JP2778103B2 - 光学活性なスレオージヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法 - Google Patents
光学活性なスレオージヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JP2778103B2 JP2778103B2 JP1102834A JP10283489A JP2778103B2 JP 2778103 B2 JP2778103 B2 JP 2778103B2 JP 1102834 A JP1102834 A JP 1102834A JP 10283489 A JP10283489 A JP 10283489A JP 2778103 B2 JP2778103 B2 JP 2778103B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- optically active
- threo
- derivative
- protecting group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/30—Preparation of optical isomers
- C07C227/32—Preparation of optical isomers by stereospecific synthesis
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、各種の薬理作用を示すことで知られている
Ｌ−スレオ−３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）
−セリンの中間体として有用な光学活性なスレオ−ジヒ
ドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法に関する。
Ｌ−スレオ−３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）
−セリンの中間体として有用な光学活性なスレオ−ジヒ
ドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法に関する。
＜従来の技術および発明が解決しようとする課題＞ Ｌ−スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体は、
従来スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体の光学
分割により得ていた。
従来スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体の光学
分割により得ていた。
しかし、この方法では、収率が50％以下であり、不用
物であるＤ−スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導
体を回収、再使用する必要があった。
物であるＤ−スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導
体を回収、再使用する必要があった。
しかも、スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体
は不斉炭素原子を２個有する為に、例えば前記不要物で
あるＤ−スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体を
ラセミ化（不要物の回収、再使用法としては最も一般的
な手段である）することは、２位および３位の立体配置
の制御が困難であり、事実上不可能であった。
は不斉炭素原子を２個有する為に、例えば前記不要物で
あるＤ−スレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体を
ラセミ化（不要物の回収、再使用法としては最も一般的
な手段である）することは、２位および３位の立体配置
の制御が困難であり、事実上不可能であった。
本発明は、上記の従来技術の欠点を克服して、工業的
有利な光学活性なスレオ−ジヒドロキシフェニルセリン
誘導体の製造方法を提供するものである。
有利な光学活性なスレオ−ジヒドロキシフェニルセリン
誘導体の製造方法を提供するものである。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明は、一般式（II） （式中、R1およびR2はそれぞれまたは両者が一緒になっ
てフェノール性水酸基の保護基を、R3はアミノ基の保護
基を、R4はカルボキシル基の保護基をそれぞれ表わ
す。） で示されるケトンを、溶媒中、一般式（III） （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子またはアセトキシル基
を、R5は低級アルキル基を、Ｚはフェニル基またはｐ−
トリル基をそれぞれ表わす。ｎは０または１である。） で示される光学活性なルテニウムホスフィン錯体の存在
下に、不斉水素化することを特徴とする一般式（Ｉ） （式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味であ
る。） で示される光学活性なスレオ−ジヒドロキシフェニルセ
リン誘導体の製造方法である。
てフェノール性水酸基の保護基を、R3はアミノ基の保護
基を、R4はカルボキシル基の保護基をそれぞれ表わ
す。） で示されるケトンを、溶媒中、一般式（III） （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子またはアセトキシル基
を、R5は低級アルキル基を、Ｚはフェニル基またはｐ−
トリル基をそれぞれ表わす。ｎは０または１である。） で示される光学活性なルテニウムホスフィン錯体の存在
下に、不斉水素化することを特徴とする一般式（Ｉ） （式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味であ
る。） で示される光学活性なスレオ−ジヒドロキシフェニルセ
リン誘導体の製造方法である。
本発明に用いる一般式（II）で示されるケトンにおい
て、フェノール性水酸基、アミノ基およびカルボキシル
基の保護基としては不斉水素化反応に不活性であって、
かつ、この反応によって得られるセリン誘導体（Ｉ）を
Ｌ−スレオ−３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）
−セリンに導く際に容易に脱保護基できるものであれば
よく、R1およびR2で示されるフェノール性水酸基の保護
基としては、具体的には、単独の保護基としてベンジル
基もしくはｐ−クロルベンジル基等のアラルキル基また
はアリル基もしくは３−ブテニル基等の低級アルケニル
基が、また、両者が一緒になって形成される保護基とし
てメチレン基が挙げられ、R3で示されるアミノ基の保護
基としては、具体的には、ホルミル基、アセチル基、プ
ロピオニル基もしくはトリフルオロアセチル基などのア
ミドを生成する保護基またはアリルオキシカルボニル基
もしくはベンジルオキシカルボニル基などのカーバメイ
トを生成する保護基が挙げられ、R4で示されるカルボキ
シル基の保護基として具体的には、メチル基もしくはエ
チル基等の炭素数１〜５のアルキル基またはベンジル基
もしくはｐ−クロルベンジル基等のアラルキル基または
アリル基もしくは３−ブテニル基等の低級アルケニル基
などが挙げられる。
て、フェノール性水酸基、アミノ基およびカルボキシル
基の保護基としては不斉水素化反応に不活性であって、
かつ、この反応によって得られるセリン誘導体（Ｉ）を
Ｌ−スレオ−３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）
−セリンに導く際に容易に脱保護基できるものであれば
よく、R1およびR2で示されるフェノール性水酸基の保護
基としては、具体的には、単独の保護基としてベンジル
基もしくはｐ−クロルベンジル基等のアラルキル基また
はアリル基もしくは３−ブテニル基等の低級アルケニル
基が、また、両者が一緒になって形成される保護基とし
てメチレン基が挙げられ、R3で示されるアミノ基の保護
基としては、具体的には、ホルミル基、アセチル基、プ
ロピオニル基もしくはトリフルオロアセチル基などのア
ミドを生成する保護基またはアリルオキシカルボニル基
もしくはベンジルオキシカルボニル基などのカーバメイ
トを生成する保護基が挙げられ、R4で示されるカルボキ
シル基の保護基として具体的には、メチル基もしくはエ
チル基等の炭素数１〜５のアルキル基またはベンジル基
もしくはｐ−クロルベンジル基等のアラルキル基または
アリル基もしくは３−ブテニル基等の低級アルケニル基
などが挙げられる。
一般式（II）で示されるケトンは、公知方法〔Syn.Co
mmun.２、237（1972）等〕に準じて例えば、3,4−ジヒ
ドロキシベンゾイルハライドのエーテル誘導体およびイ
ソシアノ酢酸エステルを塩基の存在下に縮合させてオキ
サゾール誘導体を得、ついで該誘導体を酸性条件下で加
水分解して３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）−
３−オキソ−アラニンエステルのエーテル誘導体を得、
ついで該誘導体のアミノ基をアミド化またはカーバメイ
ト化して保護する方法により製造することができる。
mmun.２、237（1972）等〕に準じて例えば、3,4−ジヒ
ドロキシベンゾイルハライドのエーテル誘導体およびイ
ソシアノ酢酸エステルを塩基の存在下に縮合させてオキ
サゾール誘導体を得、ついで該誘導体を酸性条件下で加
水分解して３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）−
３−オキソ−アラニンエステルのエーテル誘導体を得、
ついで該誘導体のアミノ基をアミド化またはカーバメイ
ト化して保護する方法により製造することができる。
次に、一般式（III）で示される光学活性なルテニウ
ムホスフィン錯体は公知方法により製造することがで
き、例えばRuBr2（BINAP）についてはJ.A.C.S.110 629
−631（1988）およびJ.C.S Chem.Cnommun.922（1985）
に記載の方法、すなわち、RuCl2（COD）、BINAPおよび
トリエチルアミンを反応させてRuCl2（BINAP）・Ｎ（C2
H5）３錯体を得、ついで酢酸ナトリウムを反応させてRu
（BINAP）・（CH3COO2）とした後、臭化水素を反応させ
ることにより得られる。
ムホスフィン錯体は公知方法により製造することがで
き、例えばRuBr2（BINAP）についてはJ.A.C.S.110 629
−631（1988）およびJ.C.S Chem.Cnommun.922（1985）
に記載の方法、すなわち、RuCl2（COD）、BINAPおよび
トリエチルアミンを反応させてRuCl2（BINAP）・Ｎ（C2
H5）３錯体を得、ついで酢酸ナトリウムを反応させてRu
（BINAP）・（CH3COO2）とした後、臭化水素を反応させ
ることにより得られる。
但し、CODはシクロ−オクタ−1,5−ジエンを、BINAP
は を示す。
は を示す。
このようにして得られる光学活性なルテニウムホスフ
ィン錯体（III）は、光学活性なホスフィン誘導体とル
テニウム塩とからなる錯体であって、光学活性なホスフ
ィン誘導体としては、前記のBINAPまたは が挙げられ、ルテニウム塩としては、塩化ルテニウムも
しくは臭化ルテニウム等のハロゲン化ルテニウムまたは
これらのハロゲン化ルテニウムとトリメチルアミンもし
くはトリエチルアミン等の３級アミンとの錯塩または酢
酸ルテニウムが挙げられる。
ィン錯体（III）は、光学活性なホスフィン誘導体とル
テニウム塩とからなる錯体であって、光学活性なホスフ
ィン誘導体としては、前記のBINAPまたは が挙げられ、ルテニウム塩としては、塩化ルテニウムも
しくは臭化ルテニウム等のハロゲン化ルテニウムまたは
これらのハロゲン化ルテニウムとトリメチルアミンもし
くはトリエチルアミン等の３級アミンとの錯塩または酢
酸ルテニウムが挙げられる。
本発明において好ましく用いられる光学活性なルテニ
ウムホスフィン錯体（III）としては、RuCl2（BINA
P）、RuCl2（BINAP）・Ｎ（C2H5）３、RuBr2（BINAP）
および酢酸ルテニウム・（BINAP）が挙げられる。
ウムホスフィン錯体（III）としては、RuCl2（BINA
P）、RuCl2（BINAP）・Ｎ（C2H5）３、RuBr2（BINAP）
および酢酸ルテニウム・（BINAP）が挙げられる。
本発明において用いる錯体（III）は、ケトン（II）
に対して0.0001モル％〜10モル％好ましくは、0.001％
〜10モル％使用される。
に対して0.0001モル％〜10モル％好ましくは、0.001％
〜10モル％使用される。
本発明の不斉水素化反応における水素圧は、1kg/cm2
以上であるが、反応時間の観点からは、好ましくは50〜
159kg/cm2である。
以上であるが、反応時間の観点からは、好ましくは50〜
159kg/cm2である。
反応温度は20〜200℃であり、反応時間は通常20〜150
時間である。
時間である。
本発明の不斉水素化反応における反応溶媒としては、
反応に不活性な溶媒であれば良く、例えばメタノール、
エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等
のアルコール類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素などが挙げられ
る。
反応に不活性な溶媒であれば良く、例えばメタノール、
エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等
のアルコール類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素などが挙げられ
る。
錯体（III）の回収は、通常、セオライト、シリカゲ
ルなどに吸着させるか、あるいは結晶化により行われ、
回収した錯体は次回の反応に再使用することもできる。
ルなどに吸着させるか、あるいは結晶化により行われ、
回収した錯体は次回の反応に再使用することもできる。
一般式（Ｉ）で示される光学活性なスレオ−ジヒドロ
キシフェニルセリン誘導体の取出しは、不斉水素化反応
終了後、例えば錯体（III）を除去した後、反応溶媒を
留去して単離される。
キシフェニルセリン誘導体の取出しは、不斉水素化反応
終了後、例えば錯体（III）を除去した後、反応溶媒を
留去して単離される。
このようにして得られる光学活性なスレオ−ジヒドロ
キシフェニルセリン誘導体（Ｉ）としては、Ｌ−スレオ
−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジオキシフ
ェニル）セリンメチルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−メチレンジオ
キシフェニル）−セリンメチルエステル、Ｌ−スレオ−
Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−ジベ
ンジルオキシフェニル）−セリンベンジルエステル、Ｌ
−スレオ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−
（３′,4′−ジベンジルオキシフェニル）−セリンメチ
ルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル−３−（３′,4′−ジアリルオキシフェニル）−セリ
ン アリルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−アリルオキシカ
ルボニル−３−（３′,4′−ジアリルオキシフェニル）
−セリンアリルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−プロピオニ
ル−３−（３′,4′−メチレンジオキシフェニル）セリ
ンエチルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−プロピオニル−３
−｛３′,4′−ジ（３−ブテニル）オキシフェニル｝−
セリンエチルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−（３−ブテニ
ル）オキシカルボニル−３−｛３′,4′−ジ（３−ブテ
ニル）オキシフェニル｝−セリン（３−ブテニル）エス
テル、Ｌ−スレオ−Ｎ−ｐ−クロルベンジルオキシカル
ボニル−３−｛３′,4′−ジ−（ｐ−クロルベンジル）
オキシフェニル｝−セリンｐ−クロルベンジルエステル
等が例示される。
キシフェニルセリン誘導体（Ｉ）としては、Ｌ−スレオ
−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジオキシフ
ェニル）セリンメチルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−メチレンジオ
キシフェニル）−セリンメチルエステル、Ｌ−スレオ−
Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−ジベ
ンジルオキシフェニル）−セリンベンジルエステル、Ｌ
−スレオ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−
（３′,4′−ジベンジルオキシフェニル）−セリンメチ
ルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル−３−（３′,4′−ジアリルオキシフェニル）−セリ
ン アリルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−アリルオキシカ
ルボニル−３−（３′,4′−ジアリルオキシフェニル）
−セリンアリルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−プロピオニ
ル−３−（３′,4′−メチレンジオキシフェニル）セリ
ンエチルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−プロピオニル−３
−｛３′,4′−ジ（３−ブテニル）オキシフェニル｝−
セリンエチルエステル、Ｌ−スレオ−Ｎ−（３−ブテニ
ル）オキシカルボニル−３−｛３′,4′−ジ（３−ブテ
ニル）オキシフェニル｝−セリン（３−ブテニル）エス
テル、Ｌ−スレオ−Ｎ−ｐ−クロルベンジルオキシカル
ボニル−３−｛３′,4′−ジ−（ｐ−クロルベンジル）
オキシフェニル｝−セリンｐ−クロルベンジルエステル
等が例示される。
本発明により得られるフェニルセリン誘導体（Ｉ）
は、保護基を脱離させてＬ−スレオ−３−（３′,4′−
ジヒドロキシフェニル）−セリンへ導くことができる
が、脱保護基の観点からはフェノール性水酸基の保護基
およびカルボキシル基の保護基が同一であって、かつ、
アミノ基の保護基がフェノール性水酸基およびカルボキ
シル基の保護基に対応したカーバメイトを生成する保護
基であることが望ましい。
は、保護基を脱離させてＬ−スレオ−３−（３′,4′−
ジヒドロキシフェニル）−セリンへ導くことができる
が、脱保護基の観点からはフェノール性水酸基の保護基
およびカルボキシル基の保護基が同一であって、かつ、
アミノ基の保護基がフェノール性水酸基およびカルボキ
シル基の保護基に対応したカーバメイトを生成する保護
基であることが望ましい。
＜発明の効果＞ 本発明によれば、Ｌ−スレオ−３−（３′,4′−ジヒ
ドリキシフェニル）−セリンの中間体として有用な光学
活性なスレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体
（Ｉ）が、ラセミ体の原料化合物であるケトン（II）か
ら一段で、かつ、高収率で製造することができる。
ドリキシフェニル）−セリンの中間体として有用な光学
活性なスレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体
（Ｉ）が、ラセミ体の原料化合物であるケトン（II）か
ら一段で、かつ、高収率で製造することができる。
しかも、高化学純度、高スレオ体比、好光学純度の上
記誘導体（Ｉ）が得られるので、適当な反応条件で保護
基を脱離させれば、容易に各種の薬理作用を有するＬ−
スレオ−３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）−セ
リンへと導くことができる。
記誘導体（Ｉ）が得られるので、適当な反応条件で保護
基を脱離させれば、容易に各種の薬理作用を有するＬ−
スレオ−３−（３′,4′−ジヒドロキシフェニル）−セ
リンへと導くことができる。
＜実施例＞ 以下、実施例により本発明を説明する。
参考例１ （１） 3,4−メチレンジオキシベンゾイルグリシンメ
チルエステルの合成 α−イソシアノ酢酸メチル（14.2g）のテトラヒドロ
フラン溶液（250ml）にトリエチルアミン（59ml）及び
ピペロニル酸クロライド（23.3g）のテトラヒドロフラ
ン溶液（40m）を滴下した後、室温で２日間撹拌した。
溶媒を減圧留去後、残渣を酢酸エチルに溶かし飽和食塩
水で洗浄した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去し、残渣をメタノールより再結晶し
て５−（3,4−メチレンジオキシ）フェニル−４−カル
ボメトキシオキサゾールを得た。
チルエステルの合成 α−イソシアノ酢酸メチル（14.2g）のテトラヒドロ
フラン溶液（250ml）にトリエチルアミン（59ml）及び
ピペロニル酸クロライド（23.3g）のテトラヒドロフラ
ン溶液（40m）を滴下した後、室温で２日間撹拌した。
溶媒を減圧留去後、残渣を酢酸エチルに溶かし飽和食塩
水で洗浄した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去し、残渣をメタノールより再結晶し
て５−（3,4−メチレンジオキシ）フェニル−４−カル
ボメトキシオキサゾールを得た。
融点130〜132℃ このオキサゾール誘導体（2.47g）を3N−塩酸（50m
l）とメタノール（100ml）の混合液に懸濁させ50〜60℃
で２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣をメタノー
ル−酢酸エチルから再結晶して3,4−メチレンジオキシ
ベンゾイルグリシンメチルエステルの塩酸塩を得た。
l）とメタノール（100ml）の混合液に懸濁させ50〜60℃
で２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣をメタノー
ル−酢酸エチルから再結晶して3,4−メチレンジオキシ
ベンゾイルグリシンメチルエステルの塩酸塩を得た。
融点170〜171℃ （２） DL−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレン
ジオキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエス
テルの合成 （１）で得たグリシンメチルエステルの塩酸塩1gに無
水酢酸（5ml）を20〜30℃で滴下した。80℃で10分間撹
拌した、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した
後、有機層を重曹水で洗浄し、分液した。溶媒を減圧留
去してDL−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジ
オキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエステ
ルを得た。融点99〜101℃ 実施例１ DL−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジオキ
シフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエステル1
g、RuBr2［（Ｒ）−BINAP］12mgおよび塩化メチレン20m
lをオートクレープ内にアルゴンガス気流下で仕込み、
水素圧100kg/cm2で撹拌しながら50℃で120時間反応させ
た。
ジオキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエス
テルの合成 （１）で得たグリシンメチルエステルの塩酸塩1gに無
水酢酸（5ml）を20〜30℃で滴下した。80℃で10分間撹
拌した、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した
後、有機層を重曹水で洗浄し、分液した。溶媒を減圧留
去してDL−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジ
オキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエステ
ルを得た。融点99〜101℃ 実施例１ DL−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジオキ
シフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエステル1
g、RuBr2［（Ｒ）−BINAP］12mgおよび塩化メチレン20m
lをオートクレープ内にアルゴンガス気流下で仕込み、
水素圧100kg/cm2で撹拌しながら50℃で120時間反応させ
た。
反応終了後、溶媒を留去し、濃縮残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液……クロロホルム／メ
タノール10/1）で精製してＬ−スレオ−Ｎ−アセチル−
３−（３′,4′−メチレンジオキシフェニル）セリンメ
チルエステルを得た。（収率99.3％、スレオ／エリスロ
比99.6/0.4、Ｌ体比/D体比 97.1/2.9）融点182〜183
℃、▲〔α〕14 D▼＋26.4゜ （ｃ＝0.504、クロロホルム／メタノール＝1/1） 尚、RuBr2［（Ｒ）−BINAP］は 参考例２ DL−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−
メチレンジオキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメ
チルエステルの合成 テトラヒドロフランの代わりにベンゼンを用いる以外
は参考例１の（１）と同様に反応および後処理を行って
3,4−メチレンジオキシベンゾイルグリシンメチルエス
テル塩酸塩を得た。
ラムクロマトグラフィー（溶出液……クロロホルム／メ
タノール10/1）で精製してＬ−スレオ−Ｎ−アセチル−
３−（３′,4′−メチレンジオキシフェニル）セリンメ
チルエステルを得た。（収率99.3％、スレオ／エリスロ
比99.6/0.4、Ｌ体比/D体比 97.1/2.9）融点182〜183
℃、▲〔α〕14 D▼＋26.4゜ （ｃ＝0.504、クロロホルム／メタノール＝1/1） 尚、RuBr2［（Ｒ）−BINAP］は 参考例２ DL−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−
メチレンジオキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメ
チルエステルの合成 テトラヒドロフランの代わりにベンゼンを用いる以外
は参考例１の（１）と同様に反応および後処理を行って
3,4−メチレンジオキシベンゾイルグリシンメチルエス
テル塩酸塩を得た。
このグリシンメチルエステル塩酸塩（547mg）および
メタノール（30ml）の混合物に、氷冷下にKOH（264mg）
のメタノール（10ml）溶液を滴下した。次に、ベンジル
クロロホルメート（341mg）を滴下した。
メタノール（30ml）の混合物に、氷冷下にKOH（264mg）
のメタノール（10ml）溶液を滴下した。次に、ベンジル
クロロホルメート（341mg）を滴下した。
５℃で２時間撹拌後、不溶物を濾去し、溶媒を減圧留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト（溶出液ジク
ロロメタン）で精製し、更にメタノールから結晶化して
DL−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−
メチレンジオキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメ
チルエステルを得た。融点95℃〜95.5℃ 実施例２ DL−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジオキ
シフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエステルに
代えてDL−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−
（３′,4′−メチレンジオキシフェニル）−３−オキソ
−アラニンメチルエステルを使用する以外は、実施例１
と同様にして反応および後処理してＬ−スレオ−Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−メチレンジ
オキシフェニル）−セリンメチルエステルを得た。
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト（溶出液ジク
ロロメタン）で精製し、更にメタノールから結晶化して
DL−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−
メチレンジオキシフェニル）−３−オキソ−アラニンメ
チルエステルを得た。融点95℃〜95.5℃ 実施例２ DL−Ｎ−アセチル−３−（３′,4′−メチレンジオキ
シフェニル）−３−オキソ−アラニンメチルエステルに
代えてDL−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−
（３′,4′−メチレンジオキシフェニル）−３−オキソ
−アラニンメチルエステルを使用する以外は、実施例１
と同様にして反応および後処理してＬ−スレオ−Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニル−３−（３′,4′−メチレンジ
オキシフェニル）−セリンメチルエステルを得た。
（収率97.3％、スレオ／エリスト比 99.0/1.0、Ｌ体比
/D体比 95.8/4.2） 融点119〜120℃、▲〔α〕14 D▼−36.8゜（ｃ＝0.544,
クロロホルム）
/D体比 95.8/4.2） 融点119〜120℃、▲〔α〕14 D▼−36.8゜（ｃ＝0.544,
クロロホルム）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石墨 紀久夫 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 98号 住友製薬株式会社内 (72)発明者 寺島 徹 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 98号 住友製薬株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 229/36,227/16 B01J 31/24 X C07B 53/00 B C07B 61/00 300 ＣＡＳ ＯＮＬＩＮＥ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】一般式 （式中、R1およびR2はそれぞれまたは両者が一緒になっ
てフェノール性水酸基の保護基を、R3はアミノ基の保護
基を、R4はカルボキシル基の保護基をそれぞれ表わ
す。） で示されるケトンを、溶媒中、一般式 （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子またはアセトキシル基
を、R5は低級アルキル基を、Ｚはフェニル基またはｐ−
トリル基をそれぞれ表わす。ｎは０または１である。） で示される光学活性なルテニウムホスフィン錯体の存在
下に、不斉水素化することを特徴とする一般式 （式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味であ
る。） で示される光学活性なスレオ−ジヒドロキシフェニルセ
リン誘導体の製造方法。 - 【請求項２】アミノ基の保護基がアミドを生成する保護
基である特許請求の範囲第１項に記載の光学活性なスレ
オ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法。 - 【請求項３】アミノ基の保護基がカーバメイトを生成す
る保護基である特許請求の範囲第１項に記載の光学活性
なスレオ−ジヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方
法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1102834A JP2778103B2 (ja) | 1988-12-23 | 1989-04-20 | 光学活性なスレオージヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法 |
| EP89403599A EP0375554B1 (en) | 1988-12-23 | 1989-12-21 | Process for producing optically active threo-dihydroxyphenylserine derivatives |
| DE8989403599T DE68906372T2 (de) | 1988-12-23 | 1989-12-21 | Verfahren zur herstellung von optisch aktiven threo-dihydroxyphenylserine-derivaten. |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-327144 | 1988-12-23 | ||
| JP32714488 | 1988-12-23 | ||
| JP1102834A JP2778103B2 (ja) | 1988-12-23 | 1989-04-20 | 光学活性なスレオージヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02256655A JPH02256655A (ja) | 1990-10-17 |
| JP2778103B2 true JP2778103B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=26443518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1102834A Expired - Lifetime JP2778103B2 (ja) | 1988-12-23 | 1989-04-20 | 光学活性なスレオージヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0375554B1 (ja) |
| JP (1) | JP2778103B2 (ja) |
| DE (1) | DE68906372T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021528069A (ja) * | 2018-06-21 | 2021-10-21 | エッフェ・イ・エッセ − ファッブリカ・イタリアーナ・シンテテイチ・ソチエタ・ペル・アツィオーニＦ．Ｉ．Ｓ． − Ｆａｂｂｒｉｃａ Ｉｔａｌｉａｎａ Ｓｉｎｔｅｔｉｃｉ Ｓ．ｐ．Ａ． | ドロキシドパ製造のための酵素法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5364961A (en) | 1992-06-15 | 1994-11-15 | Monsanto Company | Process for making optically active α-amino ketones |
| US5321153A (en) * | 1992-06-15 | 1994-06-14 | Monsanto Company | Process for making chiral alpha-amino phosphonates selected novel chiral alpha-amino phosphonates |
| US5473092A (en) * | 1992-11-20 | 1995-12-05 | Monsanto Company | Synthesis of optically-active phosphono analogs of succinates |
| JP3660385B2 (ja) * | 1995-03-01 | 2005-06-15 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性アロフェニルノルスタチン誘導体の製造方法 |
| JP4621918B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2011-02-02 | 国立大学法人 千葉大学 | 新規不斉イリジウム触媒の製造方法とこれらを用いる光学活性β−ヒドロキシ−α−アミノ酸誘導体の製造方法 |
| LV14179B (lv) * | 2008-12-03 | 2010-08-20 | Ivars Kalvins | 2,2'-ciklopropilidēn-bis-oksazolīnu reģenerēšana |
| EP3168208A1 (en) | 2015-11-11 | 2017-05-17 | Quimica Sintetica, S.A. | Processes for the preparation of diastereomerically and enantiomerically enriched oxazolines |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3517057A (en) * | 1967-09-21 | 1970-06-23 | Merck & Co Inc | Preparation of optically active amino acids |
| JPH064544B2 (ja) * | 1987-06-19 | 1994-01-19 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性アルコ−ルの製造方法 |
-
1989
- 1989-04-20 JP JP1102834A patent/JP2778103B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-21 DE DE8989403599T patent/DE68906372T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-21 EP EP89403599A patent/EP0375554B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021528069A (ja) * | 2018-06-21 | 2021-10-21 | エッフェ・イ・エッセ − ファッブリカ・イタリアーナ・シンテテイチ・ソチエタ・ペル・アツィオーニＦ．Ｉ．Ｓ． − Ｆａｂｂｒｉｃａ Ｉｔａｌｉａｎａ Ｓｉｎｔｅｔｉｃｉ Ｓ．ｐ．Ａ． | ドロキシドパ製造のための酵素法 |
| JP7082218B2 (ja) | 2018-06-21 | 2022-06-07 | エッフェ・イ・エッセ － ファッブリカ・イタリアーナ・シンテテイチ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ | ドロキシドパ製造のための酵素法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02256655A (ja) | 1990-10-17 |
| DE68906372T2 (de) | 1993-08-12 |
| EP0375554B1 (en) | 1993-05-05 |
| DE68906372D1 (de) | 1993-06-09 |
| EP0375554A3 (en) | 1990-10-10 |
| EP0375554A2 (en) | 1990-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5767316A (en) | Process for producing 3-amino-2-oxo-1-halogenopropane derivatives | |
| JP2778103B2 (ja) | 光学活性なスレオージヒドロキシフェニルセリン誘導体の製造方法 | |
| JP2818763B2 (ja) | Ｎ−（ヒドロキシ）アラルキルフェニルエタノールアミン類のｏ−アルキル化された化合物 | |
| JP2979139B2 (ja) | Ｌ−パラボロノフェニルアラニンの製造方法 | |
| KR100224330B1 (ko) | 골관절 질환의 치료에 유용한 n-((4,5-디히드록시-및 4,5,8-트리히드록시-9,10-디히드로-9,10-디옥소-2-안트라센-일)카르보닐)아미노산 | |
| JP5207226B2 (ja) | タモキシフェン類縁体を有効成分として含有するプロテアソーム阻害剤 | |
| JPH06184069A (ja) | α−ヒドロキシ−β−アミノカルボン酸の製造方法 | |
| WO2008096373A2 (en) | Process for synthesizing highly pure nateglinide polymorphs | |
| WO2003051852A1 (fr) | Produit intermediaire et procede permettant de produire un compose a activite optique a partir de ce produit intermediaire | |
| JP3855323B2 (ja) | ３−アミノ−２−オキソ−１−ハロゲノプロパン誘導体の製造方法 | |
| EP0470702B1 (en) | An optically active morpholino oxobutyric acid hydroxy binaphthalene derivative and its preparation | |
| JPH07107033B2 (ja) | 光学活性な３−アミノ−４−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ酪酸塩酸塩およびその製造方法 | |
| JP2825608B2 (ja) | 光学活性トレオ―３―アミノ―２―ヒドロキシペンタン酸及びその製造法 | |
| JP2001039940A (ja) | α−アミノハロメチルケトン誘導体の製造方法 | |
| US7122696B2 (en) | Processes for preparation of N-protected-β-amino alcohols and N-protected-β-amino epoxides | |
| JP2728883B2 (ja) | アミノ酸メチルエスエル鉱酸塩の製造法 | |
| JP2010031004A (ja) | 新規イミダゾール誘導体及びその製造方法並びに該イミダゾール誘導体を利用したヒスチジンアミド誘導体の製造方法 | |
| JPH0315624B2 (ja) | ||
| JPH0641444B2 (ja) | 光学活性スレオニンの製造法 | |
| JP2905931B2 (ja) | 光学活性２―シクロペンテノン類の製造法 | |
| JP3181671B2 (ja) | 新規光学分割剤ｎ−シンナモイルプロリン誘導体及びそのアルカリ塩 | |
| JP4258227B2 (ja) | フェニルアラニン誘導体の製法およびその合成中間体 | |
| JP3210683B2 (ja) | 異性体分離法 | |
| JPH0149139B2 (ja) | ||
| KR100420263B1 (ko) | 아지리딘-2-카르복시산 에스테르로부터 이소세린 및 그유도체들을 제조하는 방법 |