JPH0827897B2 - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0827897B2 JPH0827897B2 JP63055161A JP5516188A JPH0827897B2 JP H0827897 B2 JPH0827897 B2 JP H0827897B2 JP 63055161 A JP63055161 A JP 63055161A JP 5516188 A JP5516188 A JP 5516188A JP H0827897 B2 JPH0827897 B2 JP H0827897B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- alloy film
- film
- ferrite
- head
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はVTR等の磁気ヘッドに関するものである。
従来の技術 従来より磁気ギャップ近傍にFe−Si−Al（センダス
ト）合金やCo−Nb−Zr等の非晶質合金を用い、バックコ
アにMn−Znフェライトを用いた謂ゆるメタルインギャッ
プ（MIG）ヘッドが用いられている。これは飽和磁束密
度（４πMs）の高い金属磁性合金膜をスパッター法等の
蒸着法によりフェライトコア上に形成し、金属膜部が磁
気ギャップ近傍に位置するような構成のヘッドとする事
によりフェライト単体より成る磁気ヘッドに比べて主に
記録特性の改善をはかろうとするものである。第１図に
このようなMIGタイプヘッドの一例として最も単純な構
成のもののヘッド前面図を示す。図中１はフェライトバ
ックコア、２は金属磁性合金膜、３はSiO2等より成る磁
気ギャップ部、４はコア接合用ガラス部である。
ト）合金やCo−Nb−Zr等の非晶質合金を用い、バックコ
アにMn−Znフェライトを用いた謂ゆるメタルインギャッ
プ（MIG）ヘッドが用いられている。これは飽和磁束密
度（４πMs）の高い金属磁性合金膜をスパッター法等の
蒸着法によりフェライトコア上に形成し、金属膜部が磁
気ギャップ近傍に位置するような構成のヘッドとする事
によりフェライト単体より成る磁気ヘッドに比べて主に
記録特性の改善をはかろうとするものである。第１図に
このようなMIGタイプヘッドの一例として最も単純な構
成のもののヘッド前面図を示す。図中１はフェライトバ
ックコア、２は金属磁性合金膜、３はSiO2等より成る磁
気ギャップ部、４はコア接合用ガラス部である。
発明が解決しようとする課題 しかしながらこのような構成のヘッドの金属部コア２
にFe−Si−Al系合金やCo−Nb−Zr等の従来よりヘッドコ
ア材として用いられているものを用いるとフェライトコ
ア部と合金膜コア部の界面、即ち図中1,2の界面が磁気
ギャップ部３と平行である為に擬似ギャップとなってヘ
ッド特性を損う問題点がある。従ってこの問題点を解決
する為に第２図に示したようなヘッドが考案され使用さ
れている。同図中１はフェライトバックコア部、２は金
属磁性合金膜、３は磁気ギャップ部、４は接合ガラス部
である。図中ａではフェライトと合金膜部の界面が磁気
ギャップに対して斜めとなる事により、又ｂではフェラ
イトと合金膜部の界面を波状とする事により、上述の擬
似ギャップの問題を避けている。しかしながら同図ａの
ような構成のヘッドを作製する場合には合金膜部が斜め
になっている為、ヘッドトラック幅の規制が難しく製造
上の歩留りを下げる原因となっている。又同図ｂのよう
な構成のヘッドを作製する場合には、上述のフェライト
コアに波状加工が必要で、工程が増える欠点と、トラッ
ク幅が狭いものほど加工が困難となる問題点があった。
にFe−Si−Al系合金やCo−Nb−Zr等の従来よりヘッドコ
ア材として用いられているものを用いるとフェライトコ
ア部と合金膜コア部の界面、即ち図中1,2の界面が磁気
ギャップ部３と平行である為に擬似ギャップとなってヘ
ッド特性を損う問題点がある。従ってこの問題点を解決
する為に第２図に示したようなヘッドが考案され使用さ
れている。同図中１はフェライトバックコア部、２は金
属磁性合金膜、３は磁気ギャップ部、４は接合ガラス部
である。図中ａではフェライトと合金膜部の界面が磁気
ギャップに対して斜めとなる事により、又ｂではフェラ
イトと合金膜部の界面を波状とする事により、上述の擬
似ギャップの問題を避けている。しかしながら同図ａの
ような構成のヘッドを作製する場合には合金膜部が斜め
になっている為、ヘッドトラック幅の規制が難しく製造
上の歩留りを下げる原因となっている。又同図ｂのよう
な構成のヘッドを作製する場合には、上述のフェライト
コアに波状加工が必要で、工程が増える欠点と、トラッ
ク幅が狭いものほど加工が困難となる問題点があった。
課題を解決するための手段 金属合金膜部に次式で示された組成を有するものを用
いる。
いる。
TxMyNz ………（１） ただしＴはFe,Co,Ni,Mnより成る群から選択された少
なくとも１種の金属、ＭはNb,Zr,Ti,Ta,Hf,Cr,Moより成
る群から選択された少くとも１種の金属、ＮはＮ（窒
素）であって、x,y,zは原子パーセントを表わしそれぞ
れ 65ｘ94 ………（２） 5ｙ25 ………（３） 3ｚ20 ………（４） ｘ＋ｙ＋ｚ＝100 ………（５） である。
なくとも１種の金属、ＭはNb,Zr,Ti,Ta,Hf,Cr,Moより成
る群から選択された少くとも１種の金属、ＮはＮ（窒
素）であって、x,y,zは原子パーセントを表わしそれぞ
れ 65ｘ94 ………（２） 5ｙ25 ………（３） 3ｚ20 ………（４） ｘ＋ｙ＋ｚ＝100 ………（５） である。
作用 上記の構成においては、金属合金膜部に特殊な窒化合
金膜を用いる事により、フェライトコア部と窒化合金膜
部の界面が磁気ギャップ部と平行であるにもかかわらず
擬似ギャップが生じにくい効果を利用し、単純で量産に
適したMIGタイプを可能とする。
金膜を用いる事により、フェライトコア部と窒化合金膜
部の界面が磁気ギャップ部と平行であるにもかかわらず
擬似ギャップが生じにくい効果を利用し、単純で量産に
適したMIGタイプを可能とする。
（２），（３）式において ｘ94,5ｙ ………（６） は合金膜が軟磁性を示すのに必要な条件、又 65x,y25 ………（７） は合金膜が十分に高い飽和磁束密度を有するのに必要な
条件であり、（４）式において ３ｚ ………（８） は擬似ギャップ効果の低減に必要な条件であり ｚ20 は合金膜の内部ストレスをあまり大きくしない為と、飽
和磁化を低下させない為に必要な条件である。
条件であり、（４）式において ３ｚ ………（８） は擬似ギャップ効果の低減に必要な条件であり ｚ20 は合金膜の内部ストレスをあまり大きくしない為と、飽
和磁化を低下させない為に必要な条件である。
又この窒化合金膜の軟磁気特性を更に改善しようとす
れば、膜厚方向即ち製膜方向に組成変調された窒化合金
膜 ＴＭＮ ………（９） を用いる事が望ましい。ただしT,M,Nは（１）式記載の
ものと同じであり、，，は膜厚方向に変動するそ
れぞれの構成元素の組成の平均で原子パーセントで 6594 ………（10） 525 ………（11） 320 ………（12） ＋＋＝100 ………（13） であり、限定理由は（２），（３），（４），（５）の
場合と同様である。このような組成変調膜は優れた軟磁
性を示し、窒化層と非窒化層よりなる多層膜を形成し熱
処理する事によって得られる事が知られている。本発明
者らは、これらの窒化合金膜を用いてMIGタイプの磁気
ヘッドを構成しても、上式で示したように、ｚもしくは
が３原子％以上の場合はフェライトコア部と合金膜部
の界面が磁気ギャップ部と平行の場合でも擬似ギャップ
の問題を低減する事が可能である事を見い出した。
れば、膜厚方向即ち製膜方向に組成変調された窒化合金
膜 ＴＭＮ ………（９） を用いる事が望ましい。ただしT,M,Nは（１）式記載の
ものと同じであり、，，は膜厚方向に変動するそ
れぞれの構成元素の組成の平均で原子パーセントで 6594 ………（10） 525 ………（11） 320 ………（12） ＋＋＝100 ………（13） であり、限定理由は（２），（３），（４），（５）の
場合と同様である。このような組成変調膜は優れた軟磁
性を示し、窒化層と非窒化層よりなる多層膜を形成し熱
処理する事によって得られる事が知られている。本発明
者らは、これらの窒化合金膜を用いてMIGタイプの磁気
ヘッドを構成しても、上式で示したように、ｚもしくは
が３原子％以上の場合はフェライトコア部と合金膜部
の界面が磁気ギャップ部と平行の場合でも擬似ギャップ
の問題を低減する事が可能である事を見い出した。
実施例 以下本発明の効果を具体的実施例により説明を行な
う。
う。
＜実施例１＞ スパッタ法によりMn−Znフェライト基板上に厚さ10μ
ｍのFe−Si−Al（センダスト）合金膜及びCo85Nb10Zr5
非晶質合金膜を形成し、第１図に示したようにMIGタイ
プ磁気ヘッドを作製した。次にターゲットにCo−Nb−Zr
合金板を用い、N2ガスを分圧比で1.5％及び、２％含むA
rガスを用いてスパッタする事により膜組成で なる厚さ10μｍの窒化合金膜を同様にMn−Znフェライト
基板上に形成し第１図に示したようなMIGタイプの磁気
ヘッドを作製した。更に同上のターゲットを用い、スパ
ッタ中にArガス中にN2ガスを周期的に混合する事により
Co−Nb−Zr−N/Co−Nb−Zrなる窒化層と非窒化層より成
る総厚10μｍの多層膜をMn−Znフェライト基板上に形成
した後、520℃で熱処理し膜厚方向に形成が変調されて
いる窒化合金膜とした。この時スパッタ時のN2ガス分圧
比、及びN2混合Arガス中とArガス中のみでのスパッタ時
間を制御する事により、平均膜組成として で組成変調波長が約400Åの三種類の組成変調窒化合金
膜を得た。これらを用いて同様に第１図に示したような
MIGタイプの磁気ヘッドを作製した。
ｍのFe−Si−Al（センダスト）合金膜及びCo85Nb10Zr5
非晶質合金膜を形成し、第１図に示したようにMIGタイ
プ磁気ヘッドを作製した。次にターゲットにCo−Nb−Zr
合金板を用い、N2ガスを分圧比で1.5％及び、２％含むA
rガスを用いてスパッタする事により膜組成で なる厚さ10μｍの窒化合金膜を同様にMn−Znフェライト
基板上に形成し第１図に示したようなMIGタイプの磁気
ヘッドを作製した。更に同上のターゲットを用い、スパ
ッタ中にArガス中にN2ガスを周期的に混合する事により
Co−Nb−Zr−N/Co−Nb−Zrなる窒化層と非窒化層より成
る総厚10μｍの多層膜をMn−Znフェライト基板上に形成
した後、520℃で熱処理し膜厚方向に形成が変調されて
いる窒化合金膜とした。この時スパッタ時のN2ガス分圧
比、及びN2混合Arガス中とArガス中のみでのスパッタ時
間を制御する事により、平均膜組成として で組成変調波長が約400Åの三種類の組成変調窒化合金
膜を得た。これらを用いて同様に第１図に示したような
MIGタイプの磁気ヘッドを作製した。
以上のようにして作製した種々の磁気ヘッドを通常の
VTRデッキに取り付け、メタルテープを用いてそれらの
特性比較を行なった。なお、どのヘッドも磁気ギャップ
とトラック幅はそれぞれ0.25μｍ及び20μｍに統一した
結果を以下に示す。
VTRデッキに取り付け、メタルテープを用いてそれらの
特性比較を行なった。なお、どのヘッドも磁気ギャップ
とトラック幅はそれぞれ0.25μｍ及び20μｍに統一した
結果を以下に示す。
表−１に示した実験結果より明らかなように本発明構
成の磁気ヘッドにおいては、擬似ギャップの影響により
生ずる再生出力のうねりが低減し、従来例での問題点が
大幅に改善されている事がわかる。又単層の窒化合金膜
を用いるよりも組成変調窒化合金膜を用いた法が再生出
力上有利である事が表−１中D,Eの比較よりわかる。
成の磁気ヘッドにおいては、擬似ギャップの影響により
生ずる再生出力のうねりが低減し、従来例での問題点が
大幅に改善されている事がわかる。又単層の窒化合金膜
を用いるよりも組成変調窒化合金膜を用いた法が再生出
力上有利である事が表−１中D,Eの比較よりわかる。
この他にターゲット及びスパッタガス中のN2分圧をか
えて（１）式もしくは（９）式で示される窒化合金膜を
作製しそれらを用いて第１図で示すようなMIGタイプヘ
ッドを作製したところほぼ同様の効果がある事がわかっ
た。
えて（１）式もしくは（９）式で示される窒化合金膜を
作製しそれらを用いて第１図で示すようなMIGタイプヘ
ッドを作製したところほぼ同様の効果がある事がわかっ
た。
このように同様の結果が得られるのは窒素を含む
（１）式もしくは（９）式で示された合金膜中の活性な
Nb,Zr,Ti,Hf……等が選択的に窒化し安定になって界面
のフェライト膜との反応が押えられ擬似ギャップが生ず
るのが防がれていると思われる。実際実施例１の表−１
中の窒素を含まない合金膜Ｂの場合、合金膜との界面の
フェライトが酸素をうばわれ変質している事が実験より
わかった。
（１）式もしくは（９）式で示された合金膜中の活性な
Nb,Zr,Ti,Hf……等が選択的に窒化し安定になって界面
のフェライト膜との反応が押えられ擬似ギャップが生ず
るのが防がれていると思われる。実際実施例１の表−１
中の窒素を含まない合金膜Ｂの場合、合金膜との界面の
フェライトが酸素をうばわれ変質している事が実験より
わかった。
発明の効果 本発明構成の磁気ヘッドは、MIGヘッド特有の擬似ギ
ャップの問題が少なく、量産性に富んだ単純な構造のMI
Gタイプヘッドを可能とするものである。
ャップの問題が少なく、量産性に富んだ単純な構造のMI
Gタイプヘッドを可能とするものである。
第１図は単純な構造のMIGタイプの磁気ヘッドの一例を
示す正面図、第２図は従来例のMIGタイプの磁気ヘッド
を示す正面図である。 １……フェライトバックコア、２……合金膜、 ３……磁気ギャップ、４……接合ガラス。
示す正面図、第２図は従来例のMIGタイプの磁気ヘッド
を示す正面図である。 １……フェライトバックコア、２……合金膜、 ３……磁気ギャップ、４……接合ガラス。
Claims (2)
- 【請求項１】バックコアがフェライトより成り、磁気ギ
ャップ近傍が次式で示された組成の磁性合金膜 TxMyNz で構成され、該フェライトと該磁性合金膜の界面が該磁
気ギャップと本質的に平行であることを特徴とする磁気
ヘッド。 （ただしＴはCo,Fe,Ni,Mnより成る群から選択された少
なくとも１種の金属、ＭはNb、Zr、Ti、Ta、Hf、Cr、
Ｗ、Moから選択された少なくとも１種の金属、ＮはＮ
（窒素）であって、x,y,zは原子パーセントを表わし、
それぞれ 65≦ｘ≦94 5≦ｙ≦25 3≦ｚ≦20 ｘ＋ｙ＋ｚ＝100である） - 【請求項２】磁気ギャップ近傍の磁性合金薄膜が製膜方
向に組成変調されており次式で示された平均組成 ＴＭＮ 有する事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
ヘッド。 （ただしＴはCo,Fe,Ni,Mnより成る群から選択された少
なくとも１種の金属、ＭはNb、Zr、Ti、Ta、Hf、Cr、
Ｗ、Moより成る群から選択された少なくとも１種の金
属、ＮはＮ（窒素）であって、膜全体の平均組成が、
，，は原子パーセントで 65≦≦94,5≦≦25,3≦≦20 ＋＋＝100である）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63055161A JPH0827897B2 (ja) | 1988-03-09 | 1988-03-09 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63055161A JPH0827897B2 (ja) | 1988-03-09 | 1988-03-09 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01229408A JPH01229408A (ja) | 1989-09-13 |
| JPH0827897B2 true JPH0827897B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=12991017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63055161A Expired - Lifetime JPH0827897B2 (ja) | 1988-03-09 | 1988-03-09 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827897B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6183568B1 (en) | 1989-01-26 | 2001-02-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing a magnetic thin film |
| US5772797A (en) | 1989-01-26 | 1998-06-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Soft magnetic thin film, method for preparing same and magnetic head |
| JP2866911B2 (ja) * | 1989-02-15 | 1999-03-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気ヘッド |
| JP2698813B2 (ja) | 1989-04-03 | 1998-01-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 軟磁性薄膜 |
| DE69117362T2 (de) * | 1990-07-13 | 1996-07-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Zusammengesetzter Magnetkopf |
| JPH04106706A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH04141809A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 滋気ヘッド |
| JPH04147408A (ja) * | 1990-10-11 | 1992-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH04195707A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH04205804A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| US5917682A (en) * | 1996-09-09 | 1999-06-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head and manufacturing method therefor |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60234210A (ja) * | 1984-05-04 | 1985-11-20 | Hitachi Ltd | 非晶質磁性合金を用いた磁気ヘツド |
| JPS62210607A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-09-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 軟磁性合金膜及びその形成法 |
-
1988
- 1988-03-09 JP JP63055161A patent/JPH0827897B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01229408A (ja) | 1989-09-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |