JPH0641444B2 - 光学活性スレオニンの製造法 - Google Patents
光学活性スレオニンの製造法Info
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- JPH0641444B2 JPH0641444B2 JP62324399A JP32439987A JPH0641444B2 JP H0641444 B2 JPH0641444 B2 JP H0641444B2 JP 62324399 A JP62324399 A JP 62324399A JP 32439987 A JP32439987 A JP 32439987A JP H0641444 B2 JPH0641444 B2 JP H0641444B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/30—Preparation of optical isomers
- C07C227/32—Preparation of optical isomers by stereospecific synthesis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/16—Preparation of optical isomers
- C07C231/18—Preparation of optical isomers by stereospecific synthesis
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C269/00—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
- C07C269/06—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups by reactions not involving the formation of carbamate groups
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢酸エステル
類を、触媒としてルテニウム−光学活性ホスフイン錯体
を用いて不斉水素化し、次いでこれを加水分解すること
により、不可欠アミノ酸として重要な、且つ、医薬品の
中間体として用いられる光学活性スレオニンを製造する
方法に関するものであつて、使用するルテニウム−光学
活性ホスフイン錯体の配位子の絶対配置を選択すること
により、天然型スレオニン、非天然型スレオニンをつく
り分けることができるものである。
類を、触媒としてルテニウム−光学活性ホスフイン錯体
を用いて不斉水素化し、次いでこれを加水分解すること
により、不可欠アミノ酸として重要な、且つ、医薬品の
中間体として用いられる光学活性スレオニンを製造する
方法に関するものであつて、使用するルテニウム−光学
活性ホスフイン錯体の配位子の絶対配置を選択すること
により、天然型スレオニン、非天然型スレオニンをつく
り分けることができるものである。
光学活性スレオニンの製造方法としては、従来から数多
く知られているが、その代表的な例を挙げると、まず、
ラセミ体のＤＬ−スレオニンを合成し、これを酵素を用
いて光学分割し、不要部はラセミ化して再使用する方法
が知られている （Fodorら；J.Biol.Chem.,178，503(1949)）。
く知られているが、その代表的な例を挙げると、まず、
ラセミ体のＤＬ−スレオニンを合成し、これを酵素を用
いて光学分割し、不要部はラセミ化して再使用する方法
が知られている （Fodorら；J.Biol.Chem.,178，503(1949)）。
従来のスレオニン合成に於いて問題となる点は、第一
に、スレオ体だけを選択的に合成することは難しく、普
通はスレオ／エリスロ＝８／２となること及びスレオ
体、エリスロ体の各々に光学異性体（対掌体）が存在す
るために各々を純粋に作る場合の手段としては、ラセミ
体の光学分割法によらなければならないことである。そ
してこのことから分離精製工程、不要部のラセミ化工程
等が必要となり、スレオニンの製造価格が高くなるとい
う問題点があつた。
に、スレオ体だけを選択的に合成することは難しく、普
通はスレオ／エリスロ＝８／２となること及びスレオ
体、エリスロ体の各々に光学異性体（対掌体）が存在す
るために各々を純粋に作る場合の手段としては、ラセミ
体の光学分割法によらなければならないことである。そ
してこのことから分離精製工程、不要部のラセミ化工程
等が必要となり、スレオニンの製造価格が高くなるとい
う問題点があつた。
本発明者らは、このような問題点を解決し、工業界の要
請に答えるべく研究を重ねた結果、ルテニウム−光学活
性ホスフイン錯体を触媒とし、２−Ｎ−アシルアミノ−
アセト酢酸エステル類を水素化することにより光学活性
なＮ−アシルスレオニン類を選択的に、且つ高収率で合
成できることを見出した。また、この方法によれば、ル
テニウム−光学活性ホスフイン錯体の配位子の絶対配置
を選択することで、天然型スレオニン、または非天然型
スレオニンのどちらでも自由に合成することができるこ
とを見出した。
請に答えるべく研究を重ねた結果、ルテニウム−光学活
性ホスフイン錯体を触媒とし、２−Ｎ−アシルアミノ−
アセト酢酸エステル類を水素化することにより光学活性
なＮ−アシルスレオニン類を選択的に、且つ高収率で合
成できることを見出した。また、この方法によれば、ル
テニウム−光学活性ホスフイン錯体の配位子の絶対配置
を選択することで、天然型スレオニン、または非天然型
スレオニンのどちらでも自由に合成することができるこ
とを見出した。
本発明は、これらの知見に基き完成されたものであり、
次の一般式(I) （式中、R1は低級アルキル基、低級アルキル基若しくは
低級アルコキシ基で置換してもよいフエニル基、または
低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基で置換しても
よいベンジル基を、R2は水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、低級アルキル基若しくは低級アルコキ
シ基で置換してもよいフエニル基、または低級アルキル
基若しくは低級アルコキシ基で置換してもよいベンジル
オキシ基を示す） で表わされる２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢酸エステ
ル類を、後記の一般式（III）、（Ｖ）、（VI）又は（V
II）で表わされるルテニウム−光学活性ホスフイン錯体
を触媒として不斉水素化を行い、次の一般式(II) （式中、R1及びR2は上記と同じ意義を有する） で表わされる光学活性スレオニン誘導体を得、ついでこ
れを加水分解することを特徴とする光学活性スレオニン
の製造法である。
次の一般式(I) （式中、R1は低級アルキル基、低級アルキル基若しくは
低級アルコキシ基で置換してもよいフエニル基、または
低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基で置換しても
よいベンジル基を、R2は水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、低級アルキル基若しくは低級アルコキ
シ基で置換してもよいフエニル基、または低級アルキル
基若しくは低級アルコキシ基で置換してもよいベンジル
オキシ基を示す） で表わされる２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢酸エステ
ル類を、後記の一般式（III）、（Ｖ）、（VI）又は（V
II）で表わされるルテニウム−光学活性ホスフイン錯体
を触媒として不斉水素化を行い、次の一般式(II) （式中、R1及びR2は上記と同じ意義を有する） で表わされる光学活性スレオニン誘導体を得、ついでこ
れを加水分解することを特徴とする光学活性スレオニン
の製造法である。
本発明方法の原料である２−Ｎ−アシルアミノ−アセト
酢酸エステル類は、例えばShulginら；J.Am.Chem.So
c.，74，2427(1952)，Attenburrowら；J.Chem.Soc.，31
0(1948)に記載の方法により得ることが出来る。２−Ｎ
−アシルアミノ−アセト酢酸エステル類としては、たと
えば、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸メチルエステ
ル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酸酸エチルエステ
ル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ｎ−ブチルエス
テル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ｔ−ブチルエ
ステル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ベンジルエ
ステル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ｐ−メトキ
シベンジルエステル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢
酸ｐ−メチルベンジルエステル、２−Ｎ−ベンズアミド
−アセト酢酸メチルエステル、２−Ｎ−ベンズアミド−
アセト酢酸エチルエステル、２−Ｎ−ベンズアミド−ア
セト酢酸ベンジルエステル、２−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミド−アセト酢酸エチルエステル、２−Ｎ−
エトキシカルボニルアミド−アセト酢酸メチルエステ
ル、２−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミド−アセト酢
酸エチルエステル、２−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
アミド−アセト酢酸ベンジルエステル、２−Ｎ−ホルム
アミド−アセト酢酸メチルエステル、２−Ｎ−ホルムア
ミド−アセト酢酸ベンジルエステル、２−Ｎ−ホルムア
ミド−アセト酢酸ｔ−ブチルエステル等が使用できる
が、これらに限られるものではない。
酢酸エステル類は、例えばShulginら；J.Am.Chem.So
c.，74，2427(1952)，Attenburrowら；J.Chem.Soc.，31
0(1948)に記載の方法により得ることが出来る。２−Ｎ
−アシルアミノ−アセト酢酸エステル類としては、たと
えば、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸メチルエステ
ル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酸酸エチルエステ
ル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ｎ−ブチルエス
テル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ｔ−ブチルエ
ステル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ベンジルエ
ステル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸ｐ−メトキ
シベンジルエステル、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢
酸ｐ−メチルベンジルエステル、２−Ｎ−ベンズアミド
−アセト酢酸メチルエステル、２−Ｎ−ベンズアミド−
アセト酢酸エチルエステル、２−Ｎ−ベンズアミド−ア
セト酢酸ベンジルエステル、２−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミド−アセト酢酸エチルエステル、２−Ｎ−
エトキシカルボニルアミド−アセト酢酸メチルエステ
ル、２−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミド−アセト酢
酸エチルエステル、２−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
アミド−アセト酢酸ベンジルエステル、２−Ｎ−ホルム
アミド−アセト酢酸メチルエステル、２−Ｎ−ホルムア
ミド−アセト酢酸ベンジルエステル、２−Ｎ−ホルムア
ミド−アセト酢酸ｔ−ブチルエステル等が使用できる
が、これらに限られるものではない。
本発明に用いられる触媒のルテニウム−光学活性ホスフ
ィン錯体は、次の一般式（III）、（Ｖ）、（VI）また
は（VII）で表わされるものである。
ィン錯体は、次の一般式（III）、（Ｖ）、（VI）また
は（VII）で表わされるものである。
RuxHyclz(R3-BINAP)2(S)p (III) （式中、R3−BINAPは式(IV) で表わされる三級ホスフインを示し、R3は水素、メチル
基またはｔ−ブチル基を示し、Ｓは三級アミンを示し、
ｙが０のときｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１の
ときｘは１、ｚは１、ｐは０を示す） 〔RuHu(R3-BINAP)v〕Yw (V) （式中、R3−BINAPは上記と同じ意義を有し、ＹはCl
O4、BF4又はPF6を示し、ｕが０のときｖは１、ｗは２を
示し、ｕが１のときｖは２、ｗは１を示す） （式中、R3−BINAPは上記と同じ意義を有し、R4は低級
アルキル基またはトリフロロメチル基を示す） 〔Ru(R3-BINAP)MClk〕lXm (VII) （式中、R3−BINAPは上記と同じ意義を有し、ＭはZn、A
l、TiまたはSnを意味し、Ｘは N(C2H5)3またはCH3CO2を意味し、ＸがN(C2H5)3の場合、
ｌが２、ｍが１であり、かつＭがZnのときはｋが４、Al
のときはｋが５、TiまたはSnのときはｋが６であり、Ｘ
がCH3CO2の場合、ｌが１、ｍが２であり、かつＭがZnの
ときはｋが２、Alのときはｋが３、TiまたはSnのときは
ｋが４である） 式(III)のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体は、T.I
kariyaら；J.Chem.Soc.，Chem.Commun.，（1985）ｐ．9
22−924及び特開昭６１−63690号で開示されている方法
により得ることができる。すなわち、ｙ＝０の場合の式
(III)の錯体は、ルテニウムクロライドとシクロオクタ
−１，５−ジエン（以下、ＣＯＤと略す）をエタノール
溶液中で反応させることにより得られる〔RuCl2（CO
D）〕ｎ１モルと、２，２′−ビス（ジ−ｐ−R3−フエ
ニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル（R3−BINA
P）1.2モルをトリエチルアミンのごとき三級アミン４モ
ルの存在下、トルエンまたはエタノール等の溶媒中で加
熱反応させることにより得られる。ｙ＝１の場合の化合
物は、〔RuCl2（COD）〕ｎ１モル、R3−BINAP2.25モル
及び三級アミン4.5モルを反応させることにより得られ
る。
基またはｔ−ブチル基を示し、Ｓは三級アミンを示し、
ｙが０のときｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１の
ときｘは１、ｚは１、ｐは０を示す） 〔RuHu(R3-BINAP)v〕Yw (V) （式中、R3−BINAPは上記と同じ意義を有し、ＹはCl
O4、BF4又はPF6を示し、ｕが０のときｖは１、ｗは２を
示し、ｕが１のときｖは２、ｗは１を示す） （式中、R3−BINAPは上記と同じ意義を有し、R4は低級
アルキル基またはトリフロロメチル基を示す） 〔Ru(R3-BINAP)MClk〕lXm (VII) （式中、R3−BINAPは上記と同じ意義を有し、ＭはZn、A
l、TiまたはSnを意味し、Ｘは N(C2H5)3またはCH3CO2を意味し、ＸがN(C2H5)3の場合、
ｌが２、ｍが１であり、かつＭがZnのときはｋが４、Al
のときはｋが５、TiまたはSnのときはｋが６であり、Ｘ
がCH3CO2の場合、ｌが１、ｍが２であり、かつＭがZnの
ときはｋが２、Alのときはｋが３、TiまたはSnのときは
ｋが４である） 式(III)のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体は、T.I
kariyaら；J.Chem.Soc.，Chem.Commun.，（1985）ｐ．9
22−924及び特開昭６１−63690号で開示されている方法
により得ることができる。すなわち、ｙ＝０の場合の式
(III)の錯体は、ルテニウムクロライドとシクロオクタ
−１，５−ジエン（以下、ＣＯＤと略す）をエタノール
溶液中で反応させることにより得られる〔RuCl2（CO
D）〕ｎ１モルと、２，２′−ビス（ジ−ｐ−R3−フエ
ニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル（R3−BINA
P）1.2モルをトリエチルアミンのごとき三級アミン４モ
ルの存在下、トルエンまたはエタノール等の溶媒中で加
熱反応させることにより得られる。ｙ＝１の場合の化合
物は、〔RuCl2（COD）〕ｎ１モル、R3−BINAP2.25モル
及び三級アミン4.5モルを反応させることにより得られ
る。
式(V)のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体のうち、
ｕが０、ｖが１、ｗが２の場合の錯体も上記の方法によ
り得られたRu2Cl4(R3-BINAP)2（NEt3）（Etはエチル基
を示す）を原料として製造することができる。すなわ
ち、このものと次式(VIII) MY (VIII) （式中、ＭはNa、Ｋ、Li、Mg、Agの金属を示し、Ｙは前
記と同様の意義を有する） で表わされる塩とを、溶媒として水と塩化メチレンを用
いて、次式(IX) R5R6R7R8AB (IX) 式中、R5、R6、R7及びR8は炭素数１〜１６のアルキル
基、フエニル基またはベンジル基を意味し、Ａは窒素原
子またはリン原子を意味し、Ｂはハロゲン原子を意味す
る） で表わされる四級アンモニウム塩または四級ホスホニウ
ム塩を相間移動触媒として使用し、反応せしめてルテニ
ウム−ホスフイン錯体を得る。
ｕが０、ｖが１、ｗが２の場合の錯体も上記の方法によ
り得られたRu2Cl4(R3-BINAP)2（NEt3）（Etはエチル基
を示す）を原料として製造することができる。すなわ
ち、このものと次式(VIII) MY (VIII) （式中、ＭはNa、Ｋ、Li、Mg、Agの金属を示し、Ｙは前
記と同様の意義を有する） で表わされる塩とを、溶媒として水と塩化メチレンを用
いて、次式(IX) R5R6R7R8AB (IX) 式中、R5、R6、R7及びR8は炭素数１〜１６のアルキル
基、フエニル基またはベンジル基を意味し、Ａは窒素原
子またはリン原子を意味し、Ｂはハロゲン原子を意味す
る） で表わされる四級アンモニウム塩または四級ホスホニウ
ム塩を相間移動触媒として使用し、反応せしめてルテニ
ウム−ホスフイン錯体を得る。
Ru2Cl4(R3-BINAP)2(NEt3)と塩(VIII)との反応は、水と
塩化メチレンの混合溶媒中に両者と相間移動触媒(IX)を
加えて撹拌して行わしめる。塩(VIII)及び相間移動触媒
(IX)の量は、ルテニウムに対してそれぞれ２〜１０倍モ
ル（好ましくは５倍モル）、１／100〜１／１０倍モル
である。反応は５〜３０℃の温度で６〜１８時間、通常
は１２時間の撹拌で充分である。相間移動触媒(IX)とし
ては、文献〔例えば、W.P.Weber、G.W.Gokel共著、田伏
岩夫、西谷孝子共訳「相間移動触媒」（株）化学同人
（１９７８−９−５）第１版〕に記載されているものが
用いられる。反応終了後、反応物を静置し、分液操作を
行い、水層を除き、塩化メチレン溶液を水洗した後、減
圧下、塩化メチレンを留去し目的物を得る。
塩化メチレンの混合溶媒中に両者と相間移動触媒(IX)を
加えて撹拌して行わしめる。塩(VIII)及び相間移動触媒
(IX)の量は、ルテニウムに対してそれぞれ２〜１０倍モ
ル（好ましくは５倍モル）、１／100〜１／１０倍モル
である。反応は５〜３０℃の温度で６〜１８時間、通常
は１２時間の撹拌で充分である。相間移動触媒(IX)とし
ては、文献〔例えば、W.P.Weber、G.W.Gokel共著、田伏
岩夫、西谷孝子共訳「相間移動触媒」（株）化学同人
（１９７８−９−５）第１版〕に記載されているものが
用いられる。反応終了後、反応物を静置し、分液操作を
行い、水層を除き、塩化メチレン溶液を水洗した後、減
圧下、塩化メチレンを留去し目的物を得る。
式(V)の錯体のうち、ｕが１、ｖが２、ｗが１に相当す
る錯体を製造する場合は、RuHCl(R3-BINAP)2を原料とし
て、これと塩(VIII)とを相間移動触媒(IX)の存在下に塩
化メチレン等と水の混合溶媒中で反応せしめればよい。
塩(VIII)と相間移動触媒(IX)の量は、ルテニウムに対し
てそれぞれ２〜１０倍モル（好ましくは５倍モル）、１
／100〜１／１０倍モルである。反応は、５〜３０℃の
温度で６〜１８時間、通常は１２時間の撹拌で充分であ
る。
る錯体を製造する場合は、RuHCl(R3-BINAP)2を原料とし
て、これと塩(VIII)とを相間移動触媒(IX)の存在下に塩
化メチレン等と水の混合溶媒中で反応せしめればよい。
塩(VIII)と相間移動触媒(IX)の量は、ルテニウムに対し
てそれぞれ２〜１０倍モル（好ましくは５倍モル）、１
／100〜１／１０倍モルである。反応は、５〜３０℃の
温度で６〜１８時間、通常は１２時間の撹拌で充分であ
る。
式(VI)のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体は、Ru2C
l4(R3-BINAP)2(NEt3)を原料とし、これとカルボン酸塩
をメタノール、エタノール、ｔ−ブタノール等のアルコ
ール溶媒中で、約２０〜１１０℃の温度で３〜１５時間
反応させた後、溶媒を留去して、エーテル、エタノール
等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾固すれば粗製の
錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再結晶して精製品
を得ることができる。アシルオキシ基は、用いるカルボ
ン酸の種類を変えることにより所望のものを得ることが
出来る。上記の錯体を原料とし、酢酸ソーダを用いた場
合は、Ru(R3-BINAP)(OCOCH3)2を得る。また、トリフロ
ロ酢酸基を有する錯体を製造する場合は、上記の如くし
て得たジアセテート錯体にトリフロロ酢酸を塩化メチレ
ンを溶媒として約２５℃で約１２時間反応せしめて得る
ことが出来る。
l4(R3-BINAP)2(NEt3)を原料とし、これとカルボン酸塩
をメタノール、エタノール、ｔ−ブタノール等のアルコ
ール溶媒中で、約２０〜１１０℃の温度で３〜１５時間
反応させた後、溶媒を留去して、エーテル、エタノール
等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾固すれば粗製の
錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再結晶して精製品
を得ることができる。アシルオキシ基は、用いるカルボ
ン酸の種類を変えることにより所望のものを得ることが
出来る。上記の錯体を原料とし、酢酸ソーダを用いた場
合は、Ru(R3-BINAP)(OCOCH3)2を得る。また、トリフロ
ロ酢酸基を有する錯体を製造する場合は、上記の如くし
て得たジアセテート錯体にトリフロロ酢酸を塩化メチレ
ンを溶媒として約２５℃で約１２時間反応せしめて得る
ことが出来る。
式(VII)のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体は、Ru2
Cl4(R3-BINAP)2(NEt3)あるいはRu(R3-BINAP)(OCOCH3)2
を原料として製造することができる。すなわち、Ru2Cl4
(R3-BINAP)2(NEt3)と、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、
四塩化チタン、四塩化スズのうちより選ばれたルイス酸
の１種とを、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜２
５℃の温度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留去
し、乾固すれば目的のルテニウム−ホスフイン錯体が得
られる。また、Ru(R3-BINAP)(OCOCH3)2と、上記のルイ
ス酸の１種を、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜
２５℃の温度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留
去し、乾固することによつても目的のルテニウム−ホス
フイン錯体が得られる。
Cl4(R3-BINAP)2(NEt3)あるいはRu(R3-BINAP)(OCOCH3)2
を原料として製造することができる。すなわち、Ru2Cl4
(R3-BINAP)2(NEt3)と、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、
四塩化チタン、四塩化スズのうちより選ばれたルイス酸
の１種とを、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜２
５℃の温度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留去
し、乾固すれば目的のルテニウム−ホスフイン錯体が得
られる。また、Ru(R3-BINAP)(OCOCH3)2と、上記のルイ
ス酸の１種を、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜
２５℃の温度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留
去し、乾固することによつても目的のルテニウム−ホス
フイン錯体が得られる。
以上の製造法において、光学活性なＲ３−BINAPを使用
することにより、これに対応する光学活性な性質を有す
るルテニウム−ホスフイン錯体を得ることが出来る。
することにより、これに対応する光学活性な性質を有す
るルテニウム−ホスフイン錯体を得ることが出来る。
以上のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体の例として
次のものが挙げられる。
次のものが挙げられる。
Ru2Cl4(BINAP)2(NEt3) 〔BINAPは、２，２′−ビス（ジフエニルホスフイノ）
−１，１′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(T-BINAP)2(NEt3) 〔T-BINAPは、２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフ
イノ）−１，１′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(t-Bu-BINAP)2(NEt3) 〔t-Bu-BINAPは、２，２′−ビス（ジ−ｐ−ターシヤリ
ーブチルフエニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル
をいう〕 RuHCl(BINAP)2 RuHCl(T-BINAP)2 RuHCl(t-Bu-BINAP)2 〔Ru(BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(T-BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(t-Bu-BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(T-BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(t-Bu-BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(BINAP)〕(PF6)2 〔Ru(T-BINAP)〕(PF6)2 〔RuH(BINAP)2〕ClO4 〔RuH(T-BINAP)2〕ClO4 〔RuH(BINAP)2〕BF4 〔RuH(T-BINAP)2〕BF4 〔RuH(BINAP)2〕PF6 〔RuH(T-BINAP)2〕PF6 Ru(BINAP)(OCOCH3)2 Ru(BINAP)(OCOCF3)2 Ru(T-BINAP)(OCOCH3)2 Ru(BINAP)(OCO-t-Bu)2 （t-Buは、ターシヤリーブチルをいう） Ru(T-BINAP)(OCOCF3)2 Ru(t-Bu-BINAP)(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)ZnCl4〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)AlCl5〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)SnCl6〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)TiCl6〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)ZnCl4〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)AlCl5〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)SnCl6〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)TiCl6〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)ZnCl2〕(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)AlCl3〕(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)SnCl4〕(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)TiCl4〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)ZnCl2〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)AlCl3〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)SnCl4〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)TiCl4〕(OCOCH3)2 本発明を実施するには、先ず、窒素気流中、オートクレ
ーブに、２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢酸エステル類
を等量〜１０倍量のメタノール、エタノール、イソプロ
パノール等の溶媒に溶解したものを入れ、続いて基質に
対して５０分の１〜１０００分の１モルのルテニウム−
光学活性ホスフイン錯体を加える。これを水素圧力１０
〜１００kg/cm2、温度２５〜５０℃で、１５〜４８時間
反応させることによりＮ−アシル−スレオニン類を得る
ことができる。このアシル体を、常法により塩酸水中で
加水分解し、精製して目的物のスレオニンを得る。
−１，１′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(T-BINAP)2(NEt3) 〔T-BINAPは、２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフ
イノ）−１，１′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(t-Bu-BINAP)2(NEt3) 〔t-Bu-BINAPは、２，２′−ビス（ジ−ｐ−ターシヤリ
ーブチルフエニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル
をいう〕 RuHCl(BINAP)2 RuHCl(T-BINAP)2 RuHCl(t-Bu-BINAP)2 〔Ru(BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(T-BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(t-Bu-BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(T-BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(t-Bu-BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(BINAP)〕(PF6)2 〔Ru(T-BINAP)〕(PF6)2 〔RuH(BINAP)2〕ClO4 〔RuH(T-BINAP)2〕ClO4 〔RuH(BINAP)2〕BF4 〔RuH(T-BINAP)2〕BF4 〔RuH(BINAP)2〕PF6 〔RuH(T-BINAP)2〕PF6 Ru(BINAP)(OCOCH3)2 Ru(BINAP)(OCOCF3)2 Ru(T-BINAP)(OCOCH3)2 Ru(BINAP)(OCO-t-Bu)2 （t-Buは、ターシヤリーブチルをいう） Ru(T-BINAP)(OCOCF3)2 Ru(t-Bu-BINAP)(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)ZnCl4〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)AlCl5〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)SnCl6〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)TiCl6〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)ZnCl4〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)AlCl5〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)SnCl6〕2(NEt3) 〔Ru(T-BINAP)TiCl6〕2(NEt3) 〔Ru(BINAP)ZnCl2〕(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)AlCl3〕(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)SnCl4〕(OCOCH3)2 〔Ru(BINAP)TiCl4〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)ZnCl2〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)AlCl3〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)SnCl4〕(OCOCH3)2 〔Ru(T-BINAP)TiCl4〕(OCOCH3)2 本発明を実施するには、先ず、窒素気流中、オートクレ
ーブに、２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢酸エステル類
を等量〜１０倍量のメタノール、エタノール、イソプロ
パノール等の溶媒に溶解したものを入れ、続いて基質に
対して５０分の１〜１０００分の１モルのルテニウム−
光学活性ホスフイン錯体を加える。これを水素圧力１０
〜１００kg/cm2、温度２５〜５０℃で、１５〜４８時間
反応させることによりＮ−アシル−スレオニン類を得る
ことができる。このアシル体を、常法により塩酸水中で
加水分解し、精製して目的物のスレオニンを得る。
次に参考例及び実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明
する。
する。
参考例１ Ru2Cl((+)-BINAP)2(NEt3)（ジ〔２，２′−ビス（ジフ
エニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕テトラク
ロロ−ジルテニウムトリエチルアミン）の合成： 〔RuCl2(COD)〕ｎ１ｇ（3.56ミリモル）、(+)-BINAP2.6
6ｇ（4.27ミリモル）及びトリエチルアミン1.5ｇを１０
０mlのトルエン中に窒素雰囲気下に加える。１０時間加
熱還流させた後、溶媒を減圧下留去した。結晶を塩化メ
チレンを加えて溶解した後、セライト上でろ過し、ろ液
を濃縮乾固したところ3.7ｇの濃褐色の固体を得た。
エニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕テトラク
ロロ−ジルテニウムトリエチルアミン）の合成： 〔RuCl2(COD)〕ｎ１ｇ（3.56ミリモル）、(+)-BINAP2.6
6ｇ（4.27ミリモル）及びトリエチルアミン1.5ｇを１０
０mlのトルエン中に窒素雰囲気下に加える。１０時間加
熱還流させた後、溶媒を減圧下留去した。結晶を塩化メ
チレンを加えて溶解した後、セライト上でろ過し、ろ液
を濃縮乾固したところ3.7ｇの濃褐色の固体を得た。
元素分析値：C94H79Cl4NP4Ru2として 1H-NMR(CDCl3)δppm： 1.30−1.50(t,6H,NCH2CH3) 3.05−3.30(q,4H,NCH2CH3) 6.40−8.60(m,32H,Ar-H) 参考例２ 〔Ru((-)-T-BINAP)〕(ClO4)2（〔２，２′−ビス（ジ−
ｐ−トリルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕ルテ
ニウム過塩素酸塩）の合成： Ru2Cl4((-)-T-BINAP)2(NEt3)0.54ｇ（0.30ミリモル）
を、２５０mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換を行
つてから、塩化メチレン６０mlを加え、続いて過塩素酸
ソーダ0.73ｇ（6.0ミリモル）を６０mlの水に溶解した
ものと、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド１
６mg（0.06ミリモル）を３mlの水に溶かしたものを加え
た後、室温にて１２時間撹拌して反応させた。反応終了
後、静置し、分液操作を行い水層を取り除き、塩化メチ
レンを減圧下にて留去し、減圧下で乾燥を行い、濃褐色
の固体〔Ru((-)-T-BINAP)〕(ClO4)20.59ｇを得た。収率
99.6％ 元素分析値：C48H40Cl2O8P2Ruとして 31P-NMR(CDCl3)δppm： 12.920（ｄ，Ｊ＝41.1Hz） 61.402（ｄ，Ｊ＝41.1Hz 参考例３ Ru((-)-BINAP)(OCOCH3)2（〔２，２′−ビス（ジフエニ
ルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕ルテニウム−
ジアセテート）の合成： Ru2Cl4((-)-BINAP)2(NET3)錯体1.43ｇ（0.85ミリモル）
と酢酸ソーダ3.06ｇ（３７ミリモル）を、２５０mlのシ
ユレンク管に入れ、充分窒素置換を行つてから、ｔ−ブ
タノール１００mlを加え、１２時間加熱還流して反応さ
せた。反応終了後、２０mmHgの減圧下で、ｔ−ブタノー
ルを留去して乾固した後、エチルエーテル１０mlで２回
抽出した。エチルエーテルを留去して乾固し、得られた
固体を更にエタノール１０mlで２回抽出した。抽出液を
濃縮して乾固し、粗製のRu((-)-BINAP)(OCOCH3)21.50ｇ
を得た。このものを更に酢酸エチルエステルから再結晶
を行い、黄褐色の固体0.79ｇを得た。収率５２％。
ｐ−トリルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕ルテ
ニウム過塩素酸塩）の合成： Ru2Cl4((-)-T-BINAP)2(NEt3)0.54ｇ（0.30ミリモル）
を、２５０mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換を行
つてから、塩化メチレン６０mlを加え、続いて過塩素酸
ソーダ0.73ｇ（6.0ミリモル）を６０mlの水に溶解した
ものと、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド１
６mg（0.06ミリモル）を３mlの水に溶かしたものを加え
た後、室温にて１２時間撹拌して反応させた。反応終了
後、静置し、分液操作を行い水層を取り除き、塩化メチ
レンを減圧下にて留去し、減圧下で乾燥を行い、濃褐色
の固体〔Ru((-)-T-BINAP)〕(ClO4)20.59ｇを得た。収率
99.6％ 元素分析値：C48H40Cl2O8P2Ruとして 31P-NMR(CDCl3)δppm： 12.920（ｄ，Ｊ＝41.1Hz） 61.402（ｄ，Ｊ＝41.1Hz 参考例３ Ru((-)-BINAP)(OCOCH3)2（〔２，２′−ビス（ジフエニ
ルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕ルテニウム−
ジアセテート）の合成： Ru2Cl4((-)-BINAP)2(NET3)錯体1.43ｇ（0.85ミリモル）
と酢酸ソーダ3.06ｇ（３７ミリモル）を、２５０mlのシ
ユレンク管に入れ、充分窒素置換を行つてから、ｔ−ブ
タノール１００mlを加え、１２時間加熱還流して反応さ
せた。反応終了後、２０mmHgの減圧下で、ｔ−ブタノー
ルを留去して乾固した後、エチルエーテル１０mlで２回
抽出した。エチルエーテルを留去して乾固し、得られた
固体を更にエタノール１０mlで２回抽出した。抽出液を
濃縮して乾固し、粗製のRu((-)-BINAP)(OCOCH3)21.50ｇ
を得た。このものを更に酢酸エチルエステルから再結晶
を行い、黄褐色の固体0.79ｇを得た。収率５２％。
融点：１８０〜１８１℃（分解） 元素分析値：C48H38O4P2Ruとして 31P-NMR(CDCl3)δppm： 65.00(s)1 H-NMR(CDCl3)δppm： 参考例４ 〔Ru((-)-T-BINAP)SnCl6〕2(NEt3)（ビス〔ルテニウム
（２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフイノ）−１，
１′−ビナフチル）ヘキサクロロチン〕トリエチルアミ
ン）の合成： Ru2Cl4((-)-T-BINAP)2(NEt3)0.52ｇ（0.3ミリモル）を
８０mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換を行つてか
ら、塩化メチレン２０mlと、SnCl40.16ｇ（0.6ミリモ
ル）を加え、室温にて１５時間かき混ぜた。反応終了
後、減圧下で塩化メチレンを留去して、乾固したとこ
ろ、濃褐色の〔Ru((-)-T-BINAP)SnCl6〕2(NEt3)0.68ｇ
を得た。収率１００％。
（２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフイノ）−１，
１′−ビナフチル）ヘキサクロロチン〕トリエチルアミ
ン）の合成： Ru2Cl4((-)-T-BINAP)2(NEt3)0.52ｇ（0.3ミリモル）を
８０mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換を行つてか
ら、塩化メチレン２０mlと、SnCl40.16ｇ（0.6ミリモ
ル）を加え、室温にて１５時間かき混ぜた。反応終了
後、減圧下で塩化メチレンを留去して、乾固したとこ
ろ、濃褐色の〔Ru((-)-T-BINAP)SnCl6〕2(NEt3)0.68ｇ
を得た。収率１００％。
元素分析値：C102H95Cl12NP4Sn2Ru2 31P-NMR(CDCl3)δppm： 14.14（ｄ，Ｊ＝41.7Hz） 62.57（ｄ，Ｊ＝41.7Hz） なお、以上の各参考例において、31P核磁気共鳴スペク
トル（以下、31PNMRと略す）は、ブルツカー社製AM400
型装置（１６１MHz）を用いて測定し、化学シフトは８
５％リン酸を外部標準として測定した。
トル（以下、31PNMRと略す）は、ブルツカー社製AM400
型装置（１６１MHz）を用いて測定し、化学シフトは８
５％リン酸を外部標準として測定した。
実施例１ あらかじめ窒素置換を行つた５００mlのステンレスオー
トクレーブに、２−Ｎ−ベンズアミド−アセト酢酸エチ
ルエステル２９ｇ（0.12モル）と参考例１に準じて合成
したルテニウム−光学活性ホスフイン錯体Ru2Cl4((-)-T
-BINAP)2(NEt3)５８２mg（0.33ミリモル）を二塩化メチ
レン１００mlに溶かしたものを加え、室温下、水素圧４
０kg/cm2で、８０時間撹拌持続して反応させた。水添反
応物の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフイー（溶離液は、ヘキサンとイソプロパノールの
７：３の混合液を使用）により触媒を除き、23.0ｇのＮ
−ベンゾイル−Ｄ−スレオニンエチルエステルを得た。
これをエチルエーテルとｎ−ヘキサンの２：１の混合液
から結晶化して15.0ｇの精製品を得た。更にベンゼンと
エチルエーテルの２：１の混合液より再結晶して12.0ｇ
の精製品を得た。収率41.4％。m.p.８５−86.5℃。▲
〔α〕25 D▼−29.5°（クロロホルム ｃ＝3.225）。
トクレーブに、２−Ｎ−ベンズアミド−アセト酢酸エチ
ルエステル２９ｇ（0.12モル）と参考例１に準じて合成
したルテニウム−光学活性ホスフイン錯体Ru2Cl4((-)-T
-BINAP)2(NEt3)５８２mg（0.33ミリモル）を二塩化メチ
レン１００mlに溶かしたものを加え、室温下、水素圧４
０kg/cm2で、８０時間撹拌持続して反応させた。水添反
応物の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフイー（溶離液は、ヘキサンとイソプロパノールの
７：３の混合液を使用）により触媒を除き、23.0ｇのＮ
−ベンゾイル−Ｄ−スレオニンエチルエステルを得た。
これをエチルエーテルとｎ−ヘキサンの２：１の混合液
から結晶化して15.0ｇの精製品を得た。更にベンゼンと
エチルエーテルの２：１の混合液より再結晶して12.0ｇ
の精製品を得た。収率41.4％。m.p.８５−86.5℃。▲
〔α〕25 D▼−29.5°（クロロホルム ｃ＝3.225）。
次に、Ｎ−ベンゾイル−Ｄ−スレオニンエチルエステル
3.6ｇをとり、１０％塩酸中、３時間還流して均一溶液
を得た。氷冷下１時間放置して安息香酸の結晶を去し
た後、液を濃縮乾固した。次いで水１０mlを加えて溶
解し、２８％アンモニア水でpH7.0に調整し、水とエタ
ノールの１：２の混合液より再結晶精製して1.2ｇのＤ
−スレオニンを得た。収率７１％。▲〔α〕25 D▼＋27.
6°（H2O ｃ＝1.23）。光学純度97.2ee％。1 H-NMR（重水）δppm： 4.18（1H） 3.55（1H，Ｊ＝4.86Hz） 1.25（3H，Ｊ＝6.78HZ） 実施例２ あらかじめ窒素置換を行つた５００mlのステンレスオー
トクレーブに、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸エチ
ルエステル20.7ｇ（0.11モル）と参考例１に準じて合成
したルテニウム−光学活性ホスフイン錯体Ru2Cl4((-)-T
-BINAP)2(NEt3)４４４mg（0.25ミリモル）を二塩化メチ
レン２００mlに溶かしたものを加え、５０℃、水素圧１
００kg/cm2で、２４時間撹拌持続して反応させた。水添
反応物の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（溶離液は、ヘキサンとイソプロパノール
の７：３の混合液を使用）に付して触媒を除き、19.5ｇ
のＮ−アセチル−Ｄ−スレオニンエチルエステルを得
た。収率９３％。
3.6ｇをとり、１０％塩酸中、３時間還流して均一溶液
を得た。氷冷下１時間放置して安息香酸の結晶を去し
た後、液を濃縮乾固した。次いで水１０mlを加えて溶
解し、２８％アンモニア水でpH7.0に調整し、水とエタ
ノールの１：２の混合液より再結晶精製して1.2ｇのＤ
−スレオニンを得た。収率７１％。▲〔α〕25 D▼＋27.
6°（H2O ｃ＝1.23）。光学純度97.2ee％。1 H-NMR（重水）δppm： 4.18（1H） 3.55（1H，Ｊ＝4.86Hz） 1.25（3H，Ｊ＝6.78HZ） 実施例２ あらかじめ窒素置換を行つた５００mlのステンレスオー
トクレーブに、２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸エチ
ルエステル20.7ｇ（0.11モル）と参考例１に準じて合成
したルテニウム−光学活性ホスフイン錯体Ru2Cl4((-)-T
-BINAP)2(NEt3)４４４mg（0.25ミリモル）を二塩化メチ
レン２００mlに溶かしたものを加え、５０℃、水素圧１
００kg/cm2で、２４時間撹拌持続して反応させた。水添
反応物の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（溶離液は、ヘキサンとイソプロパノール
の７：３の混合液を使用）に付して触媒を除き、19.5ｇ
のＮ−アセチル−Ｄ−スレオニンエチルエステルを得
た。収率９３％。
次にＮ−アセチル−Ｄ−スレオニンエチルエステル4.4
ｇをとり、１０％塩酸中３時間還流して均一溶液を得
た。濃縮乾固し、水１０mlを加え２８％アンモニア水で
pH７に調整し、水とエタノールの１：２の混合液より再
結晶精製して2.2ｇのＤ−スレオニンを得た。収率７９
％。
ｇをとり、１０％塩酸中３時間還流して均一溶液を得
た。濃縮乾固し、水１０mlを加え２８％アンモニア水で
pH７に調整し、水とエタノールの１：２の混合液より再
結晶精製して2.2ｇのＤ−スレオニンを得た。収率７９
％。
▲〔α〕25 D▼＋28.0°（H2O ｃ＝1.85）。光学純度9
8.6ee％。1H-NMRスペクトル（重水）は実施例１と同じ
結果を得た。
8.6ee％。1H-NMRスペクトル（重水）は実施例１と同じ
結果を得た。
実施例３ ２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸メチルエステル17.3
ｇ（0.1モル）と、参考例１で得たRu2Cl4((+)-BINAP)
2(NEt3)４２２mg（0.25ミリモル）をメタノール５０ml
にとかし、窒素気流下でオートクレーブに仕込んだ。３
５℃、水素圧４０kg/cm2で２４時間水素化し、メタノー
ルを留去した後、１０％塩酸７２mlを加えて３時間加熱
還流して均一溶液を得た。溶液を濃縮乾固して水５０ml
を加え、２８％アンモニア水でpH７に調整し、析出した
結晶を集めて乾燥し、Ｌ−スレオニン8.1ｇ（0.07モ
ル）を得た。収率６８％。
ｇ（0.1モル）と、参考例１で得たRu2Cl4((+)-BINAP)
2(NEt3)４２２mg（0.25ミリモル）をメタノール５０ml
にとかし、窒素気流下でオートクレーブに仕込んだ。３
５℃、水素圧４０kg/cm2で２４時間水素化し、メタノー
ルを留去した後、１０％塩酸７２mlを加えて３時間加熱
還流して均一溶液を得た。溶液を濃縮乾固して水５０ml
を加え、２８％アンモニア水でpH７に調整し、析出した
結晶を集めて乾燥し、Ｌ−スレオニン8.1ｇ（0.07モ
ル）を得た。収率６８％。
▲〔α〕25 D▼−27.8°（H2O ｃ＝2.0）。光学純度97.
9ee％。
9ee％。
実施例４ ２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸エチルエステル18.7
ｇ（0.1モル）と、参考例２に準じて合成した〔Ru((+)-
BINAP)〕(ClO4)2４６１mg（0.5ミリモル）をエタノール
５０mlにとかし、窒素気流下でオートクレーブに仕込ん
だ。２５℃、水素圧７０kg/cm2で４０時間水素化し、反
応液からエタノールを留去した後、１０％塩酸７０mlを
加えて４時間加熱還流した。溶液を濃縮乾固してから水
４７mlを加え、更に２８％アンモニア水でpH７に調整
し、析出した結晶を集めて乾燥し、Ｌ−スレオニン8.56
ｇを得た。収率７２％。
ｇ（0.1モル）と、参考例２に準じて合成した〔Ru((+)-
BINAP)〕(ClO4)2４６１mg（0.5ミリモル）をエタノール
５０mlにとかし、窒素気流下でオートクレーブに仕込ん
だ。２５℃、水素圧７０kg/cm2で４０時間水素化し、反
応液からエタノールを留去した後、１０％塩酸７０mlを
加えて４時間加熱還流した。溶液を濃縮乾固してから水
４７mlを加え、更に２８％アンモニア水でpH７に調整
し、析出した結晶を集めて乾燥し、Ｌ−スレオニン8.56
ｇを得た。収率７２％。
▲〔α〕25 D▼−２７°（H2O ｃ＝1.5）。光学純度９
５ee％。
５ee％。
実施例５ ２−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミド−アセト酢酸
エチルエステル２８ｇ（0.1モル）と、参考例４に準じ
て合成した〔Ru((-)-BINAP)SnCl6〕2(NEt3)１１０５mg
（0.5ミリモル）をエタノール８０mlにとかし、窒素気
流下でオートクレーブに仕込んだ。３０℃、水素圧５０
kg/cm2で３０時間水素化し、反応液からエタノールを留
去した後、１０％塩酸７０mlを加えて３時間加熱還流し
た。溶液を濃縮乾固してから水５０mlを加え、更に２８
％アンモニア水でpH７とした。析出した結晶を集めて乾
燥し、Ｄ−スレオニン8.33ｇを得た。収率７０％。▲
〔α〕25 D▼＋25.6°（H2O ｃ＝2.1）。光学純度９０e
e％。
エチルエステル２８ｇ（0.1モル）と、参考例４に準じ
て合成した〔Ru((-)-BINAP)SnCl6〕2(NEt3)１１０５mg
（0.5ミリモル）をエタノール８０mlにとかし、窒素気
流下でオートクレーブに仕込んだ。３０℃、水素圧５０
kg/cm2で３０時間水素化し、反応液からエタノールを留
去した後、１０％塩酸７０mlを加えて３時間加熱還流し
た。溶液を濃縮乾固してから水５０mlを加え、更に２８
％アンモニア水でpH７とした。析出した結晶を集めて乾
燥し、Ｄ−スレオニン8.33ｇを得た。収率７０％。▲
〔α〕25 D▼＋25.6°（H2O ｃ＝2.1）。光学純度９０e
e％。
実施例６ ２−Ｎ−アセトアミド−アセト酢酸エチルエステル18.7
ｇ（0.1モル）と、参考例３に準じて合成したRu((-)-T-
BINAP)(OCOCH3)289.7mg（0.1ミリモル）をエタノール５
４mlにとかし、窒素気流下でオートクレーブに仕込ん
だ。３０℃、水素圧７０kg/cm2で、３５時間水素化し、
反応液からエタノールを留去した後、１０％塩酸７０ml
を加えて３時間加熱還流した。溶液を濃縮乾固してから
水５０mlを加え、更に２８％アンモニア水でpH７に調整
し、析出した結晶を集めて乾燥し、Ｄ−スレオニン8.9
ｇを得た。収率７２％。
ｇ（0.1モル）と、参考例３に準じて合成したRu((-)-T-
BINAP)(OCOCH3)289.7mg（0.1ミリモル）をエタノール５
４mlにとかし、窒素気流下でオートクレーブに仕込ん
だ。３０℃、水素圧７０kg/cm2で、３５時間水素化し、
反応液からエタノールを留去した後、１０％塩酸７０ml
を加えて３時間加熱還流した。溶液を濃縮乾固してから
水５０mlを加え、更に２８％アンモニア水でpH７に調整
し、析出した結晶を集めて乾燥し、Ｄ−スレオニン8.9
ｇを得た。収率７２％。
▲〔α〕25 D▼＋２７°（H2O ｃ＝1.7）。光学純度８
８ee％。
８ee％。
実施例７〜１４ 基質、触媒、反応条件を変えたほかは、実施例１〜６に
準じて操作を行つた結果を次の第１表に示す。
準じて操作を行つた結果を次の第１表に示す。
〔発明の効果〕 本発明は、安価なルテニウム−光学活性ホスフイン錯体
を触媒として用いて、２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢
酸エステル類を不斉水素化し、次いでこれを加水分解す
ることにより、不可欠アミノ酸として重要な、且つ、医
薬品の中間体として用いられる光学活性スレオニンを製
造する方法である。そして、本発明方法によればルテニ
ウム−光学活性ホスフイン錯体の絶対配置を選択するこ
とにより天然型スレオニン、非天然型スレオニンをつく
り分けることができるので、極めて工業的に優れたもの
である。
を触媒として用いて、２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢
酸エステル類を不斉水素化し、次いでこれを加水分解す
ることにより、不可欠アミノ酸として重要な、且つ、医
薬品の中間体として用いられる光学活性スレオニンを製
造する方法である。そして、本発明方法によればルテニ
ウム−光学活性ホスフイン錯体の絶対配置を選択するこ
とにより天然型スレオニン、非天然型スレオニンをつく
り分けることができるので、極めて工業的に優れたもの
である。
Claims (1)
- 【請求項１】次の一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は低級アルキル基、低級アルキル基若しく
は低級アルコキシ基で置換してもよいフェニル基または
低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基で置換しても
よいベンジル基を、Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、低級アルキル基若しくは低級アルコ
キシ基で置換してもよいフェニル基、または低級アルキ
ル基若しくは低級アルコキシ基で置換してもよいベンジ
ルオキシ基を示す） で表わされる２−Ｎ−アシルアミノ−アセト酢酸エステ
ル類を、次の一般式（III）、（Ｖ）、（VI）または（V
II） で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触
媒として不斉水素化を行い、次の一般式（II） （式中、Ｒ１及びＲ２は上記と同じ意義を有する）で表
わされる光学活性スレオニン誘導体を得、ついでこれを
加水分解することを特徴とする光学活性スレオニンの製
造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62324399A JPH0641444B2 (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 光学活性スレオニンの製造法 |
| US07/287,434 US4906773A (en) | 1987-12-22 | 1988-12-21 | Process for preparing optically active threonine |
| EP88312185A EP0322236B1 (en) | 1987-12-22 | 1988-12-22 | Catalytic process for preparing optically active threonine |
| DE3889441T DE3889441T2 (de) | 1987-12-22 | 1988-12-22 | Katalytisches Verfahren zur Herstellung von optisch aktivem Threonin. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62324399A JPH0641444B2 (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 光学活性スレオニンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01165561A JPH01165561A (ja) | 1989-06-29 |
| JPH0641444B2 true JPH0641444B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=18165362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62324399A Expired - Fee Related JPH0641444B2 (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 光学活性スレオニンの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4906773A (ja) |
| EP (1) | EP0322236B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0641444B2 (ja) |
| DE (1) | DE3889441T2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5364961A (en) | 1992-06-15 | 1994-11-15 | Monsanto Company | Process for making optically active α-amino ketones |
| US5321153A (en) * | 1992-06-15 | 1994-06-14 | Monsanto Company | Process for making chiral alpha-amino phosphonates selected novel chiral alpha-amino phosphonates |
| US5473092A (en) * | 1992-11-20 | 1995-12-05 | Monsanto Company | Synthesis of optically-active phosphono analogs of succinates |
| WO2000041997A1 (fr) * | 1999-01-18 | 2000-07-20 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procede de preparation d'amino-alcools optiquement actifs |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1423911A (en) * | 1972-03-16 | 1976-02-04 | Monsanto Co | Production of optically active alcohols |
| DE2804892A1 (de) * | 1977-02-09 | 1978-08-10 | Procter & Gamble | Verfahren zur herstellung von l-threonin und dessen n-acylderivat |
| JPS6163690A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-01 | Takasago Corp | ルテニウム−ホスフイン錯体 |
| JPH0699367B2 (ja) * | 1987-06-11 | 1994-12-07 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性アルコ−ルの製法 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP62324399A patent/JPH0641444B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-12-21 US US07/287,434 patent/US4906773A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-22 EP EP88312185A patent/EP0322236B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-22 DE DE3889441T patent/DE3889441T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01165561A (ja) | 1989-06-29 |
| EP0322236A2 (en) | 1989-06-28 |
| US4906773A (en) | 1990-03-06 |
| EP0322236A3 (en) | 1990-08-29 |
| EP0322236B1 (en) | 1994-05-04 |
| DE3889441T2 (de) | 1994-12-01 |
| DE3889441D1 (de) | 1994-06-09 |
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|---|---|---|---|
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