JP2997583B2 - 半導体ウエハ処理装置 - Google Patents
半導体ウエハ処理装置Info
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- JP2997583B2 JP2997583B2 JP3272576A JP27257691A JP2997583B2 JP 2997583 B2 JP2997583 B2 JP 2997583B2 JP 3272576 A JP3272576 A JP 3272576A JP 27257691 A JP27257691 A JP 27257691A JP 2997583 B2 JP2997583 B2 JP 2997583B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハの洗浄
工程において、カセット洗浄機が故障等で停止した場合
でも、半導体ウエハ洗浄装置を停止させることなく処理
を継続することができる半導体ウエハ処理装置に関する
ものである。
工程において、カセット洗浄機が故障等で停止した場合
でも、半導体ウエハ洗浄装置を停止させることなく処理
を継続することができる半導体ウエハ処理装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の半導体ウエハ処理装置の概
略構成を示す図である。図において、１はカセット洗浄
機、２はウエハ洗浄装置、３は処理前の半導体ウエハが
収納されるカセット４、および処理後の半導体ウエハを
収納し洗浄済みのカセット５を載置するＩ／Ｏステーシ
ョン、６はこのＩ／Ｏステーション３、カセット洗浄機
１およびウエハ洗浄装置２間のカセット４の搬送を行う
第１の搬送機器、７はＩ／Ｏステーション３、カセット
洗浄機１およびウエハ洗浄装置２間のカセット５の搬送
を行う第２の搬送機器、８ａ、８ｂはＩ／Ｏステーショ
ン３のそれぞれ第１および第２の搬送機器６、７と対応
する位置にそれぞれ設けられるカセット引き渡しレー
ン、９はこれら各カセット引き渡しレーン８ａ、８ｂと
Ｉ／Ｏステーション３間の、カセット４、５の搬送を行
う第３の搬送機器、１０はこれら各機器の運転制御を行
うコントローラである。
略構成を示す図である。図において、１はカセット洗浄
機、２はウエハ洗浄装置、３は処理前の半導体ウエハが
収納されるカセット４、および処理後の半導体ウエハを
収納し洗浄済みのカセット５を載置するＩ／Ｏステーシ
ョン、６はこのＩ／Ｏステーション３、カセット洗浄機
１およびウエハ洗浄装置２間のカセット４の搬送を行う
第１の搬送機器、７はＩ／Ｏステーション３、カセット
洗浄機１およびウエハ洗浄装置２間のカセット５の搬送
を行う第２の搬送機器、８ａ、８ｂはＩ／Ｏステーショ
ン３のそれぞれ第１および第２の搬送機器６、７と対応
する位置にそれぞれ設けられるカセット引き渡しレー
ン、９はこれら各カセット引き渡しレーン８ａ、８ｂと
Ｉ／Ｏステーション３間の、カセット４、５の搬送を行
う第３の搬送機器、１０はこれら各機器の運転制御を行
うコントローラである。
【０００３】次に、上記のように構成された従来の半導
体ウエハ処理装置の動作について説明する。なお、図
中、実線矢印は半導体ウエハが収納されたカセット、鎖
線矢印は空カセット、一点鎖線矢印は洗浄中のカセット
および二点鎖線矢印は洗浄中のウエハの流れをそれぞれ
示す。まず、Ｉ／Ｏステーション３に矢印Ａで示すよう
にカセット４が投入されると、カセット４は第３の搬送
機器９によってＩ／Ｏステーション３上からカセット引
き渡しレーン８ａに搬送され、さらに第１の搬送機器６
によってウエハ洗浄装置２の入口側に搬送される。この
入口側でカセット４内の半導体ウエハは、ウエハ洗浄装
置２内の別の専用カセット（図示せず）に移し換えられ
洗浄処理される。そして、半導体ウエハがウエハ洗浄装
置２内で洗浄処理されている間に、空になったカセット
４は第１の搬送機器６によってカセット洗浄機１に搬送
されここで洗浄処理される。
体ウエハ処理装置の動作について説明する。なお、図
中、実線矢印は半導体ウエハが収納されたカセット、鎖
線矢印は空カセット、一点鎖線矢印は洗浄中のカセット
および二点鎖線矢印は洗浄中のウエハの流れをそれぞれ
示す。まず、Ｉ／Ｏステーション３に矢印Ａで示すよう
にカセット４が投入されると、カセット４は第３の搬送
機器９によってＩ／Ｏステーション３上からカセット引
き渡しレーン８ａに搬送され、さらに第１の搬送機器６
によってウエハ洗浄装置２の入口側に搬送される。この
入口側でカセット４内の半導体ウエハは、ウエハ洗浄装
置２内の別の専用カセット（図示せず）に移し換えられ
洗浄処理される。そして、半導体ウエハがウエハ洗浄装
置２内で洗浄処理されている間に、空になったカセット
４は第１の搬送機器６によってカセット洗浄機１に搬送
されここで洗浄処理される。
【０００４】洗浄処理されたカセット４は第２の搬送機
器７によってウエハ洗浄装置２の出口側に搬送され、こ
の出口側で洗浄処理された半導体ウエハが専用カセット
から移し換えられてカセット５となり、再び第２の搬送
機器７によってカセット引き渡しレーン８ｂに搬送され
る。さらに、このカセット５は第３の搬送機器９によっ
てＩ／Ｏステーション３に搬送され、矢印Ｂに示すよう
に装置外へ搬出される。なお、以上のような一連の動作
はコントローラ１０によって運転制御されている。
器７によってウエハ洗浄装置２の出口側に搬送され、こ
の出口側で洗浄処理された半導体ウエハが専用カセット
から移し換えられてカセット５となり、再び第２の搬送
機器７によってカセット引き渡しレーン８ｂに搬送され
る。さらに、このカセット５は第３の搬送機器９によっ
てＩ／Ｏステーション３に搬送され、矢印Ｂに示すよう
に装置外へ搬出される。なお、以上のような一連の動作
はコントローラ１０によって運転制御されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体ウエハ処
理装置は以上のように構成されているので、カセット洗
浄機１が故障等で停止した場合、洗浄済み空カセットの
供給ができないため、半導体ウエハ洗浄装置２は正常で
あっても洗浄処理後の半導体ウエハの移し換えができ
ず、半導体ウエハ洗浄装置２まで停止しなければならな
いという問題点があった。
理装置は以上のように構成されているので、カセット洗
浄機１が故障等で停止した場合、洗浄済み空カセットの
供給ができないため、半導体ウエハ洗浄装置２は正常で
あっても洗浄処理後の半導体ウエハの移し換えができ
ず、半導体ウエハ洗浄装置２まで停止しなければならな
いという問題点があった。
【０００６】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、カセット洗浄機が停止した場合
にも、半導体ウエハ洗浄装置を停止することなく運転を
継続することが可能な半導体ウエハ処理装置を提供する
ことを目的とするものである。
ためになされたもので、カセット洗浄機が停止した場合
にも、半導体ウエハ洗浄装置を停止することなく運転を
継続することが可能な半導体ウエハ処理装置を提供する
ことを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る請求項１
の半導体ウエハ処理装置は、Ｉ／Ｏステーションの一部
に、洗浄済みの空カセットを一時的に載置可能な洗浄済
みカセットバッファを設け、カセット洗浄機停止時に
は、カセットバッファ上に載置された洗浄済み空カセッ
トをウエハ洗浄装置の出口側に供給するようにしたもの
であり、又、請求項２の半導体ウエハ処理装置は、請求
項１の洗浄済みカセットバッファに加えて、Ｉ／Ｏステ
ーションの一部に、洗浄前の空カセットを一時的に載置
可能な洗浄前カセットバッファを設け、カセット洗浄機
停止時には、半導体ウエハ洗浄装置の入口側で空になっ
た洗浄前カセットを洗浄前カセットバッファに戻すよう
にしたものである。
の半導体ウエハ処理装置は、Ｉ／Ｏステーションの一部
に、洗浄済みの空カセットを一時的に載置可能な洗浄済
みカセットバッファを設け、カセット洗浄機停止時に
は、カセットバッファ上に載置された洗浄済み空カセッ
トをウエハ洗浄装置の出口側に供給するようにしたもの
であり、又、請求項２の半導体ウエハ処理装置は、請求
項１の洗浄済みカセットバッファに加えて、Ｉ／Ｏステ
ーションの一部に、洗浄前の空カセットを一時的に載置
可能な洗浄前カセットバッファを設け、カセット洗浄機
停止時には、半導体ウエハ洗浄装置の入口側で空になっ
た洗浄前カセットを洗浄前カセットバッファに戻すよう
にしたものである。
【０００８】
【作用】この発明における半導体ウエハ処理装置の洗浄
済みカセットバッファおよび洗浄前カセットバッファ
は、カセット洗浄機停止時には、洗浄済み空カセットを
半導体ウエハ洗浄装置出口側に供給して、洗浄処理後の
半導体ウエハを回収してＩ／Ｏステーションに戻すとと
もに、半導体ウエハ洗浄装置の入口側で空になった洗浄
前カセットを再び回収する。
済みカセットバッファおよび洗浄前カセットバッファ
は、カセット洗浄機停止時には、洗浄済み空カセットを
半導体ウエハ洗浄装置出口側に供給して、洗浄処理後の
半導体ウエハを回収してＩ／Ｏステーションに戻すとと
もに、半導体ウエハ洗浄装置の入口側で空になった洗浄
前カセットを再び回収する。
【０００９】
【実施例】実施例１．以下、この発明の実施例を図につ
いて説明する。図１はこの発明の実施例１における半導
体ウエハ処理装置の概略構成を示す図である。図におい
て、１〜１０は上記従来装置と同様であるため、相当部
分に同一符号を付して説明を省略する。１１はＩ／Ｏス
テーション３の一部に設けられ、洗浄済みの空カセット
を一時的に載置しておく洗浄済みカセットバッファ、１
２はこの洗浄済みカセットバッファ１１と同様にＩ／Ｏ
ステーション３の一部に設けられ、洗浄前の空カセット
を一時的に貯めておくことが可能な洗浄前空カセットバ
ッファである。
いて説明する。図１はこの発明の実施例１における半導
体ウエハ処理装置の概略構成を示す図である。図におい
て、１〜１０は上記従来装置と同様であるため、相当部
分に同一符号を付して説明を省略する。１１はＩ／Ｏス
テーション３の一部に設けられ、洗浄済みの空カセット
を一時的に載置しておく洗浄済みカセットバッファ、１
２はこの洗浄済みカセットバッファ１１と同様にＩ／Ｏ
ステーション３の一部に設けられ、洗浄前の空カセット
を一時的に貯めておくことが可能な洗浄前空カセットバ
ッファである。
【００１０】次に、上記のように構成されたこの発明の
実施例１における半導体ウエハ処理装置の動作について
説明する。まず、カセット洗浄機１が正常に動作してい
る間は、装置全体も図４における従来装置と同様にコン
トローラ１０によって運転制御される。すなわち、Ｉ／
Ｏステーション３に矢印Ａで示すようにカセット４が投
入されると、カセット４は第３の搬送機器９によってＩ
／Ｏステーション３上からカセット引き渡しレーン８ａ
に搬送され、さらに第１の搬送機器６によってウエハ洗
浄装置２の入口側に搬送される。この入口側でカセット
４内の半導体ウエハは、ウエハ洗浄装置２内の別の専用
カセット（図示せず）に移し換えられ洗浄処理される。
実施例１における半導体ウエハ処理装置の動作について
説明する。まず、カセット洗浄機１が正常に動作してい
る間は、装置全体も図４における従来装置と同様にコン
トローラ１０によって運転制御される。すなわち、Ｉ／
Ｏステーション３に矢印Ａで示すようにカセット４が投
入されると、カセット４は第３の搬送機器９によってＩ
／Ｏステーション３上からカセット引き渡しレーン８ａ
に搬送され、さらに第１の搬送機器６によってウエハ洗
浄装置２の入口側に搬送される。この入口側でカセット
４内の半導体ウエハは、ウエハ洗浄装置２内の別の専用
カセット（図示せず）に移し換えられ洗浄処理される。
【００１１】そして、半導体ウエハがウエハ洗浄装置２
内で洗浄処理されている間に、空になったカセット４は
第１の搬送機器６によってカセット洗浄機１に搬送され
ここで洗浄処理される。洗浄処理されたカセット４は第
２の搬送機器７によってウエハ洗浄装置２の出口側に搬
送され、この出口側で洗浄処理された半導体ウエハが専
用カセットから移し換えられてカセット５となり、再び
第２の搬送機器７によってカセット引き渡しレーン８ｂ
に搬送される。さらに、このカセット５は第３の搬送機
器９によってＩ／Ｏステーション３に搬送され、矢印Ｂ
に示すように装置外へ搬出される。
内で洗浄処理されている間に、空になったカセット４は
第１の搬送機器６によってカセット洗浄機１に搬送され
ここで洗浄処理される。洗浄処理されたカセット４は第
２の搬送機器７によってウエハ洗浄装置２の出口側に搬
送され、この出口側で洗浄処理された半導体ウエハが専
用カセットから移し換えられてカセット５となり、再び
第２の搬送機器７によってカセット引き渡しレーン８ｂ
に搬送される。さらに、このカセット５は第３の搬送機
器９によってＩ／Ｏステーション３に搬送され、矢印Ｂ
に示すように装置外へ搬出される。
【００１２】一方、カセット洗浄機１が故障等で停止す
ると、コントローラ１０はこれを検知して、半導体ウエ
ハ洗浄装置２の入口側で半導体ウエハが専用カセットに
移し換えられ空になったカセット４を、第１の搬送機器
６によってカセット引き渡しレーン８ａに搬送し、次に
第３の搬送機器９によって引き渡しレーン８ａ上から洗
浄前空カセットバッファ１２上に移し換え、カセット洗
浄機１が運転を再会するまでこの洗浄前空カセットバッ
ファ１２上に、空になったカセット４を順次貯めておく
ように運転制御する。
ると、コントローラ１０はこれを検知して、半導体ウエ
ハ洗浄装置２の入口側で半導体ウエハが専用カセットに
移し換えられ空になったカセット４を、第１の搬送機器
６によってカセット引き渡しレーン８ａに搬送し、次に
第３の搬送機器９によって引き渡しレーン８ａ上から洗
浄前空カセットバッファ１２上に移し換え、カセット洗
浄機１が運転を再会するまでこの洗浄前空カセットバッ
ファ１２上に、空になったカセット４を順次貯めておく
ように運転制御する。
【００１３】又、ウエハ洗浄装置２の出口側では、半導
体ウエハの処理が完了すると、コントローラ１０はこれ
を検知して、洗浄済みカセットバッファ１１上の洗浄済
みカセットを第３の搬送機器９によって引き渡しレーン
８ｂに移し換え、第２の搬送機器７によって引き渡しレ
ーン８ｂから半導体ウエハ洗浄装置２の出口側に搬送
し、ここで半導体ウエハを専用カセットから洗浄済みカ
セットに移し換えた後、再び第２の搬送機器７によって
引き渡しレーン８ｂに逆搬送し、第３の搬送機器９によ
って引き渡しレーン８ｂからＩ／Ｏステーション３に移
し換え、矢印Ｂに示すように装置外へ搬出する。
体ウエハの処理が完了すると、コントローラ１０はこれ
を検知して、洗浄済みカセットバッファ１１上の洗浄済
みカセットを第３の搬送機器９によって引き渡しレーン
８ｂに移し換え、第２の搬送機器７によって引き渡しレ
ーン８ｂから半導体ウエハ洗浄装置２の出口側に搬送
し、ここで半導体ウエハを専用カセットから洗浄済みカ
セットに移し換えた後、再び第２の搬送機器７によって
引き渡しレーン８ｂに逆搬送し、第３の搬送機器９によ
って引き渡しレーン８ｂからＩ／Ｏステーション３に移
し換え、矢印Ｂに示すように装置外へ搬出する。
【００１４】図２および図３は、半導体ウエハ洗浄装置
２から洗浄前空カセット排出要求を受けた場合、および
半導体ウエハ洗浄装置２から洗浄済み空カセットの投入
要求を受けた場合のコントローラ１０の判断過程をそれ
ぞれ示すフローチャートである。図に示すように、洗浄
前空カセットの排出要求、洗浄済み空カセットの投入要
求をそれぞれ受けると、次にカセット洗浄機１の状態を
確認する。そして、正常であればカセット洗浄機１に対
する搬送指示を出力し、異常ならば両カセットバッファ
１１、１２に対する搬送指示を出力するように判断を行
っている。したがって、カセット洗浄機１が故障等で停
止しても、半導体ウエハ洗浄装置２を停止することなく
運転を継続することができる。
２から洗浄前空カセット排出要求を受けた場合、および
半導体ウエハ洗浄装置２から洗浄済み空カセットの投入
要求を受けた場合のコントローラ１０の判断過程をそれ
ぞれ示すフローチャートである。図に示すように、洗浄
前空カセットの排出要求、洗浄済み空カセットの投入要
求をそれぞれ受けると、次にカセット洗浄機１の状態を
確認する。そして、正常であればカセット洗浄機１に対
する搬送指示を出力し、異常ならば両カセットバッファ
１１、１２に対する搬送指示を出力するように判断を行
っている。したがって、カセット洗浄機１が故障等で停
止しても、半導体ウエハ洗浄装置２を停止することなく
運転を継続することができる。
【００１５】実施例２．上記実施例１によれば、カセッ
ト洗浄機１が停止すると、コントローラ１０により自動
的に両カセットバッファに対する搬送に指示が切り替わ
るように制御されているが、カセット洗浄機１側に搬入
不可釦および搬出不可釦を設置し、コントローラ１０へ
手動操作で搬送指示の変更を行うようにしても同様の効
果を奏するものである。
ト洗浄機１が停止すると、コントローラ１０により自動
的に両カセットバッファに対する搬送に指示が切り替わ
るように制御されているが、カセット洗浄機１側に搬入
不可釦および搬出不可釦を設置し、コントローラ１０へ
手動操作で搬送指示の変更を行うようにしても同様の効
果を奏するものである。
【００１６】実施例３．上記実施例１によれば、カセッ
ト洗浄機１が停止した場合、両カセットバッファ１１、
１２により、空になった洗浄前カセットを一時的に貯め
ておくとともに、洗浄済み空カセットにより半導体ウエ
ハ洗浄装置２で洗浄処理された半導体ウエハを回収する
ようにしているが、比較的軽い事故等で、カセット洗浄
機１の停止時間が短い場合等は、空になった洗浄前カセ
ットは一時的にカセット洗浄機１の入口側に貯めてお
き、洗浄済みカセットバッファ１１のみを設けて、洗浄
済み空カセットにより半導体ウエハ洗浄装置２で洗浄処
理された半導体ウエハの回収だけを行うようにしても、
半導体ウエハ洗浄装置２を停止することなく運転を継続
することができる。
ト洗浄機１が停止した場合、両カセットバッファ１１、
１２により、空になった洗浄前カセットを一時的に貯め
ておくとともに、洗浄済み空カセットにより半導体ウエ
ハ洗浄装置２で洗浄処理された半導体ウエハを回収する
ようにしているが、比較的軽い事故等で、カセット洗浄
機１の停止時間が短い場合等は、空になった洗浄前カセ
ットは一時的にカセット洗浄機１の入口側に貯めてお
き、洗浄済みカセットバッファ１１のみを設けて、洗浄
済み空カセットにより半導体ウエハ洗浄装置２で洗浄処
理された半導体ウエハの回収だけを行うようにしても、
半導体ウエハ洗浄装置２を停止することなく運転を継続
することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、この発明の請求項１によ
ればＩ／Ｏステーション上の一部に、洗浄済みの空カセ
ットを一時的に載置可能な洗浄済みカセットバッファを
設け、カセット洗浄機停止時には、第２の搬送機器によ
り洗浄済みカセットバッファ上の洗浄済みカセットを半
導体ウエハ洗浄装置に搬送し、洗浄済みの半導体ウエハ
を洗浄済みカセット内部に収納した後、Ｉ／Ｏステーシ
ョン上に戻すようにしたので、又、この発明の請求項２
によれば請求項１において、Ｉ／Ｏステーション上に洗
浄前の空カセットを一時的に載置可能な洗浄前カセット
バッファを設け、カセット洗浄機停止時には、半導体ウ
エハ洗浄装置で内部の半導体ウエハが取り出された空カ
セットを、第１の搬送機器により洗浄前カセットバッフ
ァに戻すようにしたので、カセット洗浄機が停止した場
合にも、半導体ウエハ洗浄装置を停止することなく運転
を継続することが可能な半導体ウエハ処理装置を提供す
ることができる。
ればＩ／Ｏステーション上の一部に、洗浄済みの空カセ
ットを一時的に載置可能な洗浄済みカセットバッファを
設け、カセット洗浄機停止時には、第２の搬送機器によ
り洗浄済みカセットバッファ上の洗浄済みカセットを半
導体ウエハ洗浄装置に搬送し、洗浄済みの半導体ウエハ
を洗浄済みカセット内部に収納した後、Ｉ／Ｏステーシ
ョン上に戻すようにしたので、又、この発明の請求項２
によれば請求項１において、Ｉ／Ｏステーション上に洗
浄前の空カセットを一時的に載置可能な洗浄前カセット
バッファを設け、カセット洗浄機停止時には、半導体ウ
エハ洗浄装置で内部の半導体ウエハが取り出された空カ
セットを、第１の搬送機器により洗浄前カセットバッフ
ァに戻すようにしたので、カセット洗浄機が停止した場
合にも、半導体ウエハ洗浄装置を停止することなく運転
を継続することが可能な半導体ウエハ処理装置を提供す
ることができる。
【図１】この発明の実施例１における半導体ウエハ処理
装置の概略構成を示す図である。
装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１における半導体ウエハ処理装置の要部を構
成するコントローラの、半導体ウエハ洗浄装置から洗浄
前空カセットの排出要求を受けた場合の判断過程を示す
フローチャートである。
成するコントローラの、半導体ウエハ洗浄装置から洗浄
前空カセットの排出要求を受けた場合の判断過程を示す
フローチャートである。
【図３】図１における半導体ウエハ処理装置の要部を構
成するコントローラの、半導体ウエハ洗浄装置から洗浄
済み空カセットの投入要求を受けた場合の判断過程を示
すフローチャートである。
成するコントローラの、半導体ウエハ洗浄装置から洗浄
済み空カセットの投入要求を受けた場合の判断過程を示
すフローチャートである。
【図４】従来の半導体ウエハ処理装置の概略構成を示す
図である。
図である。
【符号の説明】 １ カセット洗浄機 ２ ウエハ洗浄装置 ３ Ｉ／Ｏステーション ６ 第１の搬送機器 ７ 第２の搬送機器 ８ａ、８ｂ カセット引き渡しレーン ９ 第３の搬送機器 １０ コントローラ １１ 洗浄済みカセットバッファ １２ 洗浄前空カセットバッファ
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｉ／Ｏステーション上に載置され半導体
ウエハを内部に収納するカセットを第１の搬送機器によ
り半導体ウエハ洗浄装置に搬送し、上記半導体ウエハを
上記カセットから取り出し上記半導体ウエハ洗浄装置に
より洗浄処理を行い、その間に空になった上記カセット
をカセット洗浄機で洗浄処理し、洗浄済みの上記半導体
ウエハを上記カセット内に再収納し、第２の搬送機器に
より再びＩ／Ｏステーション上に戻すようにした半導体
ウエハ処理装置において、上記Ｉ／Ｏステーション上の
一部に、洗浄済みの空カセットを一時的に載置可能な洗
浄済みカセットバッファを設け、上記カセット洗浄機停
止時には、上記第２の搬送機器により上記洗浄済みカセ
ットバッファ上の洗浄済みカセットを上記半導体ウエハ
洗浄装置に搬送し、洗浄済みの上記半導体ウエハを上記
洗浄済みカセット内部に収納した後、Ｉ／Ｏステーショ
ン上に戻すようにしたことを特徴とする半導体ウエハ処
理装置。 - 【請求項２】 Ｉ／Ｏステーション上に洗浄前の空カセ
ットを一時的に載置可能な洗浄前カセットバッファを設
け、上記カセット洗浄機停止時には、半導体ウエハ洗浄
装置で内部の半導体ウエハが取り出された上記空カセッ
トを、第１の搬送機器により上記洗浄前カセットバッフ
ァに戻すようにしたことを特徴とする請求項１記載の半
導体ウエハ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3272576A JP2997583B2 (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | 半導体ウエハ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3272576A JP2997583B2 (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | 半導体ウエハ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109680A JPH05109680A (ja) | 1993-04-30 |
| JP2997583B2 true JP2997583B2 (ja) | 2000-01-11 |
Family
ID=17515843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3272576A Expired - Fee Related JP2997583B2 (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | 半導体ウエハ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2997583B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112735999B (zh) * | 2020-12-30 | 2022-12-16 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 一种通用型晶圆传递机构及其传递方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61174722A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハの洗浄装置 |
-
1991
- 1991-10-21 JP JP3272576A patent/JP2997583B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05109680A (ja) | 1993-04-30 |
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