JPH0830913A

JPH0830913A - 磁気記録／再生装置

Info

Publication number: JPH0830913A
Application number: JP18405894A
Authority: JP
Inventors: Toshio Uehara; 敏夫上原; Takashi Sato; 隆佐藤; Kenji Shiga; 健治志賀; Masahiro Iizuka; 雅博飯塚; Osamu Tosaka; 修登坂
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1994-07-12
Filing date: 1994-07-12
Publication date: 1996-02-02

Abstract

(57)【要約】【目的】記録媒体の摺動面に保護膜が形成された磁気
ヘッドにおいて、保護膜の材料の特性を十分に生かすこ
とのできるようにする。【構成】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃などを主体とする磁性層が形成
された記録媒体に対して磁気再生などを行う磁気ヘッド
において、記録媒体との摺動面に、ＶＩａ族の元素の酸
化物であるＣｒ₂Ｏ₃、ＶＩａ族の元素の窒化物であるＣ
ｒＮ、ＶＩａ族の元素の炭化物であるＷＣ、ＩＩＩｂ族
の元素の酸化物であるＡｌ₂Ｏ₃、ＩＩＩｂ族の元素の窒
化物であるＢＮのいずれかによる保護膜を形成する。こ
の保護膜の膜厚を３００オングストローム以上で２，５
００オングストローム以下とすることにより、２，００
０時間以上の膜寿命にできる。また膜厚によるスペーシ
ングロスを加味した場合、膜厚は１，５００オングスト
ローム以下であることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気テープなどの記録
媒体が摺動する磁気ヘッドを有して、記録媒体に対する
磁気記録，または磁気再生あるいは磁気記録と再生とが
行なわれる装置に係り、特に記録媒体との摺動面に保護
膜が形成された磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１は、磁気再生を行なうステレオカセ
ットテーププレーヤに用いられる磁気ヘッドを示す斜視
図である。この種の磁気ヘッドＨは、シールドケース１
とシールド板２ａ，２ｂがそれぞれソフトパーマロイ
（Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ系合金）により形成され、磁気ギャ
ップＧを形成するコア３がハードパーマロイ（Ｆｅ−Ｎ
ｉ−Ｎｂ系合金）の積層材により形成されている。ま
た、シールド板２ａ，２ｂおよびコア３と、シールドケ
ース１との間は樹脂４で埋められている。また、磁気テ
ープＴは、ポリエステルなどのベースフィルムに磁性層
が形成され、この磁性層は、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃などの磁性粉
の微粒子とバインダーなどにより形成されている。

【０００３】磁気ヘッドＨは、その前面の摺動面Ａに対
して磁気テープＴが摺動するため、摺動面Ａの状態の変
化が磁気ヘッドの記録または再生特性に影響を与える。
摺動面Ａの状態の変化としては、磁気テープＴの磁性粉
がベースフィルム側から剥離して摺動面Ａに付着するこ
と、および磁気テープによって摺動面Ａが摩耗させられ
ることが挙げられる。摺動面Ａに磁性粉が付着すると、
コア３と磁気テープの磁性層との間の隙間が広くなって
スペーシングロスが大きくなる。また、摺動面Ａにおい
てシールドケース１の表面１ａ、シールド板２ａ，２ｂ
およびコア３、特にシールド板２ａ，２ｂおよびコア３
が磁気テープＴとの摺動により摩耗すると、摺動面Ａが
偏摩耗状態になり、偏摩耗による摺動面Ａの凹凸によ
り、やはりスペーシングロスが大きくなる。そこで、磁
気ヘッドＨの磁気テープＴとの摺動面Ａに保護膜を形成
し、この保護膜により、磁性粉の付着や摩耗を防止する
ことが考えられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドの摺動面Ａ
に保護膜を形成する場合に、保護層の材料としては、磁
気テープＴの磁性粉が付着しにくいもので且つ磁気テー
プＴの摺動により摩耗しにくい硬度を有したものを使用
することが必要である。しかし、磁性粉が付着しにく
く、また硬度の高い材料により保護膜を形成したとして
も、磁気ヘッドＨを構成するパーマロイとの付着性が悪
いと、保護膜が磁気ヘッドＨの摺動面Ａから剥離しやす
いものとなる。しかも保護膜と磁気ヘッドの摺動面Ａと
の付着力は、磁気ヘッドを構成するパーマロイと保護膜
を形成する材料との成膜時の熱膨張の差や、保護膜の材
料の本来の性質によるパーマロイとの接合性質の相違に
よっても、異なるものとなる。

【０００５】また磁気テープが摺動することによる摩耗
を考えると、保護膜が厚い方がよいが、あまり厚すぎる
と、成膜時に膜内に残留する応力が大きくなり、摺動面
から剥離が生じやすくなる。また、保護膜が厚くなると
スペーシングロスが大きくなるという問題も発生する。
さらに、保護膜の摩耗や剥離は、磁気テープの磁性層を
構成する磁性粉の性質によっても影響を受ける。このよ
うに、磁気ヘッドの摺動面に保護膜を形成する場合に、
保護膜の摩耗や剥離が上記の種々の要素の影響を受ける
ことになるため、保護膜の材質の決定や成膜条件さらに
膜の厚さの設定が困難であり、均一な品質の磁気ヘッド
となるような保護膜を形成するのが難しかった。例え
ば、硬度などだけに着目して材料を選択し、この材料に
より磁気ヘッドの摺動面に保護膜を形成した結果、予想
に反して磁気ヘッドの出力が劣化し、十分な改善ができ
ない場合が生じていた。

【０００６】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、磁気ヘッドの摺動面に形成される保護膜の材料に
応じてこの保護膜の最適な膜厚寸法を決めることができ
るようにして、保護膜の摩耗や剥がれによるヘッド出力
の低下が生じないようにし、摺動面の改善を十分に行え
るようにした磁気記録／再生装置を提供することを目的
としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、磁気ヘッドの
記録媒体との摺動面に形成した保護膜が偏摩耗や剥離な
どしてスペーシングロスが大きくなりヘッド特性が劣化
する現象を様々な観点から検討した結果成し得たもので
ある。まず、各種材料により保護膜を形成した場合、膜
の寿命は膜厚寸法により変わるものとなる。膜厚が小さ
いと、摩耗による膜の損耗が早く、あるいは保護膜が磁
気ヘッドの摺動面から剥離しやすくなり、また膜厚が大
きくなると、成膜時の膜厚内の応力の残留により、やは
り保護膜が剥離しやすくなる。

【０００８】そこで、種々の材料により磁気ヘッドの摺
動面に保護膜を形成し、実際に記録媒体としての磁気テ
ープを摺動させて、保護膜の寿命を調べ、この寿命と保
護膜の膜厚との関係を検討した結果、複数膜の材料の中
で、上記寿命と膜厚との関係が非常に似ているものを分
類できることが解った。また分類されたそれぞれの材料
の保護膜は、磁気テープの磁性層を形成する磁性粉の種
類によって異なる寿命となることが解った。この膜厚と
膜寿命との特性を分析した結果、各材料による保護膜の
適正な膜厚の範囲を求めることができた。

【０００９】表１は、磁気ヘッドのテープ摺動面すなわ
ち記録媒体との摺動面に形成される保護膜の材料をＡ〜
Ｃのグループに分類したものである。このＡ〜Ｃの各グ
ループは、記録媒体である磁気テープの磁性層に含まれ
る磁性粉が、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃ま
たはＦｅ系メタルのいずれかを主体とするものである場
合に、保護膜の膜厚と膜寿命との関係がほぼ同じ特性を
示す材料の組み合わせである。

【００１０】

【表１】

【００１１】上記表１において、Ａグループの材料は、
ＶＩａ族の元素の酸化物、ＶＩａ族の元素の窒化物、Ｖ
Ｉａ族の元素の炭化物、ＩＩＩｂ族の元素の酸化物、Ｉ
ＩＩｂ族の元素の窒化物、および単体元素であるＤＬＣ
のいずれかである。ＤＬＣは、ダイヤモンドライクカー
ボンで、結晶構造がダイヤモンドに似たカーボンであ
る。表１の最右欄は具体的な材料を示したものであり、
ＶＩａ族の元素の酸化物としてはＣｒ₂Ｏ₃、ＶＩａ族の
元素の窒化物はＣｒＮ、ＶＩａ族の元素の炭化物はＷ
Ｃ、ＩＩＩｂ族の元素の酸化物はＡｌ₂Ｏ₃、ＩＩＩｂ族
の元素の窒化物はＢＮである。

【００１２】図２〜図４はＡグループの各材料により形
成した保護膜の膜厚と、膜寿命との関係を示している。
ヘッド再生出力の周波数特性の劣化、すなわち３１５Ｈ
ｚの再生出力に対する１２．５ｋＨｚの再生出力の劣化
が３．０ｄＢ以上になったときを膜寿命が尽きたものと
しているが、この膜寿命が尽きる時間は２，０００時間
以上とすることが必要である。

【００１３】Ａグループでは、膜厚を３００オングスト
ローム以上で２，５００オングストローム以下とするこ
とにより、膜寿命を２，０００時間以上にできる。また
膜の寿命を２，０００時間とし且つ、１２．５ｋＨｚの
再生出力のスペーシングロスによる劣化をほぼ２．０ｄ
Ｂ以下とするためには、保護膜の膜厚が３００オングス
トローム以上で１，５００オングストローム以下である
ことがさらに好ましい。

【００１４】Ｂグループの材料は、ＩＶａ族の元素の炭
化物またはＩＶｂ族の元素の炭化物のいずれかである。
例えば、ＩＶａ族の元素の炭化物はＴｉＣ，ＨｆＣ，Ｚ
ｒＣのいずれかであり、ＩＶｂ族の元素の炭化物はＳｉ
Ｃである。

【００１５】図５〜図７はＢグループの材料による形成
された保護膜の膜厚と膜寿命との特性を示している。Ｂ
グループの材料により保護膜を形成した場合、膜厚を
１，２００オングストローム以上で１，７００オングス
トローム以下にすれば、膜寿命を２，０００時間以上に
できる。またこの膜寿命を維持し且つ１２．５ｋＨｚの
再生出力に対するスペーシングロスによる劣化をほぼ
２．０ｄＢ以下とするためには、膜厚を１，２００オン
グストローム以上で１，５００オングストローム以下と
することが好ましい。

【００１６】また、Ｂグループのうちの、ＴｉＣとＳｉ
Ｃに関しては、膜厚を１，０００オングストローム以上
で２，０００オングストローム以下とすれば、２，００
０時間以上の膜寿命となり、さらに膜厚を１，０００オ
ングストローム以上で１，５００オングストローム以下
とすることにより、１２．５ｋＨＺの再生出力に対する
スペーシングロスによる劣化をほぼ２．０ｄＢ以下にで
きる。

【００１７】表１のＣグループは、ＩＶａ族の酸化物
（ＴｉＯ₂）、ＩＶａ族の窒化物（ＴｉＮ，ＺｒＮ）、
ＩＶｂ族の酸化物（ＳｉＯ₂）、ＩＶｂ族の窒化物（Ｓ
ｉ₃Ｎ₄）、Ｖａ族の窒化物（ＴａＮ）、または単体元素
のＧＬＣ（グラファイトライクカーボン）のうちのいず
れかである。

【００１８】図８〜図１０に示すように、Ｃグループの
それぞれの材料は、膜厚と膜寿命との関係で同じ傾向を
示すものであるが、ＣグループのうちのＴｉＯ₂または
ＴｉＮのいずれかにより保護膜を形成した場合に、膜厚
を９００オングストローム以上で１，１００オングスト
ローム以下とすれば、膜寿命をほぼ２，０００時間以上
にできる。

【００１９】次に、記録媒体である磁気テープの磁性層
に含まれる磁性粉がＣｒＯ₂である場合（磁気テープが
いわゆる「クロムテープ」の場合）に、膜厚と膜寿命と
の関係が同じ特性を示す材料を同じグループとして分類
したものを表２に示す。

【００２０】

【表２】

【００２１】表２を表１に対比させると、記録媒体の磁
性層に含まれる磁性粉が、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ
−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＦｅ系メタルのいずれか主体とするも
のである場合と、ＣｒＯ₂を主体とした場合とで、保護
膜の膜厚と膜寿命との関係がほぼ同じとなる材料のグル
ープ分けが若干相違する。

【００２２】まずＤグループはＡグループに含まれてい
た材料の一部と一致している。すなわちＤグループは、
Ａグループに属する材料のうち、比較的硬度の高いもの
だけのグループである。Ｅグループは、Ａグループに含
まれている材料とＢグループに含まれている材料が混在
したものである。ただしＦグループはＣグループと同じ
である。すなわち、Ｃグループの各材料は、記録媒体の
磁性層に含まれる磁性粉が、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−
γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＦｅ系メタルのいずれかを主体とす
るものであっても、ＣｒＯ₂を主体とするものであって
も、保護膜の膜厚と膜寿命との関係において、同じ傾向
または特性を示すものであることを意味している。

【００２３】図１１は、Ｄグループに属する材料により
形成された保護膜の膜厚と膜寿命との関係を示してい
る。ＣｒＯ₂を主体とする磁性層が形成された記録媒体
に対して磁気記録および／または磁気再生を行う磁気ヘ
ッドにおいて、記録媒体との摺動面に、Ｄグループとな
るＢＮまたはＤＬＣのいずれかによる保護膜を形成し、
その膜厚を１，５００オングストローム以上で２，２０
０オングストローム以下とすれば、２，０００時間以上
の膜寿命を維持できる。

【００２４】ただし、保護膜の材料がＢＮである場合に
は、保護膜の膜厚を１，３００オングストローム以上で
２，３００オングストローム以下とすることにより、膜
寿命を２，０００時間以上にできる。また、膜寿命を確
保し且つ１２．５ｋＨｚの再生出力のスペーシングロス
による劣化をほぼ２．０ｄＢ以下に抑えるためには、Ｂ
Ｎの膜厚が１，３００オングストローム以上で１，５０
０オングストローム以下とすることが好ましい。

【００２５】図１２はＥグループの各材料による保護膜
の、膜厚と膜寿命との関係を示している。ＣｒＯ₂を主
体とする磁性層が形成された記録媒体に対し、Ｅグルー
プでは、保護膜をＢ₄ＣまたはＷＣまたはＣｒ₂Ｏ₃のい
ずれかにより形成し、膜厚を１，４００オングストロー
ム以上で１，６００オングストローム以下とすることに
より、ほぼ２，０００時間以上の膜寿命を維持できる。

【００２６】なお、表２のＥグループにはＨｆＣ，Ｚｒ
Ｃをカッコ書きにて記載しているが、これは後に説明す
る表３の中にＨｆＣとＺｒＣとが記載されていないため
である。ただしＣｒＯ₂を主体とする磁性層が形成され
た記録媒体に対する膜寿命では、ＨｆＣ，ＺｒＣはＴｉ
Ｃとほぼ等しいものとなる。

【００２７】図１３は、Ｆグループの各材料による膜厚
と膜寿命との関係を示している。図１３から、記録媒体
の磁性層がＣｒＯ₂を主体としたものである場合には、
膜厚のいかんにかかわらず、膜寿命を２，０００時間以
上とすることができない。

【００２８】

【作用】上記のように、表１に示したＡ〜Ｃの各グルー
プに分類されたそれぞれの材料は、図２〜図１０に示す
ように、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃または
Ｆｅ系メタルを磁性層とする記録媒体が使用された場合
に、膜厚と膜寿命との関係において各グループ内で似た
特性を示す。これは、各グループ内の材料が、磁気ヘッ
ドの摺動面Ａに対する接合性（付着性または密着性）お
よび硬度などの点で似た性質を発揮するためである。表
３は、シールドケース１、シールド板２ａ，２ｂおよび
コア３の材質であるパーマロイと、各グループの材料と
の接合性に関係する性質を分類したものである。

【００２９】

【表３】

【００３０】保護膜が、パーマロイに接合されやすくな
る１つの条件は、保護膜の材料が界面からパーマロイ内
に充分に拡散し、界面に擬拡散構造が形成しやすいこと
である。擬拡散構造が確実に形成されることにより、材
料膜がパーマロイから剥離しにくくなる。２つめの条件
は保護膜の材料の熱膨張係数がパーマロイの熱膨張係数
に近いことである。保護膜の材料とパーマロイとで熱膨
張係数の差が大きいと、成膜時の温度での膨張差によ
り、保護膜内においてパーマロイとの界面付近での残留
応力が大きくなり、これにより保護膜がパーマロイから
剥離しやすくなる。

【００３１】表３において「置換性」とは、面心立方格
子構造であるパーマロイの結晶内のＦｅまたはＮｉと置
換されやすい膜材料であるか否かを示しており、「◎」
は、パーマロイのＦｅ原子と置換されやすい材料である
ことを意味し、「○」はＮｉ原子と置換されやすい材料
であることを意味する。また「△」は、Ｆｅ原子および
Ｎｉ原子との置換性が、「◎」や「○」のものよりもや
や劣ることを意味している。表３での「原子半径」は、
パーマロイの構成原子と膜材料の原子半径が近いか否か
を示したものであり、「◎」は、パーマロイとの原子半
径の相違が１５％以内のものを示し、「○」は原子半径
がそれよりも遠いもの、「△」はさらに遠いものを示し
ている。

【００３２】表３での「格子間」とは、パーマロイのＦ
ｅ−Ｎｉ格子間に浸入しやすい膜材料であるか否かを意
味し、浸入しやすい膜材料から順に「◎」「○」「△」
の符号で示している。表３での「熱膨張係数」は、パー
マロイと膜材料との熱膨張係数の比較を示しており、パ
ーマロイと熱膨張係数が近い膜材料から順に「◎」
「○」「△」で示している。上記のように「置換性」
「原子半径」「格子間」はいずれも、パーマロイとの界
面で、膜材料がパーマロイ内に拡散して擬拡散構造が形
成されやすいか否かを示し、「熱膨張係数」は、成膜時
に膜内に内部応力が生じやすいか否かを示している。

【００３３】表３から、Ａグループに属するＶＩａ族の
酸化物、窒化物、炭化物であるＣｒ₂Ｏ₃，ＣｒＮ，ＷＣ
は、パーマロイの構成元素であるＦｅと置換されやす
く、原子半径も近く、これらの材料はパーマロイに接合
しやすい材料であることが解る。また、Ｃｒ₂Ｏ₃，Ｃｒ
Ｎ，ＷＣは、パーマロイと熱膨張係数が近いため、熱膨
張係数の差による成膜時の内部応力が小さく、膜厚を厚
くしても剥離しにくいものとなる。同じくＡグループに
属するＩＩＩｂ族の酸化物、窒化物であるＡｌ₂Ｏ₃とＢ
Ｎ、およびＤＬＣは、パーマロイの格子間に入りやすい
ため、パーマロイとの接合性のよいものとなる。さらに
これらの材料は硬度が高く、ＢＮとＤＬＣは特に硬度が
高い。パーマロイと付着性がよく且つ硬度が高いことか
ら、保護膜の膜厚が大きくても剥離が生じにくくまた摩
耗しにくいものとなる（図２〜図４参照）。

【００３４】表３に示すように、Ｂグループに属する各
膜材料は、Ａグループに比べて「置換性」「原子半径」
「格子間」および「熱膨張係数」の全ての点でやや劣る
ものとなり、パーマロイとの接合性がやや低下すること
が解る。また硬度もＡグループの材料よりもやや低くな
る。よって、図５〜図７に示すように、Ｂグループの各
材料は、Ａグループの各材料に比べて膜寿命が総体的に
低くなる。また膜厚をあまり厚くすると膜寿命が低下す
ることになる。Ｃグループは、「置換性」「原子半径」
「格子間」および「熱膨張係数」においてＢグループと
似た性質を有しており、パーマロイとの接合性はＢグル
ープの各材料とほぼ似た特性になると考えられる。ただ
し、Ｃグループの各材料は、Ｂグループに属する材料に
比べて硬度が低い。よって図８〜図１０に示すように、
膜寿命はＢグループの材料に比較して全体的に低下す
る。ただしＣグループの中でもＴｉＯ₂とＴｉＮは、パ
ーマロイと熱膨張係数が近いため、膜寿命は比較的高く
なる。

【００３５】次に、記録媒体の磁性層がＣｒＯ₂で形成
されている場合、磁性粒子であるＣｒＯ₂が硬いもので
あるため、界面で擬拡散構造が形成されやすいか否か、
およびパーマロイとの熱膨張係数の差が近いか否かによ
る、パーマロイとの付着性よりも、膜材料そのものの硬
度が膜寿命に大きな影響を与えることになる。Ｄグルー
プ、Ｅグループ、Ｆグループは、各材料を高硬度となる
順に区分したのと同じであり、Ｄグループの高硬度のＢ
ＮとＤＬＣが、最も膜寿命が高く、次にＥグループのＢ
₄ＣとＷＣおよびＣｒ₂Ｏ₃が膜寿命の優れたものとな
る。

【００３６】

【実施例】以下、本発明をさらに具体的に説明する。図
２ないし図１３は、前記ＡグループからＦグループの各
保護膜の材料について膜寿命の実験を行った結果を示し
ている。膜寿命の実験の試料は、図１に示すようなステ
レオカセットテーププレーヤ用の磁気ヘッドＨのテープ
摺動面Ａに、各材料による保護膜を５００、１，００
０、１，５００、２，０００、２，５００オングストロ
ームの各膜厚にて形成したものである。磁気ヘッドＨの
シールドケース１とシールド板２ａ，２ｂはソフトパー
マロイ（Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ系合金）、コア３はハードパ
ーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ−Ｎｂ系合金）により形成された
ものを使用した。

【００３７】各材料によりテープ摺動面Ａの全面に保護
膜を形成した磁気ヘッドＨをテーププレーヤに搭載し、
温度２０℃、相対湿度５０％の環境下で、摺動面Ａに磁
気テープＴを摺動させ続けた。このときの周波数特性、
すなわち３１５Ｈｚの信号の再生出力に対する１２．５
ｋＨｚの信号の再生出力の比を求め、この周波数特性が
３．０ｄＢ以上劣化したときに保護膜の寿命が尽きたも
のとした。保護膜の寿命が尽きた状態では、膜が摩耗し
または剥離してテープ摺動面の凹凸が大きくなり、ある
いは保護膜が摩耗により部分的に無くなってシールド板
２ａ，２ｂやコア３の表面が直接損耗を受け偏摩耗状態
となって凹凸が大きくなる。これにより、スペーシング
ロスが大きくなり、周波数特性が劣化するに至る。この
実験は、温度２０℃、相対湿度５０％の室温に近い条件
で行われたものであり、よって、実際の音響機器に搭載
した場合を考慮すると、この条件にて周波数特性が３．
０ｄＢ以下に劣化するまでの時間は、２，０００時間以
上とすることが必要条件である。

【００３８】上記のように周波数特性が３．０ｄＢ以上
劣化したときを膜寿命とし、逆に、周波数特性が３．０
ｄＢ劣化しない範囲であれば、テーププレーヤとしての
使用に一応問題のないものと言える。一方で、保護膜を
形成することにより、磁気テープの磁性層とコアのギャ
ップ部Ｇとのスペースが大きくなり、これによるスペー
シングロスが大きくなる。この保護膜が形成されたとき
のスペーシングロスによる出力劣化は、１２．５ｋＨｚ
の再生信号に対してほぼ２．０ｄＢ以内とすることが一
般的な基準とされている。ここでスペーシングロスによ
る出力の劣化Ｌｓは以下の数１で求められる。

【００３９】

【数１】

【００４０】上記において、ｄはコアの磁気ギャップ部
Ｇと記録媒体（磁気テープ）との距離、λは再生波長で
ある。λは以下の数２で求められる。

【００４１】

【数２】

【００４２】上記においてｖは、磁気テープとヘッドと
の相対摺動速度で４．７６ｃｍ／ｓであり、ｆは周波数
で１２．５ｋＨｚである。上記において、ｄを１５００
オングストロームとすると、Ｌｓは２．１５ｄＢとな
る。すなわち、保護膜を形成することによるスペーシン
グロスでは、１２．５ｋＨｚにて、保護膜の厚さが１．
５００オングストローム以上となると、Ｌｓが２．１５
ｄＢ以上の劣化となる。よって、１２．５ｋＨｚの再生
信号に対する出力劣化を２．０ｄＢ付近の値である２．
１５ｄＢ以上劣化させないためには、保護膜の膜厚を
１，５００オングストローム以下とすることが好まし
い。

【００４３】すなわち、図２ないし図１３の各膜寿命の
実験において、周波数特性が３．０ｄＢ以上劣化するま
での時間が２．０００時間以上となるものが、本発明で
の保護膜の膜厚の範囲である。さらに１２．５ｋＨｚで
のスペーシングロスによる再生出力の劣化を２．１５ｄ
Ｂ以下とするためには、保護膜の膜厚寸法の上限を１，
５００オングストローム以下とすることが好ましい。

【００４４】図２ないし図４は、Ａグループの各材料に
対する保護膜の膜寿命の実験結果を示しており、図２は
磁気テープの磁性層がγ−Ｆｅ₂Ｏ₃、図３は磁気テープ
の磁性層がＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、図４は磁気テープの磁
性層がＦｅ系メタルの場合をそれぞれ示している。各図
において横軸は膜厚で、単位は１，０００オングストロ
ーム、縦軸は周波数特性での劣化が３．０ｄＢ以上とな
る時間で、単位は１，０００時間である。各図におい
て、ＶＩａ属の酸化物、窒化物、炭化物であるＣｒ
₂Ｏ₃，ＣｒＮ，ＷＣを、それぞれ「□」「＋」「◇」で
示している。またＩＩＩｂ属の酸化物、窒化物であるＡ
ｌ₂Ｏ₃，ＢＮを、それぞれ「△」「×」で示し、単位元
素のＤＬＣを「▽」で示している。

【００４５】表３にて説明したように、これらの材料は
パーマロイに対する接合性に優れている。したがって、
図２〜図４に示すように、各材料の膜寿命は全体的にか
なり高い値となっている。また、ＶＩａ属の酸化物、窒
化物、炭化物であるＣｒ₂Ｏ₃，ＣｒＮ，ＷＣは、熱膨張
係数がパーマロイに近い。よって膜厚が大きくても、膜
内の残留応力による膜剥離が生じにくい。また、ＩＩＩ
ｂ属の酸化物、窒化物であるＡｌ₂Ｏ₃、ＢＮおよび単位
元素のＤＬＣは高度が高いため、やはり膜厚を厚くして
も摩耗が生じにくいものとなっている。そのため、Ａグ
ループに属する材料は全て、膜寿命が最も高くなる膜厚
寸法が、２，０００オングストローム程度となってい
る。ただし、膜厚が２，０００オングストロームを越え
ると、パーマロイとの界面での膜内の蓄積残留応力が大
きくなり、膜が剥がれやすくなって膜寿命は低下してい
く。以上のように、Ａグループに属する各材料による保
護膜は、膜厚と膜寿命との関係が全てほぼ同じ特性を示
すものなっている。また、いずれも膜厚が３００オング
ストローム未満になると、膜が薄すぎて膜そのものの摩
耗が早くなる。また膜厚が２，５００オングストローム
を越える厚いものになると、前記の残留応力により膜寿
命が低下する。

【００４６】さらに、Ａグループの各材料では、膜寿命
の高い材料が、ＢＮ，ＤＬＣ，Ｃｒ₂Ｏ₃，ＷＣ，Ｃｒ
Ｎ，Ａｌ₂Ｏ₃の順となっている。これは、各材料の硬度
の違いに一致している。したがって磁気ヘッドの保護膜
としては、ＢＮ，ＤＬＣ，Ｃｒ₂Ｏの順に好ましいもの
となる。また、保護膜の寿命は、磁気テープの磁性層に
含まれる磁性粉によっても異なり、磁性層がＣｏ−γ−
Ｆｅ₂Ｏ₃を主体としたものである場合が最も膜の寿命が
高く、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆｅ系メタルでは寿命が低下す
る。これらを磁性層とした記録媒体（磁気テープ）を使
用する磁気ヘッドにおいて、膜寿命を２，０００時間以
上とするための膜厚の条件は、寿命に対して厳しい条件
となる図２のγ−Ｆｅ₂Ｏ₃の場合と図４のＦｅ系メタル
の場合を基準として、３００オングストローム以上で
２，５００オングストローム以下である。

【００４７】よって、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ−γ−Ｆｅ₂
Ｏ₃、およびＦｅ系メタルのいずれかを主体として磁性
層を形成した記録媒体（磁気テープ）に対する磁気記録
および／または磁気再生を行う磁気へッドにおいて、Ａ
グループの材料により保護膜を形成した場合、膜寿命を
２，０００時間以上とするためには、膜厚を３００オン
グストローム以上で２，５００オングストローム以下と
することが必要である。さらに、１２．５ｋＨｚの再生
出力のスペーシングによる劣化を２．１５ｄＢ以下とす
るためには、膜厚の上限を１，５００オングストローム
とすることが好ましい。よってＡグループの材料で保護
膜を形成した場合の、膜厚の好ましい範囲は、３００オ
ングストローム以上で１，５００オングストローム以下
である。

【００４８】図５ないし図７は、Ｂグループに属する材
料により保護膜を形成した場合の、膜厚と膜寿命との関
係を図２〜図４と同様にして示したものである。図５
は、磁気テープの磁性層の磁性粉がγ−Ｆｅ₂Ｏ₃を主体
としたものである場合、図６は磁気テープ磁性層がＣｏ
−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃を主体としたものである場合、図７は磁
気テープの磁性層がＦｅ系メタルを主体としたものであ
る場合をそれぞれ示している。各図においてＩＶａ属の
炭化物であるＴｉＣ，ＨｆＣ，ＺｒＣをそれぞれ「□」
「＋」「◇」で示し、ＩＶｂ属の炭化物であるＳｉＣを
「△」で示している。

【００４９】図２〜図４に示したＡグループに比較し
て、Ｂグループに属する各材料は、全体として膜寿命が
低くなっている。また、あまり膜厚を大きくしすぎる
と、膜寿命が低下する。これはＡグループに比較して、
Ｂグループの材料はパーマロイとの接合性がやや劣り、
またパーマロイとの熱膨張係数の差がＡグループに比較
して大きくなっているためである。しかしながらＢグル
ープにおいても、保護膜の膜厚寸法を適正に設定すれば
充分な膜寿命を得ることができる。図５〜図７におい
て、最も厳しい条件となっている図５のγ−Ｆｅ₂Ｏ₃を
磁性層とした磁気テープを使用した場合を基準とする
と、膜寿命が２，０００時間以上となる膜厚は１，２０
０オングストローム以上で１，７００オングストローム
以下である。すなわちＢグループに属する材料のいずれ
かにより保護膜が形成された場合、膜厚を１，２００オ
ングストローム以上で１，７００オングストローム以下
とすれば、膜寿命を２，０００時間以上にできる。

【００５０】また前述のように１２．５ｋＨｚの周波数
に対するヘッド出力が２．１５ｄＢ以上劣化しないため
の膜厚の上限は１，５００オングストロームである。よ
って、Ｂグループの材料のＴｉＣ，ＨｆＣ，ＺｒＣ，Ｓ
ｉＣのいずれかにより保護膜を形成した場合の最も好ま
しい膜厚は１，２００オングストローム以上で１，５０
０オングストローム以下である。また、図５〜図７で
は、Ｂグループの各材料のうち、ＴｉＣとＳｉＣおよび
ＨｆＣは寿命が比較的高くなっている。これはＴｉＣと
ＳｉＣおよびＨｆＣは、Ｂグループの材料の中でも硬度
が比較的高いからである。

【００５１】よって磁気ヘッドの摺動面ＡにＴｉＣまた
はＳｉＣによる保護膜を形成した場合、図５からその膜
厚を１，０００オングストローム以上で２，０００オン
グストローム以下とすることにより、膜寿命を２，００
０時間以上にできる。よって、ＴｉＣまたはＳｉＣによ
り形成した保護膜の膜厚の範囲は１，０００オングスト
ローム以上で２，０００オングストローム以下である。
さらにＴｉＣ，ＳｉＣにＨｆＣを含めた材料のうちのい
ずれかにより保護膜を形成する場合、膜寿命が２，００
０時間以上のなる膜厚の範囲は１，０００オングストロ
ーム以上で１，８００オングストローム以下である。さ
らに、１２．５ｋＨｚでのスペーシングロスによる出力
の劣化を２．１５ｄＢ以下とするための上限の膜厚は
１，５００オングストロームであるから、膜厚のスペー
シングロスを加味した場合、ＴｉＣ，ＳｉＣまたはＨｆ
Ｃにより形成した保護膜の膜厚を、１，０００オングス
トローム以上で１，５００オングストローム以下とする
ことが好ましい。

【００５２】次に、図８〜図１０は、Ｃグループに属す
る材料により保護膜を形成した場合の膜寿命の特性を示
したものであり、図８は磁気テープの磁性層がγ−Ｆｅ
₂Ｏ₃を主体とした場合、図９はＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃を主
体とした場合、図１０はＦｅ系メタルを主体とした場合
である。各図においてＴｉＯ₂，ＳｉＯ₂，ＴｉＮ，Ｓｉ
₃Ｎ₄，ＴａＮ，ＧＬＣをそれぞれ「□」「＋」「◇」
「△」「×」「▽」で示している。

【００５３】Ｃグループに属する材料により磁気ヘッド
のテープ摺動面の保護膜を形成した場合、各材料の硬度
が低いため、ＡグループとＢグループに比較して、膜寿
命はかなり低くなる。ただし、ＴｉＯ₂とＴｉＮに限っ
ては、膜厚を１，０００オングストロームに設定するこ
とによりほぼ２，０００時間の膜寿命を確保できる。よ
ってＴｉＯまたはＴｉＮにより保護膜を形成した場合、
膜厚を１，０００オングストロームに設定すればよい。
ただし、実際の保護膜の成膜には最小限の公差が必要で
あり、この公差を±１００オングストロームとした場
合、ＴｉＯ₂またはＴｉＮの保護膜の膜厚の範囲は９０
０オングストローム以上で１，１００オングストローム
以下である。膜厚をこの範囲に設定することにより、膜
寿命をほぼ２，０００時間以上に設定できる。

【００５４】図１１ないし図１２は、記録媒体（磁気テ
ープ）として、磁性層に含まれる磁性粉がＣｒＯ₂を主
体としたものを使用した場合を示している。図１１はＤ
グループに属する材料により保護膜を形成した場合を示
している。Ｄグループは、Ａグループに属する材料のう
ち硬度の高い材料であるＢＮ（「□」で示す）と、ＤＬ
Ｃ（「＋」で示す）を含むものであり、図１１ではこの
２つの材料についての膜厚と膜寿命との関係を示してい
る。ＣｒＯ₂の磁性粉は、硬度が高いため、γ−Ｆｅ₂Ｏ
₃などを含む磁気テープを使用した場合に比べて、膜寿
命が低下したものとなっている。しかし、ＢＮとＤＬＣ
は硬度の高い材料であるため、保護膜の膜厚を設定する
ことにより２，０００時間以上の膜寿命を確保できる。

【００５５】図１１からＢＮまたはＤＬＣにより形成さ
れた保護膜では、膜厚を１，５００オングストローム以
上で２，２００オングストローム以下とすることにり、
膜寿命を２，０００時間以上にできる。またＢＮは寿命
が最も高いものとなり、ＢＮを主体とした保護膜を形成
した場合には、膜厚が１，３００オングストローム以上
で２，３００オングストローム以下であれば、膜寿命を
２，０００時間以上にできる。またＢＮによる膜におい
て、スペーシングロスによる１２．５ｋＨｚでのヘッド
出力の劣化を２．１５ｄＢ以下をとするための上限
（１，５００オングストローム）を加味した場合、膜厚
は１，３００オングストローム以上で１，５００オング
ストローム以下とすることが好ましい。

【００５６】ここで、磁気ヘッドの記録媒体摺動面にＢ
Ｎを主体とした保護膜が形成された場合、記録媒体の磁
性層がγ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆｅ系メタ
ル、ＣｒＯ₂のいずれを主体とするものであっても、膜
厚寸法を１，３００オングストローム以上で２，３００
オングストローム以下とすれば、膜寿命を２，０００時
間以上にでできる。すなわち、磁性層がγ−Ｆｅ₂Ｏ₃、
Ｃｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆｅ系メタル、ＣｒＯ₂のいずれ
かを主体とした記録媒体に対する磁気記録および／また
は磁気再生を行う磁気ヘッドにおいて、記録媒体の摺動
面に、膜厚が１，３００オングストローム以上で２，３
００オングストローム以下のＢＮ膜を形成した磁気ヘッ
ドとすることができる。また１２，５ｋＨｚでのスペー
シングロスの出力劣化を加味すると、上記においてＢＮ
の膜の膜厚が１，３００オングストローム以上で１，５
００オングストローム以下であることが好ましい。

【００５７】次に図１２はＥグループに属する材料によ
り形成された保護膜の膜厚と膜寿命との関係を示してい
る。Ｅグループでは、膜厚寿命を２，０００時間以上に
できる材料が限られる。「×」「△」「□」で示される
Ｂ₄Ｃ，ＷＣ，Ｃｒ₂Ｏ₃のいずれかにより形成された保
護膜は、膜厚が１，５００オングストロームであれば、
膜寿命を２，０００時間以上にできる。また、成膜時の
膜厚の公差を加味した場合、膜厚が１，４００オングス
トローム以上で１，６００オングストローム以下とする
ことにより、膜寿命をほぼ２，０００時間にできる。

【００５８】また、図１３はＦグループ（Ｃグループ）
の材料により保護膜を形成した場合の、膜厚と膜寿命と
の関係を示している。図１３によればＣｒＯ₂を主体と
した磁性層を有する記録媒体（磁気テープ）に対して
は、Ｆグループの材料による保護膜は膜寿命を２，００
０時間以上にできないことが解る。なお、本願発明は、
上記の条件で保護膜を形成した磁気ヘッドにより再生の
みを行なう装置，前記磁気ヘッドで記録のみを行なう装
置，前記磁気ヘッドで記録と再生の双方を行なう装置の
いずれをも構成できるものである。

【００５９】

【発明の効果】以上のように本発明では、γーＦｅ
₂Ｏ₃、Ｃｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆｅ系メタルのいずれかを
主体とした磁性層を有する記録媒体に対して磁気記録お
よび／または磁気再生を行う磁気ヘッドを備えた磁気記
録／再生装置において、磁気ヘッドの記録媒体の摺動面
に、表１に分類したＡからＣグループに属する材料のい
ずれかによる保護膜を形成した場合に、膜厚を所定の範
囲内とすることにより、膜寿命を２，０００時間以上に
できる。また膜厚の上限を１，５００オングストローム
以下とすることにより１２．５ｋＨｚの信号の再生出力
のスペーシングロスによる劣化を２，１５ｄＢ以下とす
ることができる。

【００６０】またＣｒＯ₂を主体とした磁性層を有する
記録媒体に対し磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置において、表２
のＤグループまたはＥグループに属する所定の材料によ
り保護膜を形成し、その膜厚を所定範囲とすることによ
り膜寿命を２，０００時間以上にできる。

【００６１】さらに、記録媒体の磁性層がγーＦｅ
₂Ｏ₃、Ｃｏ−γ−ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆｅ系メタルまたはＣｒＯ
₂のいずれであっても、ＢＮまたはＤＬＣ、特にＢＮに
より保護膜を形成し、その膜厚を適正に設定すれば、記
録媒体がいずれであっても、充分な膜寿命を得ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁気ヘッドの摺動面を示す斜視図、

【図２】磁気テープの磁性層がγ−Ｆｅ₂Ｏ₃で形成され
ている場合の、Ａグループの材料の膜厚と膜寿命との関
係を示す線図、

【図３】磁気テープの磁性層がＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃で形
成されている場合の、Ａグループの材料の膜厚と膜寿命
との関係を示す線図、

【図４】磁気テープの磁性層がＦｅ系メタルで形成され
ている場合の、Ａグループの材料の膜厚と膜寿命との関
係を示す線図、

【図５】磁気テープの磁性層がγ−Ｆｅ₂Ｏ₃で形成され
ている場合の、Ｂグループの材料の膜厚と膜寿命との関
係を示す線図、

【図６】磁気テープの磁性層がＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃で形
成されている場合の、Ｂグループの材料の膜厚と膜寿命
との関係を示す線図、

【図７】磁気テープの磁性層がＦｅ系メタルで形成され
ている場合の、Ｂグループの材料の膜厚と膜寿命との関
係を示す線図、

【図８】磁気テープの磁性層がγ−Ｆｅ₂Ｏ₃で形成され
ている場合の、Ｃグループの材料の膜厚と膜寿命との関
係を示す線図、

【図９】磁気テープの磁性層がＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃で形
成されている場合の、Ｃグループの材料の膜厚と膜寿命
との関係を示す線図、

【図１０】磁気テープの磁性層がＦｅ系メタルで形成さ
れている場合の、Ｃグループの材料の膜厚と膜寿命との
関係を示す線図、

【図１１】磁気テープの磁性層がＣｒＯ₂で形成されて
いる場合の、Ｄグループの材料の膜厚と膜寿命との関係
を示す線図、

【図１２】磁気テープの磁性層がＣｒＯ₂で形成されて
いる場合の、Ｅグループの材料の膜厚と膜寿命との関係
を示す線図、

【図１３】磁気テープの磁性層がＣｒＯ₂で形成されて
いる場合の、Ｆグループの材料の膜厚と膜寿命との関係
を示す線図、

【符号の説明】

Ｈ磁気ヘッドＡ摺動面１シールドケース２ａ，２ｂシールド板３コア

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者飯塚雅博東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内 (72)発明者登坂修東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
またはＦｅ系メタルを主体とする磁性層が形成された記
録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置において、前記
磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＶＩａ族の元素の
酸化物、ＶＩａ族の元素の窒化物、ＶＩａ族の元素の炭
化物、ＩＩＩｂ族の元素の酸化物、ＩＩＩｂ族の元素の
窒化物、ＤＬＣ、のいずれかを含む保護膜が形成され、
この保護膜の膜厚が３００オングストローム以上で２，
５００オングストローム以下であることを特徴とする磁
気記録／再生装置。
【請求項２】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
またはＦｅ系メタルを主体とする磁性層が形成された記
録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置において、前記
磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＶＩａ族の元素の
酸化物、ＶＩａ族の元素の窒化物、ＶＩａ族の元素の炭
化物、ＩＩＩｂ族の元素の酸化物、ＩＩＩｂ族の元素の
窒化物、ＤＬＣ、のいずれかを含む保護膜が形成され、
この保護膜の膜厚が３００オングストローム以上で１，
５００オングストローム以下であることを特徴とする磁
気記録／再生装置。
【請求項３】ＶＩａ族の元素の酸化物がＣｒ₂Ｏ₃、Ｖ
Ｉａ族の元素の窒化物がＣｒＮ、ＶＩａ族の元素の炭化
物がＷＣ、ＩＩＩｂ族の元素の酸化物がＡｌ₂Ｏ₃、ＩＩ
Ｉｂ族の元素の窒化物がＢＮである請求項１または２に
記載の磁気記録／再生装置。
【請求項４】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
またはＦｅ系メタルを主体とする磁性層が形成された記
録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置において、前記
磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＩＶａ族の元素の
炭化物またはＩＶｂ族の元素の炭化物のいずれかを含む
保護膜が形成され、この保護膜の膜厚が１，２００オン
グストローム以上で１，７００オングストローム以下で
あることを特徴とする磁気記録／再生装置。
【請求項５】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
またはＦｅ系メタルを主体とする磁性層が形成された記
録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた記録／再生装置において、前記磁気
ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＩＶａ族の元素の炭化
物またはＩＶｂ族の元素の炭化物のいずれかを含む保護
膜が形成され、この保護膜の膜厚が１，２００オングス
トローム以上で１，５００オングストローム以下である
ことを特徴とする磁気記録／再生装置。
【請求項６】ＩＶａ族の元素の炭化物がＴｉＣ，Ｈｆ
Ｃ，ＺｒＣのいずれかであり、ＩＶｂ族の元素の炭化物
がＳｉＣである請求項４または５に記載の磁気記録／再
生装置。
【請求項７】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
またはＦｅ系メタルを主体とする磁性層が形成された記
録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置において、前記
磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＴｉＣまたはＳｉ
Ｃのいずれかを含む保護膜が形成され、この保護膜の膜
厚が１，０００オングストローム以上で２，０００オン
グストローム以下であることを特徴とする磁気記録／再
生装置。
【請求項８】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
またはＦｅ系メタルを主体とする磁性層が形成された記
録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置において、前記
磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＴｉＣまたはＳｉ
Ｃのいずれかを含む保護膜が形成され、この保護膜の膜
厚が１，０００オングストローム以上で１，５００オン
グストローム以下であることを特徴とする磁気記録／再
生装置。
【請求項９】 γ−Ｆｅ₂Ｏ₃またはＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
またはＦｅ系メタルを主体とする磁性層が形成された記
録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生を行う
磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置において、前記
磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＴｉＯ₂またはＴ
ｉＮのいずれかを含む保護膜が形成され、この保護膜の
膜厚が９００オングストローム以上で１，１００オング
ストローム以下であることを特徴とする磁気記録／再生
装置。
【請求項１０】ＣｒＯ₂を主体とする磁性層が形成さ
れた記録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生
を行う磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置におい
て、前記磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＢＮまた
はＤＬＣのいずれかを含む保護膜が形成され、この保護
膜の膜厚が１，５００オングストローム以上で２，２０
０オングストローム以下であることを特徴とする磁気記
録／再生装置。
【請求項１１】ＣｒＯ₂を主体とする磁性層が形成さ
れた記録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生
を行う磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置におい
て、前記磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＢＮを含
む保護膜が形成され、この保護膜の膜厚が１，３００オ
ングストローム以上で２，３００オングストローム以下
であることを特徴とする磁気記録／再生装置。
【請求項１２】ＣｒＯ₂を主体とする磁性層が形成さ
れた記録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生
を行う磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置におい
て、前記磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、ＢＮを含
む保護膜が形成され、この保護膜の膜厚が１，３００オ
ングストローム以上で１，５００オングストローム以下
であることを特徴とする磁気記録／再生装置。
【請求項１３】ＣｒＯ₂を主体とする磁性層が形成さ
れた記録媒体に対して磁気記録および／または磁気再生
を行う磁気ヘッドを備えた磁気記録／再生装置におい
て、前記磁気ヘッドの記録媒体との摺動面に、Ｂ₄Ｃま
たはＷＣまたはＣｒ₂Ｏ₃のいずれかを含む保護膜が形成
され、この保護膜の膜厚が１，４００オングストローム
以上で１，６００オングストローム以下であることを特
徴とする磁気記録／再生装置。