JPH08301687A - 棒状多結晶シリコンの溶解方法及びその装置 - Google Patents
棒状多結晶シリコンの溶解方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH08301687A JPH08301687A JP14380295A JP14380295A JPH08301687A JP H08301687 A JPH08301687 A JP H08301687A JP 14380295 A JP14380295 A JP 14380295A JP 14380295 A JP14380295 A JP 14380295A JP H08301687 A JPH08301687 A JP H08301687A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rod
- melting
- raw material
- weight
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 230000008018 melting Effects 0.000 title claims abstract description 19
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 45
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 13
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 11
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 9
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 abstract description 6
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 8
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 101100022866 Escherichia coli (strain K12) menI gene Proteins 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
き上げを自動的に、且つ正確に行うことができ、常に一
定レベルの溶融液を得ることができる棒状多結晶シリコ
ンの溶解方法及びその装置を提供する。 【構成】昇降軸6の上端にリチャージ時の棒状原料4の
溶解に伴って起こる重量変化をアナログ電圧に変換して
出力するロードセル重量測定器7を取付けると共に、出
力されたアナログ電圧値を取り込み「液面接触判定」・
「漬け込み量判定」・「溶解終了判定」を行う溶解重量
判断器8を設ける。
Description
上げを行うための坩堝内の溶融液中に棒状多結晶シリコ
ンを自動的に供給する方法及びその装置に関するもので
ある。
シリコン単結晶を成長させる場合、単結晶の引き上げの
前工程として、坩堝内にシリコン多結晶からなる塊粒状
原料を入れてこれを溶解し、所定レベルのシリコン溶融
液を得る必要があるが、単結晶シリコンを引上げた後、
連続的に引上げを行うためには溶融液レベルに不足が生
じる。このため、単結晶を引上げた後、不足分を多結晶
シリコンの棒状原料を上方から吊り下げつつ坩堝内の溶
融液中に浸漬し、これを溶解させて所定レベルの溶融液
を得た後(以下、リチャージという)、次の単結晶シリ
コンの引き上げを行う方法が採られている。従来、この
リチャージの際の坩堝内への棒状原料の供給は、予め定
めた寸法だけ自動的にシリコン溶融液内に浸漬して溶解
させ、所定時間経過後の着液又は離液状態を作業者が監
視し判定していた。
法にあたっては、棒状原料に直径のバラツキがあるた
め、自ずと溶かし込み重量にもバラツキが生じるという
欠点があり、また作業者によって溶解終了時間の判定に
誤差があるため、常に、一定レベルの溶融液を得ること
は困難であった。このため特公平6−17279号に記
載されているように、シリコン溶融液と棒状多結晶シリ
コンとの間に印加した電圧の変化を検知して、棒状多結
晶シリコンとシリコン溶融液との接離を判定する方法が
提案されているものの、溶融量は溶かし込んだ長さ(寸
法)により決定されるため上述の問題を解消しているも
のではなかった。本発明は、従来技術の前記問題点に鑑
み、リチャージの際の坩堝内への棒状原料の供給引き上
げを自動的に、且つ正確に行うことができ、常に一定レ
ベルの溶融液を得ることができる棒状多結晶シリコンの
溶解方法を提供することを目的とするものである。
ョクラルスキー法(CZ法)により単結晶シリコンを引
き上げる前工程として、坩堝内のシリコン溶融液中にそ
の上方から棒状多結晶シリコンを下降供給して溶解させ
る方法において、前記棒状多結晶シリコンのシリコン溶
融液中への溶込みによる重量の変化を検知し、予め定め
た値と比較して棒状多結晶シリコンのシリコン溶融液へ
の液面接触・付け込み量・溶解終了の各判定を行い棒状
多結晶シリコンを自動的に昇降させるようにした。
することにより判断するようにしたので、棒状多結晶シ
リコンの直径のバラツキに起因する溶解量のバラツキを
阻止できる。
する。図1は本発明に係るCZ引き上げ装置の模式図、
図2(イ)〜(ヘ)は棒状原料の溶解過程を示す説明
図、図3は溶解過程時のロードセルアナログ電圧変化を
示すグラフ、図4(i)〜(vi)は単結晶シリコン製
造過程の説明図である。
ヒーターを一示している。チャンバー1内の下部中央に
は坩堝2が支持軸2aにて回転並びに昇降可能に支持さ
れ、また、その外周にヒーター3が同心状に配設されて
いる。チャンバー1の上部壁中央には単結晶の引き上げ
及び棒状原料4の挿入、引き上げを行う際の保護筒5が
設けられておりその上端は天板にて閉鎖されている。
降軸6が吊設され、この昇降軸6の下端には多結晶シリ
コンの棒状原料4が吊り下げられ、昇降軸6の昇降操作
によってチャンバー1内で棒状原料4を昇降移動できる
ようにされている。昇降軸6の上端にはリチャージ時の
棒状原料4の溶解に伴って起こる重量変化をアナログ電
圧に変換して出力するロードセル重量測定器7が取付け
られると共に、出力されたアナログ電圧値を取り込み
「液面接触判定」・「漬け込み量判定」・「溶解終了判
定」を行う溶解重量判断器8が設けられている。この溶
解重量判断器8は棒状原料4の供給、引き上げ全般を制
御する制御回路(図示せず)を備えており、昇降軸6の
昇降用モーターMの駆動制御を行う。
の際にロードセル重量測定器7に係る負荷(重量)変化
を順に追って説明する。図4に示すように、チョクラル
スキー法(CZ法)によってシリコン単結晶を成長させ
る場合、単結晶の引き上げの前工程として、まず、坩堝
2内にシリコン多結晶からなる塊粒状原料を入れてこれ
を溶解し(i)、所定レベルのシリコン溶融液4aを得
る(ii)。次いで、1本目のシリコン単結晶10の引
き上げを行う(iii)。1本目の単結晶シリコン10
を引上げた後、減少した分の溶融液4aを補うため多結
晶シリコンの棒状原料4を上方から吊り下げつつ坩堝2
内の溶融液4a中に浸漬して溶解させて所定レベルにま
で回復させた後(iv)〜(vi)、再度、単結晶シリ
コン10の引き上げを行うサイクルを反復する。
量、溶融液レベル等のデータを制御回路に入力し棒状原
料の装入回数等を算出しておく。制御回路から棒状原料
4の下降指示信号が出力されると、モータMが駆動して
昇降軸6が下降し、棒状原料4が保護筒5内を下降し、
坩堝2上の所定位置に達すると、CPUから制御盤を通
じて昇降軸6の駆動モータMに下降制御信号が出力さ
れ、これと同時に制御盤内のタイマーカウンターが動作
する。
aに浸漬される前の状態(イ)においては、ロードセル
重量測定器7に係る負荷f1は棒状原料4のみの重量W
s(g)、すなわちf1=Wsとなる。棒状原料4の下
端が溶融液面に着液するとメニスカス9が形成され、こ
のメニスカス9による重量増加が起こる。この重量増加
分をWmenI(g)とすると、この時、すなわち棒状
原料4の液面接触時(ロ)にロードセル重量測定器7に
係る負荷f2はf2=Ws+WmenIとなる。以下、
同様に浸漬時(ハ)の負荷f3は浮力Fを差し引いた負
荷f3=Ws−F、溶解中(ニ)は漸次変化する溶解量
xを差し引いた負荷f4=Ws−x、溶解終了時(ホ)
には溶解された重量分WMを差し引き、再度形成される
メニスカスによる重量増加分WmenIを加え、更に素
材下端と液面との空隙dの体積に相当する質量分Wdを
差引いた負荷f5=Ws−WM+WmenI−Wd、液
面と棒状原料4の下端との離反時(ヘ)の負荷はf6=
Ws−(WM+Wd)となる。ロードセル重量測定器7
は、これらの負荷(重量)変化をアナログ電圧に変換し
て出力する。図3はこのアナログ電圧変化を表すグラフ
である。
図3を参照して詳述する。 (1)まず、昇降軸6を早送りで段階的に下降させて棒
状原料4のプレヒートを行う。次いで、遅送りに切り替
え漸次下降させて行く。棒状原料4の下端が溶融液面に
接触するとメニスカス形成による重量増加が起こるた
め、これを検出して下降を一旦停止する。すなわち、溶
解開始前の棒状原料4の重量をWs(g)、メニスカス
形成による重量増加分をC(g)とすると、次式(数式
1)が成立する位置まで棒状原料4を下降させればよい
(液面接触判定)。
後(例えば1〜9秒後)に一旦停止し、遅送りに切り替
え漸次下降させて行く、そして坩堝2内で棒状原料4の
溶解を行う。その際、次式(数式2及び数式3)で表さ
れる浮力Fによる重量減少量を加味して所望する溶解重
量WM(g)を測定して下降を停止する(漬け込み量判
定)と共に、溶解区間の中間点の判定を行う(溶解区間
の平均重量を計算し最大値WL(g)を導く)。
原料の密度(g/cm3)である。すなわち、
値(g)である。
式4)が成立した時点で棒状原料4の浸漬部分が溶解し
たことが判定できる。
溶融液4aの接触面に再度形成されるメニスカス9の離
反による重量減少量(WLからメニスカス形成による重
量増加分Cを減じた量)を測定し、次式(数式5)で判
定する。
で上昇させて棒状原料4を引き上げる。ここで、早送り
上昇開始n秒後(例えば1〜100秒後)に一旦停止さ
せ、更にQ秒間(例えば0〜10秒間)置いてロードセ
ル重量を検出し、溶け残りの有無を判定する。万一、溶
け残り有りと判定された場合、再度早送り下降でもとの
位置に戻し、溶け残り分を再度溶解する。その溶解終了
は、液面下の部分の浮力が無くなり重量が増加すること
により判定できる。
望の溶融液レベルを得る。すなわち、1単位の溶融が完
了して、図2(ヘ)に示す如く棒状原料4の下端が溶融
液面から離隔し、離液状態と判定されると再び昇降軸6
の昇降駆動モーターMを駆動して、再度、棒状原料4を
所定速度で下降し、前述した(1)〜(5)のサイクル
を反復する。
解されると、昇降軸6を上昇させて残留棒状原料4をチ
ャンバー1内から保護筒6内に引上げ、棒状原料4を取
りだしシード材を取付け、次のシリコン単結晶の引き上
げを行う。
溶解量を重量変化により判定するようにしたので、正確
な溶解量を得ることができる。その結果、坩堝内への棒
状原料の供給引き上げを自動的に、且つ正確に行うこと
ができ、常に一定レベルの溶融液を得ることができると
いう優れた効果がある。
る。
明図である。
すグラフである。
説明図である。
Claims (2)
- 【請求項1】チョクラルスキー法(CZ法)により単結
晶シリコンを引き上げる前工程として、坩堝内のシリコ
ン溶融液中にその上方から棒状多結晶シリコンを下降供
給して溶解させる方法において、 前記棒状多結晶シリコンのシリコン溶融液中への溶込み
による重量の変化を検知し、予め定めた値と比較して棒
状多結晶シリコンのシリコン溶融液への液面接触・付け
込み量・溶解終了の各判定を行い棒状多結晶シリコンを
自動的に昇降させることを特徴とする棒状多結晶シリコ
ンの溶解方法。 - 【請求項2】チャンバー内で棒状原料を昇降移動できる
ようにされた昇降軸にリチャージ時の棒状原料の溶解に
伴って起こる重量変化をアナログ電圧に変換して出力す
るロードセル重量測定器が取付けられると共に、出力さ
れたアナログ電圧値を取り込み、液面接触判定・漬け込
み量判定・溶解終了判定を行い前記昇降軸の昇降移動を
制御する溶解重量判断器が設けられていることを特徴と
する棒状多結晶シリコンの溶解装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14380295A JP3693704B2 (ja) | 1995-05-02 | 1995-05-02 | 棒状多結晶シリコンの溶解方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14380295A JP3693704B2 (ja) | 1995-05-02 | 1995-05-02 | 棒状多結晶シリコンの溶解方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08301687A true JPH08301687A (ja) | 1996-11-19 |
JP3693704B2 JP3693704B2 (ja) | 2005-09-07 |
Family
ID=15347325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14380295A Expired - Fee Related JP3693704B2 (ja) | 1995-05-02 | 1995-05-02 | 棒状多結晶シリコンの溶解方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3693704B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000344594A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | シリコン原料の供給方法及び単結晶シリコンの製造方法 |
WO2016051682A1 (ja) * | 2014-09-29 | 2016-04-07 | 信越半導体株式会社 | 半導体単結晶引上げ装置及びこれを用いた半導体単結晶の再溶融方法 |
CN114184040A (zh) * | 2021-12-08 | 2022-03-15 | 天长市兴宇交通装备科技有限公司 | 一种精密铸造炉 |
-
1995
- 1995-05-02 JP JP14380295A patent/JP3693704B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000344594A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | シリコン原料の供給方法及び単結晶シリコンの製造方法 |
WO2016051682A1 (ja) * | 2014-09-29 | 2016-04-07 | 信越半導体株式会社 | 半導体単結晶引上げ装置及びこれを用いた半導体単結晶の再溶融方法 |
JPWO2016051682A1 (ja) * | 2014-09-29 | 2017-06-08 | 信越半導体株式会社 | 半導体単結晶引上げ装置及びこれを用いた半導体単結晶の再溶融方法 |
KR20170063560A (ko) * | 2014-09-29 | 2017-06-08 | 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 | 반도체 단결정 인상장치 및 이것을 이용한 반도체 단결정의 재용융방법 |
CN107075718A (zh) * | 2014-09-29 | 2017-08-18 | 信越半导体株式会社 | 半导体单晶提拉装置以及使用其的半导体单晶的再熔融方法 |
US10113247B2 (en) | 2014-09-29 | 2018-10-30 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Semiconductor single crystal pulling apparatus and method for remelting semiconductor single crystal using this |
CN107075718B (zh) * | 2014-09-29 | 2019-08-13 | 信越半导体株式会社 | 半导体单晶的再熔融方法 |
CN114184040A (zh) * | 2021-12-08 | 2022-03-15 | 天长市兴宇交通装备科技有限公司 | 一种精密铸造炉 |
CN114184040B (zh) * | 2021-12-08 | 2023-11-07 | 天长市兴宇交通装备科技有限公司 | 一种精密铸造炉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3693704B2 (ja) | 2005-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100669300B1 (ko) | 다결정 실리콘 충전물로부터 용융된 실리콘 용융체를제조하는 방법 및 장치 | |
US7264674B2 (en) | Method for pulling a single crystal | |
JPH08143392A (ja) | 粒状原料の供給装置およびその供給方法 | |
CN108138353B (zh) | 单晶的制造方法 | |
JPH08337494A (ja) | 結晶引上げ機械のるつぼの回転装置及び方法 | |
CN215713520U (zh) | 用于预熔向主坩埚供给的硅的预熔装置 | |
EP1068375B1 (en) | Open-loop method and system for controlling growth of semiconductor crystal | |
EP0498653B1 (en) | A method for measuring the diameter of single crystal ingot | |
JPH035394A (ja) | 単結晶引上装置 | |
JPH08301687A (ja) | 棒状多結晶シリコンの溶解方法及びその装置 | |
JP4360163B2 (ja) | 単結晶の製造装置及び単結晶の製造方法 | |
JP3598642B2 (ja) | 連続チャージ法によるシリコン単結晶の製造方法 | |
JP3632427B2 (ja) | 単結晶引上げ装置の原料追加システム | |
JP3964002B2 (ja) | 単結晶保持装置及び単結晶保持方法 | |
EP0781872A2 (en) | Apparatus and method for adjusting initial position of melt surface | |
KR100327475B1 (ko) | 단결정연속성장장치 | |
US20050211157A1 (en) | Process control system for controlling a crystal-growing apparatus | |
JP4138970B2 (ja) | 結晶体の製造装置および方法 | |
JP2004224585A (ja) | 単結晶の製造方法及び製造装置 | |
CN105568369B (zh) | 一种用于提拉法晶体生长的下晶方法和自动下晶设备 | |
JPS58365A (ja) | 溶融金属中の凝固界面位置検出方法並びに装置 | |
JP2022132995A (ja) | 原料融液の表面の状態の検出方法、単結晶の製造方法、及びcz単結晶製造装置 | |
CN115434010A (zh) | 自动化熔接方法及单晶硅 | |
JP2000026197A (ja) | シリコン単結晶の製造方法および装置 | |
JPH03228894A (ja) | 結晶成長方法及び該方法に使用する装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050418 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050418 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20050421 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050524 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050622 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |