JP4360163B2 - 単結晶の製造装置及び単結晶の製造方法 - Google Patents
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Description
このように結晶片保持手段を水平方向に移動させる水平方向移動機構を具備するものであれば、原料融液表面の位置を検出した後に結晶片保持手段を水平方向に移動させて、単結晶の引上げの障害とならない位置に退避させることができるため、単結晶の引上げを円滑に安定して行うことができる装置となる。
このように接触検知手段が、測定用結晶片と原料融液の接触を光学式カメラまたは電流の導通の検出によって検知するものであれば、測定用結晶片と原料融液の接触を高精度に検知できるため、原料融液表面の位置を一層正確に検出できるものとなる。
このように測定用結晶片を所定の位置から降下させて原料融液に接触させたときの測定用結晶片の降下距離を測定することにより、原料融液表面の位置を正確に検出することができ、原料融液表面の位置を非常に高精度に調整することができる。
本発明では、種結晶とは別の測定用結晶片を用いて原料融液表面の位置の検出を行っても、このように原料融液表面の位置を検出した後に、測定用結晶片を水平方向に移動させて単結晶の引上げの障害とならない位置に退避させることにより、その後単結晶の引上げを円滑に安定して行うことができる。
このように種結晶として円錐状または角錐状の形状を有するものを用いることにより、ネッキングを行わずに無転位の単結晶を引上げることができるので、大口径、高重量の単結晶でも安定して育成することができる。
このように測定用結晶片として円柱状または角柱状の形状を有するものを用いることにより、原料融液表面の位置を非常に高精度に、また安定して検出することができる。
このように、本発明は、200mm以上の大口径の単結晶を製造する場合に好適に用いることができ、このような大口径の単結晶の引上げを行う場合でも、原料融液表面の位置を正確に検出して原料融液表面の初期位置を高精度に調整できるとともに、融液表面の位置を検出後、単結晶の引上げを速やかに開始して単結晶の製造を高い生産性で安定して行うことができる。
本発明は、シリコン単結晶を製造する場合に特に好適に用いることができ、それにより、所定の直径を有する高品質のシリコン単結晶を効率的に高い生産性で製造することができ、製造コストの低減を図ることができる。
従来、例えば円錐状または角錐状の種結晶を用いた無転位種付け法等によって大口径で高重量の単結晶を製造する場合、前述のように種結晶の交換作業が必要となるため、生産性の低下や作業者への負担の増大といった問題を引き起こしていた。そこで、本発明者等は、このような問題を解消する為に鋭意研究及び検討を重ねた結果、CZ法により単結晶を製造する際に、原料融液に種結晶を接触させる前に、先ず引上げ手段とは別に設置した測定用結晶片を保持する融液面検出手段によって原料融液の表面の位置を検出し、その検出結果に基づいて原料融液表面の位置を調整した後、種結晶を用いて引上げ手段により単結晶の引上げを行えば、従来必要とされていた引上げ手段における種結晶の交換作業を省略することが可能となるため、単結晶の製造を効率的に行うことができ、また作業者への負担も大幅に軽減できることを見出して、本発明を完成させた。
この融液面検出手段5は、測定用結晶片72を保持する結晶片保持手段70と、測定用結晶片72の位置を上下に昇降させる結晶片昇降手段75と、原料融液16の上方で測定用結晶片72が所定の位置にあることを検出する基準位置検出手段30と、測定用結晶片72と原料融液16の接触を検知する接触検知手段45と、測定用結晶片72の所定の位置からの降下距離を測定して原料融液表面16Aの位置を求める降下距離測定手段(カウンタ)81とを具備する。
本発明の単結晶の製造方法は、図1に示した単結晶の製造装置1を用いて、CZ法により単結晶を原料融液から引上げて製造する際に、先ず種結晶26とは別の測定用結晶片72を保持した融液面検出手段5を用いて原料融液表面16Aの位置を検出し、その検出結果に基づいて原料融液表面16Aの位置を調整した後に、引上げ手段4によって種ホルダー24に固定された種結晶26を原料融液16に浸漬させて単結晶の引上げを行うものである。
先ず、石英ルツボ14内に所定量の多結晶シリコンをチャージし、ヒータ2で加熱することにより多結晶シリコンを溶融した後、融液面検出手段5の結晶片保持手段70に保持した測定用結晶片72を用いて、石英ルツボ14内のシリコン融液の表面16Aの位置を検出する。
また、本発明では、測定用結晶片72とシリコン融液16との接触を、例えば工業用テレビカメラ28を利用してシリコン融液表面を観察することによって検知することもできる。
また、上記実施形態においては、単結晶の直径を測定するために工業用テレビカメラを用いる場合について説明したが、本発明はこれには限定されず、他の撮像手段、例えばCCDのような固体撮像素子を用いても良い。さらに、融液面検出手段で用いる電源として直流電源を例に挙げて説明したが、本発明はこれには限定されず、交流電源であっても良い。
4…引上げ手段、 5…融液面検出手段、
9…メインチャンバ、 10…ルツボ移動軸、 11…引上げチャンバ、
12…黒鉛ルツボ、 13…開口部、 14…石英ルツボ、
16…原料融液(シリコン融液)、 16A…原料融液の表面(シリコン融液表面)、
18…モータ、 22…パルスジェネレータ、
24…種ホルダー、 26…種結晶、 28…工業用テレビカメラ、
30…基準位置検出手段、 32…ワイヤ、 44…軸受、 45…接触検知手段、
46…直流電源、 48…抵抗器、 50…比較器、 52…コントローラ、
70…結晶片保持手段、 72…測定用結晶片、 74…ワイヤ、
75…結晶片昇降手段、 76…ドラム、 78…モータ、
80…パルスジェネレータ、 81…降下距離測定手段(カウンタ)、
82…ボールスプライン軸、 84…ワイヤ水平軸、 86…ガイドプーリー、
87…ベローズ、 88…ドラム収納箱、 90…エアーシリンダー。
Claims (9)
- チョクラルスキー法により単結晶を原料融液から引き上げて製造する装置であって、少なくとも、前記原料融液を収容するルツボと、前記原料融液を加熱するヒータと、前記ルツボの位置を上下に調節するルツボ移動手段と、前記単結晶を回転させながら引上げる引上げ手段とを具備し、さらに前記原料融液表面の位置を測定用結晶片を原料融液に接触させることにより検出する融液面検出手段を前記引上げ手段とは別に有し、該融液面検出手段は、少なくとも、前記測定用結晶片を保持する結晶片保持手段と、前記測定用結晶片の位置を上下に昇降させる結晶片昇降手段と、前記原料融液の上方で測定用結晶片が所定の位置にあることを検出する基準位置検出手段と、前記測定用結晶片と原料融液の接触を検知する接触検知手段と、前記測定用結晶片の所定の位置からの降下距離を測定して前記原料融液表面の位置を求める降下距離測定手段とを具備することを特徴とする単結晶の製造装置。
- 前記結晶片保持手段を水平方向に移動させる水平方向移動機構を具備することを特徴とする請求項1に記載の単結晶の製造装置。
- 前記接触検知手段は、前記測定用結晶片と原料融液の接触を、光学式カメラまたは電流の導通の検出によって検知するものであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の単結晶の製造装置。
- チョクラルスキー法により単結晶を原料融液から引き上げて製造する方法において、前記原料融液に種結晶を接触させる前に、単結晶の引上げ手段とは別に測定用結晶片を保持した融液面検出手段を用いて前記原料融液の表面の位置を、前記測定用結晶片を所定の位置から降下させて原料融液に接触させたときの測定用結晶片の降下距離を測定することによって検出し、該検出結果に基づいて前記原料融液表面の位置を調整した後に前記単結晶の引上げを引上げ手段で行うことを特徴とする単結晶の製造方法。
- 前記原料融液の表面の位置を検出した後、前記測定用結晶片を水平方向に移動させて、前記単結晶の引上げの障害とならない位置に退避させることを特徴とする請求項4に記載の単結晶の製造方法。
- 前記種結晶として、円錐状または角錐状の形状を有するものを用いることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の単結晶の製造方法。
- 前記測定用結晶片として、円柱状または角柱状の形状を有するものを用いることを特徴とする請求項4ないし請求項6のいずれか一項に記載の単結晶の製造方法。
- 前記製造する単結晶の直径を200mm以上とすることを特徴とする請求項4ないし請求項7のいずれか一項に記載の単結晶の製造方法。
- 前記製造する単結晶をシリコン単結晶とすることを特徴とする請求項4ないし請求項8のいずれか一項に記載の単結晶の製造方法。
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