と現像装置３２1 ，３２2 を用
い、露光装置３１1 ，３１2 ，３１3 によって露光（第
１の処理）されたウェハ（物品）を運搬径路３４1 ，３
４2 ，３４3 ，３４4 ，３４5 ，３４6 を経て現像装置
３２1 ，３２2 に供給して、現像装置３２1 ，３２2 に
おいて現像（第２の処理）するようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述の第１の態様の露
光現像方法は、搬送装置３３を用いるため搬送径路を単
純化することができる反面、露光装置（第１の処理装
置）３１と現像装置（第２の処理装置）３２のうち、処
理能力の小さい方の処理量によってラインの処理能力が
規制されてしまうため、処理能力の大きい方の処理装置
の能力を充分に発揮させることができず、稼働率が低下
するという問題を有している。
光現像方法は、搬送装置３３を用いるため搬送径路を単
純化することができる反面、露光装置（第１の処理装
置）３１と現像装置（第２の処理装置）３２のうち、処
理能力の小さい方の処理量によってラインの処理能力が
規制されてしまうため、処理能力の大きい方の処理装置
の能力を充分に発揮させることができず、稼働率が低下
するという問題を有している。
【０００７】具体的に説明すると、露光工程に９０秒を
要し、現像工程に６０秒を要すると仮定すると、露光装
置は、９０秒の露光を連続して行い、１００％稼働して
いるとしても、現像装置は、６０秒の現像を行い、その
後に３０秒の遊び時間を生じて稼働率が低下することに
なる（図６（Ｂ）参照）。
要し、現像工程に６０秒を要すると仮定すると、露光装
置は、９０秒の露光を連続して行い、１００％稼働して
いるとしても、現像装置は、６０秒の現像を行い、その
後に３０秒の遊び時間を生じて稼働率が低下することに
なる（図６（Ｂ）参照）。
【０００８】また、前述の第２の態様の露光現像方法に
は、露光装置（第１の処理装置）３１1 ，３１2 ，３１
3 と現像装置（第２の処理装置）３２1 ，３２2 の稼働
率を向上することができるという利点がある反面、露光
工程に要する時間と現像工程に要する時間に応じて、ウ
ェハを、露光装置３１1 ，３１2 ，３１3 と現像装置３
２1 ，３２2 の間を運搬径路３４1 ，３４2 ，３４3 ，
３４4 ，３４5 ，３４ 6 を経て人手によって運ぶか、あ
るいは、複雑な仕分け装置が必要になるという問題を有
している。
は、露光装置（第１の処理装置）３１1 ，３１2 ，３１
3 と現像装置（第２の処理装置）３２1 ，３２2 の稼働
率を向上することができるという利点がある反面、露光
工程に要する時間と現像工程に要する時間に応じて、ウ
ェハを、露光装置３１1 ，３１2 ，３１3 と現像装置３
２1 ，３２2 の間を運搬径路３４1 ，３４2 ，３４3 ，
３４4 ，３４5 ，３４ 6 を経て人手によって運ぶか、あ
るいは、複雑な仕分け装置が必要になるという問題を有
している。
【０００９】本発明は、物品に、所要時間が異なる複数
の処理を連続して施す場合、各処理装置の稼働率を向上
する手段を提供することを目的とする。
の処理を連続して施す場合、各処理装置の稼働率を向上
する手段を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる割り込み
処理方法においては、前述の従来技術が有していた問題
を解決するために、第１の処理を施す複数の第１の処理
装置と第２の処理を施す第２の処理装置によって物品に
第１の処理と第２の処理をこの順で施す場合、溜め込み
用バッファと割り込み用バッファを有する搬送装置によ
って相互に接続された第１の処理装置と第２の処理装置
と、前記相互に接続された第１の処理装置と異なる独立
した第１の処理装置を用い、該相互に接続された第１の
処理装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み
用バッファに一時溜め込み、該相互に接続された第１の
処理装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み
用バッファに溜め込んでいる間に、該独立した第１の処
理装置によって第１の処理を施した物品を該割り込み用
バッファを介して該第２の処理装置に移送して第２の処
理を施す工程を採用した。
処理方法においては、前述の従来技術が有していた問題
を解決するために、第１の処理を施す複数の第１の処理
装置と第２の処理を施す第２の処理装置によって物品に
第１の処理と第２の処理をこの順で施す場合、溜め込み
用バッファと割り込み用バッファを有する搬送装置によ
って相互に接続された第１の処理装置と第２の処理装置
と、前記相互に接続された第１の処理装置と異なる独立
した第１の処理装置を用い、該相互に接続された第１の
処理装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み
用バッファに一時溜め込み、該相互に接続された第１の
処理装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み
用バッファに溜め込んでいる間に、該独立した第１の処
理装置によって第１の処理を施した物品を該割り込み用
バッファを介して該第２の処理装置に移送して第２の処
理を施す工程を採用した。
【００１１】本発明にかかる他の割り込み処理方法にお
いては、第１の処理を施す第１の処理装置と第２の処理
を施す複数の第２の処理装置によって物品に第１の処理
と第２の処理をこの順で施す場合、溜め込み用バッファ
と半製品アウトプット用バッファを有する搬送装置によ
って相互に接続された第１の処理装置と第２の処理装置
と、独立した第２の処理装置を用い、該第１の処理装置
によって第１の処理を施した物品を該溜め込み用バッフ
ァに一時溜め込み、該第２の処理装置によって処理しき
れない第１の処理を施した物品を該半製品アウトプット
用バッファから独立した第２の処理装置に移送して第２
の処理を施す工程を採用した。
いては、第１の処理を施す第１の処理装置と第２の処理
を施す複数の第２の処理装置によって物品に第１の処理
と第２の処理をこの順で施す場合、溜め込み用バッファ
と半製品アウトプット用バッファを有する搬送装置によ
って相互に接続された第１の処理装置と第２の処理装置
と、独立した第２の処理装置を用い、該第１の処理装置
によって第１の処理を施した物品を該溜め込み用バッフ
ァに一時溜め込み、該第２の処理装置によって処理しき
れない第１の処理を施した物品を該半製品アウトプット
用バッファから独立した第２の処理装置に移送して第２
の処理を施す工程を採用した。
【００１２】また、本発明にかかる割り込み処理装置に
おいては、溜め込み用バッファと割り込み用バッファを
有する搬送装置によって相互に接続された第１の処理装
置と第２の処理装置と、独立した第１の処理装置を有
し、該第１の処理装置と第２の処理装置と搬送装置と溜
め込み用バッファと割り込み用バッファが制御装置に接
続されており、該制御装置によって、該相互に接続され
た第１の処理装置によって第１の処理を施した物品を該
溜め込み用バッファに一時溜め込み、該相互に接続され
た第１の処理装置によって第１の処理を施した物品を該
溜め込み用バッファに溜め込んでいる間に、該独立した
第１の処理装置によって第１の処理を施した物品を該割
り込み用バッファを介して該第２の処理装置に移送して
第２の処理を施すようにされている構成を採用した。
おいては、溜め込み用バッファと割り込み用バッファを
有する搬送装置によって相互に接続された第１の処理装
置と第２の処理装置と、独立した第１の処理装置を有
し、該第１の処理装置と第２の処理装置と搬送装置と溜
め込み用バッファと割り込み用バッファが制御装置に接
続されており、該制御装置によって、該相互に接続され
た第１の処理装置によって第１の処理を施した物品を該
溜め込み用バッファに一時溜め込み、該相互に接続され
た第１の処理装置によって第１の処理を施した物品を該
溜め込み用バッファに溜め込んでいる間に、該独立した
第１の処理装置によって第１の処理を施した物品を該割
り込み用バッファを介して該第２の処理装置に移送して
第２の処理を施すようにされている構成を採用した。
【００１３】また、本発明にかかる他の割り込み処理装
置においては、溜め込み用バッファと半製品アウトプッ
ト用バッファを有する搬送装置によって相互に接続され
た第１の処理装置と第２の処理装置と、独立した第２の
処理装置を有し、該第１の処理装置と第２の処理装置と
搬送装置と溜め込み用バッファと半製品アウトプット用
バッファが制御装置に接続されており、該制御装置によ
って、該第１の処理装置によって第１の処理を施した物
品を該溜め込み用バッファに一時溜め込み、該相互に接
続された第２の処理装置によって処理しきれない第１の
処理を施した物品を該半製品アウトプット用バッファか
ら該独立した第２の処理装置に移送して第２の処理を施
すようにされている構成を採用した。
置においては、溜め込み用バッファと半製品アウトプッ
ト用バッファを有する搬送装置によって相互に接続され
た第１の処理装置と第２の処理装置と、独立した第２の
処理装置を有し、該第１の処理装置と第２の処理装置と
搬送装置と溜め込み用バッファと半製品アウトプット用
バッファが制御装置に接続されており、該制御装置によ
って、該第１の処理装置によって第１の処理を施した物
品を該溜め込み用バッファに一時溜め込み、該相互に接
続された第２の処理装置によって処理しきれない第１の
処理を施した物品を該半製品アウトプット用バッファか
ら該独立した第２の処理装置に移送して第２の処理を施
すようにされている構成を採用した。
【００１４】
【作用】図１は、本発明の第１態様の割り込み処理方法
の原理説明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を示
し、（Ｂ）は単純化したタイムチャートを示している。
この図において、１1 ，１2 ，１3 は第１の処理装置、
２1 ，２2 は第２の処理装置、３1 ，３2 は搬送装置、
４1 ，４2 は運搬径路である。
の原理説明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を示
し、（Ｂ）は単純化したタイムチャートを示している。
この図において、１1 ，１2 ，１3 は第１の処理装置、
２1 ，２2 は第２の処理装置、３1 ，３2 は搬送装置、
４1 ，４2 は運搬径路である。
【００１５】第１の態様の割り込み処理方法において
は、第１の処理装置による第１の処理が、第２の処理装
置による第２の処理より長時間を要する場合に適用する
ものであり、図１（Ａ）に示されているように、第１の
処理装置（露光装置）１1 と第２の処理装置（現像装
置）２1 を直列に接続し、また、第１の処理装置１2 と
第２の処理装置２2 を直列に接続し、さらに、独立した
第１の処理装置（露光装置）１3 を用い、第１の処理装
置１1 ，１2 によって第１の処理（露光）を施した物品
（ウェハ）を、第２の処理装置２1 ，２2 に搬送装置３
1 ，３2 によって搬送し、第２の処理装置２1 ，２2 に
よって第２の処理（現像）を施し、独立した第１の処理
装置１3 によって第１の処理を施した物品を、運搬径路
４1 ，４2 を経て余力のある第２の処理装置２1 ，２2
に移送し、第２の処理に割り込ませることによって第１
の処理装置１1 ，１2 ，１3 と第２の処理装置２1 ，２
2 の稼働率を向上させるようになっている。
は、第１の処理装置による第１の処理が、第２の処理装
置による第２の処理より長時間を要する場合に適用する
ものであり、図１（Ａ）に示されているように、第１の
処理装置（露光装置）１1 と第２の処理装置（現像装
置）２1 を直列に接続し、また、第１の処理装置１2 と
第２の処理装置２2 を直列に接続し、さらに、独立した
第１の処理装置（露光装置）１3 を用い、第１の処理装
置１1 ，１2 によって第１の処理（露光）を施した物品
（ウェハ）を、第２の処理装置２1 ，２2 に搬送装置３
1 ，３2 によって搬送し、第２の処理装置２1 ，２2 に
よって第２の処理（現像）を施し、独立した第１の処理
装置１3 によって第１の処理を施した物品を、運搬径路
４1 ，４2 を経て余力のある第２の処理装置２1 ，２2
に移送し、第２の処理に割り込ませることによって第１
の処理装置１1 ，１2 ，１3 と第２の処理装置２1 ，２
2 の稼働率を向上させるようになっている。
【００１６】この場合、第１の処理装置１1 ，１2 によ
って第１の処理を施した物品を、第２の処理装置２1 ，
２2 に連続的に移送して第２の処理を施すと、第１の処
理に要する時間が９０秒、第２の処理に要する時間が６
０秒であると仮定すると、第２の処理装置２1 ，２2 に
（９０秒−６０秒）＝３０秒の遊び時間が残るだけで、
この３０秒の遊び時間に６０秒を要する第２の処理を施
すことはできない。
って第１の処理を施した物品を、第２の処理装置２1 ，
２2 に連続的に移送して第２の処理を施すと、第１の処
理に要する時間が９０秒、第２の処理に要する時間が６
０秒であると仮定すると、第２の処理装置２1 ，２2 に
（９０秒−６０秒）＝３０秒の遊び時間が残るだけで、
この３０秒の遊び時間に６０秒を要する第２の処理を施
すことはできない。
【００１７】したがって、本発明の第１の態様の割り込
み処理方法においては、第１の処理装置１1 ，１2 と第
２の処理装置２1 ，２2 の間を物品を搬送する搬送装置
３1，３2 に溜め込み用バッファと割り込み用バッファ
を設け、第１の処理装置１1，１2 によって第１の処理
を施した物品を、搬送装置によって溜め込み用バッファ
に一時連続的に溜め込み、第１の処理装置１1 ，１2 に
よって第１の処理を施した物品を溜め込み用バッファに
溜め込んでいる間に、独立した第１の処理装置１3 によ
って第１の処理を施した物品を割り込み用バッファに移
送して溜めておき、運搬径路４1 ，４2 を経て余裕があ
る第２の処理装置２1 ，２2 に移送して第２の処理に割
り込ませることができるようになっている。
み処理方法においては、第１の処理装置１1 ，１2 と第
２の処理装置２1 ，２2 の間を物品を搬送する搬送装置
３1，３2 に溜め込み用バッファと割り込み用バッファ
を設け、第１の処理装置１1，１2 によって第１の処理
を施した物品を、搬送装置によって溜め込み用バッファ
に一時連続的に溜め込み、第１の処理装置１1 ，１2 に
よって第１の処理を施した物品を溜め込み用バッファに
溜め込んでいる間に、独立した第１の処理装置１3 によ
って第１の処理を施した物品を割り込み用バッファに移
送して溜めておき、運搬径路４1 ，４2 を経て余裕があ
る第２の処理装置２1 ，２2 に移送して第２の処理に割
り込ませることができるようになっている。
【００１８】この態様の割り込み処理方法を、図１
（Ｂ）によって、第１の処理に９０秒を要し、第２の処
理に６０秒を要すると仮定し、単純化して説明する。
（Ｂ）によって、第１の処理に９０秒を要し、第２の処
理に６０秒を要すると仮定し、単純化して説明する。
【００１９】（１）第１の処理装置１1 によってｎ個の
物品に連続して９０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理
を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みな
がら第２の処理装置２1 に移送して、第２の処理装置２
1 において６０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、続け
て、第１の処理装置１1 によってｎ個の物品に連続して
９０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ個の
物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の処理
装置２1 に移送して、６０ｎ秒第２の処理を施す。その
結果、第２の処理装置２1 には６０ｎ秒の余裕が生じる
ことになる。
物品に連続して９０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理
を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みな
がら第２の処理装置２1 に移送して、第２の処理装置２
1 において６０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、続け
て、第１の処理装置１1 によってｎ個の物品に連続して
９０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ個の
物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の処理
装置２1 に移送して、６０ｎ秒第２の処理を施す。その
結果、第２の処理装置２1 には６０ｎ秒の余裕が生じる
ことになる。
【００２０】（２）一方、第１の処理装置１2 によって
ｎ個の物品に連続して９０ｎ秒第１の処理を施し、第１
の処理を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め
込みながら第２の処理装置２2 に移送して、第２の処理
装置２2 において６０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、
続けて、第１の処理装置１2 によってｎ個の物品に連続
して９０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ
個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の
処理装置２2 に移送して、６０ｎ秒第２の処理を施す。
その結果、第２の処理装置２2 には６０ｎ秒の余裕が生
じることになる。
ｎ個の物品に連続して９０ｎ秒第１の処理を施し、第１
の処理を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め
込みながら第２の処理装置２2 に移送して、第２の処理
装置２2 において６０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、
続けて、第１の処理装置１2 によってｎ個の物品に連続
して９０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ
個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の
処理装置２2 に移送して、６０ｎ秒第２の処理を施す。
その結果、第２の処理装置２2 には６０ｎ秒の余裕が生
じることになる。
【００２１】（３）また、一方、独立した第１の処理装
置１3 によってｎ個の物品に連続して９０秒第１の処理
を施し、第１の処理を施したｎ個の物品を運搬径路４1
を経て割り込み用バッファに移送して溜め、さらに続け
て、独立した第１の処理装置１ 3 によってｎ個の物品に
連続して９０秒第１の処理を施し、第１の処理を施した
ｎ個の物品を運搬径路４2 を経て割り込み用バッファに
移送して溜める。そして、割り込み用バッファに溜めら
れた第１の処理を施した物品のうちのｎ個の物品に、第
２の処理装置２1 によって、その６０ｎ秒の余裕を利用
して第２の処理を施し、次いで、割り込み用バッファに
残っている第１の処理を施したｎ個の物品に、第２の処
理装置２2 によって、その６０ｎ秒の余裕を利用して第
２の処理を施す。
置１3 によってｎ個の物品に連続して９０秒第１の処理
を施し、第１の処理を施したｎ個の物品を運搬径路４1
を経て割り込み用バッファに移送して溜め、さらに続け
て、独立した第１の処理装置１ 3 によってｎ個の物品に
連続して９０秒第１の処理を施し、第１の処理を施した
ｎ個の物品を運搬径路４2 を経て割り込み用バッファに
移送して溜める。そして、割り込み用バッファに溜めら
れた第１の処理を施した物品のうちのｎ個の物品に、第
２の処理装置２1 によって、その６０ｎ秒の余裕を利用
して第２の処理を施し、次いで、割り込み用バッファに
残っている第１の処理を施したｎ個の物品に、第２の処
理装置２2 によって、その６０ｎ秒の余裕を利用して第
２の処理を施す。
【００２２】この態様の割り込み処理方法によると、第
１の処理装置１1 ，１2 ，１3 、第２の処理装置２1 ，
２2 の稼働率を１００％にすることができる。もちろ
ん、一般論としては、第１の処理装置と第２の処理装置
を直列したラインの数と独立した第１の処理装置の数
を、処理すべき物品の量や第１の処理と第２の処理に要
する時間等によって適宜設定することになる。この例に
よると、第１の処理装置と第２の処理装置の稼働率が１
００％になったが、一般には、第１の処理装置と第２の
処理装置の処理に要する時間によっては、第１の処理装
置と第２の処理装置の双方の稼働率を１００％にするの
ではなく、可及的に各処理装置の稼働率を改善すること
を目的とする。
１の処理装置１1 ，１2 ，１3 、第２の処理装置２1 ，
２2 の稼働率を１００％にすることができる。もちろ
ん、一般論としては、第１の処理装置と第２の処理装置
を直列したラインの数と独立した第１の処理装置の数
を、処理すべき物品の量や第１の処理と第２の処理に要
する時間等によって適宜設定することになる。この例に
よると、第１の処理装置と第２の処理装置の稼働率が１
００％になったが、一般には、第１の処理装置と第２の
処理装置の処理に要する時間によっては、第１の処理装
置と第２の処理装置の双方の稼働率を１００％にするの
ではなく、可及的に各処理装置の稼働率を改善すること
を目的とする。
【００２３】図２は、本発明の第２態様の割り込み処理
方法の原理説明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を
示し、（Ｂ）は単純化したタイムチャートを示してい
る。この図において、１1 ，１2 は第１の処理装置、２
1 ，２2 ，２3 は第２の処理装置、３1 ，３2 は搬送装
置、４1 ，４2 は運搬径路である。
方法の原理説明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を
示し、（Ｂ）は単純化したタイムチャートを示してい
る。この図において、１1 ，１2 は第１の処理装置、２
1 ，２2 ，２3 は第２の処理装置、３1 ，３2 は搬送装
置、４1 ，４2 は運搬径路である。
【００２４】第２の態様の割り込み処理方法において
は、第２の処理装置による第２の処理が、第１の処理装
置による第１の処理より長時間を要する場合に適用する
ものであり、図２（Ａ）に示されているように、第１の
処理装置（露光装置）１1 と第２の処理装置（現像装
置）２1 を直列に接続し、また、第１の処理装置１2 と
第２の処理装置２2 を直列に接続し、さらに、独立した
第２の処理装置（現像装置）２3 を用い、第１の処理装
置１1 ，１2 によって第１の処理（露光）を施した物品
（ウェハ）を、第２の処理装置２1 ，２2 に搬送装置３
1 ，３2 によって搬送し、第２の処理装置２1 ，２2 に
よって第２の処理（現像）を施し、独立した第２の処理
装置２3 によって、第１の処理装置１1 ，１2 によって
第１の処理を施したが、第２の処理装置２1 ，２2 によ
って第２の処理を施すことができない過剰の物品を運搬
径路４1 ，４2 を経て受け入れて第２の処理を施すこと
によって、第１の処理装置１1 ，１2 と第２の処理装置
２1 ，２2 ，２3 の稼働率を向上させるようになってい
る。
は、第２の処理装置による第２の処理が、第１の処理装
置による第１の処理より長時間を要する場合に適用する
ものであり、図２（Ａ）に示されているように、第１の
処理装置（露光装置）１1 と第２の処理装置（現像装
置）２1 を直列に接続し、また、第１の処理装置１2 と
第２の処理装置２2 を直列に接続し、さらに、独立した
第２の処理装置（現像装置）２3 を用い、第１の処理装
置１1 ，１2 によって第１の処理（露光）を施した物品
（ウェハ）を、第２の処理装置２1 ，２2 に搬送装置３
1 ，３2 によって搬送し、第２の処理装置２1 ，２2 に
よって第２の処理（現像）を施し、独立した第２の処理
装置２3 によって、第１の処理装置１1 ，１2 によって
第１の処理を施したが、第２の処理装置２1 ，２2 によ
って第２の処理を施すことができない過剰の物品を運搬
径路４1 ，４2 を経て受け入れて第２の処理を施すこと
によって、第１の処理装置１1 ，１2 と第２の処理装置
２1 ，２2 ，２3 の稼働率を向上させるようになってい
る。
【００２５】この場合、第１の処理装置１1 ，１2 によ
って第１の処理を施した物品を、第２の処理装置２1 ，
２2 に連続的に移送して第２の処理を施すと、第１の処
理に要する時間が６０秒、第２の処理に要する時間が９
０秒であると仮定すると、（９０秒−６０秒）＝３０秒
の遊び時間が残るだけで、この３０秒の遊び時間に９０
秒を要する第２の処理を施すことはできない。
って第１の処理を施した物品を、第２の処理装置２1 ，
２2 に連続的に移送して第２の処理を施すと、第１の処
理に要する時間が６０秒、第２の処理に要する時間が９
０秒であると仮定すると、（９０秒−６０秒）＝３０秒
の遊び時間が残るだけで、この３０秒の遊び時間に９０
秒を要する第２の処理を施すことはできない。
【００２６】したがって、本発明の第２の態様の割り込
み処理方法においては、第１の処理装置１1 ，１2 と第
２の処理装置２1 ，２2 の間を物品を搬送する搬送装置
３1，３2 に溜め込み用バッファと半製品アウトプット
用バッファを設け、第１の処理装置１1 ，１2 によって
第１の処理を施した物品を搬送装置によって溜め込み用
バッファに一時連続的に溜め込み、第１の処理装置
１1 ，１2 によって第１の処理を施した物品のうち第２
の処理装置２1 ，２2 によって第２の処理できない過剰
の物品を、を経て半製品アウトプット用バッファから独
立した第２の処理装置２3 に移送し、第２の処理装置２
3 によって第２の処理を施すことができるようになって
いる。
み処理方法においては、第１の処理装置１1 ，１2 と第
２の処理装置２1 ，２2 の間を物品を搬送する搬送装置
３1，３2 に溜め込み用バッファと半製品アウトプット
用バッファを設け、第１の処理装置１1 ，１2 によって
第１の処理を施した物品を搬送装置によって溜め込み用
バッファに一時連続的に溜め込み、第１の処理装置
１1 ，１2 によって第１の処理を施した物品のうち第２
の処理装置２1 ，２2 によって第２の処理できない過剰
の物品を、を経て半製品アウトプット用バッファから独
立した第２の処理装置２3 に移送し、第２の処理装置２
3 によって第２の処理を施すことができるようになって
いる。
【００２７】この態様の割り込み処理方法を、図２
（Ｂ）によって、第１の処理に６０秒を要し、第２の処
理に９０秒を要すると仮定し、単純化して説明する。
（Ｂ）によって、第１の処理に６０秒を要し、第２の処
理に９０秒を要すると仮定し、単純化して説明する。
【００２８】（１）第１の処理装置１1 によってｎ個の
物品に連続して６０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理
を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みな
がら第２の処理装置２1 に移送して、第２の処理装置２
1 において９０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、続け
て、第１の処理装置１1 によってｎ個の物品に連続して
６０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ個の
物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の処理
装置２1 に移送して、第２の処理装置２1 において９０
ｎ秒第２の処理を施す。その結果、第１の処理装置１1
と第２の処理装置２1 の間の溜め込み用バッファには第
２の処理を９０ｎ秒施すことが必要な量の物品が残るこ
とになる。
物品に連続して６０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理
を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みな
がら第２の処理装置２1 に移送して、第２の処理装置２
1 において９０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、続け
て、第１の処理装置１1 によってｎ個の物品に連続して
６０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ個の
物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の処理
装置２1 に移送して、第２の処理装置２1 において９０
ｎ秒第２の処理を施す。その結果、第１の処理装置１1
と第２の処理装置２1 の間の溜め込み用バッファには第
２の処理を９０ｎ秒施すことが必要な量の物品が残るこ
とになる。
【００２９】（２）一方、第１の処理装置１2 によって
ｎ個の物品に連続して６０ｎ秒第１の処理を施し、第１
の処理を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め
込みながら第２の処理装置２2 に移送して、第２の処理
装置２2 において９０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、
続けて、第１の処理装置１2 によってｎ個の物品に連続
して６０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ
個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の
処理装置２2 に移送して、第２の処理装置２2 において
９０ｎ秒第２の処理を施す。その結果、第１の処理装置
１2 と第２の処理装置２2 の間の溜め込み用バッファに
は第２の処理を９０ｎ秒施すことが必要な量の物品が残
ることになる。
ｎ個の物品に連続して６０ｎ秒第１の処理を施し、第１
の処理を施したｎ個の物品を溜め込み用バッファに溜め
込みながら第２の処理装置２2 に移送して、第２の処理
装置２2 において９０ｎ秒第２の処理を施す。さらに、
続けて、第１の処理装置１2 によってｎ個の物品に連続
して６０ｎ秒第１の処理を施し、第１の処理を施したｎ
個の物品を溜め込み用バッファに溜め込みながら第２の
処理装置２2 に移送して、第２の処理装置２2 において
９０ｎ秒第２の処理を施す。その結果、第１の処理装置
１2 と第２の処理装置２2 の間の溜め込み用バッファに
は第２の処理を９０ｎ秒施すことが必要な量の物品が残
ることになる。
【００３０】（３） そして、第１の処理装置１1 と第
２の処理装置２1 の間の溜め込み用バッファに溜められ
ている第１の処理を施した物品のうち、第２の処理を９
０ｎ秒施すことが必要な量の物品を、半製品アウトプッ
ト用バッファからとりだし、運搬径路４1 を経て独立し
た第２の処理装置２3 に移送し、第２の処理装置２3 に
よって第２の処理を施す。また、第１の処理装置１2 と
第２の処理装置２2 の間の溜め込み用バッファに残され
ている第１の処理を施した第２の処理を９０ｎ秒施すこ
とが必要な量の物品を、半製品アウトプット用バッファ
からとりだし、運搬径路４2 を経て独立した第２の処理
装置２3 に移送して第２の処理を施す。
２の処理装置２1 の間の溜め込み用バッファに溜められ
ている第１の処理を施した物品のうち、第２の処理を９
０ｎ秒施すことが必要な量の物品を、半製品アウトプッ
ト用バッファからとりだし、運搬径路４1 を経て独立し
た第２の処理装置２3 に移送し、第２の処理装置２3 に
よって第２の処理を施す。また、第１の処理装置１2 と
第２の処理装置２2 の間の溜め込み用バッファに残され
ている第１の処理を施した第２の処理を９０ｎ秒施すこ
とが必要な量の物品を、半製品アウトプット用バッファ
からとりだし、運搬径路４2 を経て独立した第２の処理
装置２3 に移送して第２の処理を施す。
【００３１】この態様の割り込み処理方法によると、第
１の処理装置１1 ，１2 、第２の処理装置２1 ，２2 ，
２3 の稼働率を１００％にすることができる。もちろ
ん、前述したように、第１の処理装置と第２の処理装置
を直列したラインの数と独立した第１の処理装置の数
を、処理すべき物品の量や第１の処理と第２の処理に要
する時間等によって適宜設定することができる。この例
によると、第１の処理装置と第２の処理装置の稼働率が
１００％になったが、一般には、第１の処理装置と第２
の処理装置のすべての稼働率が１００％にならず、可及
的に稼働率を改善することを目的とするものである。
１の処理装置１1 ，１2 、第２の処理装置２1 ，２2 ，
２3 の稼働率を１００％にすることができる。もちろ
ん、前述したように、第１の処理装置と第２の処理装置
を直列したラインの数と独立した第１の処理装置の数
を、処理すべき物品の量や第１の処理と第２の処理に要
する時間等によって適宜設定することができる。この例
によると、第１の処理装置と第２の処理装置の稼働率が
１００％になったが、一般には、第１の処理装置と第２
の処理装置のすべての稼働率が１００％にならず、可及
的に稼働率を改善することを目的とするものである。
【００３２】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 （第１実施例）この実施例の割り込み処理方法は、第１
の処理装置による第１の処理が、第２の処理装置による
第２の処理より長時間を要する場合に適用される。
の処理装置による第１の処理が、第２の処理装置による
第２の処理より長時間を要する場合に適用される。
【００３３】図３は、第１実施例の割り込み処理方法の
説明図である。この図において、１１1 ，１１2 は第１
の処理装置、１２1 は第２の処理装置、１３1 ，１３2
は搬送装置、１４は溜め込み用バッファ、１５は割り込
み用バッファ、１６は運搬経路、１７は制御装置、１８
は通信システム、１９は半製品である。
説明図である。この図において、１１1 ，１１2 は第１
の処理装置、１２1 は第２の処理装置、１３1 ，１３2
は搬送装置、１４は溜め込み用バッファ、１５は割り込
み用バッファ、１６は運搬経路、１７は制御装置、１８
は通信システム、１９は半製品である。
【００３４】この実施例の割り込み処理方法において
は、露光装置等の第１の処理装置１１ 1 と現像装置等の
第２の処理装置１２1 の間を、ウェハ等の半製品１９を
溜め込むための溜め込み用バッファ１４と割り込み用バ
ッファ１５を有する搬送装置１３1 ，１３2 によって接
続し、独立した第１の処理装置１１2 を運搬経路１６に
よって割り込み用バッファ１５に接続し、第１の処理装
置１１1 と第２の処理装置１２1 と溜め込み用バッファ
１４と割り込み用バッファ１５と搬送装置１３1，１３
2 と独立した第１の処理装置１１2 を通信システム１８
によって制御装置１７に接続している。
は、露光装置等の第１の処理装置１１ 1 と現像装置等の
第２の処理装置１２1 の間を、ウェハ等の半製品１９を
溜め込むための溜め込み用バッファ１４と割り込み用バ
ッファ１５を有する搬送装置１３1 ，１３2 によって接
続し、独立した第１の処理装置１１2 を運搬経路１６に
よって割り込み用バッファ１５に接続し、第１の処理装
置１１1 と第２の処理装置１２1 と溜め込み用バッファ
１４と割り込み用バッファ１５と搬送装置１３1，１３
2 と独立した第１の処理装置１１2 を通信システム１８
によって制御装置１７に接続している。
【００３５】この実施例の割り込み処理方法を、前述の
例のように、第１の処理装置１１1，１１2 における第
１の処理に９０秒を要し、第２の処理装置における第２
の処理に６０秒要するものとして説明する。
例のように、第１の処理装置１１1，１１2 における第
１の処理に９０秒を要し、第２の処理装置における第２
の処理に６０秒要するものとして説明する。
【００３６】第１の処理と第２の処理を施したい物品
を、第１の処理装置１１1 ，１１2 に、連続的あるいは
バッチで供給する。第１の処理装置１１1 に供給された
物品は、第１の処理装置１１1 で１個づつ９０秒かけて
第１の処理を施され、第１の処理が施された半製品１９
は搬送装置１３1 によって溜め込み用バッファ１４に搬
送され、格納される。半製品１９が格納されている場所
と格納個数は通信システム１８によって制御システム１
７に伝達される。
を、第１の処理装置１１1 ，１１2 に、連続的あるいは
バッチで供給する。第１の処理装置１１1 に供給された
物品は、第１の処理装置１１1 で１個づつ９０秒かけて
第１の処理を施され、第１の処理が施された半製品１９
は搬送装置１３1 によって溜め込み用バッファ１４に搬
送され、格納される。半製品１９が格納されている場所
と格納個数は通信システム１８によって制御システム１
７に伝達される。
【００３７】溜め込み用バッファ１４に格納された半製
品１９は、搬送装置１３2 によって第２の処理装置１２
1 に搬送され、６０秒かけて第２の処理が施される。一
方、独立した第１の処理装置１１2 に、連続的あるいは
バッチで供給された物品は、第１の処理装置１１2 で１
個づつ９０秒かけて第１の処理が施され、第１の処理を
施された半製品１９は、運搬経路１６を経て割り込み用
バッファ１５に搬送され、格納される。この場合も、半
製品１９が格納されている場所と格納個数は通信システ
ム１８によって制御システム１８に伝達される。
品１９は、搬送装置１３2 によって第２の処理装置１２
1 に搬送され、６０秒かけて第２の処理が施される。一
方、独立した第１の処理装置１１2 に、連続的あるいは
バッチで供給された物品は、第１の処理装置１１2 で１
個づつ９０秒かけて第１の処理が施され、第１の処理を
施された半製品１９は、運搬経路１６を経て割り込み用
バッファ１５に搬送され、格納される。この場合も、半
製品１９が格納されている場所と格納個数は通信システ
ム１８によって制御システム１８に伝達される。
【００３８】第１の処理装置１１1 における第１の処理
を施した半製品１９が特定個数、例えば１０個、溜め込
み用バッファ１４に溜まったとの情報が制御装置１７に
伝達されると、制御装置１７は搬送装置１３2 に指令を
出し割り込み用バッファ１５から第２の処理装置１２1
への半製品１９の搬送を中止する。
を施した半製品１９が特定個数、例えば１０個、溜め込
み用バッファ１４に溜まったとの情報が制御装置１７に
伝達されると、制御装置１７は搬送装置１３2 に指令を
出し割り込み用バッファ１５から第２の処理装置１２1
への半製品１９の搬送を中止する。
【００３９】そして、バッファ１４から第２の処理装置
１２1 に半製品１９を搬送するように搬送装置１３2 に
指令をだし、搬送装置１３2 は溜め込み用バッファ１４
から１個つづ半製品を第２の処理装置１２1 に搬送し
て、第２の処理装置１２1 で６０秒かけて第２の処理を
開始する。第１の処理装置１１1 での第１の処理は、そ
の間も継続して行われ、第１の処理装置１１1 で第１の
処理を施された半製品１９は溜め込み用バッファ１４に
溜めつづけられる。
１２1 に半製品１９を搬送するように搬送装置１３2 に
指令をだし、搬送装置１３2 は溜め込み用バッファ１４
から１個つづ半製品を第２の処理装置１２1 に搬送し
て、第２の処理装置１２1 で６０秒かけて第２の処理を
開始する。第１の処理装置１１1 での第１の処理は、そ
の間も継続して行われ、第１の処理装置１１1 で第１の
処理を施された半製品１９は溜め込み用バッファ１４に
溜めつづけられる。
【００４０】この実施例の割り込み処理方法では、第２
の処理装置１２1 での第２の処理に要する時間（６０
秒）が、第１の処理装置での第１の処理に要する時間
（９０秒）より短いため、溜め込み用バッファ１４に溜
められる第１の処理が施された半製品１９の量は次第に
減少してゆくが、溜め込み用バッファ１４に溜めた半製
品１９の第２の処理が終了すると、割り込み用バッファ
１５から半製品１９を搬送装置１３2 によって第２の処
理装置１２1 に搬送して第２の処理の割り込み処理を開
始する。
の処理装置１２1 での第２の処理に要する時間（６０
秒）が、第１の処理装置での第１の処理に要する時間
（９０秒）より短いため、溜め込み用バッファ１４に溜
められる第１の処理が施された半製品１９の量は次第に
減少してゆくが、溜め込み用バッファ１４に溜めた半製
品１９の第２の処理が終了すると、割り込み用バッファ
１５から半製品１９を搬送装置１３2 によって第２の処
理装置１２1 に搬送して第２の処理の割り込み処理を開
始する。
【００４１】この割り込み処理中も、第１の処理装置１
１1 による第１の処理を継続し、第２の処理を施した半
製品を溜め込み用バッファ１４に溜め続ける。溜め込み
用バッファ１４に溜まった半製品１９が特定個数、例え
ば１０個に達すると、その情報を受けた制御装置１７の
指令によって割り込み処理が中断し、溜め込み用バッフ
ァ１４から搬送装置１３2 によって第２の処理装置１２
1 に搬送される半製品１９に第２の処理を施す連続処理
に切り換わる。
１1 による第１の処理を継続し、第２の処理を施した半
製品を溜め込み用バッファ１４に溜め続ける。溜め込み
用バッファ１４に溜まった半製品１９が特定個数、例え
ば１０個に達すると、その情報を受けた制御装置１７の
指令によって割り込み処理が中断し、溜め込み用バッフ
ァ１４から搬送装置１３2 によって第２の処理装置１２
1 に搬送される半製品１９に第２の処理を施す連続処理
に切り換わる。
【００４２】この場合、第１の処理装置１１1 と独立し
た第１の処理装置１１2 に異なる物品を供給し、上述の
工程によって第１の処理と第２の処理を施した後に、第
２の処理装置１２1 から、第１の処理装置１１1 に供給
し第１の処理と第２の処理を施した製品と、独立した第
１の処理装置１１2 に供給し、第１の処理と第２の処理
を施した製品を別々に出す用にすることができる。複数
の物品を一括して管理できるバッチ処理の場合は、割り
込み処理によって第２の処理を施した製品をバッファ１
５に戻すこによって、装置やスペースを節約することが
できる。この場合は、第２の処理を施したことを認識で
きる表示をを付けることによって、第２の処理を施して
いない半製品との識別を可能にすることが必要である。
た第１の処理装置１１2 に異なる物品を供給し、上述の
工程によって第１の処理と第２の処理を施した後に、第
２の処理装置１２1 から、第１の処理装置１１1 に供給
し第１の処理と第２の処理を施した製品と、独立した第
１の処理装置１１2 に供給し、第１の処理と第２の処理
を施した製品を別々に出す用にすることができる。複数
の物品を一括して管理できるバッチ処理の場合は、割り
込み処理によって第２の処理を施した製品をバッファ１
５に戻すこによって、装置やスペースを節約することが
できる。この場合は、第２の処理を施したことを認識で
きる表示をを付けることによって、第２の処理を施して
いない半製品との識別を可能にすることが必要である。
【００４３】第２の処理装置１２1 での第２の処理を施
した製品は、バッチで取り出すことも、連続して次の工
程に送ることもできる。また、独立した第１の処理装置
１１2 によって第１の処理を施された半製品１９を割り
込み用バッファ１５に移送する運搬経路１６は、人手に
よる運搬でもよく、搬送装置１３1 ，１３2 と同様の搬
送手段であってもよい。
した製品は、バッチで取り出すことも、連続して次の工
程に送ることもできる。また、独立した第１の処理装置
１１2 によって第１の処理を施された半製品１９を割り
込み用バッファ１５に移送する運搬経路１６は、人手に
よる運搬でもよく、搬送装置１３1 ，１３2 と同様の搬
送手段であってもよい。
【００４４】以上のようにすることにより、処理装置１
２を無駄なく稼働させることができる。上記の処理装置
１１1 ，１２1 、搬送装置１３1 ，１３2 、溜め込み用
バッファ１４、割り込み用バッファ１５のシステム２組
と、独立した第１の処理装置１１2 １台とをグループと
して運用すると、各装置は１００％の稼働が可能とな
る。上記は、第１の処理装置の処理時間が９０秒、第２
の処理装置の処理時間が６０秒の場合のグループ内の最
適台数である。一般的には、第１の処理装置と、第２の
処理装置の処理時間によってグループ内の各装置台数を
決めればよい。
２を無駄なく稼働させることができる。上記の処理装置
１１1 ，１２1 、搬送装置１３1 ，１３2 、溜め込み用
バッファ１４、割り込み用バッファ１５のシステム２組
と、独立した第１の処理装置１１2 １台とをグループと
して運用すると、各装置は１００％の稼働が可能とな
る。上記は、第１の処理装置の処理時間が９０秒、第２
の処理装置の処理時間が６０秒の場合のグループ内の最
適台数である。一般的には、第１の処理装置と、第２の
処理装置の処理時間によってグループ内の各装置台数を
決めればよい。
【００４５】（第２実施例）この実施例の割り込み処理
方法は、第２の処理装置による第２の処理が、第１の処
理装置による第１の処理より長時間を要する場合に適用
される。
方法は、第２の処理装置による第２の処理が、第１の処
理装置による第１の処理より長時間を要する場合に適用
される。
【００４６】図４は、第２実施例の割り込み処理方法の
説明図である。この図において、１１1 は第１の処理装
置、１２1 ，１２2 は第２の処理装置、１３1 ，１３2
は搬送装置、１４は溜め込み用バッファ、１６は運搬経
路、１７は制御装置、１８は通信システム、１９は半製
品、２０は半製品アウトプット用バッファである。
説明図である。この図において、１１1 は第１の処理装
置、１２1 ，１２2 は第２の処理装置、１３1 ，１３2
は搬送装置、１４は溜め込み用バッファ、１６は運搬経
路、１７は制御装置、１８は通信システム、１９は半製
品、２０は半製品アウトプット用バッファである。
【００４７】この実施例の割り込み処理方法において
は、露光装置等の第１の処理装置１１ 1 と現像装置等の
第２の処理装置１２1 の間を、ウェハ等の半製品１９を
溜め込むための溜め込み用バッファ１４と半製品アウト
プット用バッファ２０を有する搬送装置１３1 ，１３2
によって接続し、半製品アウトプット用バッファ２０に
運搬経路１６によって独立した第２の処理装置１２2 を
接続し、第１の処理装置１１1 と第２の処理装置１２1
と溜め込み用バッファ１４と半製品アウトプット用バッ
ファ２０と搬送装置１３1 ，１３2 と独立した第２の処
理装置１２2 を通信システム１８によって制御装置１７
に接続している。
は、露光装置等の第１の処理装置１１ 1 と現像装置等の
第２の処理装置１２1 の間を、ウェハ等の半製品１９を
溜め込むための溜め込み用バッファ１４と半製品アウト
プット用バッファ２０を有する搬送装置１３1 ，１３2
によって接続し、半製品アウトプット用バッファ２０に
運搬経路１６によって独立した第２の処理装置１２2 を
接続し、第１の処理装置１１1 と第２の処理装置１２1
と溜め込み用バッファ１４と半製品アウトプット用バッ
ファ２０と搬送装置１３1 ，１３2 と独立した第２の処
理装置１２2 を通信システム１８によって制御装置１７
に接続している。
【００４８】この実施例の割り込み処理方法を、前述の
例のように、第１の処理装置１１1における第１の処理
に６０秒を要し、第２の処理装置１２1 ，１２2 におけ
る第２の処理に９０秒要するものとして説明する。
例のように、第１の処理装置１１1における第１の処理
に６０秒を要し、第２の処理装置１２1 ，１２2 におけ
る第２の処理に９０秒要するものとして説明する。
【００４９】第１の処理と第２の処理を施したい物品
を、第１の処理装置１１1 に、連続的あるいはバッチで
供給する。第１の処理装置１１1 に供給された物品は、
第１の処理装置１１1 で１個づつ６０秒かけて第１の処
理を施され、第１の処理が施された半製品１９は搬送装
置１３1 によって溜め込み用バッファ１４に搬送され、
格納される。
を、第１の処理装置１１1 に、連続的あるいはバッチで
供給する。第１の処理装置１１1 に供給された物品は、
第１の処理装置１１1 で１個づつ６０秒かけて第１の処
理を施され、第１の処理が施された半製品１９は搬送装
置１３1 によって溜め込み用バッファ１４に搬送され、
格納される。
【００５０】溜め込み用バッファ１４に格納された半製
品１９は、搬送装置１３2 によって第２の処理装置１２
1 に搬送され、９０秒かけて第２の処理が施される。第
１の処理装置１１1 における第１の処理は第２の処理装
置１２1 における第２の処理速度が速いため、半製品１
９は溜め込み用バッファ１４に次第に溜まり始まる。
品１９は、搬送装置１３2 によって第２の処理装置１２
1 に搬送され、９０秒かけて第２の処理が施される。第
１の処理装置１１1 における第１の処理は第２の処理装
置１２1 における第２の処理速度が速いため、半製品１
９は溜め込み用バッファ１４に次第に溜まり始まる。
【００５１】溜め込み用バッファ１４に溜まった半製品
１９の数が所定数、例えば１０個、溜まったら、第１の
処理が施された半製品１９は半製品アウトプット用バッ
ファ２０に溜め込まれる。このように、第１の処理が施
された半製品１９は半製品アウトプット用バッファ２０
に溜め込んでいる間も、第１の処理装置１１1 における
第１の処理と、第２の処理装置１２1 における第２の処
理は継続される。
１９の数が所定数、例えば１０個、溜まったら、第１の
処理が施された半製品１９は半製品アウトプット用バッ
ファ２０に溜め込まれる。このように、第１の処理が施
された半製品１９は半製品アウトプット用バッファ２０
に溜め込んでいる間も、第１の処理装置１１1 における
第１の処理と、第２の処理装置１２1 における第２の処
理は継続される。
【００５２】半製品アウトプット用バッファ２０に溜め
込まれる半製品１９は、運搬経路１６を経て独立した第
２の処理装置１２2 に移送され、９０秒かけて第２の処
理が施される。
込まれる半製品１９は、運搬経路１６を経て独立した第
２の処理装置１２2 に移送され、９０秒かけて第２の処
理が施される。
【００５３】半製品アウトプット用バッファ２０に溜め
込まれ、運搬経路１６を経て独立した第２の処理装置１
２2 に移送され、第２の処理が施されている間に、溜め
込み用バッファ１４には、第１処理装置１１1 において
第１の処理を施され半製品１９が再び次第に溜まり始ま
る。
込まれ、運搬経路１６を経て独立した第２の処理装置１
２2 に移送され、第２の処理が施されている間に、溜め
込み用バッファ１４には、第１処理装置１１1 において
第１の処理を施され半製品１９が再び次第に溜まり始ま
る。
【００５４】このような搬送や移送の繰り返しによっ
て、第１の処理装置１１1 と、第２の処理装置１２1 と
独立した第２の処理装置１２2 は連続して動作するた
め、第１の処理装置１１1 と、第２の処理装置１２1 ，
１２2 の稼働率を１００％まで向上させることができ
る。第１実施例と同様に１１1 ，１２1 ，１３1 ，１３
2 ，１４，２０のシステム２組と、独立した第２の処理
装置１２2 １台をグループとすることにより１００％稼
働が可能となる。
て、第１の処理装置１１1 と、第２の処理装置１２1 と
独立した第２の処理装置１２2 は連続して動作するた
め、第１の処理装置１１1 と、第２の処理装置１２1 ，
１２2 の稼働率を１００％まで向上させることができ
る。第１実施例と同様に１１1 ，１２1 ，１３1 ，１３
2 ，１４，２０のシステム２組と、独立した第２の処理
装置１２2 １台をグループとすることにより１００％稼
働が可能となる。
【００５５】この実施例においても、前記の動作は、第
１の処理装置１１1 、第２の処理装置１２1 ，１２2 、
搬送装置１３1 ，１３2 、溜め込み用バッファ１４、半
製品アウトプット用バッファ２０と制御装置１７の間が
通信システム１８によって接続され、所期の目的を達成
するように制御するようになっている。
１の処理装置１１1 、第２の処理装置１２1 ，１２2 、
搬送装置１３1 ，１３2 、溜め込み用バッファ１４、半
製品アウトプット用バッファ２０と制御装置１７の間が
通信システム１８によって接続され、所期の目的を達成
するように制御するようになっている。
【００５６】第２の処理装置１２1 ，１２2 で第２の処
理を施した製品は、バッチで取り出したり、連続して次
の工程に送られる。また、半製品アウトプット用バッフ
ァ２０から、第１の処理を施された半製品１９を独立し
た第２の処理装置１２2 に移送する運搬経路１６は、人
手による運搬でもよく、搬送装置１３1 ，１３2 と同様
の搬送手段であってもよい。
理を施した製品は、バッチで取り出したり、連続して次
の工程に送られる。また、半製品アウトプット用バッフ
ァ２０から、第１の処理を施された半製品１９を独立し
た第２の処理装置１２2 に移送する運搬経路１６は、人
手による運搬でもよく、搬送装置１３1 ，１３2 と同様
の搬送手段であってもよい。
【００５７】（第３実施例）この実施例の割り込み処理
方法は、第２実施例の割り込み処理方法において、優先
的に第１の処理と第２の処理を引き続いて施すメインル
ートと、第１の処理を施した後、第２の処理装置の空き
時間を待って、第２の処理を施すサブルートに分離する
場合に適用される。この実施例の割り込み処理方法は、
基本的には第２実施例で説明したものと同様であるか
ら、制御装置等の図示や、その動作の説明を省略する。
方法は、第２実施例の割り込み処理方法において、優先
的に第１の処理と第２の処理を引き続いて施すメインル
ートと、第１の処理を施した後、第２の処理装置の空き
時間を待って、第２の処理を施すサブルートに分離する
場合に適用される。この実施例の割り込み処理方法は、
基本的には第２実施例で説明したものと同様であるか
ら、制御装置等の図示や、その動作の説明を省略する。
【００５８】図５は、第３実施例の割り込み処理方法の
説明図である。この図において、１１1 は第１の処理装
置、１２1 ，１２2 は第２の処理装置、１３1 ，１
３2 ，１３3 は搬送装置、１４は溜め込み用バッファ、
１６は運搬経路、１９は半製品、２０は半製品アウトプ
ット用バッファ、２１は連続処理用インプット、２２は
分岐処理用インプットである。
説明図である。この図において、１１1 は第１の処理装
置、１２1 ，１２2 は第２の処理装置、１３1 ，１
３2 ，１３3 は搬送装置、１４は溜め込み用バッファ、
１６は運搬経路、１９は半製品、２０は半製品アウトプ
ット用バッファ、２１は連続処理用インプット、２２は
分岐処理用インプットである。
【００５９】この実施例の割り込み処理方法は、第２実
施例の割り込み処理方法において、優先的に第１の処理
と第２の処理を連続的に施す物品を供給する連続処理用
インプット２１と、第１の処理を施した後、分岐して第
２の処理装置の空き時間を待って、第２の処理を施す物
品を供給するための分岐処理用インプット２２を設けた
ものに相当する。
施例の割り込み処理方法において、優先的に第１の処理
と第２の処理を連続的に施す物品を供給する連続処理用
インプット２１と、第１の処理を施した後、分岐して第
２の処理装置の空き時間を待って、第２の処理を施す物
品を供給するための分岐処理用インプット２２を設けた
ものに相当する。
【００６０】この実施例の割り込み処理方法において
は、優先的に第１の処理と第２の処理を連続的に施す物
品を供給するメインルートは、連続処理用インプット２
１−搬送装置１３3 −第１の処理装置１１1 −搬送装置
１３1 −溜め込み用バッファ１４−搬送装置１３2 −第
２の処理装置１２1 であり、第１の処理を施した後、分
岐して第２の処理装置の空き時間を待って、第２の処理
を施す物品を供給するサブルートは、分岐処理用インプ
ット２２−搬送装置１３3 −第１の処理装置１１ 1 −搬
送装置１３1 −半製品アウトプット用バッファ２０−運
搬経路１６−第２の処理装置１２2 である。
は、優先的に第１の処理と第２の処理を連続的に施す物
品を供給するメインルートは、連続処理用インプット２
１−搬送装置１３3 −第１の処理装置１１1 −搬送装置
１３1 −溜め込み用バッファ１４−搬送装置１３2 −第
２の処理装置１２1 であり、第１の処理を施した後、分
岐して第２の処理装置の空き時間を待って、第２の処理
を施す物品を供給するサブルートは、分岐処理用インプ
ット２２−搬送装置１３3 −第１の処理装置１１ 1 −搬
送装置１３1 −半製品アウトプット用バッファ２０−運
搬経路１６−第２の処理装置１２2 である。
【００６１】この場合、連続処理用インプット２１に
は、第１の処理を施した後に、可能な限り短時間内に第
２の処理を施す必要がある物品を供給し、分岐処理用イ
ンプット２２には、第１の処理を施した後に、短時間内
に第２の処理を施す必要がない物品を供給して、第１の
処理装置１１1 の空き時間を有効に利用することができ
る。
は、第１の処理を施した後に、可能な限り短時間内に第
２の処理を施す必要がある物品を供給し、分岐処理用イ
ンプット２２には、第１の処理を施した後に、短時間内
に第２の処理を施す必要がない物品を供給して、第１の
処理装置１１1 の空き時間を有効に利用することができ
る。
【００６２】さらに具体的には、連続処理用インプット
２１に、フォトレジストにパターンを露光（第１の処
理）した後、短時間内に現像（第２の処理）することに
よって微細で鮮明な回路パターンを形成する必要がある
半導体ウェハを供給し、分岐処理用インプット２２に、
それほど鮮明な回路パターンを必要としない半導体ウェ
ハを供給して、第１の処理装置１１1 を有効に利用する
ことができる。この実施例の割り込み処理方法は、露光
後長時間経過すると、露光パターンの潜像が不鮮明にな
り、これを現像した場合に不鮮明な回路パターンが得ら
れるという現象を考慮して、第２実施例の割り込み処理
方法を改良したものである。
２１に、フォトレジストにパターンを露光（第１の処
理）した後、短時間内に現像（第２の処理）することに
よって微細で鮮明な回路パターンを形成する必要がある
半導体ウェハを供給し、分岐処理用インプット２２に、
それほど鮮明な回路パターンを必要としない半導体ウェ
ハを供給して、第１の処理装置１１1 を有効に利用する
ことができる。この実施例の割り込み処理方法は、露光
後長時間経過すると、露光パターンの潜像が不鮮明にな
り、これを現像した場合に不鮮明な回路パターンが得ら
れるという現象を考慮して、第２実施例の割り込み処理
方法を改良したものである。
【００６３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の割り込み
処理方法および割り込み処理装置によると、複数の処理
を連続して施す場合に、各処理装置を有効に利用するこ
とによって各処理装置の稼働率を向上させ、これらの処
理によって製造する製品のコストを抑制することに寄与
するところが大きい。
処理方法および割り込み処理装置によると、複数の処理
を連続して施す場合に、各処理装置を有効に利用するこ
とによって各処理装置の稼働率を向上させ、これらの処
理によって製造する製品のコストを抑制することに寄与
するところが大きい。
【図１】本発明の第１態様の割り込み処理方法の原理説
明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を示し、（Ｂ）
は単純化したタイムチャートを示している。
明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を示し、（Ｂ）
は単純化したタイムチャートを示している。
【図２】本発明の第２態様の割り込み処理方法の原理説
明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を示し、（Ｂ）
は単純化したタイムチャートを示している。
明図であり、（Ａ）はその構成性の概略を示し、（Ｂ）
は単純化したタイムチャートを示している。
【図３】第１実施例の割り込み処理方法の説明図であ
る。
る。
【図４】第２実施例の割り込み処理方法の説明図であ
る。
る。
【図５】第３実施例の割り込み処理方法の説明図であ
る。
る。
【図６】従来の露光現像方法の説明図であり、（Ａ），
（Ｂ）は第１の態様の露光現像方法を示し（Ｃ）は第２
の態様の露光現像方法を示している。
（Ｂ）は第１の態様の露光現像方法を示し（Ｃ）は第２
の態様の露光現像方法を示している。
１1 ，１2 ，１3 第１の処理装置 ２1 ，２2 ，２3 第２の処理装置 ３1 ，３2 搬送装置 ４1 ，４2 運搬径路 １１1 ，１１2 第１の処理装置 １２1 ，１２2 第２の処理装置 １３1 ，１３2 ，１３3 搬送装置 １４ 溜め込み用バッファ １５ 割り込み用バッファ １６ 運搬経路 １７ 制御装置 １８ 通信システム １９ 半製品 ２０ 半製品アウトプット用バッファ ２１ 連続処理用インプット ２２ 分岐処理用インプット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１４Ｄ ５６９Ｄ
Claims (4)
- 【請求項１】 第１の処理を施す複数の第１の処理装置
と第２の処理を施す第２の処理装置によって物品に第１
の処理と第２の処理をこの順で施す場合、溜め込み用バ
ッファと割り込み用バッファを有する搬送装置によって
相互に接続された第１の処理装置と第２の処理装置と、
前記相互に接続された第１の処理装置と異なる独立した
第１の処理装置を用い、該相互に接続された第１の処理
装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み用バ
ッファに一時溜め込み、該相互に接続された第１の処理
装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み用バ
ッファに溜め込んでいる間に、該独立した第１の処理装
置によって第１の処理を施した物品を該割り込み用バッ
ファを介して該第２の処理装置に移送して第２の処理を
施すことを特徴とする割り込み処理方法。 - 【請求項２】 第１の処理を施す第１の処理装置と第２
の処理を施す複数の第２の処理装置によって物品に第１
の処理と第２の処理をこの順で施す場合、溜め込み用バ
ッファと半製品アウトプット用バッファを有する搬送装
置によって相互に接続された第１の処理装置と第２の処
理装置と、独立した第２の処理装置を用い、該第１の処
理装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み用
バッファに一時溜め込み、該第２の処理装置によって処
理しきれない第１の処理を施した物品を該半製品アウト
プット用バッファから独立した第２の処理装置に移送し
て第２の処理を施すことを特徴とする割り込み処理方
法。 - 【請求項３】 溜め込み用バッファと割り込み用バッフ
ァを有する搬送装置によって相互に接続された第１の処
理装置と第２の処理装置と、独立した第１の処理装置を
有し、該第１の処理装置と第２の処理装置と溜め込み用
バッファと割り込み用バッファが制御装置に接続されて
おり、該制御装置によって、該相互に接続された第１の
処理装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み
用バッファに一時溜め込み、該相互に接続された第１の
処理装置によって第１の処理を施した物品を該溜め込み
用バッファに溜め込んでいる間に、該独立した第１の処
理装置によって第１の処理を施した物品を該割り込み用
バッファを介して該第２の処理装置に移送して第２の処
理を施すようにされていることを特徴とする割り込み処
理装置。 - 【請求項４】 溜め込み用バッファと半製品アウトプッ
ト用バッファを有する搬送装置によって相互に接続され
た第１の処理装置と第２の処理装置と、独立した第２の
処理装置を有し、該第１の処理装置と第２の処理装置と
搬送装置と溜め込み用バッファと半製品アウトプット用
バッファが制御装置に接続されており、該制御装置によ
って、該第１の処理装置によって第１の処理を施した物
品を該溜め込み用バッファに一時溜め込み、該相互に接
続された第２の処理装置によって処理しきれない第１の
処理を施した物品を該半製品アウトプット用バッファか
ら該独立した第２の処理装置に移送して第２の処理を施
すようにされていることを特徴とする割り込み処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7115845A JPH08316119A (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 割り込み処理方法および割り込み処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7115845A JPH08316119A (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 割り込み処理方法および割り込み処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08316119A true JPH08316119A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=14672565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7115845A Withdrawn JPH08316119A (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 割り込み処理方法および割り込み処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08316119A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014104645A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Ricoh Co Ltd | 物体処理システム |
| WO2020161873A1 (ja) * | 2019-02-07 | 2020-08-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置の運転方法 |
-
1995
- 1995-05-15 JP JP7115845A patent/JPH08316119A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014104645A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Ricoh Co Ltd | 物体処理システム |
| WO2020161873A1 (ja) * | 2019-02-07 | 2020-08-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置の運転方法 |
| JP6792098B1 (ja) * | 2019-02-07 | 2020-11-25 | 株式会社日立ハイテク | 真空処理装置の運転方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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