JPH08231518A - オキサゾリドン類、その製造方法及びそれを用いるスレオ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル） セリンの製造方法 - Google Patents
オキサゾリドン類、その製造方法及びそれを用いるスレオ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル） セリンの製造方法Info
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- JPH08231518A JPH08231518A JP7119863A JP11986395A JPH08231518A JP H08231518 A JPH08231518 A JP H08231518A JP 7119863 A JP7119863 A JP 7119863A JP 11986395 A JP11986395 A JP 11986395A JP H08231518 A JPH08231518 A JP H08231518A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 式〔Ｉ〕
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ水酸基の保護基を、Ｒ3
はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲン原子を、ｎ
は０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示されるラセミ
又は光学活性オキサゾリドン類。 【効果】 本発明のラセミ又は光学活性オキサゾリドン
類〔Ｉ〕は、医薬中間体として有用であり、例えば、ス
レオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリン〔III 〕に
誘導し得る。加えて、本発明方法によれば、アミノ酸類
〔II〕からオキサゾリドン類〔Ｉ〕を経ることにより、
極めて短工程でしかも容易にスレオ-3-(3,4-ジヒドロキ
シフェニル) セリン〔III 〕を製造し得るという利点も
有す。
はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲン原子を、ｎ
は０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示されるラセミ
又は光学活性オキサゾリドン類。 【効果】 本発明のラセミ又は光学活性オキサゾリドン
類〔Ｉ〕は、医薬中間体として有用であり、例えば、ス
レオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリン〔III 〕に
誘導し得る。加えて、本発明方法によれば、アミノ酸類
〔II〕からオキサゾリドン類〔Ｉ〕を経ることにより、
極めて短工程でしかも容易にスレオ-3-(3,4-ジヒドロキ
シフェニル) セリン〔III 〕を製造し得るという利点も
有す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、下式〔Ｉ〕 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ水酸基の保護基を、Ｒ3
はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲン原子を、ｎ
は０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示されるラセミ
又は光学活性オキサゾリドン類、その製造方法及びそれ
を用いるラセミ又は光学活性スレオ-3-(3,4-ジヒドロキ
シフェニル) セリンの製造方法に関するものである。
はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲン原子を、ｎ
は０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示されるラセミ
又は光学活性オキサゾリドン類、その製造方法及びそれ
を用いるラセミ又は光学活性スレオ-3-(3,4-ジヒドロキ
シフェニル) セリンの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】スレオ
-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリンは、末梢性起立
性低血圧症剤、抗うつ剤、パーキンソン病治療剤等とし
て知られており、アミノ酸類〔II〕から4-位にアセトキ
シメチル基を有するオキサゾリドン誘導体〔Ｖ〕を経由
して製造することも知られている（例えば特開平1-2289
46号公報) 。
-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリンは、末梢性起立
性低血圧症剤、抗うつ剤、パーキンソン病治療剤等とし
て知られており、アミノ酸類〔II〕から4-位にアセトキ
シメチル基を有するオキサゾリドン誘導体〔Ｖ〕を経由
して製造することも知られている（例えば特開平1-2289
46号公報) 。
【０００３】
【０００４】しかしながら、中間体として、4-位にアセ
トキシメチル基を有するオキサゾリドン誘導体〔Ｖ〕を
経由する公知方法では、出発原料であるアミノ酸類〔I
I〕のカルボン酸エステルを還元してアルコールにした
後、アセチル化してアセトキシ体〔IV〕を得、次いでこ
れに銅触媒下に過硫酸カリウムを反応させるという３段
の反応を経て中間体〔Ｖ〕を製造し、しかる後に、これ
を開環、アセトキシ基由来のアルコールを酸化してカル
ボン酸に誘導し、次いで保護基を脱離せしめるという３
段、計６段の反応を経て目的物を製造するため、収率が
低いという難点の他に、工程が著しく長く操作が煩雑に
なるという難点があった。
トキシメチル基を有するオキサゾリドン誘導体〔Ｖ〕を
経由する公知方法では、出発原料であるアミノ酸類〔I
I〕のカルボン酸エステルを還元してアルコールにした
後、アセチル化してアセトキシ体〔IV〕を得、次いでこ
れに銅触媒下に過硫酸カリウムを反応させるという３段
の反応を経て中間体〔Ｖ〕を製造し、しかる後に、これ
を開環、アセトキシ基由来のアルコールを酸化してカル
ボン酸に誘導し、次いで保護基を脱離せしめるという３
段、計６段の反応を経て目的物を製造するため、収率が
低いという難点の他に、工程が著しく長く操作が煩雑に
なるという難点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる工
業上の難点を解決すべく、スレオ-3-(3,4-ジヒドロキシ
フェニル) セリン〔III 〕の製造方法について、鋭意検
討を重ねた結果、出発原料であるアミノ酸類〔II〕に第
二セリウム塩を反応させれば、過硫酸カリウムを反応さ
せた時には全く生成しなかったオキサゾリドン類〔Ｉ〕
が一挙に得られることを見出すとともに、これを開環せ
しめた後、保護基を脱離させれば、原料アミノ酸類〔I
I〕からわずか２〜３段の反応で効率良く目的とするセ
リン類〔III 〕を製造し得ることを見出すとともに、さ
らに種々の検討を加えて本発明を完成した。
業上の難点を解決すべく、スレオ-3-(3,4-ジヒドロキシ
フェニル) セリン〔III 〕の製造方法について、鋭意検
討を重ねた結果、出発原料であるアミノ酸類〔II〕に第
二セリウム塩を反応させれば、過硫酸カリウムを反応さ
せた時には全く生成しなかったオキサゾリドン類〔Ｉ〕
が一挙に得られることを見出すとともに、これを開環せ
しめた後、保護基を脱離させれば、原料アミノ酸類〔I
I〕からわずか２〜３段の反応で効率良く目的とするセ
リン類〔III 〕を製造し得ることを見出すとともに、さ
らに種々の検討を加えて本発明を完成した。
【０００６】すなわち本発明は、式〔Ｉ〕
【０００７】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ水酸基の保
護基を、Ｒ3 はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲ
ン原子を、ｎは０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示
されるラセミ又は光学活性オキサゾリドン類、その製造
方法及びそれを用いる式〔III 〕
護基を、Ｒ3 はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲ
ン原子を、ｎは０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示
されるラセミ又は光学活性オキサゾリドン類、その製造
方法及びそれを用いる式〔III 〕
【０００８】
【０００９】で示されるラセミ又は光学活性スレオ-3-
(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリンの工業的に優れた
製造方法を提供するものである。
(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリンの工業的に優れた
製造方法を提供するものである。
【００１０】以下本発明について、詳細に説明する。本
発明のオキサゾリドン類〔Ｉ〕におけるＲ1 、Ｒ2 はそ
れぞれ水酸基の保護基を表すものであるが、例えばメチ
ル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等の炭素数１〜６のアルキル基、ベンジ
ル、ナフチルメチル等の炭素数７〜11のアラルキル基、
アリル基などが挙げられる。またＲ1 とＲ2 は一緒にな
って環を形成していても良く、例えばメチレン、2-プロ
ピレン、2-ブチレン、ベンジリデン、ナフチルメチレン
等の炭素数１〜３のアルキル基、炭素数６〜10のアリー
ル基などが置換していることもあるメチレン基等が挙げ
られる。 なかでもアラルキル基、アリル基、置換メチ
レン基が好ましく、容易に脱保護し得る。
発明のオキサゾリドン類〔Ｉ〕におけるＲ1 、Ｒ2 はそ
れぞれ水酸基の保護基を表すものであるが、例えばメチ
ル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等の炭素数１〜６のアルキル基、ベンジ
ル、ナフチルメチル等の炭素数７〜11のアラルキル基、
アリル基などが挙げられる。またＲ1 とＲ2 は一緒にな
って環を形成していても良く、例えばメチレン、2-プロ
ピレン、2-ブチレン、ベンジリデン、ナフチルメチレン
等の炭素数１〜３のアルキル基、炭素数６〜10のアリー
ル基などが置換していることもあるメチレン基等が挙げ
られる。 なかでもアラルキル基、アリル基、置換メチ
レン基が好ましく、容易に脱保護し得る。
【００１１】またＲ3 はカルボン酸の保護基を表すが、
例えばメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数１〜６のアルキル
基、ベンジル、ナフチルメチル等の炭素数７〜11のアラ
ルキル基、アリル基、フェニル、トリル、ナフチル等の
炭素数６〜10のアリール基などが挙げられる。Ｘはハロ
ゲン原子を表すが、ハロゲン原子としては例えばクロ
ル、ブロム等が挙げられる。 ハロゲン置換体の場合
は、アミノ酸類〔II〕からより高い収率でオキサゾリド
ン類〔Ｉ〕を製造し得る。
例えばメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数１〜６のアルキル
基、ベンジル、ナフチルメチル等の炭素数７〜11のアラ
ルキル基、アリル基、フェニル、トリル、ナフチル等の
炭素数６〜10のアリール基などが挙げられる。Ｘはハロ
ゲン原子を表すが、ハロゲン原子としては例えばクロ
ル、ブロム等が挙げられる。 ハロゲン置換体の場合
は、アミノ酸類〔II〕からより高い収率でオキサゾリド
ン類〔Ｉ〕を製造し得る。
【００１２】オキサゾリドン類〔Ｉ〕の代表例として
は、例えば5-(3,4- ジメトキシフェニル)-4-メトキシカ
ルボニル-2- オキサゾリドン、5-(3,4- ジベンジルオキ
シフェニル)-4-メトキシカルボニル-2- オキサゾリド
ン、4-ベンジルオキシカルボニル-5-(3,4-ジアリルオキ
シフェニル)-2-オキサゾリドン、5-(3,4- ジベンジルオ
キシフェニル)-4-ベンジルオキシカルボニル-2- オキサ
ゾリドン、5-(3,4- メチレンジオキシフェニル)-4-フェ
ノキシカルボニル-2- オキサゾリドン、5-(2- クロロ-
4,5- ジメトキシフェニル)-4-メトキシカルボニル-2-
オキサゾリドン、5-(2- クロロ-4,5- ジベンジルオキシ
フェニル)-4-ベンジルオキシカルボニル-2- オキサゾリ
ドン、5-(2- ブロモ-4,5- ベンジリデンジオキシフェニ
ル)-4-エトキシカルボニル-2- オキサゾリドン等のラセ
ミ体、光学活性体が挙げられる。
は、例えば5-(3,4- ジメトキシフェニル)-4-メトキシカ
ルボニル-2- オキサゾリドン、5-(3,4- ジベンジルオキ
シフェニル)-4-メトキシカルボニル-2- オキサゾリド
ン、4-ベンジルオキシカルボニル-5-(3,4-ジアリルオキ
シフェニル)-2-オキサゾリドン、5-(3,4- ジベンジルオ
キシフェニル)-4-ベンジルオキシカルボニル-2- オキサ
ゾリドン、5-(3,4- メチレンジオキシフェニル)-4-フェ
ノキシカルボニル-2- オキサゾリドン、5-(2- クロロ-
4,5- ジメトキシフェニル)-4-メトキシカルボニル-2-
オキサゾリドン、5-(2- クロロ-4,5- ジベンジルオキシ
フェニル)-4-ベンジルオキシカルボニル-2- オキサゾリ
ドン、5-(2- ブロモ-4,5- ベンジリデンジオキシフェニ
ル)-4-エトキシカルボニル-2- オキサゾリドン等のラセ
ミ体、光学活性体が挙げられる。
【００１３】かかるラセミ又は光学活性オキサゾリドン
類〔Ｉ〕は、対応するアミノ酸類〔II〕に第二セリウム
塩を反応させることにより、容易に製造し得る。ここ
で、第二セリウム塩としては、例えば硝酸第二セリウム
アンモニウム、水酸化第二セリウム、硫酸第二セリウ
ム、硫酸第二セリウムアンモニウム等が挙げられる。そ
の使用量はアミノ酸類〔II〕に対して、通常１〜６モル
倍、好ましくは２〜４モル倍である。また銅触媒を共存
させることにより、反応をより効率的に進行させること
ができる。かかる銅触媒としては、例えば塩化第一銅、
塩化第二銅、酢酸銅、硫酸銅、水酸化銅等が挙げられ
る。その場合の使用量はアミノ酸類〔II〕に対して、通
常0.01〜100 モル％、好ましくは0.1 〜50モル％であ
る。
類〔Ｉ〕は、対応するアミノ酸類〔II〕に第二セリウム
塩を反応させることにより、容易に製造し得る。ここ
で、第二セリウム塩としては、例えば硝酸第二セリウム
アンモニウム、水酸化第二セリウム、硫酸第二セリウ
ム、硫酸第二セリウムアンモニウム等が挙げられる。そ
の使用量はアミノ酸類〔II〕に対して、通常１〜６モル
倍、好ましくは２〜４モル倍である。また銅触媒を共存
させることにより、反応をより効率的に進行させること
ができる。かかる銅触媒としては、例えば塩化第一銅、
塩化第二銅、酢酸銅、硫酸銅、水酸化銅等が挙げられ
る。その場合の使用量はアミノ酸類〔II〕に対して、通
常0.01〜100 モル％、好ましくは0.1 〜50モル％であ
る。
【００１４】反応は、通常溶媒の存在下に実施される
が、溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制
限はなく、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルム、モノクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、ア
セトニトリル等のニトリル類、水、これらの混合物など
が挙げられる。 その使用量は、アミノ酸類〔II〕に対
して、通常１〜100 重量倍程度である。また反応温度
は、通常-30 〜100 ℃、好ましくは-20 〜50℃である。
が、溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制
限はなく、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルム、モノクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、ア
セトニトリル等のニトリル類、水、これらの混合物など
が挙げられる。 その使用量は、アミノ酸類〔II〕に対
して、通常１〜100 重量倍程度である。また反応温度
は、通常-30 〜100 ℃、好ましくは-20 〜50℃である。
【００１５】生成した本発明のオキサゾリドン類〔Ｉ〕
は、例えば反応マスにヒドロキノンのアルカリ水溶液を
加えて残存する酸化剤を失活させた後、抽出、濃縮する
ことにより目的物を取り出すことができる。また例えば
カラムクロマトグラフィー等により精製することもでき
る。
は、例えば反応マスにヒドロキノンのアルカリ水溶液を
加えて残存する酸化剤を失活させた後、抽出、濃縮する
ことにより目的物を取り出すことができる。また例えば
カラムクロマトグラフィー等により精製することもでき
る。
【００１６】かくして得られたオキサゾリドン類〔Ｉ〕
は、開環及び保護基を脱離させることにより、対応する
ラセミ又は光学活性スレオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニ
ル)セリンに誘導し得る。ここで、開環及び保護基の脱
離は公知の方法に準拠して実施し得、その順序は特に限
定されない。例えば開環は、塩酸、硫酸、硝酸、トリフ
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、P-トルエンスルホン酸
等の酸で処理することにより実施し得る。 保護基の脱
離も、例えば、Ｒ1 、Ｒ2 がアルキル基又はＲ1 とＲ2
が一緒になったメチレン基である場合には、例えば塩化
アルミニウム、四塩化チタン、三フッ化ホウ素等のルイ
ス酸で処理することにより、又Ｒ1 、Ｒ2 がアラルキル
基の場合には、例えばパラジウム等の貴金属触媒の存在
下に水素化分解することにより、又Ｒ1 、Ｒ2がアリル
基の場合には、例えばp-トルエンスルホン酸等の酸触媒
の存在下にパラジウムを作用させることにより、又
Ｒ1 、Ｒ2 が一緒になったアルキレン基、アリール基で
置換されたメチレン基である場合は、例えば塩酸、硫
酸、硝酸等の酸で処理することにより実施し得る。
は、開環及び保護基を脱離させることにより、対応する
ラセミ又は光学活性スレオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニ
ル)セリンに誘導し得る。ここで、開環及び保護基の脱
離は公知の方法に準拠して実施し得、その順序は特に限
定されない。例えば開環は、塩酸、硫酸、硝酸、トリフ
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、P-トルエンスルホン酸
等の酸で処理することにより実施し得る。 保護基の脱
離も、例えば、Ｒ1 、Ｒ2 がアルキル基又はＲ1 とＲ2
が一緒になったメチレン基である場合には、例えば塩化
アルミニウム、四塩化チタン、三フッ化ホウ素等のルイ
ス酸で処理することにより、又Ｒ1 、Ｒ2 がアラルキル
基の場合には、例えばパラジウム等の貴金属触媒の存在
下に水素化分解することにより、又Ｒ1 、Ｒ2がアリル
基の場合には、例えばp-トルエンスルホン酸等の酸触媒
の存在下にパラジウムを作用させることにより、又
Ｒ1 、Ｒ2 が一緒になったアルキレン基、アリール基で
置換されたメチレン基である場合は、例えば塩酸、硫
酸、硝酸等の酸で処理することにより実施し得る。
【００１７】カルボン酸の保護基であるＲ3 の脱離は、
例えばＲ3 がアルキル基、アリール基の場合には、例え
ば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム
等のアルカリ水溶液又は塩酸、硫酸、硝酸等の酸で処理
することにより、Ｒ3 がアラルキル基の場合には、例え
ばパラジウム等の貴金属触媒の存在下に水素化分解する
ことにより、又Ｒ3 がアリル基の場合には、例えばテト
ラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等で処理
することにより実施し得る。またｎが１〜３である場合
には、例えばパラジウム等の貴金属触媒の存在下に水素
化分解することによりハロゲン原子を脱離し得る。
例えばＲ3 がアルキル基、アリール基の場合には、例え
ば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム
等のアルカリ水溶液又は塩酸、硫酸、硝酸等の酸で処理
することにより、Ｒ3 がアラルキル基の場合には、例え
ばパラジウム等の貴金属触媒の存在下に水素化分解する
ことにより、又Ｒ3 がアリル基の場合には、例えばテト
ラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等で処理
することにより実施し得る。またｎが１〜３である場合
には、例えばパラジウム等の貴金属触媒の存在下に水素
化分解することによりハロゲン原子を脱離し得る。
【００１８】
【発明の効果】本発明のラセミ又は光学活性オキサゾリ
ドン類〔Ｉ〕は、医薬中間体として有用であり、例え
ば、対応するスレオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セ
リン〔III 〕に誘導し得る。加えて、本発明方法によれ
ば、アミノ酸類〔II〕からオキサゾリドン類〔Ｉ〕を経
ることにより、極めて短工程でしかも容易にスレオ-3-
(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリン〔III 〕を製造し
得るという利点も有す。
ドン類〔Ｉ〕は、医薬中間体として有用であり、例え
ば、対応するスレオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セ
リン〔III 〕に誘導し得る。加えて、本発明方法によれ
ば、アミノ酸類〔II〕からオキサゾリドン類〔Ｉ〕を経
ることにより、極めて短工程でしかも容易にスレオ-3-
(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリン〔III 〕を製造し
得るという利点も有す。
【００１９】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２０】実施例１ 氷冷、攪拌下、(2S)-2-t- ブトキシカルボニル- アミノ
-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニル) プロパン酸ベンジ
ル 2.27g、酢酸銅一水和物 8mg、アセトン30gからなる
混合物に、硝酸第二セリウムアンモニウム 5.92gと水 2
5gからなる溶液を0.5 時間かけて加えて、同温度で８時
間攪拌を続けた。次いでヒドロキノン 0.18gと10％水酸
化ナトリウム水溶液4.3gを加えた後、低沸分を留去し
た。得られたスラリーに酢酸エチル50mlを加えた後、10
％塩酸を加えて無機塩を溶解させて分液した。有機層を
飽和食塩水で洗浄、乾燥、減圧濃縮、シリカゲルクロマ
トグラフィーで精製することにより(4S,5R)-4-ベンジル
オキシカルボニル-5-(3,4-ジベンジルオキシフェニル)-
2-オキサゾリドン 1.35g( 収率66％) を得た。 融
点 122℃1 H-NMR δ 4.20(d,1H,J=5.3Hz) 、5.07-5.29(m,6H) 、
5.49(d,1H,J=5.3Hz)、6.19(brs,1H)、6.88-6.96(m,3H)
、7.29-7.43(m,15H) IR 3320、1784、1724 cm -1
-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニル) プロパン酸ベンジ
ル 2.27g、酢酸銅一水和物 8mg、アセトン30gからなる
混合物に、硝酸第二セリウムアンモニウム 5.92gと水 2
5gからなる溶液を0.5 時間かけて加えて、同温度で８時
間攪拌を続けた。次いでヒドロキノン 0.18gと10％水酸
化ナトリウム水溶液4.3gを加えた後、低沸分を留去し
た。得られたスラリーに酢酸エチル50mlを加えた後、10
％塩酸を加えて無機塩を溶解させて分液した。有機層を
飽和食塩水で洗浄、乾燥、減圧濃縮、シリカゲルクロマ
トグラフィーで精製することにより(4S,5R)-4-ベンジル
オキシカルボニル-5-(3,4-ジベンジルオキシフェニル)-
2-オキサゾリドン 1.35g( 収率66％) を得た。 融
点 122℃1 H-NMR δ 4.20(d,1H,J=5.3Hz) 、5.07-5.29(m,6H) 、
5.49(d,1H,J=5.3Hz)、6.19(brs,1H)、6.88-6.96(m,3H)
、7.29-7.43(m,15H) IR 3320、1784、1724 cm -1
【００２１】実施例２ 3 ％水酸化ナトリウム- エタノール溶液 5g に(4S,5R)-
4-ベンジルオキシカルボニル-5-(3,4-ジベンジルオキシ
フェニル)-2-オキサゾリドン 255mgを加えて、40℃で３
時間攪拌した。次いで酢酸で中和した後、５％パラジウ
ム−炭素 32mg を加えて、常圧室温下に15時間水素還元
を行った。反応マスを濾過、濾液を減圧濃縮した後、シ
リカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、L-
スレオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリン 51mg(収
率48 ％) を得た。
4-ベンジルオキシカルボニル-5-(3,4-ジベンジルオキシ
フェニル)-2-オキサゾリドン 255mgを加えて、40℃で３
時間攪拌した。次いで酢酸で中和した後、５％パラジウ
ム−炭素 32mg を加えて、常圧室温下に15時間水素還元
を行った。反応マスを濾過、濾液を減圧濃縮した後、シ
リカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、L-
スレオ-3-(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリン 51mg(収
率48 ％) を得た。
【００２２】実施例３ (1) 攪拌、氷冷下、(2S)-2-t- ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)-プロパン酸メチル1.7g
と酢酸−アセトニトリル(1:1) 混合溶液50mlからなる溶
液に、10％次亜塩素酸ナトリウム水溶液3.72g を1 時間
かけて滴下し、同温度で1 時間攪拌を続けた。原料の消
失を確認後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて、過剰
の次亜塩素酸ナトリウムを失活、減圧濃縮、残渣に水、
酢酸エチルを加えて抽出、有機層を飽和食塩水で洗浄、
乾燥、濃縮、シリカゲルクロマトグラフィーで処理する
ことにより、(2S)-2-t- ブトキシカルボニルアミノ-3-
(2-クロロ-4,5- ジメトキシフェニル)-プロパン酸メチ
ル 1.73g( 収率93％) を得た。1 H-NMR δ 1.39(s,9H) 、3.00-3.11(m,1H) 、3.15-3.27
(m,1H) 、3.71(s,3H)、3.86(s,6H)、4.52-4.63(m,1H)
、5.02-5.16(m,1H) 、6.66(s,1H)、6.82(s,1H)
ノ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)-プロパン酸メチル1.7g
と酢酸−アセトニトリル(1:1) 混合溶液50mlからなる溶
液に、10％次亜塩素酸ナトリウム水溶液3.72g を1 時間
かけて滴下し、同温度で1 時間攪拌を続けた。原料の消
失を確認後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて、過剰
の次亜塩素酸ナトリウムを失活、減圧濃縮、残渣に水、
酢酸エチルを加えて抽出、有機層を飽和食塩水で洗浄、
乾燥、濃縮、シリカゲルクロマトグラフィーで処理する
ことにより、(2S)-2-t- ブトキシカルボニルアミノ-3-
(2-クロロ-4,5- ジメトキシフェニル)-プロパン酸メチ
ル 1.73g( 収率93％) を得た。1 H-NMR δ 1.39(s,9H) 、3.00-3.11(m,1H) 、3.15-3.27
(m,1H) 、3.71(s,3H)、3.86(s,6H)、4.52-4.63(m,1H)
、5.02-5.16(m,1H) 、6.66(s,1H)、6.82(s,1H)
【００２３】(2) 実施例１において、(2S)-2-t- ブトキ
シカルボニルアミノ-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニ
ル) プロパン酸ベンジルの代わりに、(2S)-2-t- ブトキ
シカルボニルアミノ-3-(2-クロロ-4,5- ジメトキシフェ
ニル)-プロパン酸メチル374mgを用いる以外は実施例１
に準拠して実施することにより、(4S,5R)-5-(2- クロロ
-4,5- ジメトキシフェニル)-4-メトキシカルボニル-2-
オキサゾリドン 243mg(収率77％) を得た。1 H-NMR δ 3.84(s,3H) 、3.88(s,6H)、4.13(d,1H,J=5.0
Hz)、5.94(d,1H,J=5.0Hz)、6.89(s,1H)、6.94(s,1H)、
7.01(s,1H)
シカルボニルアミノ-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニ
ル) プロパン酸ベンジルの代わりに、(2S)-2-t- ブトキ
シカルボニルアミノ-3-(2-クロロ-4,5- ジメトキシフェ
ニル)-プロパン酸メチル374mgを用いる以外は実施例１
に準拠して実施することにより、(4S,5R)-5-(2- クロロ
-4,5- ジメトキシフェニル)-4-メトキシカルボニル-2-
オキサゾリドン 243mg(収率77％) を得た。1 H-NMR δ 3.84(s,3H) 、3.88(s,6H)、4.13(d,1H,J=5.0
Hz)、5.94(d,1H,J=5.0Hz)、6.89(s,1H)、6.94(s,1H)、
7.01(s,1H)
【００２４】実施例４ 実施例１において、(2S)-2-t- ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニル) プロパン酸ベン
ジルの代わりに、(2S)-2-t- ブトキシカルボニルアミノ
-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニル) プロパン酸メチル
1.97gを用いる以外は実施例１に準拠して実施すること
により、(4S,5R)-5-(3,4- ジベンジルオキシフェニル)-
4-メトキシカルボニル-2- オキサゾリドン 1.09g( 収率
63％) を得た。 FD-MS 4331 H-NMR δ 3.80(s,3H),4.19(d,1H,J=5.3Hz),5.15(s,4
H),5.52(d,1H,J=5.3Hz),6.38(brs,1H),6.92-7.00(m,3
H),7.29-7.45(m,10H)
ノ-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニル) プロパン酸ベン
ジルの代わりに、(2S)-2-t- ブトキシカルボニルアミノ
-3-(3,4-ジベンジルオキシフェニル) プロパン酸メチル
1.97gを用いる以外は実施例１に準拠して実施すること
により、(4S,5R)-5-(3,4- ジベンジルオキシフェニル)-
4-メトキシカルボニル-2- オキサゾリドン 1.09g( 収率
63％) を得た。 FD-MS 4331 H-NMR δ 3.80(s,3H),4.19(d,1H,J=5.3Hz),5.15(s,4
H),5.52(d,1H,J=5.3Hz),6.38(brs,1H),6.92-7.00(m,3
H),7.29-7.45(m,10H)
【００２５】実施例５ (1) イソプロパノール5gに5 ％パラジウム炭素128mg と
(4S,5R)-5-(3,4- ジベンジルオキシフェニル)-4-メトキ
シカルボニル-2- オキサゾリドン 867mgを加えて、室温
常圧下に水素還元した。反応マスを濾過、濾液を減圧濃
縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、(4S,5R)-5-(3,4- ジヒドロキシフェニル)-4-
メトキシカルボニル-2- オキサゾリドン400mg(収率 79
％) を得た。 FD-MS 253 IR 3318 、3080、1781、1725 cm-1
(4S,5R)-5-(3,4- ジベンジルオキシフェニル)-4-メトキ
シカルボニル-2- オキサゾリドン 867mgを加えて、室温
常圧下に水素還元した。反応マスを濾過、濾液を減圧濃
縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、(4S,5R)-5-(3,4- ジヒドロキシフェニル)-4-
メトキシカルボニル-2- オキサゾリドン400mg(収率 79
％) を得た。 FD-MS 253 IR 3318 、3080、1781、1725 cm-1
【００２６】(2) 3％水酸化ナトリウム−エタノール溶
液10g に(4S,5R)-5-(3,4- ジヒドロキシフェニル)-4-メ
トキシカルボニル-2- オキサゾリドン 253mgを加えて40
℃で 3時間攪拌した。次いで、1N塩酸で中和し、析出し
た結晶を濾取することにより、L-スレオ-3-(3,4-ジヒド
ロキシフェニル) セリン115mg(収率 54 ％) を得た。
液10g に(4S,5R)-5-(3,4- ジヒドロキシフェニル)-4-メ
トキシカルボニル-2- オキサゾリドン 253mgを加えて40
℃で 3時間攪拌した。次いで、1N塩酸で中和し、析出し
た結晶を濾取することにより、L-スレオ-3-(3,4-ジヒド
ロキシフェニル) セリン115mg(収率 54 ％) を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (6)
- 【請求項１】式〔Ｉ〕 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ水酸基の保護基を、Ｒ3
はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲン原子を、ｎ
は０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示されるラセミ
又は光学活性オキサゾリドン類。 - 【請求項２】式〔II〕 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ水酸基の保護基を、Ｒ3
はカルボン酸の保護基を表す。Ｘはハロゲン原子を、ｎ
は０〜３を、＊は不斉炭素を表す。）で示されるラセミ
又は光学活性アミノ酸類と第二セリウム塩とを反応させ
ることを特徴とする請求項１記載のラセミ又は光学活性
オキサゾリドン類〔Ｉ〕の製造方法。 - 【請求項３】銅触媒の共存下に実施することを特徴とす
る請求項２記載の製造方法。 - 【請求項４】請求項１記載のラセミ又は光学活性オキサ
ゾリドン類〔Ｉ〕を開環及び保護基を脱離させることを
特徴とする式〔III 〕 で示されるラセミ又は光学活性スレオ-3-(3,4-ジヒドロ
キシフェニル) セリンの製造方法。 - 【請求項５】請求項２記載のラセミ又は光学活性アミノ
酸類〔II〕と第二セリウム塩とを反応させて請求項１記
載のラセミ又は光学活性オキサゾリドン類〔Ｉ〕を製造
し、次いでこれを開環及び保護基を脱離させることを特
徴とする請求項４記載のラセミ又は光学活性スレオ-3-
(3,4-ジヒドロキシフェニル) セリン〔III 〕の製造方
法。 - 【請求項６】ラセミ又は光学活性アミノ酸類〔II〕と第
二セリウム塩の反応を銅触媒の共存下に実施することを
特徴とする請求項５記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7119863A JPH08231518A (ja) | 1994-12-26 | 1995-05-18 | オキサゾリドン類、その製造方法及びそれを用いるスレオ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル） セリンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-322838 | 1994-12-26 | ||
| JP32283894 | 1994-12-26 | ||
| JP7119863A JPH08231518A (ja) | 1994-12-26 | 1995-05-18 | オキサゾリドン類、その製造方法及びそれを用いるスレオ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル） セリンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08231518A true JPH08231518A (ja) | 1996-09-10 |
Family
ID=26457526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7119863A Pending JPH08231518A (ja) | 1994-12-26 | 1995-05-18 | オキサゾリドン類、その製造方法及びそれを用いるスレオ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル） セリンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08231518A (ja) |
-
1995
- 1995-05-18 JP JP7119863A patent/JPH08231518A/ja active Pending
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