JPH08268781A - サーマルヘッド用グレーズド基板の製造方法 - Google Patents
サーマルヘッド用グレーズド基板の製造方法Info
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- JPH08268781A JPH08268781A JP7286595A JP7286595A JPH08268781A JP H08268781 A JPH08268781 A JP H08268781A JP 7286595 A JP7286595 A JP 7286595A JP 7286595 A JP7286595 A JP 7286595A JP H08268781 A JPH08268781 A JP H08268781A
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- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
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- C04B2111/00844—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 for electronic applications
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラスグレーズ層の表面精度及びグレーズ層
の厚さ精度を著しく向上し得る。 【構成】 本発明の製造方法は、セラミック基板１０の
表面を研磨する工程と、研磨したセラミック基板１０の
表面の所定の箇所にガラスペーストを部分的（又は全面
的に）に塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ａを形成
する工程と、ガラスグレーズ層１１ａの表面を研磨する
工程と、好ましくは表面を研磨したガラスグレーズ層１
１ａを有するセラミック基板１０を９００〜１２００℃
で熱処理する工程とを含む方法である。
の厚さ精度を著しく向上し得る。 【構成】 本発明の製造方法は、セラミック基板１０の
表面を研磨する工程と、研磨したセラミック基板１０の
表面の所定の箇所にガラスペーストを部分的（又は全面
的に）に塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ａを形成
する工程と、ガラスグレーズ層１１ａの表面を研磨する
工程と、好ましくは表面を研磨したガラスグレーズ層１
１ａを有するセラミック基板１０を９００〜１２００℃
で熱処理する工程とを含む方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感熱転写式プリンタの
サーマルヘッドに用いられるグレーズド基板の製造方法
に関する。更に詳しくはセラミック基板上に全面ガラス
グレーズ層又は部分ガラスグレーズ層が形成されるグレ
ーズド基板の製造方法に関するものである。
サーマルヘッドに用いられるグレーズド基板の製造方法
に関する。更に詳しくはセラミック基板上に全面ガラス
グレーズ層又は部分ガラスグレーズ層が形成されるグレ
ーズド基板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、プリンタ、ファクシミリ等におい
てはその印字又は印画形態がモノクロからフルカラーに
移行しつつある。そのため感熱転写式プリンタではその
印字又は印画品質の向上が一段と強く要求されてきてい
る。この要求に応えるために、感熱転写式プリンタに使
用されるサーマルヘッド用グレーズド基板においては、 グレーズ層表面が平滑でうねりがないこと、グレー
ズ層の厚さに関して基板上でバラツキが小さいこと等が
特性上極めて重要になる。上記及びを達成すること
によって、グレーズ層上に設けられる発熱抵抗体から熱
を均等に感熱紙や転写紙に伝達することができる。即
ち、感熱紙或いは転写紙に鮮明な文字又は画像を印刷す
ることができる。
てはその印字又は印画形態がモノクロからフルカラーに
移行しつつある。そのため感熱転写式プリンタではその
印字又は印画品質の向上が一段と強く要求されてきてい
る。この要求に応えるために、感熱転写式プリンタに使
用されるサーマルヘッド用グレーズド基板においては、 グレーズ層表面が平滑でうねりがないこと、グレー
ズ層の厚さに関して基板上でバラツキが小さいこと等が
特性上極めて重要になる。上記及びを達成すること
によって、グレーズ層上に設けられる発熱抵抗体から熱
を均等に感熱紙や転写紙に伝達することができる。即
ち、感熱紙或いは転写紙に鮮明な文字又は画像を印刷す
ることができる。
【０００３】一般的に、サーマルヘッド用グレーズド基
板には、グレーズ層を基板上に部分的に形成する部分的
グレーズド基板と、グレーズ層を基板全面に形成する全
面グレーズド基板がある。前者の部分的グレーズド基板
はセラミック基板上の一部にガラスペーストを印刷し焼
成することにより作製される。また後者の全面グレーズ
ド基板はセラミック基板の全面にガラスペーストを印刷
し焼成した後、更にその上の凸部を必要とする部分に同
様のガラスペーストを印刷し焼成することにより作製さ
れるか、或いはセラミック基板全面に形成されたグレー
ズ層の一部をエッチングし、熱処理することにより作製
される。
板には、グレーズ層を基板上に部分的に形成する部分的
グレーズド基板と、グレーズ層を基板全面に形成する全
面グレーズド基板がある。前者の部分的グレーズド基板
はセラミック基板上の一部にガラスペーストを印刷し焼
成することにより作製される。また後者の全面グレーズ
ド基板はセラミック基板の全面にガラスペーストを印刷
し焼成した後、更にその上の凸部を必要とする部分に同
様のガラスペーストを印刷し焼成することにより作製さ
れるか、或いはセラミック基板全面に形成されたグレー
ズ層の一部をエッチングし、熱処理することにより作製
される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法により製造されたサーマルヘッド用グレーズド基
板には、以下の欠点があった。 (ア) グレーズ層自体の厚さのバラツキに起因して、グレ
ーズ層表面にうねり、即ちピッチが大きい山や谷が生じ
たり、或いは局部的に大きな凹凸が発生する。 (イ) 結晶化による生成物、外部からの無機物付着等によ
る突起物、焼成溶融時の気泡抜け等のいわゆる欠陥によ
る凹凸がグレーズ層表面に発生する。 (ウ) ベースであるセラミック基板表面に存在する部分的
うねりに起因して、基板上のグレーズ層表面にもうねり
を生じる。 (エ) 上記(ア)〜(ウ)が複合してグレーズ層の表面平滑性が
劣る。
の方法により製造されたサーマルヘッド用グレーズド基
板には、以下の欠点があった。 (ア) グレーズ層自体の厚さのバラツキに起因して、グレ
ーズ層表面にうねり、即ちピッチが大きい山や谷が生じ
たり、或いは局部的に大きな凹凸が発生する。 (イ) 結晶化による生成物、外部からの無機物付着等によ
る突起物、焼成溶融時の気泡抜け等のいわゆる欠陥によ
る凹凸がグレーズ層表面に発生する。 (ウ) ベースであるセラミック基板表面に存在する部分的
うねりに起因して、基板上のグレーズ層表面にもうねり
を生じる。 (エ) 上記(ア)〜(ウ)が複合してグレーズ層の表面平滑性が
劣る。
【０００５】本発明の目的は、ガラスグレーズ層の表面
精度及びグレーズ層の厚さ精度を著しく向上し得るサー
マルヘッド用グレーズド基板の製造方法を提供すること
にある。
精度及びグレーズ層の厚さ精度を著しく向上し得るサー
マルヘッド用グレーズド基板の製造方法を提供すること
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】図１（ａ）〜（ｅ）に示
すように、本発明の第１の製造方法は、セラミック基板
１０の表面を研磨する工程と、研磨したセラミック基板
１０の表面の所定の箇所にガラスペーストを部分的に塗
布し焼成してガラスグレーズ層１１ａを形成する工程
と、ガラスグレーズ層１１ａの表面を研磨する工程と、
好ましくは表面を研磨したガラスグレーズ層１１ａを有
するセラミック基板１０を９００〜１２００℃で熱処理
する工程とを含む方法である。
すように、本発明の第１の製造方法は、セラミック基板
１０の表面を研磨する工程と、研磨したセラミック基板
１０の表面の所定の箇所にガラスペーストを部分的に塗
布し焼成してガラスグレーズ層１１ａを形成する工程
と、ガラスグレーズ層１１ａの表面を研磨する工程と、
好ましくは表面を研磨したガラスグレーズ層１１ａを有
するセラミック基板１０を９００〜１２００℃で熱処理
する工程とを含む方法である。
【０００７】図２（ａ）〜（ｅ）に示すように、本発明
の第２の製造方法は、セラミック基板１０の表面を研磨
する工程と、研磨したセラミック基板１０の全表面にガ
ラスペーストを塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ｂ
を形成する工程と、ガラスグレーズ層１１ｂの表面を研
磨する工程と、好ましくは表面を研磨したガラスグレー
ズ層１１ｂを有するセラミック基板１０を９００〜１２
００℃で熱処理する工程とを含む方法である。
の第２の製造方法は、セラミック基板１０の表面を研磨
する工程と、研磨したセラミック基板１０の全表面にガ
ラスペーストを塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ｂ
を形成する工程と、ガラスグレーズ層１１ｂの表面を研
磨する工程と、好ましくは表面を研磨したガラスグレー
ズ層１１ｂを有するセラミック基板１０を９００〜１２
００℃で熱処理する工程とを含む方法である。
【０００８】図３（ａ）〜（ｆ）に示すように、本発明
の第３の製造方法は、セラミック基板１０の表面を研磨
する工程と、研磨したセラミック基板１０の全表面にガ
ラスペーストを塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ｃ
を形成する工程と、ガラスグレーズ層１１ｃの表面の所
定の箇所にガラスペーストを部分的に塗布し焼成してガ
ラスグレーズ層１１ｄを形成する工程と、これらのガラ
スグレーズ層１１ｃ，１１ｄの表面を研磨する工程と、
好ましくは表面を研磨したガラスグレーズ層１１ｃ，１
１ｄを有するセラミック基板１０を９００〜１２００℃
で熱処理する工程とを含む方法である。
の第３の製造方法は、セラミック基板１０の表面を研磨
する工程と、研磨したセラミック基板１０の全表面にガ
ラスペーストを塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ｃ
を形成する工程と、ガラスグレーズ層１１ｃの表面の所
定の箇所にガラスペーストを部分的に塗布し焼成してガ
ラスグレーズ層１１ｄを形成する工程と、これらのガラ
スグレーズ層１１ｃ，１１ｄの表面を研磨する工程と、
好ましくは表面を研磨したガラスグレーズ層１１ｃ，１
１ｄを有するセラミック基板１０を９００〜１２００℃
で熱処理する工程とを含む方法である。
【０００９】図４（ａ）〜（ｆ）に示すように、本発明
の第４の製造方法は、セラミック基板１０の表面を研磨
する工程と、研磨したセラミック基板１０の全表面にガ
ラスペーストを塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ｅ
を形成する工程と、ガラスグレーズ層１１ｅの表面の所
定の部分を残して他の部分をエッチングして薄層化し、
薄層１１ｅ上に凸状のガラスグレーズ層１１ｆを形成す
る工程と、これらのガラスグレーズ層１１ｅ，１１ｆの
表面を研磨する工程と、好ましくは表面を研磨したガラ
スグレーズ層１１ｅ，１１ｆを有するセラミック基板１
０を９００〜１２００℃で熱処理する工程とを含む方法
である。
の第４の製造方法は、セラミック基板１０の表面を研磨
する工程と、研磨したセラミック基板１０の全表面にガ
ラスペーストを塗布し焼成してガラスグレーズ層１１ｅ
を形成する工程と、ガラスグレーズ層１１ｅの表面の所
定の部分を残して他の部分をエッチングして薄層化し、
薄層１１ｅ上に凸状のガラスグレーズ層１１ｆを形成す
る工程と、これらのガラスグレーズ層１１ｅ，１１ｆの
表面を研磨する工程と、好ましくは表面を研磨したガラ
スグレーズ層１１ｅ，１１ｆを有するセラミック基板１
０を９００〜１２００℃で熱処理する工程とを含む方法
である。
【００１０】本発明のセラミック基板は絶縁性基板であ
って、アルミナ、ベリリア等のセラミック基板が好まし
い。セラミック基板の研磨は、鋳鉄製又は錫合金製のラ
ップ盤に対して３〜５μｍの粒径のダイヤモンド砥粒を
用いて行われる。このダイヤモンド砥粒の代わりに＃４
００〜＃１０００程度、好ましくは＃１０００を超える
メタルボンド系ダイヤモンド砥石又はレジンボンド系ダ
イヤモンド砥石を用いることができる。ガラスペースト
は例えばＳｉＯ2の他にＣａＯ、ＢａＯ、Ｂ2Ｏ3、Ａｌ2
Ｏ3等を１種又は２種以上含むガラス微粉末にエチルセ
ルロース、テレピネオール等を添加混合して調製され
る。ガラスグレーズ層はこのガラスペーストをスクリー
ン印刷法等により塗布される。
って、アルミナ、ベリリア等のセラミック基板が好まし
い。セラミック基板の研磨は、鋳鉄製又は錫合金製のラ
ップ盤に対して３〜５μｍの粒径のダイヤモンド砥粒を
用いて行われる。このダイヤモンド砥粒の代わりに＃４
００〜＃１０００程度、好ましくは＃１０００を超える
メタルボンド系ダイヤモンド砥石又はレジンボンド系ダ
イヤモンド砥石を用いることができる。ガラスペースト
は例えばＳｉＯ2の他にＣａＯ、ＢａＯ、Ｂ2Ｏ3、Ａｌ2
Ｏ3等を１種又は２種以上含むガラス微粉末にエチルセ
ルロース、テレピネオール等を添加混合して調製され
る。ガラスグレーズ層はこのガラスペーストをスクリー
ン印刷法等により塗布される。
【００１１】ガラスグレーズ層はいずれの方法で製造す
る場合も、厚さ１０〜２５０μｍの範囲に形成されるこ
とが好ましい。特に２０〜３０μｍの範囲に形成される
ことが好ましい。厚さが１０μｍ未満では蓄熱効果に乏
しく、またアルミナとの反応拡散層による突起が生じ、
２５０μｍを超えると放熱性が十分でなくなる。第４の
製造方法におけるガラスグレーズ層１１のエッチング
は、所定の部分を残すためにガラスグレーズ層１１ｅを
レジストでマスキングした後、エッチャントとしてフッ
酸等を用いて行う。
る場合も、厚さ１０〜２５０μｍの範囲に形成されるこ
とが好ましい。特に２０〜３０μｍの範囲に形成される
ことが好ましい。厚さが１０μｍ未満では蓄熱効果に乏
しく、またアルミナとの反応拡散層による突起が生じ、
２５０μｍを超えると放熱性が十分でなくなる。第４の
製造方法におけるガラスグレーズ層１１のエッチング
は、所定の部分を残すためにガラスグレーズ層１１ｅを
レジストでマスキングした後、エッチャントとしてフッ
酸等を用いて行う。
【００１２】ガラスグレーズ層の表面研磨は、粗砥石で
研磨した後、更に仕上げ砥石で研磨する。これらはガラ
スグレーズ層の表面の形状に合ったダイヤモンド砥石を
用いることが好ましい。例えば第１、第２及び第４の製
造方法で作られた部分グレーズ層を研磨する場合には、
凸条のグレーズ層１１ａ，１１ｄ及び１１ｆの形状に相
応した凹条のダイヤモンド砥石を用いて、基板の長さ方
向に砥石を摺動する。粗研磨では＃４００〜＃１０００
程度のダイヤモンド砥粒がコーティングされたダイヤモ
ンド砥石、好ましくはダイヤモンド砥粒が＃１０００を
超えるダイヤモンド砥石が用いられ、仕上げ研磨では＃
２０００〜＃３０００程度、好ましくは＃３０００を超
えるダイヤモンド砥石が用いられる。これらに加え、更
にバフ研磨によりボリッシングすることが好ましい。こ
れらの処理によりガラスグレーズ層の表面が鏡面研磨さ
れる。研磨により生じる恐れのあるグレーズ層表面の微
小のクラック１２（図１（ｄ），図２（ｄ），図３
（ｅ），図４（ｅ）参照）や表面荒れをなくすために、
ガラス軟化点に応じて９００〜１２００℃の温度範囲で
熱処理することが好ましい。この熱処理温度は１０００
〜１１００℃程度がより好ましい。９００℃未満ではガ
ラスグレーズ層が軟化しないため上記目的を達成でき
ず、１２００℃を超えるとガラスが溶融して流下し易く
なる。
研磨した後、更に仕上げ砥石で研磨する。これらはガラ
スグレーズ層の表面の形状に合ったダイヤモンド砥石を
用いることが好ましい。例えば第１、第２及び第４の製
造方法で作られた部分グレーズ層を研磨する場合には、
凸条のグレーズ層１１ａ，１１ｄ及び１１ｆの形状に相
応した凹条のダイヤモンド砥石を用いて、基板の長さ方
向に砥石を摺動する。粗研磨では＃４００〜＃１０００
程度のダイヤモンド砥粒がコーティングされたダイヤモ
ンド砥石、好ましくはダイヤモンド砥粒が＃１０００を
超えるダイヤモンド砥石が用いられ、仕上げ研磨では＃
２０００〜＃３０００程度、好ましくは＃３０００を超
えるダイヤモンド砥石が用いられる。これらに加え、更
にバフ研磨によりボリッシングすることが好ましい。こ
れらの処理によりガラスグレーズ層の表面が鏡面研磨さ
れる。研磨により生じる恐れのあるグレーズ層表面の微
小のクラック１２（図１（ｄ），図２（ｄ），図３
（ｅ），図４（ｅ）参照）や表面荒れをなくすために、
ガラス軟化点に応じて９００〜１２００℃の温度範囲で
熱処理することが好ましい。この熱処理温度は１０００
〜１１００℃程度がより好ましい。９００℃未満ではガ
ラスグレーズ層が軟化しないため上記目的を達成でき
ず、１２００℃を超えるとガラスが溶融して流下し易く
なる。
【００１３】
【作用】従来の製造方法で得られるサーマルヘッド用グ
レーズド基板と異なり、本発明では図１〜図４に示すよ
うに、セラミック基板１０の表面を研磨することによ
り、基板の凹凸に起因した塗布後のガラスペーストの厚
さ及び焼成前のガラスグレーズ層の厚さのバラツキがそ
れぞれ小さくなる。更にその上に形成されたガラスグレ
ーズ層１１ａ〜１１ｆの表面を研磨し、或いは鏡面研磨
することにより、研磨前のガラス焼成時に起因した溶融
流動によるうねり、或いは付着した異物、結晶生成物に
よる突起、気泡抜けによる凹凸等が除去される。更に加
えて研磨後のセラミック基板を熱処理することにより、
微小なクラック、表面荒れが除去される。その結果、ガ
ラスグレーズ層の表面精度及びグレーズ層の厚さ精度が
著しく向上し、かつグレーズ層の厚さのバラツキを小さ
くできる。
レーズド基板と異なり、本発明では図１〜図４に示すよ
うに、セラミック基板１０の表面を研磨することによ
り、基板の凹凸に起因した塗布後のガラスペーストの厚
さ及び焼成前のガラスグレーズ層の厚さのバラツキがそ
れぞれ小さくなる。更にその上に形成されたガラスグレ
ーズ層１１ａ〜１１ｆの表面を研磨し、或いは鏡面研磨
することにより、研磨前のガラス焼成時に起因した溶融
流動によるうねり、或いは付着した異物、結晶生成物に
よる突起、気泡抜けによる凹凸等が除去される。更に加
えて研磨後のセラミック基板を熱処理することにより、
微小なクラック、表面荒れが除去される。その結果、ガ
ラスグレーズ層の表面精度及びグレーズ層の厚さ精度が
著しく向上し、かつグレーズ層の厚さのバラツキを小さ
くできる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに説明
する。本発明はこの実施例により制限されるものではな
い。 ＜実施例１＞この例では第２の製造方法によりサーマル
ヘッド用グレーズド基板を作製した。先ず長さ３００ｍ
ｍ、幅５０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミナ含有９６重量％
のセラミック基板を用意した。この基板の両面をＣｕ−
Ｓｎ合金の平面ラップ盤と＃８００のダイヤモンド砥粒
を用いて研磨した。次に研磨した基板の全表面にガラス
粉末［ＧＡ−１、日本電気硝子(株)製］とエチルセルロ
ース、テレピネオールを混合して調製されたガラスペー
ストを印刷塗布し乾燥した後、１１００℃で３０分間焼
成しガラスグレーズ層を得た。このガラスグレーズ層の
表面をダイヤモンド砥石で研磨した。最初に＃８００の
メタルダイヤモンド系砥石を用いて粗研磨し、次いで＃
３０００のレジンダイヤモンド系砥石を用いて仕上げ研
磨した。研磨後のガラスグレーズ層の表面には少量の微
小のクラックがあったため、これを解消するために、更
に大気圧下、１０００℃の温度で熱処理を施し、サンプ
ルＡを得た。
する。本発明はこの実施例により制限されるものではな
い。 ＜実施例１＞この例では第２の製造方法によりサーマル
ヘッド用グレーズド基板を作製した。先ず長さ３００ｍ
ｍ、幅５０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミナ含有９６重量％
のセラミック基板を用意した。この基板の両面をＣｕ−
Ｓｎ合金の平面ラップ盤と＃８００のダイヤモンド砥粒
を用いて研磨した。次に研磨した基板の全表面にガラス
粉末［ＧＡ−１、日本電気硝子(株)製］とエチルセルロ
ース、テレピネオールを混合して調製されたガラスペー
ストを印刷塗布し乾燥した後、１１００℃で３０分間焼
成しガラスグレーズ層を得た。このガラスグレーズ層の
表面をダイヤモンド砥石で研磨した。最初に＃８００の
メタルダイヤモンド系砥石を用いて粗研磨し、次いで＃
３０００のレジンダイヤモンド系砥石を用いて仕上げ研
磨した。研磨後のガラスグレーズ層の表面には少量の微
小のクラックがあったため、これを解消するために、更
に大気圧下、１０００℃の温度で熱処理を施し、サンプ
ルＡを得た。
【００１５】＜比較例１＞実施例１と同じセラミック基
板を用意した。この基板の表面を研磨せずに実施例１と
同じガラスペーストを用いて実施例１と同様にガラスグ
レーズ層を形成してサンプルＢとした。サンプルＢでは
ガラスグレーズ層の表面は研磨せず、熱処理も施さなか
った。
板を用意した。この基板の表面を研磨せずに実施例１と
同じガラスペーストを用いて実施例１と同様にガラスグ
レーズ層を形成してサンプルＢとした。サンプルＢでは
ガラスグレーズ層の表面は研磨せず、熱処理も施さなか
った。
【００１６】＜評価＞実施例１のサンプルＡと比較例１
のサンプルＢのサーマルヘッド用グレーズド基板として
の性能を調べた。その結果を表１に示す。なお、グレー
ズ層の表面うねり、グレーズ層の表面粗さ及びグレーズ
層の全厚のバラツキは表面粗さ計によりそれぞれ調べ
た。その他のグレーズ層表面の欠陥は目視及び光学顕微
鏡によりそれぞれ調べた。
のサンプルＢのサーマルヘッド用グレーズド基板として
の性能を調べた。その結果を表１に示す。なお、グレー
ズ層の表面うねり、グレーズ層の表面粗さ及びグレーズ
層の全厚のバラツキは表面粗さ計によりそれぞれ調べ
た。その他のグレーズ層表面の欠陥は目視及び光学顕微
鏡によりそれぞれ調べた。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１から明らかなように、実施例１のサン
プルＡは比較例１のサンプルＢと比較して、グレーズ層
の表面うねり及び表面平均粗さはそれぞれ１０分の１以
下であった。また実施例１のサンプルＡの全厚のバラツ
キは比較例１のサンプルＢの５〜１０分の１であった。
更に比較例１のサンプルＢには多数の表面欠陥があった
のに対して、実施例１のサンプルＡでは皆無であった。
プルＡは比較例１のサンプルＢと比較して、グレーズ層
の表面うねり及び表面平均粗さはそれぞれ１０分の１以
下であった。また実施例１のサンプルＡの全厚のバラツ
キは比較例１のサンプルＢの５〜１０分の１であった。
更に比較例１のサンプルＢには多数の表面欠陥があった
のに対して、実施例１のサンプルＡでは皆無であった。
【００１９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の製造方法に
よれば、セラミック基板の表面を研磨し、更にその上に
形成されたガラスグレーズ層の表面を研磨し、或いは鏡
面研磨することにより、ガラスグレーズ層の表面精度及
びグレーズ層の厚さ精度を著しく向上することができ
る。本発明の方法により作られたグレーズド基板上に発
熱抵抗体を形成して回路形成した後、このサーマルヘッ
ドで印字又は印画すると、サーマルヘッドからの熱が感
熱紙、転写紙に均等に伝達され、鮮明な濃淡色むらのな
い印字又は画像が得られる。
よれば、セラミック基板の表面を研磨し、更にその上に
形成されたガラスグレーズ層の表面を研磨し、或いは鏡
面研磨することにより、ガラスグレーズ層の表面精度及
びグレーズ層の厚さ精度を著しく向上することができ
る。本発明の方法により作られたグレーズド基板上に発
熱抵抗体を形成して回路形成した後、このサーマルヘッ
ドで印字又は印画すると、サーマルヘッドからの熱が感
熱紙、転写紙に均等に伝達され、鮮明な濃淡色むらのな
い印字又は画像が得られる。
【図１】本発明の第１のサーマルヘッド用グレーズド基
板の製造方法を示す図。
板の製造方法を示す図。
【図２】本発明の第２のサーマルヘッド用グレーズド基
板の製造方法を示す図。
板の製造方法を示す図。
【図３】本発明の第３のサーマルヘッド用グレーズド基
板の製造方法を示す図。
板の製造方法を示す図。
【図４】本発明の第４のサーマルヘッド用グレーズド基
板の製造方法を示す図。
板の製造方法を示す図。
１０ セラミック基板 １１ａ〜１１ｆ ガラスグレーズ層
Claims (2)
- 【請求項１】 セラミック基板(10)の表面を研磨する工
程と、 前記研磨したセラミック基板(10)の表面にガラスペース
トを塗布し焼成してガラスグレーズ層(11a)を形成する
工程と、 前記ガラスグレーズ層(11a)の表面を研磨する工程とを
含むサーマルヘッド用グレーズド基板の製造方法。 - 【請求項２】 表面を研磨したガラスグレーズ層(11a)
を有するセラミック基板(10)を９００〜１２００℃で熱
処理する工程を更に含む請求項１記載のサーマルヘッド
用グレーズド基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7286595A JPH08268781A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | サーマルヘッド用グレーズド基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7286595A JPH08268781A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | サーマルヘッド用グレーズド基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08268781A true JPH08268781A (ja) | 1996-10-15 |
Family
ID=13501666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7286595A Pending JPH08268781A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | サーマルヘッド用グレーズド基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08268781A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005126322A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-05-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 薄膜電子部品用セラミック基板及びその製造方法並びにこれを用いた薄膜電子部品 |
| JP2011025417A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-10 | Seiko Instruments Inc | サーマルヘッドの製造方法、サーマルヘッドおよびプリンタ |
| JP2013071384A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Toshiba Hokuto Electronics Corp | サーマルプリントヘッドの製造方法 |
| JP2013107365A (ja) * | 2011-11-24 | 2013-06-06 | Kyocera Corp | サーマルプリンタ |
-
1995
- 1995-03-30 JP JP7286595A patent/JPH08268781A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005126322A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-05-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 薄膜電子部品用セラミック基板及びその製造方法並びにこれを用いた薄膜電子部品 |
| JP2011025417A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-10 | Seiko Instruments Inc | サーマルヘッドの製造方法、サーマルヘッドおよびプリンタ |
| JP2013071384A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Toshiba Hokuto Electronics Corp | サーマルプリントヘッドの製造方法 |
| JP2013107365A (ja) * | 2011-11-24 | 2013-06-06 | Kyocera Corp | サーマルプリンタ |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20011227 |