JPH08262255A - 光ファイバ整列装置及び光信号変更装置及び光増幅器 - Google Patents
光ファイバ整列装置及び光信号変更装置及び光増幅器Info
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- JPH08262255A JPH08262255A JP8033513A JP3351396A JPH08262255A JP H08262255 A JPH08262255 A JP H08262255A JP 8033513 A JP8033513 A JP 8033513A JP 3351396 A JP3351396 A JP 3351396A JP H08262255 A JPH08262255 A JP H08262255A
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- G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
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- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4246—Bidirectionally operating package structures
Abstract
(57)【要約】
【課題】光ファイバ相互を整列するための改良された装
置とそれを用いる光学装置の提供。 【解決手段】上部プレートと、前記光ファイバのそれぞ
れに対応する整列溝を備えた下部プレートとを備え、前
記光ファイバが、前記上部プレートによって前記整列溝
の底に押しつけられて相互に所定の位置を占めるように
前記整列溝が配置されるとともに、前記上部プレートに
よって前記光ファイバが前記整列溝に押しつけられるよ
うに、前記上部プレートと下部プレートを締め付けるた
めの手段が設けられている。これを応用して光変更装置
や光増幅器が改良される。
置とそれを用いる光学装置の提供。 【解決手段】上部プレートと、前記光ファイバのそれぞ
れに対応する整列溝を備えた下部プレートとを備え、前
記光ファイバが、前記上部プレートによって前記整列溝
の底に押しつけられて相互に所定の位置を占めるように
前記整列溝が配置されるとともに、前記上部プレートに
よって前記光ファイバが前記整列溝に押しつけられるよ
うに、前記上部プレートと下部プレートを締め付けるた
めの手段が設けられている。これを応用して光変更装置
や光増幅器が改良される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバを利用した
システムに関するものであり、とりわけ、光ファイバを
整列するための改良された装置とその応用に関するもの
である。
システムに関するものであり、とりわけ、光ファイバを
整列するための改良された装置とその応用に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】多くの用途で光伝送システムが利用され
ている。光ファイバによって、１つの地点からもう１つ
の地点に光を伝送するための低コストの方法が得られ
る。さらに、光ファイバによれば、従来の光学装置によ
って得られる直線経路より複雑な幾何学形状を有する経
路を介した伝送が可能になる。
ている。光ファイバによって、１つの地点からもう１つ
の地点に光を伝送するための低コストの方法が得られ
る。さらに、光ファイバによれば、従来の光学装置によ
って得られる直線経路より複雑な幾何学形状を有する経
路を介した伝送が可能になる。
【０００３】光学伝送システムには多くの利点がある
が、１つのファイバからの光にフィルタをかけたりその
他の処理を加えた後もう１つの光ファイバに結合しなけ
ればならない場合には、顕著に問題が生じる。光が第１
の光ファイバを出て、ある種の光学素子を通過し、その
後、第２の光ファイバ内に再結像するシステムについて
考察してみることにする。先行技術のシステムの場合、
ガラスと空気の界面からの反射が光ファイバを伝搬して
戻るのを阻止するため、第１の光ファイバの端部がある
角度で切断される。さらに、切断工程の結果生じる欠損
部分によって逆行伝搬する反射が発生するのを阻止する
ため、切断した光ファイバを研磨しなければならない。
最後に、反射をさらに抑制するため、切断し、研磨した
端部に反射防止被覆剤が施される。この方法による各切
断端部の処理コストは、光が光ファイバから出て、空気
中を通過しなければならないシステムの利用に制約を課
す。
が、１つのファイバからの光にフィルタをかけたりその
他の処理を加えた後もう１つの光ファイバに結合しなけ
ればならない場合には、顕著に問題が生じる。光が第１
の光ファイバを出て、ある種の光学素子を通過し、その
後、第２の光ファイバ内に再結像するシステムについて
考察してみることにする。先行技術のシステムの場合、
ガラスと空気の界面からの反射が光ファイバを伝搬して
戻るのを阻止するため、第１の光ファイバの端部がある
角度で切断される。さらに、切断工程の結果生じる欠損
部分によって逆行伝搬する反射が発生するのを阻止する
ため、切断した光ファイバを研磨しなければならない。
最後に、反射をさらに抑制するため、切断し、研磨した
端部に反射防止被覆剤が施される。この方法による各切
断端部の処理コストは、光が光ファイバから出て、空気
中を通過しなければならないシステムの利用に制約を課
す。
【０００４】こうしたシステムに関するもう１つの問題
は、光ファイバ間において必要とされる高度の整列から
生じるものである。単一モード光ファイバの場合、１ミ
クロンのオーダの公差で端部を整列しなければならな
い。さらに、光ファイバは、回転の視点からの制約も受
けなければならない。一方の光ファイバが空間内におい
て正しく固定されていたとしても、もう一方の光ファイ
バは、前記一方の光ファイバの固定端に対して自由度２
の回転と自由度３の空間並進が可能である。整列の正確
さが高度になると、このタイプのシステムのコストは大
幅に高騰する。
は、光ファイバ間において必要とされる高度の整列から
生じるものである。単一モード光ファイバの場合、１ミ
クロンのオーダの公差で端部を整列しなければならな
い。さらに、光ファイバは、回転の視点からの制約も受
けなければならない。一方の光ファイバが空間内におい
て正しく固定されていたとしても、もう一方の光ファイ
バは、前記一方の光ファイバの固定端に対して自由度２
の回転と自由度３の空間並進が可能である。整列の正確
さが高度になると、このタイプのシステムのコストは大
幅に高騰する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】一般に、本発明の目的
は、光ファイバ相互を整列するための改良された装置を
提供することにある。
は、光ファイバ相互を整列するための改良された装置を
提供することにある。
【０００６】本発明のもう１つの目的は、端部の研磨を
必要としない、切断された光ファイバ端部の反射率を低
下させるための装置及び方法を提供することにある。
必要としない、切断された光ファイバ端部の反射率を低
下させるための装置及び方法を提供することにある。
【０００７】本発明のさらにもう１つの目的は、先行技
術による整列機構よりもはるかに低いコストで大量生産
可能な光ファイバ整列装置を提供することにある。
術による整列機構よりもはるかに低いコストで大量生産
可能な光ファイバ整列装置を提供することにある。
【０００８】当該技術の熟練者には、下記の本発明の実
施例及び添付の図面から本発明の以上の目的及びその他
の目的が明らかになるであろう。
施例及び添付の図面から本発明の以上の目的及びその他
の目的が明らかになるであろう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、所定の位置に
おいて複数の光ファイバ相互を整列するための装置から
構成される。該装置には、上部プレートと、第１の組を
なす整列溝を備えた下部プレートが含まれており、各光
ファイバ毎に１つずつ対応するこうした整列溝が設けら
れている。光ファイバが、上部プレートによって整列溝
の底に押しつけられると、互いに対して正しい位置につ
くように、整列溝の配置が施されている。切断された光
ファイバからの反射を抑制するため、これらの光ファイ
バは、光ファイバの軸に対してある角度をなすように切
断され、また、切断された端部は、光ファイバと同じ屈
折率の接着層によって光学平板に結合され、この結果、
切断プロセスによって導入される不完全部分のために光
が反射して光ファイバに戻るのが阻止される。従って、
先行技術のシステムにおいて用いられた研磨ステップが
回避される。本発明の望ましい実施例の場合、光学平板
には、その非接着表面に反射防止材料も含まれている。
下部プレートは、マイクロマシン加工及び集積回路製造
において用いられるのと同様のフォトリソグラフィによ
るエッチング技法を利用して製造するのが望ましい。こ
れによって、下部プレートの大量生産が可能になり、同
時に、高い集光効率を得るのに必要とされる厳格な公差
を維持することが可能になる。下部プレートの整列溝に
は、下部プレートのそれ以外の整列溝に助けられて、さ
まざまな光学素子を取り付けることも可能である。
おいて複数の光ファイバ相互を整列するための装置から
構成される。該装置には、上部プレートと、第１の組を
なす整列溝を備えた下部プレートが含まれており、各光
ファイバ毎に１つずつ対応するこうした整列溝が設けら
れている。光ファイバが、上部プレートによって整列溝
の底に押しつけられると、互いに対して正しい位置につ
くように、整列溝の配置が施されている。切断された光
ファイバからの反射を抑制するため、これらの光ファイ
バは、光ファイバの軸に対してある角度をなすように切
断され、また、切断された端部は、光ファイバと同じ屈
折率の接着層によって光学平板に結合され、この結果、
切断プロセスによって導入される不完全部分のために光
が反射して光ファイバに戻るのが阻止される。従って、
先行技術のシステムにおいて用いられた研磨ステップが
回避される。本発明の望ましい実施例の場合、光学平板
には、その非接着表面に反射防止材料も含まれている。
下部プレートは、マイクロマシン加工及び集積回路製造
において用いられるのと同様のフォトリソグラフィによ
るエッチング技法を利用して製造するのが望ましい。こ
れによって、下部プレートの大量生産が可能になり、同
時に、高い集光効率を得るのに必要とされる厳格な公差
を維持することが可能になる。下部プレートの整列溝に
は、下部プレートのそれ以外の整列溝に助けられて、さ
まざまな光学素子を取り付けることも可能である。
【００１０】
【実施例】本発明は、レンズ１６による第１の光ファイ
バ１２からの光が第２の光ファイバ１４へ結像すること
を示す図１を参照することによってより容易に理解する
ことが可能になる。上述のように、各光ファイバの端部
は、ガラスと空気の界面において発生した反射が光ファ
イバを伝搬して戻らないように処理しなければならな
い。この処理は、一般に、１８で示すようにある角度で
端部を切断することと、端部を研磨することと、さら
に、端部に反射防止被覆剤を施すことから構成される。
いくつかの光ファイバについて相互位置決めを実施しな
ければならない場合には、各端部の切断、研磨、及び、
被覆が必要になる。
バ１２からの光が第２の光ファイバ１４へ結像すること
を示す図１を参照することによってより容易に理解する
ことが可能になる。上述のように、各光ファイバの端部
は、ガラスと空気の界面において発生した反射が光ファ
イバを伝搬して戻らないように処理しなければならな
い。この処理は、一般に、１８で示すようにある角度で
端部を切断することと、端部を研磨することと、さら
に、端部に反射防止被覆剤を施すことから構成される。
いくつかの光ファイバについて相互位置決めを実施しな
ければならない場合には、各端部の切断、研磨、及び、
被覆が必要になる。
【００１１】次に、いくつかの光ファイバを相互に整列
させ、反射の抑制のため、端部に不活性化処理を施すた
めの本発明による装置を示した図２、３、及び、４を参
照する。必要とされる整列の公差は、各スロットの底部
に押しつけられると、光ファイバ相互の適正な整列がと
れるように位置決めされたスロット１０４を含む、基台
１０２によって得られる。例示の光ファイバが１０５〜
１１０で示されている。光ファイバは、基台１０２に接
合するのが望ましい上部プレート１１２によってスロッ
ト１０４に押しつけられる。基台１０２を製作する方法
については、さらに詳細に後述する。
させ、反射の抑制のため、端部に不活性化処理を施すた
めの本発明による装置を示した図２、３、及び、４を参
照する。必要とされる整列の公差は、各スロットの底部
に押しつけられると、光ファイバ相互の適正な整列がと
れるように位置決めされたスロット１０４を含む、基台
１０２によって得られる。例示の光ファイバが１０５〜
１１０で示されている。光ファイバは、基台１０２に接
合するのが望ましい上部プレート１１２によってスロッ
ト１０４に押しつけられる。基台１０２を製作する方法
については、さらに詳細に後述する。
【００１２】図２〜図４に示す実施例の場合、各光ファ
イバ対の間に介在する光学素子がブロック１３３〜１３
５によって示されている。光学素子を指定した実施例に
ついてはさらに詳細に後述する。
イバ対の間に介在する光学素子がブロック１３３〜１３
５によって示されている。光学素子を指定した実施例に
ついてはさらに詳細に後述する。
【００１３】次に、光がガラスと空気の界面において反
射し、光ファイバに沿って戻らないようにするため、光
ファイバの端部に処理を施す方法を示した図４を参照す
る。上部プレートによって光ファイバを下部基台に押し
つけて固定した後、上部プレート１１２を切り通すこと
により、各光ファイバを所望の角度で切断する。１３１
及び１３２で示すように、切断部は基台１０２内にまで
達している。切り通しによって、各光ファイバは正確な
角度で切断される。留意しておくべきは、鋸による１回
の切り通しで複数の光ファイバが切断されるということ
である。先行技術のシステムとは対照的に、切り通し
後、光ファイバ端部の研磨は行われない。代わりに、プ
レート１４６が、透明なセメント層１４５を用いて光フ
ァイバ端部に接合される。セメントの屈折率は、単一モ
ード・光ファイバの場合、光ファイバのコアの屈折率と
整合するように選択される。光ファイバがＧＲＩＮレン
ズの場合、屈折率は、ＧＲＩＮレンズの中心領域の屈折
率と整合するように選択される。プレート１４６は、セ
メント層と同じ屈折率の材料から製作される。従って、
プレート１４６のセメント層に接触する側または切断さ
れた光ファイバのかき傷がセメント層によって消去され
る。プレート１４６のセメント層とは接触していない表
面１４７には、さらに反射を抑制するため、反射防止材
料による被覆を施すことが望ましい。
射し、光ファイバに沿って戻らないようにするため、光
ファイバの端部に処理を施す方法を示した図４を参照す
る。上部プレートによって光ファイバを下部基台に押し
つけて固定した後、上部プレート１１２を切り通すこと
により、各光ファイバを所望の角度で切断する。１３１
及び１３２で示すように、切断部は基台１０２内にまで
達している。切り通しによって、各光ファイバは正確な
角度で切断される。留意しておくべきは、鋸による１回
の切り通しで複数の光ファイバが切断されるということ
である。先行技術のシステムとは対照的に、切り通し
後、光ファイバ端部の研磨は行われない。代わりに、プ
レート１４６が、透明なセメント層１４５を用いて光フ
ァイバ端部に接合される。セメントの屈折率は、単一モ
ード・光ファイバの場合、光ファイバのコアの屈折率と
整合するように選択される。光ファイバがＧＲＩＮレン
ズの場合、屈折率は、ＧＲＩＮレンズの中心領域の屈折
率と整合するように選択される。プレート１４６は、セ
メント層と同じ屈折率の材料から製作される。従って、
プレート１４６のセメント層に接触する側または切断さ
れた光ファイバのかき傷がセメント層によって消去され
る。プレート１４６のセメント層とは接触していない表
面１４７には、さらに反射を抑制するため、反射防止材
料による被覆を施すことが望ましい。
【００１４】注目すべきは、プレート１４６が、１つの
光学的にフラットな表面、すなわち、表面１４７を備え
ていさえすればよい安価な素子であるということであ
る。従って、装置１００は、光ファイバ端部を研磨し、
反射防止材料で被覆を施したシステムのコストに比べる
と大幅に少ないコストで製作することが可能である。実
験で明らかになったところによれば、本発明の反射防止
システムは、従来の端部を切断し、研磨したシステムシ
ステムと同様良好に機能する。従って、本発明によれ
ば、コストをかなり削減して、先行技術の便益が得られ
る。
光学的にフラットな表面、すなわち、表面１４７を備え
ていさえすればよい安価な素子であるということであ
る。従って、装置１００は、光ファイバ端部を研磨し、
反射防止材料で被覆を施したシステムのコストに比べる
と大幅に少ないコストで製作することが可能である。実
験で明らかになったところによれば、本発明の反射防止
システムは、従来の端部を切断し、研磨したシステムシ
ステムと同様良好に機能する。従って、本発明によれ
ば、コストをかなり削減して、先行技術の便益が得られ
る。
【００１５】基台１０２は、従来のフォトリソグラフィ
技法を利用して製造可能である。こうした技法によれ
ば、必要な整列の精度が得られるし、大量生産が容易で
ある。Ｖ溝をシリコンまたはセラミックに設けるための
技法は、マイクロマシン加工技術において周知のところ
である。例えば、シリコン基板の場合、ＫＯＨエッチン
グ液を用いることが可能である。ＫＯＨによれば、（１
１１）面のエッチング率が極めて低いので、エッチング
・プロセスが実質的に（１１１）面において停止する異
方性エッチングが可能になる。従って、（１００）シリ
コン・ウェーハ上において、エッチング・マスクが（１
１０）方向に向けられる結果として、互いに精確に７
０．５３°の角度で交差する２つの（１１１）面によっ
て形成される、Ｖ字形溝が生じる。Ｖ字形溝の深さは、
マスク開口部の幅だけによって決まる。従って、２次元
リソグラフィを用いることによって、精密な３次元Ｖ字
形溝構造を形成することが可能である。
技法を利用して製造可能である。こうした技法によれ
ば、必要な整列の精度が得られるし、大量生産が容易で
ある。Ｖ溝をシリコンまたはセラミックに設けるための
技法は、マイクロマシン加工技術において周知のところ
である。例えば、シリコン基板の場合、ＫＯＨエッチン
グ液を用いることが可能である。ＫＯＨによれば、（１
１１）面のエッチング率が極めて低いので、エッチング
・プロセスが実質的に（１１１）面において停止する異
方性エッチングが可能になる。従って、（１００）シリ
コン・ウェーハ上において、エッチング・マスクが（１
１０）方向に向けられる結果として、互いに精確に７
０．５３°の角度で交差する２つの（１１１）面によっ
て形成される、Ｖ字形溝が生じる。Ｖ字形溝の深さは、
マスク開口部の幅だけによって決まる。従って、２次元
リソグラフィを用いることによって、精密な３次元Ｖ字
形溝構造を形成することが可能である。
【００１６】精密な固定整列機構を有する光学プラット
フォームを大量生産することが可能なので、本発明をい
くつかの光学素子に用いることができる。多くの用途で
は、第１の光ファイバに沿って進行する光には、引き続
き、第２の光ファイバに沿って進行する前に、何らかの
光学素子によって、フィルタリング、偏向、または、他
の処理を加えなければならない。こうした処理を行うた
めの一般的装置が図５に１６０で示されている。光ファ
イバ１６１に沿って進行する光は、レンズ１６４によっ
て平行化され、光学素子１６２を通過する。素子１６２
を出る光は、第２のレンズ１６５によって集光され、こ
のレンズによって出力光ファイバ１６３内にその光が結
像する。反射が光ファイバ１６１に沿って戻らないよう
にするため、光学素子１６２の表面に対する垂線が光フ
ァイバ１６１の光学軸に対してある角度をなすように、
光学素子１６２の位置決めが行われる。素子１６２と空
気の屈折率が異なるため、この角変位によって、素子１
６２を出る光は、素子１６２の厚さと屈折率によって決
まる量だけ光ファイバ１６１の光学軸に対して変位す
る。上述のように、高い集光効率を維持するには、光フ
ァイバ１６３の整列を厳密に制御しなければならない。
フォームを大量生産することが可能なので、本発明をい
くつかの光学素子に用いることができる。多くの用途で
は、第１の光ファイバに沿って進行する光には、引き続
き、第２の光ファイバに沿って進行する前に、何らかの
光学素子によって、フィルタリング、偏向、または、他
の処理を加えなければならない。こうした処理を行うた
めの一般的装置が図５に１６０で示されている。光ファ
イバ１６１に沿って進行する光は、レンズ１６４によっ
て平行化され、光学素子１６２を通過する。素子１６２
を出る光は、第２のレンズ１６５によって集光され、こ
のレンズによって出力光ファイバ１６３内にその光が結
像する。反射が光ファイバ１６１に沿って戻らないよう
にするため、光学素子１６２の表面に対する垂線が光フ
ァイバ１６１の光学軸に対してある角度をなすように、
光学素子１６２の位置決めが行われる。素子１６２と空
気の屈折率が異なるため、この角変位によって、素子１
６２を出る光は、素子１６２の厚さと屈折率によって決
まる量だけ光ファイバ１６１の光学軸に対して変位す
る。上述のように、高い集光効率を維持するには、光フ
ァイバ１６３の整列を厳密に制御しなければならない。
【００１７】先行技術の光学処理システムの場合、異な
る各光学素子毎に光ファイバを整列するコストは、極め
て高いものになる。本発明によれば、非常に正確に整列
した光ファイバ及び光学素子を多数生産するための手段
が得られることになり、従って、本発明による整列プラ
ットフォームは先行技術に対する重要な改良となる。
る各光学素子毎に光ファイバを整列するコストは、極め
て高いものになる。本発明によれば、非常に正確に整列
した光ファイバ及び光学素子を多数生産するための手段
が得られることになり、従って、本発明による整列プラ
ットフォームは先行技術に対する重要な改良となる。
【００１８】すなわち、本発明を利用することによっ
て、４つの光ファイバまたはそのうちの幾つかの間にお
いて進行する光に処理を施すための汎用光学プラットフ
ォームの製作が可能になる。図６の２００に、こうした
プラットフォームの平面図が示されている。プラットフ
ォーム２００は、光ファイバ２０２〜２０５からの光に
処理を施す。光は光ファイバの任意のどれかを介してプ
ラットフォームに出入りすることが可能である。光ファ
イバに出入りする光は、対応するレンズによって結像さ
れるか、あるいは、平行化される。光ファイバ２０２〜
２０５に対応するレンズが、それぞれ、２１２〜２１５
で示されている。実際の光の処理は、２２１〜２２５で
示される５つの光学素子の１つ以上に施される被覆によ
って実施される。
て、４つの光ファイバまたはそのうちの幾つかの間にお
いて進行する光に処理を施すための汎用光学プラットフ
ォームの製作が可能になる。図６の２００に、こうした
プラットフォームの平面図が示されている。プラットフ
ォーム２００は、光ファイバ２０２〜２０５からの光に
処理を施す。光は光ファイバの任意のどれかを介してプ
ラットフォームに出入りすることが可能である。光ファ
イバに出入りする光は、対応するレンズによって結像さ
れるか、あるいは、平行化される。光ファイバ２０２〜
２０５に対応するレンズが、それぞれ、２１２〜２１５
で示されている。実際の光の処理は、２２１〜２２５で
示される５つの光学素子の１つ以上に施される被覆によ
って実施される。
【００１９】プラットフォーム２００を利用すれば、光
ファイバ２０２及び２０４のような互いに向かい合った
２つの光ファイバ間を進行する光にフィルタリングまた
は偏向を施すことが可能である。また、プラットフォー
ム２００を利用すれば、これらの光ファイバに対して直
角に配置された光ファイバを利用することによって、ビ
ーム分割器または波長分割多重化装置を構成することも
可能である。
ファイバ２０２及び２０４のような互いに向かい合った
２つの光ファイバ間を進行する光にフィルタリングまた
は偏向を施すことが可能である。また、プラットフォー
ム２００を利用すれば、これらの光ファイバに対して直
角に配置された光ファイバを利用することによって、ビ
ーム分割器または波長分割多重化装置を構成することも
可能である。
【００２０】上述の機能は、全て、光学素子２２１〜２
２５に異なる光学被覆剤を用いることによっ実現可能で
ある。これらの光学素子は、透明で平坦であることが望
ましい。光学素子２２１〜２２５に対する被覆剤がなけ
れば、光ファイバ２０２を出た光が光ファイバ２０４内
において結像されるように、光ファイバの整列がとられ
る。同様に、光ファイバ２０５を出る光は、光ファイバ
２０３内に結像される。最後に、光ファイバ２０２を出
て、光学素子２２５から反射される光が、光ファイバ２
０３内に結像される。この整列は、光が各種光学素子を
通過することによって生じるビームのずれを考慮に入れ
ている。留意すべきは、光学素子２２１〜２２４の位置
決めは、その表面から反射した光がそれを生じた光ファ
イバに結像しないように行うのが望ましいということで
ある。
２５に異なる光学被覆剤を用いることによっ実現可能で
ある。これらの光学素子は、透明で平坦であることが望
ましい。光学素子２２１〜２２５に対する被覆剤がなけ
れば、光ファイバ２０２を出た光が光ファイバ２０４内
において結像されるように、光ファイバの整列がとられ
る。同様に、光ファイバ２０５を出る光は、光ファイバ
２０３内に結像される。最後に、光ファイバ２０２を出
て、光学素子２２５から反射される光が、光ファイバ２
０３内に結像される。この整列は、光が各種光学素子を
通過することによって生じるビームのずれを考慮に入れ
ている。留意すべきは、光学素子２２１〜２２４の位置
決めは、その表面から反射した光がそれを生じた光ファ
イバに結像しないように行うのが望ましいということで
ある。
【００２１】各種素子を取り付けるプラットフォーム
は、上述のように製造するのが望ましい。あらゆる用途
において、該光学素子の５つを、全て、適正位置につけ
る必要がある。どんな特殊な用途にたいして、必要な光
学処理を施した薄膜によって、１つ以上の光学素子が被
覆される。例えば、ビーム分割器を製作すべき場合に
は、光学素子２２５の表面に部分反射被覆剤が施され
る。光ファイバ２０２と２０４の間において、フィルタ
リングまたは偏向操作を実施すべき場合には、光学素子
２２１または２２３の表面に被覆剤が施される。この被
覆剤は、光学素子よりもはるかに薄いので、被覆剤を施
した素子の厚さの違いによって生じるずれは無視するこ
とが可能である。従って、多くの用途に単一の大量生産
された光学アセンブリを用いることが可能であり、新規
の各用途毎に装置の整列を行う必要がない。
は、上述のように製造するのが望ましい。あらゆる用途
において、該光学素子の５つを、全て、適正位置につけ
る必要がある。どんな特殊な用途にたいして、必要な光
学処理を施した薄膜によって、１つ以上の光学素子が被
覆される。例えば、ビーム分割器を製作すべき場合に
は、光学素子２２５の表面に部分反射被覆剤が施され
る。光ファイバ２０２と２０４の間において、フィルタ
リングまたは偏向操作を実施すべき場合には、光学素子
２２１または２２３の表面に被覆剤が施される。この被
覆剤は、光学素子よりもはるかに薄いので、被覆剤を施
した素子の厚さの違いによって生じるずれは無視するこ
とが可能である。従って、多くの用途に単一の大量生産
された光学アセンブリを用いることが可能であり、新規
の各用途毎に装置の整列を行う必要がない。
【００２２】プラットフォーム２００の上述の実施例で
は、隣接する光学素子から独立したレンズを利用して、
対応する光ファイバ内における光学素子からの光の結像
が行われた。しかし、当該技術の熟練者には明らかなよ
うに、平坦でない光学素子が許容可能な場合には、レン
ズと光学素子を結合することが可能である。
は、隣接する光学素子から独立したレンズを利用して、
対応する光ファイバ内における光学素子からの光の結像
が行われた。しかし、当該技術の熟練者には明らかなよ
うに、平坦でない光学素子が許容可能な場合には、レン
ズと光学素子を結合することが可能である。
【００２３】本発明による光学整列プラットフォームを
利用することによって有利に製作することが可能な光学
処理装置が、他にもいくつか存在する。例えば、光増幅
器はこうしたプラットフォームで製作することが可能で
ある。一般的な光増幅器の動作の仕方については、先行
技術に基づくエルビューム添加光ファイバ等（以下、添
加光ファイバと称する）を用いた光増幅器３００の実施
例に関する略図である図７を参照することによって、よ
り容易に理解することが可能になる。光増幅器３００
は、入力光ファイバ３０２によって入力される光信号を
増幅する。入力光ファイバ３０２の入力側は、光アイソ
レータ３０３によって分離されている。光は、添加光フ
ァイバ・ループにおいて増幅され、励起レーザ３０４及
び３０６によって励起される。励起光は、波長分割多重
化装置（ＷＤＭ）３０９及び３１０によってループ３０
５に結合される。次に、ループ３０５からの増幅された
光にフィルタ３０８でフィルタリングを施して、励起周
波数の光が除去される。入力光ファイバ３０２の出力端
部は、アイソレータ３０７によって入力光ファイバ３０
２の出力側の素子から分離される。光アイソレータは、
光が添加光ファイバ・ループ３０５において１つの方向
にしか進行しないことを保証することによって、増幅器
におけるレーシングを防止する。
利用することによって有利に製作することが可能な光学
処理装置が、他にもいくつか存在する。例えば、光増幅
器はこうしたプラットフォームで製作することが可能で
ある。一般的な光増幅器の動作の仕方については、先行
技術に基づくエルビューム添加光ファイバ等（以下、添
加光ファイバと称する）を用いた光増幅器３００の実施
例に関する略図である図７を参照することによって、よ
り容易に理解することが可能になる。光増幅器３００
は、入力光ファイバ３０２によって入力される光信号を
増幅する。入力光ファイバ３０２の入力側は、光アイソ
レータ３０３によって分離されている。光は、添加光フ
ァイバ・ループにおいて増幅され、励起レーザ３０４及
び３０６によって励起される。励起光は、波長分割多重
化装置（ＷＤＭ）３０９及び３１０によってループ３０
５に結合される。次に、ループ３０５からの増幅された
光にフィルタ３０８でフィルタリングを施して、励起周
波数の光が除去される。入力光ファイバ３０２の出力端
部は、アイソレータ３０７によって入力光ファイバ３０
２の出力側の素子から分離される。光アイソレータは、
光が添加光ファイバ・ループ３０５において１つの方向
にしか進行しないことを保証することによって、増幅器
におけるレーシングを防止する。
【００２４】次に、添加光ファイバ４０４で受信した信
号を増幅するための、添加光ファイバを用いる光増幅器
に関する本発明による実施例の略図である図８を参照す
る。増幅された光信号は、出力光ファイバ４１０に結合
される。入力光ファイバ４０２で受信する光信号は、球
レンズ４０３によって平行化され、アイソレータ４０６
及びＷＤＭ４０７の通過後、添加光ファイバ４０４に入
る。励起レーザ４０８からの光が、ＷＤＭ４０７の表面
から反射され、やはり、添加光ファイバ４０４のこの端
部に入る。光アイソレータ４０６は、図７に示すアイソ
レータ３０３及び３０７と類似の機能を実施する。光信
号は、添加光ファイバ４０４を通過する際に増幅され
る。増幅信号は、球レンズ４１２によって出力光ファイ
バ４１０内に結像される。
号を増幅するための、添加光ファイバを用いる光増幅器
に関する本発明による実施例の略図である図８を参照す
る。増幅された光信号は、出力光ファイバ４１０に結合
される。入力光ファイバ４０２で受信する光信号は、球
レンズ４０３によって平行化され、アイソレータ４０６
及びＷＤＭ４０７の通過後、添加光ファイバ４０４に入
る。励起レーザ４０８からの光が、ＷＤＭ４０７の表面
から反射され、やはり、添加光ファイバ４０４のこの端
部に入る。光アイソレータ４０６は、図７に示すアイソ
レータ３０３及び３０７と類似の機能を実施する。光信
号は、添加光ファイバ４０４を通過する際に増幅され
る。増幅信号は、球レンズ４１２によって出力光ファイ
バ４１０内に結像される。
【００２５】添加光ファイバ４０４の励起を改善するた
め、本発明の望ましい実施例には第２の励起レーザ４０
９及びＷＤＭ４０５が含まれる。第２の励起システムに
よって、添加光ファイバは両端からの励起が可能にな
る。光アイソレータ４０６は、励起レーザ４０９からの
光が出力光ファイバ４１０を通って漏出するのを防止す
る。
め、本発明の望ましい実施例には第２の励起レーザ４０
９及びＷＤＭ４０５が含まれる。第２の励起システムに
よって、添加光ファイバは両端からの励起が可能にな
る。光アイソレータ４０６は、励起レーザ４０９からの
光が出力光ファイバ４１０を通って漏出するのを防止す
る。
【００２６】留意すべきは、単一の光アイソレータ４０
６は、図７に示す光増幅器に関して上述の２つのアイソ
レータの機能を実施するということである。従って、安
価な大量生産プラットフォームで組立可能な光増幅器が
得られるだけでなく、光増幅器４００によって、光アイ
ソレータの１つが省かれることにもなる。留意すべき
は、図７に示すタイプの光増幅器における光アイソレー
タのコストは、こうした増幅器のコストのかなりの部分
を占めるということである。従って、本発明のこの実施
例によれば、先行技術の光増幅器に対して追加利点が得
られる。
６は、図７に示す光増幅器に関して上述の２つのアイソ
レータの機能を実施するということである。従って、安
価な大量生産プラットフォームで組立可能な光増幅器が
得られるだけでなく、光増幅器４００によって、光アイ
ソレータの１つが省かれることにもなる。留意すべき
は、図７に示すタイプの光増幅器における光アイソレー
タのコストは、こうした増幅器のコストのかなりの部分
を占めるということである。従って、本発明のこの実施
例によれば、先行技術の光増幅器に対して追加利点が得
られる。
【００２７】本発明による光増幅器の代替実施例が図９
に５００で示されている。この実施例では、光が添加光
ファイバ５０４において１方向だけにしか進行しないこ
とを保証するため、２つの光アイソレータ５３１及び５
３２が利用されているが、光増幅器４００とは対照的
に、この実施例では１つの励起レーザしか必要としな
い。入力光は、入力光ファイバ５０２において受信さ
れ、増幅された光信号は、出力光ファイバ５１０を通っ
て出てゆく。添加光ファイバ５０４は、アイソレータ５
３１及び５３２を介して増幅器に結合されている。添加
光ファイバは、ＷＤＭ５２２を介して添加光ファイバ５
０４に結合された励起レーザ５２５によって励起され
る。
に５００で示されている。この実施例では、光が添加光
ファイバ５０４において１方向だけにしか進行しないこ
とを保証するため、２つの光アイソレータ５３１及び５
３２が利用されているが、光増幅器４００とは対照的
に、この実施例では１つの励起レーザしか必要としな
い。入力光は、入力光ファイバ５０２において受信さ
れ、増幅された光信号は、出力光ファイバ５１０を通っ
て出てゆく。添加光ファイバ５０４は、アイソレータ５
３１及び５３２を介して増幅器に結合されている。添加
光ファイバは、ＷＤＭ５２２を介して添加光ファイバ５
０４に結合された励起レーザ５２５によって励起され
る。
【００２８】レンズ５２０〜５２３によって、必要な結
像機能が得られる。レンズ５２０−５２１は、入力光フ
ァイバ５０２からの光を添加光ファイバ５０４に結合
し、添加光ファイバ５０４から出る光を出力光ファイバ
５１０に結合する。レンズ５２３は、励起光を添加光フ
ァイバ５０４内に結像する。
像機能が得られる。レンズ５２０−５２１は、入力光フ
ァイバ５０２からの光を添加光ファイバ５０４に結合
し、添加光ファイバ５０４から出る光を出力光ファイバ
５１０に結合する。レンズ５２３は、励起光を添加光フ
ァイバ５０４内に結像する。
【００２９】以上の説明及び添付の図面から、当該技術
の熟練者には本発明に対する各種修正が明らかになるで
あろう。従って、本発明を制限するのは付属の請求の範
囲に限られるものとするが、本発明の理解を容易にする
ため、本発明の実施態様のいくつかを下記に記す。
の熟練者には本発明に対する各種修正が明らかになるで
あろう。従って、本発明を制限するのは付属の請求の範
囲に限られるものとするが、本発明の理解を容易にする
ため、本発明の実施態様のいくつかを下記に記す。
【００３０】（実施態様１）所定の位置において複数の
光ファイバを相互に整列させるための装置において、上
部プレートと、前記光ファイバのそれぞれにひとつづつ
対応する整列溝の第１の組を備えた下部プレートとを備
え、前記光ファイバが、前記上部プレートによって前記
整列溝の底に押しつけられて相互に所定の位置を占める
ように前記整列溝が配置されるとともに、前記上部プレ
ートによって前記光ファイバが前記整列溝に押しつけら
れるように、前記上部プレートと下部プレートを締め付
けるための手段が設けられていることを特徴とする光フ
ァイバ整列装置。
光ファイバを相互に整列させるための装置において、上
部プレートと、前記光ファイバのそれぞれにひとつづつ
対応する整列溝の第１の組を備えた下部プレートとを備
え、前記光ファイバが、前記上部プレートによって前記
整列溝の底に押しつけられて相互に所定の位置を占める
ように前記整列溝が配置されるとともに、前記上部プレ
ートによって前記光ファイバが前記整列溝に押しつけら
れるように、前記上部プレートと下部プレートを締め付
けるための手段が設けられていることを特徴とする光フ
ァイバ整列装置。
【００３１】（実施態様２）前記光ファイバの少なくと
も１つが、前記光ファイバの軸に対してある角度で切断
されており、前記切断された端部が、前記光ファイバと
同じ屈折率を備えた接着層によって光学平板に結合され
ることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列
装置。 （実施態様３）前記光学平板の一方の表面が反射防止材
料で被覆されることを特徴とする実施態様２に記載の光
ファイバ整列装置。 （実施態様４）前記下部プレートにおける前記整列溝
が、前記下部プレートにフォトリソグラフィによるエッ
チング施すことによって作成されることを特徴とする実
施態様１に記載の光ファイバ整列装置。
も１つが、前記光ファイバの軸に対してある角度で切断
されており、前記切断された端部が、前記光ファイバと
同じ屈折率を備えた接着層によって光学平板に結合され
ることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列
装置。 （実施態様３）前記光学平板の一方の表面が反射防止材
料で被覆されることを特徴とする実施態様２に記載の光
ファイバ整列装置。 （実施態様４）前記下部プレートにおける前記整列溝
が、前記下部プレートにフォトリソグラフィによるエッ
チング施すことによって作成されることを特徴とする実
施態様１に記載の光ファイバ整列装置。
【００３２】（実施態様５）さらに、前記下部プレート
が、前記光ファイバに対して光学素子を位置決めするた
めの手段を備えることを特徴とする実施態様１に記載の
光ファイバ整列装置。 （実施態様６）前記光学素子がレンズであることを特徴
とする実施態様５に記載の光ファイバ整列装置。 （実施態様７）前記光ファイバの１つを出る光が、第１
のレンズ、光学素子、第２のレンズを通り、前記第２の
レンズによって前記光ファイバのもう１つにイメージを
形成する ように、前記光ファイバの配置がなされてい
ることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列
装置。 （実施態様８）前記光学素子が光アイソレータ及び波長
分割多重化装置を有することを特徴とする、実施態様７
に記載の光ファイバ整列装置。
が、前記光ファイバに対して光学素子を位置決めするた
めの手段を備えることを特徴とする実施態様１に記載の
光ファイバ整列装置。 （実施態様６）前記光学素子がレンズであることを特徴
とする実施態様５に記載の光ファイバ整列装置。 （実施態様７）前記光ファイバの１つを出る光が、第１
のレンズ、光学素子、第２のレンズを通り、前記第２の
レンズによって前記光ファイバのもう１つにイメージを
形成する ように、前記光ファイバの配置がなされてい
ることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列
装置。 （実施態様８）前記光学素子が光アイソレータ及び波長
分割多重化装置を有することを特徴とする、実施態様７
に記載の光ファイバ整列装置。
【００３３】（実施態様９）それぞれ、変更装置に光を
伝導するか、または、変更装置から光を伝導するように
なっている第１と第２、第３、第４の光ファイバと、そ
れぞれ、第１及び第２、第３、第４の光ファイバに対応
する第１及び第２、第３、第４の光学素子と、それぞ
れ、第１及び第２、第３、第４の光ファイバに対応する
第１及び第２、第３、第４のレンズと第５の光学素子と
を備え、前記光ファイバを出て第１の方向から前記レン
ズに入る光が、該レンズによって平行化され、第２の方
向から該レンズに入る平行光が、対応する前記光ファイ
バに焦点を結ぶように、前記各レンズに対応する前記光
ファイバに対して前記各レンズの位置決めがなされてお
り、前記第１の光ファイバに入る光が、第１及び第３、
第５の光学素子を横断し、前記第３の光ファイバに焦点
を結ぶように、第１と第３の光ファイバの位置決めがな
され、第２の光ファイバに入る光が、第２と第４、第５
の光学素子を横断し、前記第４の光ファイバに焦点を結
ぶように、第２と第４の光ファイバの位置決めがなさ
れ、前記第５の光学素子の表面が反射性の場合、該反射
性の度合に応じて、第１の光ファイバを出た光の一部
が、第５の光学素子の表面で反射されて第４の光ファイ
バに送り込まれるように第５の光学素子の位置決めが施
され、前記光学素子の１つの少なくとも１つの表面が被
覆剤で被覆されており該被覆剤がそれに当たる光の方向
及び成分を変更するようになっていることを特徴とす
る、光信号変更装置。 （実施態様１０）被覆剤によって生じる変更が、該被覆
剤に当たる光の波長によって決まることを特徴とする実
施態様９に記載の光信号変更装置。
伝導するか、または、変更装置から光を伝導するように
なっている第１と第２、第３、第４の光ファイバと、そ
れぞれ、第１及び第２、第３、第４の光ファイバに対応
する第１及び第２、第３、第４の光学素子と、それぞ
れ、第１及び第２、第３、第４の光ファイバに対応する
第１及び第２、第３、第４のレンズと第５の光学素子と
を備え、前記光ファイバを出て第１の方向から前記レン
ズに入る光が、該レンズによって平行化され、第２の方
向から該レンズに入る平行光が、対応する前記光ファイ
バに焦点を結ぶように、前記各レンズに対応する前記光
ファイバに対して前記各レンズの位置決めがなされてお
り、前記第１の光ファイバに入る光が、第１及び第３、
第５の光学素子を横断し、前記第３の光ファイバに焦点
を結ぶように、第１と第３の光ファイバの位置決めがな
され、第２の光ファイバに入る光が、第２と第４、第５
の光学素子を横断し、前記第４の光ファイバに焦点を結
ぶように、第２と第４の光ファイバの位置決めがなさ
れ、前記第５の光学素子の表面が反射性の場合、該反射
性の度合に応じて、第１の光ファイバを出た光の一部
が、第５の光学素子の表面で反射されて第４の光ファイ
バに送り込まれるように第５の光学素子の位置決めが施
され、前記光学素子の１つの少なくとも１つの表面が被
覆剤で被覆されており該被覆剤がそれに当たる光の方向
及び成分を変更するようになっていることを特徴とす
る、光信号変更装置。 （実施態様１０）被覆剤によって生じる変更が、該被覆
剤に当たる光の波長によって決まることを特徴とする実
施態様９に記載の光信号変更装置。
【００３４】（実施態様１１）増幅される所定の波長の
光信号を受けるための入力光ファイバと、第１の励起光
源と、前記光信号の前記波長の光が、前記第１の励起光
源による励起が可能な、添加光ファイバの第１の端部か
ら出るのを妨げないようにして、前記第１の励起光源か
らの前記光の焦点を前記添加光ファイバ内に結ぶための
第１の波長分割多重化手段と、前記添加光ファイバの第
２の端部を出る光を出力光ファイバに結合するための手
段と、前記添加光ファイバにおける光の移動方向を制限
するための光学アイソレーション手段から構成され、前
記光アイソレータ手段が前記添加光ファイバの前記第１
の端部と第２の端部の間に配置されることを特徴とす
る、光増幅器。
光信号を受けるための入力光ファイバと、第１の励起光
源と、前記光信号の前記波長の光が、前記第１の励起光
源による励起が可能な、添加光ファイバの第１の端部か
ら出るのを妨げないようにして、前記第１の励起光源か
らの前記光の焦点を前記添加光ファイバ内に結ぶための
第１の波長分割多重化手段と、前記添加光ファイバの第
２の端部を出る光を出力光ファイバに結合するための手
段と、前記添加光ファイバにおける光の移動方向を制限
するための光学アイソレーション手段から構成され、前
記光アイソレータ手段が前記添加光ファイバの前記第１
の端部と第２の端部の間に配置されることを特徴とす
る、光増幅器。
【００３５】（実施態様１２）さらに、第２の励起光源
と、前記光信号の前記波長の光が、前記添加光ファイバ
の第２の端部に入るのを妨げないようにして、前記第２
の励起光源からの前記光の焦点を前記添加光ファイバの
前記第２の端部内に結ぶための第２の波長分割多重化手
段から構成されることを特徴とする実施態様１１に記載
の光増幅器。
と、前記光信号の前記波長の光が、前記添加光ファイバ
の第２の端部に入るのを妨げないようにして、前記第２
の励起光源からの前記光の焦点を前記添加光ファイバの
前記第２の端部内に結ぶための第２の波長分割多重化手
段から構成されることを特徴とする実施態様１１に記載
の光増幅器。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の光ファイバからの光が第２の光ファイバ
内において結像される用途における光ファイバ端部の前
処理を示す図である。
内において結像される用途における光ファイバ端部の前
処理を示す図である。
【図２】本発明による光ファイバ整列装置の平面図であ
る。
る。
【図３】図２に示す光ファイバ整列装置のライン１２０
−１２１に沿った断面図である。
−１２１に沿った断面図である。
【図４】図２に示す光ファイバ整列装置のライン１２２
−１２３に沿った断面図である。
−１２３に沿った断面図である。
【図５】光学処理素子によって導入される整列の問題を
示す光学処理装置の断面図である。
示す光学処理装置の断面図である。
【図６】本発明による汎用平行化プラットフォームの平
面図である。
面図である。
【図７】従来の光増幅器の略図である。
【図８】本発明による光増幅器の実施例の１つに関する
平面図である。
平面図である。
【図９】本発明による光増幅器のもう１つの実施例に関
する平面図である。
する平面図である。
１２ 第１の光ファイバ １４ 第２の光ファイバ １６ レンズ １００ 装置 １０２ 基台 １０４ スロット １０５ 光ファイバ １０６ 光ファイバ １０７ 光ファイバ １０８ 光ファイバ １０９ 光ファイバ １１０ 光ファイバ １１２ 上部プレート １４５ セメント層 １４６ プレート １４７ 表面 １６０ 装置 １６１ 光ファイバ １６２ 素子 １６３ 光ファイバ １６４ レンズ １６５ 第２のレンズ ２００ プラットフォーム ２０２ 光ファイバ ２０３ 光ファイバ ２０４ 光ファイバ ２０５ 光ファイバ ２１２ レンズ ２１３ レンズ ２１４ レンズ ２１５ レンズ ２２１ 光学素子 ２２２ 光学素子 ２２３ 光学素子 ２２４ 光学素子 ２２５ 光学素子 ３００ 光増幅器 ３０２ 入力光ファイバ ３０３ 光アイソレータ ３０４ 励起レーザ ３０５ 添加光ファイバ・ループ ３０６ 励起レーザ ３０７ 光アイソレータ ３０８ フィルタ ４００ 光増幅器 ４０２ 入力光ファイバ ４０３ 球レンズ ４０４ 添加光ファイバ ４０６ 光アイソレータ ４０７ ＷＤＭ ４０８ 励起レーザ ４０９ 励起レーザ ４１０ 出力光ファイバ ４１２ 球レンズ ５００ 光増幅器 ５０２ 入力光ファイバ ５０４ 添加光ファイバ ５１０ 出力光ファイバ ５２０ レンズ ５２１ レンズ ５２２ ＷＤＭ ５２３ レンズ ５２５ 励起レーザ ５３１ 光アイソレータ ５３２ 光アイソレータ
Claims (12)
- 【請求項１】所定の位置において複数の光ファイバを相
互に整列させるための装置において、 上部プレートと、前記光ファイバのそれぞれにひとつづ
つ対応する整列溝の第１の組を備えた下部プレートとを
備え、前記光ファイバが、前記上部プレートによって前
記整列溝の底に押しつけられて相互に所定の位置を占め
るように前記整列溝が配置されるとともに、前記上部プ
レートによって前記光ファイバが前記整列溝に押しつけ
られるように、前記上部プレートと下部プレートを締め
付けるための手段が設けられていることを特徴とする光
ファイバ整列装置。 - 【請求項２】前記光ファイバの少なくとも１つが、前記
光ファイバの軸に対してある角度で切断されており、前
記切断された端部が、前記光ファイバと同じ屈折率を備
えた接着層によって光学平板に結合されることを特徴と
する請求項１に記載の光ファイバ整列装置。 - 【請求項３】前記光学平板の一方の表面が反射防止材料
で被覆されることを特徴とする請求項２に記載の光ファ
イバ整列装置。 - 【請求項４】前記下部プレートにおける前記整列溝が、
前記下部プレートにフォトリソグラフィによるエッチン
グ施すことによって作成されることを特徴とする請求項
１に記載の光ファイバ整列装置。 - 【請求項５】さらに、前記下部プレートが、前記光ファ
イバに対して光学素子を位置決めするための手段を備え
ることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ整列装
置。 - 【請求項６】前記光学素子がレンズであることを特徴と
する請求項５に記載の光ファイバ整列装置。 - 【請求項７】前記光ファイバの１つを出る光が、第１の
レンズ、光学素子、第２のレンズを通り、前記第２のレ
ンズによって前記光ファイバのもう１つにイメージを形
成する ように、前記光ファイバの配置がなされている
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ整列装
置。 - 【請求項８】前記光学素子が光アイソレータ及び波長分
割多重化装置を有することを特徴とする、請求項７に記
載の光ファイバ整列装置。 - 【請求項９】それぞれ、変更装置に光を伝導するか、ま
たは、変更装置から光を伝導するようになっている第１
と第２、第３、第４の光ファイバと、それぞれ、第１及
び第２、第３、第４の光ファイバに対応する第１及び第
２、第３、第４の光学素子と、それぞれ、第１及び第
２、第３、第４の光ファイバに対応する第１及び第２、
第３、第４のレンズと第５の光学素子とを備え、前記光
ファイバを出て第１の方向から前記レンズに入る光が、
該レンズによって平行化され、第２の方向から該レンズ
に入る平行光が、対応する前記光ファイバに焦点を結ぶ
ように、前記各レンズに対応する前記光ファイバに対し
て前記各レンズの位置決めがなされており、前記第１の
光ファイバに入る光が、第１及び第３、第５の光学素子
を横断し、前記第３の光ファイバに焦点を結ぶように、
第１と第３の光ファイバの位置決めがなされ、第２の光
ファイバに入る光が、第２と第４、第５の光学素子を横
断し、前記第４の光ファイバに焦点を結ぶように、第２
と第４の光ファイバの位置決めがなされ、前記第５の光
学素子の表面が反射性の場合、該反射性の度合に応じ
て、第１の光ファイバを出た光の一部が、第５の光学素
子の表面で反射されて第４の光ファイバに送り込まれる
ように第５の光学素子の位置決めが施され、前記光学素
子の１つの少なくとも１つの表面が被覆剤で被覆されて
おり該被覆剤がそれに当たる光の方向及び成分を変更す
るようになっていることを特徴とする、光信号変更装
置。 - 【請求項１０】被覆剤によって生じる変更が、該被覆剤
に当たる光の波長によって決まることを特徴とする請求
項９に記載の光信号変更装置。 - 【請求項１１】増幅される所定の波長の光信号を受ける
ための入力光ファイバと、第１の励起光源と、前記光信
号の前記波長の光が、前記第１の励起光源による励起が
可能な、添加光ファイバの第１の端部から出るのを妨げ
ないようにして、前記第１の励起光源からの前記光の焦
点を前記添加光ファイバ内に結ぶための第１の波長分割
多重化手段と、前記添加光ファイバの第２の端部を出る
光を出力光ファイバに結合するための手段と、前記添加
光ファイバにおける光の移動方向を制限するための光学
アイソレーション手段から構成され、前記光アイソレー
タ手段が前記添加光ファイバの前記第１の端部と第２の
端部の間に配置されることを特徴とする、 光増幅器。 - 【請求項１２】さらに、第２の励起光源と、前記光信号
の前記波長の光が、前記添加光ファイバの第２の端部に
入るのを妨げないようにして、前記第２の励起光源から
の前記光の焦点を前記添加光ファイバの前記第２の端部
内に結ぶための第２の波長分割多重化手段から構成され
ることを特徴とする請求項１１に記載の光増幅器。
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