JPH08288324A - 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置及びその製造方法

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JPH08288324A
JPH08288324A JP7113997A JP11399795A JPH08288324A JP H08288324 A JPH08288324 A JP H08288324A JP 7113997 A JP7113997 A JP 7113997A JP 11399795 A JP11399795 A JP 11399795A JP H08288324 A JPH08288324 A JP H08288324A
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英夫 中吉
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 半導体装置をより少ない工程で行うことによ
り製造時間の大幅短縮及び製造設備の削減が計れ、また
リードフレームや半導体素子の汚染を減らすことにより
信頼性が向上した樹脂封止型半導体装置を提供する。 【構成】 樹脂封止型半導体装置は、半導体素子1に電
気的に接続される複数のリード6と、外部電極5上また
はリードに形成された突起状電極10と、複数のリード
の一部、突起状電極及び半導体素子を樹脂封止する樹脂
封止体8とを備え、複数のリードの先端は、突起電極1
0を介して半導体素子主面に重ね合わされて加圧され、
この加圧された状態でこのリード6と外部電極とは電気
的接続が維持されている。リード6と半導体素子の外部
電極5との安定した電気的接続が可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の外部電極
と外部引出電極体との電気的接続及び樹脂封止を少ない
工程数で行う樹脂封止半導体装置及びその製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】ICやLSIなどの半導体装置は、半導
体基板に形成する集積回路を設計する設計工程、集積回
路を形成するために用いられる電子ビームなどを描画す
るためのマスク作成工程、単結晶インゴットから所定の
厚みの半導体ウェーハ(以下、ウェーハという)を形成
するウェーハ製造工程、ウェーハに集積回路などの半導
体素子を形成するウェーハ処理工程、ウェーハを各半導
体素子(チップ)に分離し、それぞれパッケージングし
て半導体装置を形成する組立工程及び検査工程等を経て
形成される。各工程には、それぞれその製造工程に必要
な製造装置が用意される。従来の樹脂封止型半導体装置
の組立工程においても半導体素子をリードフレームなど
の半導体素子搭載部に取付けるマウント工程、半導体素
子とリードとを電気的に接続するボンディング工程、半
導体素子を樹脂封止するモールド工程、リードフレーム
を切断、成型加工するトリムフォーミング工程に分かれ
それぞれの工程で専用の製造装置を備えている。
【0003】図17は、上記の製造装置により組み立て
られた従来の樹脂封止型半導体装置を示す断面図であ
り、DIP(Dual Inline Package)型の半導体装置であ
る。半導体素子(チップ)1をリードフレーム2の半導
体素子を搭載するダイパッド部3に導電性などの接着剤
4で固着する。リードフレーム2は、インナーリード部
6とアウターリード部9とを備えている。半導体素子
1、ダイパッド部3、インナーリード部6等は、樹脂封
止体8により被覆保護されている。樹脂封止体8は例え
ば、エポキシ樹脂などからなり、トランスファモールド
法などにより形成される。また、アウターリード部9
は、樹脂封止体8から露出しており、先端は、外部回路
に接続されている。インナーリード部6は、樹脂封止体
8の中においてその先端が半導体素子1と対向するよう
に配置されている。そして、その先端のボンディング部
と半導体素子主面に形成した外部電極(ボンディングパ
ッド)5とは、AuやAlなどのボンディングワイヤ7
により接続されている。この樹脂封止型半導体装置の製
造工程は、まず、半導体素子1をダイパッド部3に接着
剤4で固定する(マウント工程)。次に、外部電極5と
インナーリード部6をボンディングワイヤ7で接続し
(ワイヤボンディング工程)、その後、金型にセットし
て樹脂封止体8を形成する。その後、アウターリード部
9を切断、曲げ加工を行って(リードフォーミング工
程)製品を完成する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】集積回路などの内部回
路を形成してからチップ毎に切断分離して得た半導体素
子を組立工程において、マウントしてから樹脂封止して
製品を完成するまで、それぞれの製造工程に専用の製造
装置を用いていた。この場合、工程が複数に分かれてい
るために、製造時間が長くなり、また設備コストが高く
なるという問題があった。さらに、各工程で熱処理を行
う場合が多いので熱履歴が加わるために、マウント剤か
らの低分子樹脂成分が発生し、半導体素子表面やリード
フレーム表面を汚染し、ワイヤボンディング工程のワイ
ヤ接合部の接合性が劣化したり、モールド樹脂と半導体
素子との密着性が劣化し、後の耐リフロー性が低下する
問題もあった。また、今後のI/Oリードの多ピン化が
進み、接続の微細化が進むとワイヤ接合では難しく、現
状では120ピンが限界といわれている。本発明は、こ
のような事情によりなされたものであって、従来は、複
数の工程で製造していた半導体装置をより少ない工程で
行うことにより製造時間の大幅短縮及び製造設備の削減
が計れ、またリードフレームや半導体素子の汚染を減ら
すことにより信頼性が向上した樹脂封止型半導体装置及
びその製造方法を提供することを目的にしている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、樹脂封止型半
導体装置の外部引出電極体が樹脂封止体の中で突起状電
極を介して半導体素子の外部電極に重ねられ加圧されて
電気的接続されていることに特徴がある。また、樹脂封
止体中において半導体素子の外部電極又は外部引出電極
体に突起状電極を形成しておき、外部引出電極体と突起
状電極を半導体素子主面の外部電極に重ねて加圧しなが
ら樹脂封止を行い、外部引出電極体と外部電極との電気
的接続を行うことに特徴がある。即ち、本発明の樹脂封
止型半導体装置は、主面に複数の外部電極が形成された
半導体素子と、前記外部電極に対向配置される複数の外
部引出電極体と、前記外部電極と前記外部引出電極体と
の間に介在され且ついづれか一方に形成された突起状電
極と、前記複数の外部引出電極体の一部、前記突起状電
極及び前記半導体素子を樹脂封止する樹脂封止体とを備
え、前記複数の外部引出電極体の先端は、前記突起電極
を介して前記半導体素子主面に重ね合わされて加圧さ
れ、この加圧された状態でこの外部引出電極体と前記外
部電極とは電気的接続が維持され且つ樹脂封止されてい
ることを特徴とする。前記外部引出体は、外部引出電極
体又は前記半導体素子が取付けられる回路基板に形成さ
れた導電層であるようにしても良い。前記半導体素子の
裏面には低弾性ゴム層が形成されているようにしても良
い。前記半導体素子の主面上に配置され、前記外部引出
電極体、突起状電極及び前記外部電極を圧接する樹脂板
を備えているようにしても良い。前記半導体素子の裏面
又はこの裏面に形成された前記低弾性ゴム層上に配置さ
れた樹脂板を備えてようにしても良い。
【0006】前記突起状電極は、Au又は低融点はんだ
からなるようにしても良い。前記樹脂板と前記樹脂封止
体とは同じ材料からなるようにしても良い。また、本発
明の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、半導体素子主
面の外部電極又は外部引出電極体の先端に突起状電極を
形成する工程と、前記半導体素子を所定の位置に配置す
る工程と、前記外部引出電極体と前記半導体素子とを位
置整合させ、前記外部引出電極体と前記突起状電極とを
前記外部電極に重ねて加圧する工程と、前記外部引出電
極体と前記突起状電極とを前記外部電極に重ねて加圧し
た状態で、前記半導体素子、前記外部引出電極体の少な
くとも一部及び前記突起状電極を樹脂封止する工程とを
備えていることを第1の特徴とする。また、硬化した第
1の樹脂板を樹脂金型の下型の上に位置決めして載置
し、その上にさらに低弾性ゴム層及びその上の半導体素
子を順次位置決めして載置する工程と、硬化した第2の
樹脂板を前記樹脂金型の上型の内表面の所定の位置に載
置し保持する工程と、前記半導体素子主面の外部電極又
は外部引出電極体に形成した突起状電極を介して前記外
部引出電極体を前記半導体素子の外部電極に重ねる工程
と、前記第2の樹脂板が前記半導体素子と前記外部引出
電極体とを加圧するように前記上型を前記下型に合わせ
て前記樹脂金型を閉じる工程と、封止樹脂を閉じられた
前記樹脂金型に流し込んで前記外部引出電極体の一部、
前記半導体素子及び低弾性ゴム層を樹脂封止して封止樹
脂を硬化し前記外部引出電極体と前記外部電極とを電気
的に接続する工程とを備えていることを第2の特徴とす
る。
【0007】さらに、硬化した第1の樹脂板を樹脂金型
の下型の上に位置決めして載置し、その上にさらに低弾
性ゴム層及びその上の半導体素子を順次位置決めして載
置する工程と、硬化した第2の樹脂板を前記樹脂金型の
上型の内表面の所定の位置に載置し保持する工程と、外
部引出電極体に形成した低融点半田からなる突起状電極
を介して前記外部引出電極体を前記半導体素子の外部電
極に重ねる工程と、前記第2の樹脂板が前記半導体素子
と前記外部引出電極体とを加圧するように前記上型を前
記下型に合わせて前記樹脂金型を閉じる工程と、流動す
る封止樹脂を閉じられた前記樹脂金型に流し込んで前記
外部引出電極体の一部、前記半導体素子及び低弾性ゴム
層を樹脂封止して封止樹脂を硬化し前記外部引出電極体
及び前記外部電極とを電気的に接続する工程とを備え、
前記樹脂封止時の熱によって前記突起状電極と前記外部
電極とを接合することを第3の特徴とする。
【0008】
【作用】外部引出電極体が樹脂封止体中で突起状電極を
介して半導体素子の外部電極に重ねられ加圧されて電気
的接続がなされることにより、外部引出電極体と半導体
素子の外部電極との安定した電気的接続が可能になる。
また、樹脂封止体中において半導体素子の外部電極又は
外部引出電極体先端に突起状電極を形成しておき、外部
引出電極体と突起状電極を半導体素子主面の外部電極に
重ねて加圧しながら樹脂封止を行い外部引出電極体と外
部電極との電気的接続を行うことにより、1工程で従来
のマウント工程、ワイヤボンディング工程、さらにはリ
ードフォーミング工程などを行うことができる。また、
樹脂封止時に低弾性ゴムで半導体素子に常時押し付ける
応力を残すことによって接触のみの電気的接続力を向上
させ、かつ、熱履歴を1回に抑えることができるので、
有機樹脂脂肪分からの汚染物質を減らし、半導体素子と
封止樹脂との密着性が向上し耐リフロークラック性が良
好になる。樹脂板は、外部引出電極体、半導体素子、低
弾性ゴム層を樹脂封止体に確実に密閉することを可能に
することができる。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。まず、図1乃至図4を用いて第1の実施例を説明
する。図1は、樹脂封止型半導体装置の断面図、図2乃
至図4は、この樹脂封止型半導体装置の製造工程断面図
である。第1の実施例では、例えば、DIP(Dual Inl
ine Package)型の半導体装置について説明する。半導体
素子(チップ)1の主面には、その周辺部分にAlから
なる外部電極(ボンディングパッド)5が形成されてい
る。半導体素子1の裏面には低弾性材料、例えば、シリ
コーン系低弾性ゴム層11が当接されている。外部電極
5の上にはAuのような柔らかく酸化し難い金属からな
る突起状電極10が載置されており、その上にリードフ
レーム2のインナーリード部(外部引出電極体)6先端
が接触されている。この突起状電極10は、予め外部電
極5に接合されているかもしくはインナーリード部6の
先端に接合されており、組み立て時に位置整合して接触
状態を保つようになっている。この半導体素子1、イン
ナーリード部6先端、突起状電極10及びシリコーン系
低弾性ゴム層11は上下に配置された1対の硬化した樹
脂板12、12によって圧接されており、更に、例え
ば、この樹脂板12、12と同じ材料の樹脂封止体8に
よって樹脂封止されている。
【0010】樹脂封止体8は、樹脂板12、12を固定
し圧接を維持することができる。低弾性ゴム層11は、
半導体素子1を常時圧接する応力を有しており、この応
力によって、インナーリード部6と半導体素子1の外部
電極5とは突起状電極10を介して確実に電気的接続が
可能になる。次に、図2乃至図4の製造工程断面図を参
照して前記樹脂封止型半導体装置の製造工程を説明す
る。図2に示すように、この樹脂封止型半導体装置は、
樹脂金型13で組立てが行われる。樹脂金型13は、下
型15及び上型16からなり、下型15の所定の位置に
硬化したエポキシ樹脂などの樹脂板12をセットし、下
型15に形成した真空チャック17によって固定されて
いる。上型16も所定の位置に硬化したエポキシ樹脂な
どの樹脂板12を、例えば、上型16に形成した真空チ
ャック18を用いて真空吸着により保持する。さらに、
下型15の樹脂板12の上には、低弾性材料、例えば、
シリコーン系低弾性ゴム層11を載置し、このシリコー
ン系低弾性ゴム層11の上に半導体素子1を載置する。
半導体素子1、シリコーン系低弾性ゴム層11及び樹脂
板12の大きさはほぼ同じ大きさになっている。
【0011】半導体素子1の裏面は、シリコーン系低弾
性ゴム層11に接しているが、半導体素子1の主面に
は、半導体素子1に形成されている集積回路などの内部
回路に電気的に接続されているAlなどからなる外部電
極(ボンディングパッド)5が形成されており、この上
にAu球などの突起状電極10が接合されている。この
様に半導体素子1が配置された下型15にリードフレー
ム2を配置し、リードフレーム2のインナーリード部6
の先端を突起状電極10に当接するように位置決めを行
う(図2)。リードフレーム2を下型15に搭載してか
ら、硬化した樹脂板12を保持した状態で上型16を下
型15に嵌合することによって、上型16が吸着保持し
ていた樹脂板12を半導体素子1の上及びリードフレー
ム2に押し付ける。リードフレーム2のインナーリード
部6の先端は上型16の樹脂板12に強く押し付けられ
て突起状電極10との電気的接続状態が確実に維持され
る。上型16が下型15に嵌合されると両者によって形
成される空間(キャビティ)には樹脂板12、12に挟
まれた半導体素子1が位置整合されて配置される。下型
15と上型16とを合わせて樹脂金型13を閉じると、
この低弾性材料のシリコーン系低弾性ゴム層11は、圧
縮されて応力を蓄える。この実施例では、少なくとも5
0μmは圧縮するようにする。一方、このキャビティに
は外部から封止樹脂が流し込まれるゲート部14が形成
されている(図3)。
【0012】次に、キャビティ内に流動状態の封止樹脂
をゲート部14から流し込む。流れ込んだ封止樹脂は半
導体素子1の両側や樹脂板12、12間の隙間に充填さ
れ、硬化してインナーリード部6と突起状電極10との
電気的接続を確実にし、かつその状態を維持する(図
4)。ついで樹脂金型13から樹脂封止した半導体素子
1を取り出し、樹脂封止体8の周囲に露出しているリー
ドフレーム2の不要部を取り除き、アウターリード部9
を回路基板(図示せず)に取付け易いように成形して製
品を完成させる。この方法によれば、ボンディング工程
とモールド工程を一体化できるので、製造工程が簡略化
されてコスト低減や時間短縮が可能になる。また、パッ
ケージを構成する樹脂封止体及び樹脂板を同じ材料にし
ているので、パッケージとしての一体性が良く気密性が
高くなる。
【0013】次に、図5を参照して第2の実施例を説明
する。図は、半導体素子が装填された樹脂金型の断面図
である。この樹脂封止型半導体装置は、第1の実施例と
同じ構造であるが、形成される樹脂金型の構造が異な
り、この実施例では、リードフォーミング部を備えてい
る。樹脂金型13は、下型15及び上型16からなり、
下型15の所定の位置に硬化したエポキシ樹脂などの樹
脂板12をセットし、下型15に形成した真空チャック
17によって固定している。上型16も所定の位置に硬
化したエポキシ樹脂などの樹脂板12を上型16に形成
した真空チャック18を用いて真空吸着により保持す
る。下型15の樹脂板12の上には、シリコーン系低弾
性ゴム層11及び半導体素子1を順次載置する。半導体
素子1、シリコーン系低弾性ゴム層11及び樹脂板12
の大きさはほぼ同じ大きさになっている。半導体素子1
の主面には、半導体素子1に形成されている集積回路な
どの内部回路に電気的に接続されているAlなどからな
る外部電極5が形成されており、この上にAu球などの
突起状電極10が接合されている。この様に半導体素子
1が配置された下型15にリードフレーム2を配置しリ
ードフレーム2のインナーリード部6の先端を突起状電
極10に当接するように位置決めを行う。
【0014】また、インナーリード部6に連続的に接続
され、樹脂封止体から露出しているアウターリード部9
は樹脂金型13のリードフォーミング部19に装着され
る。リードフレーム2を下型15に搭載してから、硬化
した樹脂板12を保持した状態で上型16を下型15に
嵌合することによって、上型16が吸着保持していた樹
脂板12を半導体素子1の上及びリードフレーム2に押
し付ける。リードフレーム2のインナーリード部6の先
端は、上型16の樹脂板12に強く押し付けられて突起
状電極10との電気的接続状態が確実に維持される。リ
ードフォーミング部19ではフレーム上型16と下型1
5とが合わさった部分に段部が形成されており、この段
部でアウターリード部9が回路基板に取付け易い形状に
成形される。上型16が下型15に嵌合されると、両者
によって形成される空間(キャビティ)には樹脂板1
2、12に挟まれた半導体素子1が位置整合されて配置
される。下型15と上型16とを合わせて樹脂金型13
を閉じると、シリコーン系低弾性ゴム層11は、圧縮さ
れて応力を蓄える。次に、キャビティに流動状態の封止
樹脂をゲート部14から流し込む。流れ込んだ封止樹脂
は、半導体素子1の両側や樹脂板12、12間の隙間に
充填され、硬化してインナーリード部6と突起状電極1
0との電気的接続を確実にし、かつその状態を維持す
る。
【0015】次に、樹脂金型13から樹脂封止した半導
体素子1を取り出し、樹脂封止体8の周囲に露出してい
るリードフレーム2のアウターリード部以外の不要部分
を取り除いて製品を完成させる。この方法によれば、ボ
ンディング工程、モールド工程及びリードフォーミング
工程を一体化できるので、製造工程がさらに簡略化され
てコスト低減や時間短縮が可能になる。
【0016】次に、図6乃至図8を参照して第3の実施
例を説明する。図6は、樹脂封止型半導体装置の斜視
図、図7は、図6のA−A′線に沿う部分の断面図、図
8は、この半導体装置を形成する樹脂金型の断面図であ
る。図6及び図7に示すように半導体素子1の主面に
は、その周辺部分にAlなどの外部電極5が形成されて
いる。外部電極5の上にはAuのような柔らかく酸化し
難い金属からなる突起状電極10が載置されており、そ
の上にリードフレーム2のインナーリード部6先端が接
触されている。この突起状電極10は、予め外部電極5
に接合されているかもしくはインナーリード部6の先端
に接合されており、組み立て時に位置整合して接触状態
を保つようになっている。この半導体素子1、インナー
リード部6先端及び突起状電極10は、エポキシ樹脂な
どからなる樹脂封止体8によって被覆されているが、半
導体素子1の裏面は樹脂封止体8から露出している。主
面側の樹脂封止体8には溝81が形成されていてインナ
ーリード部6の先端の一部が露出している。インナーリ
ード部6の先端は突起状電極10に加圧されて電気的接
続がなされていていて、樹脂封止体8がその状態を維持
している。インナーリード部6が樹脂封止体8に十分接
触し、保持されるために、その先端部分を半導体素子1
の中心方向に長く延在させることができる。
【0017】図8は、この半導体装置を作るための樹脂
金型の断面図である。樹脂金型13には、下型15の所
定の位置に半導体素子1をセットし、下型15に形成し
た真空チャック17によってこの半導体素子1は固定さ
れている。上型16にはインナーリード部6の先端部分
が接触する部分に下型15の方向に向いた突起部20が
形成されている。半導体素子1の主面には、半導体素子
1に形成されている集積回路などの内部回路に電気的に
接続されているAlなどの外部電極5が形成されてお
り、この上にAu球などの突起状電極10が接合されて
いる。このように半導体素子1が配置された下型15に
リードフレーム2を配置しリードフレーム2のインナー
リード部6の先端を突起状電極10に当接するように位
置決めを行う。リードフレーム2を下型15に搭載して
から、上型16を下型15に嵌合することによって、上
型16の突起部20は、半導体素子1の主面の外部電極
5及び突起状電極10を圧接する。リードフレーム2の
インナーリード部6の先端は上型16の突起部20に強
く押し付けられて突起状電極10との電気的接続状態が
確実に維持される。上型16が下型15に嵌合される
と、両者によって形成されるキャビティには半導体素子
1が位置整合されて配置される。次に、キャビティに流
動状態の封止樹脂をゲート部14から流し込む。
【0018】流れ込んだ封止樹脂は、キャビティの隙間
に充填され、硬化してインナーリード部6と突起状電極
10との電気的接続を確実にし、かつその状態を維持す
る。次に、樹脂金型13から樹脂封止した半導体素子1
を取り出し樹脂封止体8の周囲に露出しているリードフ
レーム2のアウターリード部の不要部分を取り除き、リ
ードフォーミングを行って製品を完成させる。この方法
によれば、ボンディング工程及びモールド工程を一体化
できるので、製造工程が簡略化されてコスト低減や時間
短縮が可能になる。
【0019】次に、図9及び図10を参照して第4の実
施例を説明する。図9は、この半導体装置を形成する樹
脂金型の断面図、図10は、樹脂封止型半導体装置の斜
視図である。半導体素子1主面のAlなどの外部電極5
の上に載置されたAuなどの突起状電極10の上にリー
ドフレーム2のインナーリード部6先端を重ねる。この
突起状電極10は、予め外部電極5かインナーリード部
6の先端に接合されており、組み立て時に位置整合して
接触状態を保つようになっている。この半導体素子1及
び突起状電極10は、エポキシ樹脂などの樹脂封止体8
によって被覆されているが、半導体素子1の裏面、イン
ナーリード部6及びアウターリード部9は、樹脂封止体
8から露出している。インナーリード部6の先端は突起
状電極10に加圧されて電気的接続がなされていてい
て、樹脂封止体8がその状態を維持している。この樹脂
封止型半導体装置を形成する樹脂金型13には、所定の
位置に半導体素子1がセットされる下型15を有し、真
空チャック17によってこの半導体素子1は固定されて
いる。上型16を下型15に嵌合することによって、上
型16が半導体素子1の主面の外部電極5及び突起状電
極10を圧接する。インナーリード部6の先端は、上型
16に強く押し付けられて突起状電極10との電気的接
続状態が確実に維持される。
【0020】上型16と下型15とによって形成される
キャビティに流動状態の封止樹脂をゲート部14から流
し込む。流れ込んだ封止樹脂は、キャビティの隙間に充
填され、硬化してインナーリード部6と突起状電極10
との電気的接続を確実にし、かつその状態を維持する。
次に、樹脂金型13から樹脂封止した半導体素子1を取
り出し、樹脂封止体8の周囲に露出しているリードフレ
ーム2のアウターリード部の不要部分を取り除き、リー
ドフォーミングを行って製品を完成させる。この方法に
よれば、ボンディング工程及びモールド工程を一体化で
きるので、製造工程が簡略化されてコスト低減や時間短
縮が可能になる。
【0021】次に、図11乃至図13を参照して第5の
実施例を説明する。図11は、樹脂封止型半導体装置内
部の半導体素子を示す透視平面図、図12は、図11に
示すA−A′線に沿う部分の断面図、図13は、この半
導体装置を形成する樹脂金型の断面図である。前述の第
1〜第4の実施例では外部回路に半導体素子を電気的接
続する手段にリードフレームを利用したが、半導体素子
を回路基板に取付ける前記手段は、リードフレームの利
用に限らず、メモリカードに用いられるような突起状電
極を直接回路基板に取付ける手段もある。この実施例で
は、この突起状電極を取付け手段としている。半導体素
子1は、回路基板22に搭載されている。回路基板22
には、外部引出電極体として第1の主面に導電層25、
第2の主面(裏面)に導電層26が形成されている。導
電層25には、半導体素子1のAlなどの突起状電極2
1が接続されるようになっており、導電層26には、回
路基板22の外部回路に接続するAlなどの突起状電極
23が固着されている。導電層25は、回路基板22の
貫通孔24を介して導電層26と接続されている。半導
体素子1の突起状電極21は、主面に形成されたAlな
どの外部電極5に接続されている。半導体素子1の裏面
上にシリコーン系低弾性ゴム層11が載置され、この上
に硬化された樹脂板12が載置されている。この回路基
板22の上に半導体素子1を被覆する樹脂封止体8が形
成される。
【0022】この樹脂封止型半導体装置は、図13の樹
脂金型によって樹脂封止される。樹脂金型13は、下型
15及び上型16からなり、下型15の所定の位置に突
起状電極23を下にした回路基板22をセットする。上
型16は、所定の位置に硬化したエポキシ樹脂などの樹
脂板12をこの上型16に形成した真空チャック18を
用いて真空吸着により保持する。樹脂板12の上には、
シリコーン系低弾性ゴム層11を予め接続しておく。回
路基板22の所定の位置に半導体素子1を載置し、半導
体素子1の上に前記シリコーン系低弾性ゴム層11を位
置決めして載置する。半導体素子1、シリコーン系低弾
性ゴム層11及び樹脂板12の大きさはほぼ同じ大きさ
になっている。上型16を下型15に嵌合することによ
って、上型16が吸着保持していた樹脂板12及びシリ
コーン系低弾性ゴム層11を半導体素子1の上に押し付
ける。突起状電極21は、下型15の回路基板22に強
く加圧されて導電層25との電気的接続状態が確実に維
持される。下型15と上型16とを合わせて樹脂金型1
3を閉じると、シリコーン系低弾性ゴム層11は、圧縮
されて応力を蓄える。この実施例では、少なくとも50
μmは圧縮するようにする。そして、樹脂金型13の内
部空間(キャビティ)に流動状態の封止樹脂をゲート部
14から流し込む。
【0023】流れ込んだ封止樹脂は、半導体素子1及び
回路基板22の間などに充填され、硬化して突起状電極
21と導電層25との電気的接続を確実にし、かつその
状態を維持する。ついで樹脂金型13から樹脂封止した
半導体素子1を取り出し、樹脂封止体8の周囲に露出し
ているリードフレーム2の不要部を取り除き、アウター
リード部9を回路基板(図示せず)に取付け易いように
成形して製品を完成させる。この方法によれば、ボンデ
ィング工程とモールド工程を一体化できるので、製造工
程が簡略化されてコスト低減や時間短縮が可能になる。
また、パッケージを構成する樹脂封止体及び樹脂板を同
じ材料にしているので、パッケージとしての一体性が良
く気密性が高くなる。
【0024】次に、図14及び図15を参照して第6の
実施例を説明する。図14は、半導体素子とリードフレ
ームとの接続を説明する半導体素子の断面図、図15
は、半導体素子の外部電極の構造を説明する半導体素子
の断面図である。前述の実施例(第1乃至第5の実施
例)では、突起状電極にAuのような柔らかく酸化し難
い金属材料を用いていたが、この実施例では、融点が1
80℃程度のSn−Pb系や融点が120℃程度のSn
−Pb−Bi系の低融点半田を用いる。この実施例では
樹脂金型で硬化される熱を利用してインナーリード部に
接続されている突起状電極を半導体素子の外部電極に接
続することに特徴がある。この実施例の発明は、前述の
実施例(第1乃至第5の実施例)にも適用することがで
きる。図14に示すように、リードフレームのインナー
リード部6の先端には突起状電極10が形成されてい
る。この突起状電極10に半導体素子1の外部電極5が
接触し、熱溶融されて両者が接合される。通常半導体素
子の外部電極、いわゆるボンディングパッドには、Al
膜が用いられているが、低融点半田にAlを接続させる
と接合部が断線したり高抵抗になったりするのでAl膜
にバリヤメタルを介在させている。図14に示す突起状
電極10の低融点半田はSn−Pb−Bi系が用いられ
る。半導体素子1の主面に形成された外部電極5は、A
l膜50が形成された直下にNiなどのバリアメタル層
51が形成される。
【0025】バリアメタル層51の材料は、Ni、T
i、Crのいづれの膜か、これらの中から選択される金
属層の複合膜から選ばれる。この外部電極には、この他
にも図15に示す構造のものも使用される。この構造
は、半導体素子1主面のAl膜50の表面をNi、T
i、Crなどのメッキ層52で被覆するように構成され
ている。例えば、図4に示すような樹脂金型に流動状態
のエポキシ樹脂などの封止樹脂を充填してから、この樹
脂を硬化する。このときの硬化温度は、190℃程度で
ある。したがって、突起状電極10の融点(約120
℃)より高いので、突起状電極10は、硬化中に溶融し
て外部電極5と接合される。この方法によれば、ボンデ
ィング工程とモールド工程を一体化できるので、製造工
程が簡略化されてコスト低減や時間短縮が可能になる。
また、インナーリード部に接合されていた突起状電極が
外部電極に接合されるので、インナーリード部の接合力
が向上する。
【0026】次に、図16を参照して第7の実施例を説
明する。樹脂金型13には、下型15の所定の位置に硬
化したエポキシ樹脂などの樹脂板12がセットされてい
て下型15に形成した真空チャック17によって固定さ
れている。その上型16には所定の位置に先端が下方に
折り曲げられたリードフレームのインナーリード部6が
上型16に形成した真空チャック18によって真空吸着
により保持されている。下型15の樹脂板12の上には
シリコーン系低弾性ゴム層11を載置し、この低弾性ゴ
ム層11の上に半導体素子1を載置する。半導体素子1
の裏面は、低弾性ゴム層11に接しているが、半導体素
子1の主面には、Alなどのボンディングパッド5が形
成されており、この上にAu球などの突起状電極10が
接合されている。この様に半導体素子1が配置された下
型15に上型16によって保持されたリードフレーム2
を配置し、リードフレーム2のインナーリード部6の先
端を突起状電極10に当接するように位置決めする。こ
の先端部分は、下方に折り曲げられているので突起状電
極10に当接したときに、上型16の圧接力によって突
起状電極10を強く押し付けるので、樹脂封止時の間こ
の接触状態を維持できる。下型15と上型16とを合わ
せて樹脂金型13を閉じると、この低弾性ゴム層11は
圧縮されて応力を蓄える。
【0027】次に、キャビティ内に流動状態の封止樹脂
をゲート部14から流し込む。流れ込んだ封止樹脂は、
半導体素子1の両側や樹脂板12とインナーリード部間
の隙間に充填され、硬化してインナーリード部6と突起
状電極10との電気的接続を確実にし、かつ、その状態
を維持する。次に、樹脂金型13から樹脂封止した半導
体素子1を取り出し、樹脂封止体8の周囲に露出してい
るリードフレーム2の不要部を取り除き、そのアウター
リード部を回路基板(図示せず)に取付け易いように成
形して製品を完成させる。この方法によれば、ボンディ
ング工程とモールド工程を一体化できるので、製造工程
が簡略化されてコスト低減や時間短縮が可能になる。以
上の実施例で使用される樹脂板は、上下1対にして用い
る必要はなく、上下いづれか一方を用いるだけでも良
い。また、低弾性ゴム層を用いる場合は、その下に樹脂
板を用いると樹脂封止体の密閉性を含む安定性が向上す
る。本発明に用いる樹脂封止体及び樹脂板は、エポキシ
樹脂、ポリイミド樹脂シリコーン樹脂などからなり、両
者は、材料が同じでも異なっていても良い。
【0028】
【発明の効果】リードが樹脂封止体中で突起状電極を介
して半導体素子の外部電極に重ねられ加圧されて電気的
接続がなされることにより、リードと半導体素子の外部
電極との安定した電気的接続が可能になる。また、樹脂
封止体中において半導体素子の外部電極又はリード先端
に突起状電極を形成しておき、リードと突起状電極を半
導体素子主面の外部電極に重ねて加圧しながら樹脂封止
を行いリードと外部電極との電気的接続を行うことによ
り、1工程で従来のマウント工程、ワイヤボンディング
工程、さらにはリードフォーミング工程などを行うこと
ができる。また、樹脂封止時に低弾性ゴムで半導体素子
に常時押し付ける応力を残すことによって接触のみの電
気的接続力を向上させ、かつ、熱履歴を1回に抑えるこ
とができるので、有機樹脂脂肪分からの汚染物質を減ら
し、半導体素子と封止樹脂との密着性が向上し耐リフロ
ークラック性が良好になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の樹脂封止型半導体装置
の断面図。
【図2】第1の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造方
法の製造工程断面図。
【図3】第1の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造方
法の製造工程断面図。
【図4】第1の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造方
法の製造工程断面図。
【図5】第2の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造に
用いる樹脂金型の断面図。
【図6】第3の実施例の樹脂封止型半導体装置の斜視
図。
【図7】図6のA−A′線に沿う部分の断面図。
【図8】図6の樹脂封止型半導体装置の製造に用いる樹
脂金型の断面図。
【図9】第4の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造に
用いる樹脂金型の断面図。
【図10】第4の実施例の樹脂封止型半導体装置の斜視
図。
【図11】第5の実施例の樹脂封止型半導体装置内部の
半導体素子を示す透視平面図。
【図12】第5の実施例の樹脂封止型半導体装置の断面
図(図11のA−A′部)。
【図13】第5の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造
に用いる樹脂金型の断面図。
【図14】第6の実施例の半導体素子の断面図。
【図15】第6の実施例の半導体素子の断面図。
【図16】第7の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造
に用いる樹脂金型の断面図。
【図17】従来の樹脂封止型半導体装置の断面図。
【符号の説明】
1・・・半導体素子、 2・・・リードフレーム、3
・・・ダイパッド部、 4・・・接着剤、 5・・
・外部電極、6・・・インナーリード部、 7・・・
ボンディングワイヤ、8・・・樹脂封止体、 9・・
・アウターリード部、10、21、23・・・突起状電
極、11・・・シリコーン系低弾性ゴム層、 12・
・・硬化された樹脂板、13・・・樹脂金型、 14
・・・ゲート部、 15・・・下型、16・・・上
型、 17、18・・・真空チャック、19・・・リ
ードフォーミング部、 20・・・上型の突起部、2
4・・・貫通孔、 25、26・・・導電層、 5
0・・・Al膜、51・・・バリアメタル層、 52
・・・メッキ層、81・・・樹脂封止体の溝

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主面に複数の外部電極が形成された半導
    体素子と、 前記外部電極に対向配置される複数の外部引出電極体
    と、 前記外部電極と前記外部引出電極体との間に介在され、
    且ついづれか一方に形成された突起状電極と、 前記複数の外部引出電極体の一部、前記突起状電極及び
    前記半導体素子を樹脂封止する樹脂封止体とを備え、 前記複数の外部引出電極体は、前記突起電極を介して前
    記半導体素子主面に重ね合わされて加圧され、この加圧
    された状態でこの外部引出電極体と前記外部電極とは電
    気的接続が維持され且つ樹脂封止されていることを特徴
    とする樹脂封止型半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記外部引出電極体がリード又は前記半
    導体素子が取り付けられる回路基板に形成された導電層
    であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型装
    置。
  3. 【請求項3】 前記半導体素子の裏面には低弾性ゴム層
    が形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項
    2に記載の樹脂封止型半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記半導体素子の主面上に配置され、前
    記外部引出電極体、突起状電極及び前記外部電極を圧接
    する樹脂板を備えていることを特徴とする請求項1乃至
    請求項3のいづれかに記載の樹脂封止型半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記半導体素子の裏面又はこの裏面に形
    成された前記低弾性ゴム層上に配置された樹脂板を備え
    ていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいづれ
    かに記載の樹脂封止型半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記突起状電極は、Au又は低融点はん
    だからなることを特徴とする請求項1乃至請求項5のい
    づれかに記載の樹脂封止型半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記樹脂板と前記樹脂封止体とは同じ材
    料からなることを特徴とする請求項4又は請求項5のい
    づれかに記載の樹脂封止型半導体装置。
  8. 【請求項8】 半導体素子主面の外部電極又は外部引出
    電極体の先端に突起状電極を形成する工程と、 前記半導体素子を所定の位置に配置する工程と、 前記外部引出電極体と前記半導体素子とを位置整合さ
    せ、前記外部引出電極体と前記突起状電極とを前記外部
    電極に重ねて加圧する工程と、 前記外部引出電極体と前記突起状電極とを前記外部電極
    に重ねて加圧した状態で、前記半導体素子、前記外部引
    出電極体の少なくとも一部及び前記突起状電極を樹脂封
    止する工程とを備えていることを特徴とする樹脂封止型
    半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 硬化した第1の樹脂板を樹脂金型の下型
    の上に位置決めして載置し、その上にさらに低弾性ゴム
    層及びその上の半導体素子を順次位置決めして載置する
    工程と、 硬化した第2の樹脂板を前記樹脂金型の上型の内表面の
    所定の位置に載置し保持する工程と、 前記半導体素子主面の外部電極又は外部引出電極体に形
    成した突起状電極を介して前記外部引出電極体を前記半
    導体素子の外部電極に重ねる工程と、 前記第2の樹脂板が前記半導体素子と前記外部引出電極
    体とを加圧するように前記上型を前記下型に合わせて前
    記樹脂金型を閉じる工程と、 封止樹脂を閉じられた前記樹脂金型に流し込むことによ
    り前記外部引出電極体の一部、前記半導体素子及び低弾
    性ゴム層を樹脂封止して封止樹脂を硬化し前記外部引出
    電極体と前記外部電極とを電気的に接続する工程とを備
    えていることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造
    方法。
  10. 【請求項10】 硬化した第1の樹脂板を樹脂金型の下
    型の上に位置決めして載置し、その上にさらに低弾性ゴ
    ム層及びその上の半導体素子を順次位置決めして載置す
    る工程と、 硬化した第2の樹脂板を前記樹脂金型の上型の内表面の
    所定の位置に載置し保持する工程と、 外部引出電極体に形成した低融点半田からなる突起状電
    極を介して前記外部引出電極体を前記半導体素子の外部
    電極に重ねる工程と、 前記第2の樹脂板が前記半導体素子と前記外部引出電極
    体とを加圧するように前記上型を前記下型に合わせて前
    記樹脂金型を閉じる工程と、 流動する封止樹脂を閉じられた前記樹脂金型に流し込ん
    で前記外部引出電極体の一部、前記半導体素子及び低弾
    性ゴム層を樹脂封止して封止樹脂を硬化し前記外部引出
    電極体及び前記外部電極とを電気的に接続する工程とを
    備え、 前記樹脂封止時の熱によって前記突起状電極と前記外部
    電極とを接合することを特徴とする樹脂封止型半導体装
    置の製造方法。
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