JPH04139140A - 2,2’―ビス(ジフェニルホスフィノ)―5,5’,6,6’,7,7’,8,8’―オクタヒドロ―1,1’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 - Google Patents
2,2’―ビス(ジフェニルホスフィノ)―5,5’,6,6’,7,7’,8,8’―オクタヒドロ―1,1’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なホスフィン化合物に関し、更に詳細には
、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、ニ
ッケル等の遷移金属と錯体を形成することによって種々
の不斉合成反応における有用な触媒となり得る新規なホ
スフィン化合物、その製造中間体及び当該中間体の製造
法に関する。
、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、ニ
ッケル等の遷移金属と錯体を形成することによって種々
の不斉合成反応における有用な触媒となり得る新規なホ
スフィン化合物、その製造中間体及び当該中間体の製造
法に関する。
従来、有機合成反応に利用できる遷移金属錯体、例えば
、不斉水素化反応、不斉異性化反応、不斉シリル化反応
等不斉合成反応に用いられる遷移金属錯体触媒について
数多くの報告がなされている。
、不斉水素化反応、不斉異性化反応、不斉シリル化反応
等不斉合成反応に用いられる遷移金属錯体触媒について
数多くの報告がなされている。
中でもルテニウム、ロジウム、パラジウム等の遷移金属
に、光学活性な第三級ホスフィン化合物を配位させた錯
体は、不斉合成反応の触媒として優れた性能を有するも
のが多く、この触媒の性能を更に高めるために、特殊な
構造のホスフィン化合物がこれまでに多数開発されてき
たく日本化学全編 化学総説32「有機金属錯体の化学
j p 237〜238、昭和57年)。とりわけ、2
,2゛−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビ
ナフチル(以下、車にrBINAP Jという)は優れ
た配位子の一つであり、このBINAPを配位子とした
ロジウム錯体(特開昭55−61937号公報)、及び
ルテニウム錯体(特開昭61−6390号公報)がすで
に報告されている。また、2,2′−ビス〔ジー(p−
トリル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル(以下、
r p−T−BINAP Jという)を配位子としたロ
ジウム錯体(特開昭60−199898号公報)、及び
ルテニウム錯体(特開昭61−63690号公報)につ
いても、不斉水素化反応、不斉異性化反応において良好
な結果を与えることが報告されている。更に、2,2゛
−ビス(ジシクロへキシルホスフィノ) −1,1’−
ビナフチル(以下、rCyBINAP Jという)を配
位子としたロジウム錯体を触媒として用いたネロールの
不斉水素化反応において、光学純度66%eeのシトロ
ネロールが得られたとの報告がある〔5INOLIBら
;“C)IEMISTRY L8TTIER3’″、
p 1007〜1008(1985)] 。
に、光学活性な第三級ホスフィン化合物を配位させた錯
体は、不斉合成反応の触媒として優れた性能を有するも
のが多く、この触媒の性能を更に高めるために、特殊な
構造のホスフィン化合物がこれまでに多数開発されてき
たく日本化学全編 化学総説32「有機金属錯体の化学
j p 237〜238、昭和57年)。とりわけ、2
,2゛−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビ
ナフチル(以下、車にrBINAP Jという)は優れ
た配位子の一つであり、このBINAPを配位子とした
ロジウム錯体(特開昭55−61937号公報)、及び
ルテニウム錯体(特開昭61−6390号公報)がすで
に報告されている。また、2,2′−ビス〔ジー(p−
トリル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル(以下、
r p−T−BINAP Jという)を配位子としたロ
ジウム錯体(特開昭60−199898号公報)、及び
ルテニウム錯体(特開昭61−63690号公報)につ
いても、不斉水素化反応、不斉異性化反応において良好
な結果を与えることが報告されている。更に、2,2゛
−ビス(ジシクロへキシルホスフィノ) −1,1’−
ビナフチル(以下、rCyBINAP Jという)を配
位子としたロジウム錯体を触媒として用いたネロールの
不斉水素化反応において、光学純度66%eeのシトロ
ネロールが得られたとの報告がある〔5INOLIBら
;“C)IEMISTRY L8TTIER3’″、
p 1007〜1008(1985)] 。
上述のように、不斉合成反応の触媒としてより高い性能
を有する錯体を提供するた於に、特殊なホスフィン化合
物が多数開発されているが、対象とする反応や基質によ
っては、選択性、転化率、持続性等の面で未だ充分に満
足できない場合があり、従来の触媒に比べ、画期的に高
い触媒性能を有する錯体を与える新しいホスフィン化合
物の開発が望まれていた。
を有する錯体を提供するた於に、特殊なホスフィン化合
物が多数開発されているが、対象とする反応や基質によ
っては、選択性、転化率、持続性等の面で未だ充分に満
足できない場合があり、従来の触媒に比べ、画期的に高
い触媒性能を有する錯体を与える新しいホスフィン化合
物の開発が望まれていた。
本発胡者らは、上記課題を解決すべく、多くのホスフィ
ン化合物について鋭意研究を重ねた結果、BINAPの
ビナフチル基の代わりに、5.5’、6.6’。
ン化合物について鋭意研究を重ねた結果、BINAPの
ビナフチル基の代わりに、5.5’、6.6’。
7、7’ 、 8.8’−オクタヒドロビナフチル基(
ヒ゛テトラヒドロナフタレン基)を用いた新規ホスフィ
ン化合物を配位子とする遷移金属錯体が、BINAP、
ρ−T−BINAP反びCyBINAPを配位子とする
錯体に比べて、不斉合成における選択率及び転化率を著
しく高給ることを見出し、この知見に基づいて本発明を
完成した。
ヒ゛テトラヒドロナフタレン基)を用いた新規ホスフィ
ン化合物を配位子とする遷移金属錯体が、BINAP、
ρ−T−BINAP反びCyBINAPを配位子とする
錯体に比べて、不斉合成における選択率及び転化率を著
しく高給ることを見出し、この知見に基づいて本発明を
完成した。
すなわち、本発明は、次式(I)
で表わされる2、2′−ビス(ジフェニルホスフィノ)
−5,5”、 6.6’ 、 7.7’ 、 8.8’
−オクタヒドロ−1,1°−ビナフチル(以下、r
0cfl−BINAP Jという)及びこれを配位子
とする遷移金属錯体、並びに0cH−BINAPの製造
中間体である次式(II)(式中、R1はハロゲン原子
、ハロゲン化マグネで表わされる5、 5’ 、 6.
6’ 、 7.7’ 、 8.8’ −才クタヒド口−
1,1″−ビナフチル誘導体及びその製造法を提供する
ものである。
−5,5”、 6.6’ 、 7.7’ 、 8.8’
−オクタヒドロ−1,1°−ビナフチル(以下、r
0cfl−BINAP Jという)及びこれを配位子
とする遷移金属錯体、並びに0cH−BINAPの製造
中間体である次式(II)(式中、R1はハロゲン原子
、ハロゲン化マグネで表わされる5、 5’ 、 6.
6’ 、 7.7’ 、 8.8’ −才クタヒド口−
1,1″−ビナフチル誘導体及びその製造法を提供する
ものである。
本発明に係るDcH−BINAPには、(+)体及び(
−)体の光学活性体が存在し、本発明はこれらの(+)
体、(−)体及びラセミ体のいずれをも含むものである
。
−)体の光学活性体が存在し、本発明はこれらの(+)
体、(−)体及びラセミ体のいずれをも含むものである
。
本発明の0cH−BINAPは、例えば次の反応式に従
って製造される。
って製造される。
(III)
(rV)
(V)
(VI)
(−) −(VI)
(−)−(I)
〔式中、xl及びX2はそれぞれハロゲン原子を示す〕
すなわち、2.2’−ジハロゲノ−1,1′−ビナフチ
ル(II[)をルテニウム−炭素触媒存在下に水素化し
て2.2”−ジハロゲノ−5,5’ 、 6.6’ 、
?、 7°、 8.8’オクタヒドロ−1,1′−ビ
ナフチル(rV)とした後、金属マグネシウムを反応さ
せてグリニヤール試薬(V)とし、これにジフェニルホ
スフィニルハライドを縮合させることにより、2,2゛
−ビス(ジフェニルホスホリル) −5,5’ 、 6
.6′、7.7”、 8.8’ −オクタヒドロ−1,
1゛−ビナフチル(Vl)を得る。原料の2,2°−ジ
ブロム−1,1′−ビナフチル(III)は、例えば高
谷らの方法CJ、 Drg、 Chem、 51.62
9(1986) ]に基づいて合成することができ、そ
の水素化はルテニウム−炭素触媒存在下に、水素圧50
〜150 kH/cm2.70〜120℃で15〜25
時間行なわれる。
ル(II[)をルテニウム−炭素触媒存在下に水素化し
て2.2”−ジハロゲノ−5,5’ 、 6.6’ 、
?、 7°、 8.8’オクタヒドロ−1,1′−ビ
ナフチル(rV)とした後、金属マグネシウムを反応さ
せてグリニヤール試薬(V)とし、これにジフェニルホ
スフィニルハライドを縮合させることにより、2,2゛
−ビス(ジフェニルホスホリル) −5,5’ 、 6
.6′、7.7”、 8.8’ −オクタヒドロ−1,
1゛−ビナフチル(Vl)を得る。原料の2,2°−ジ
ブロム−1,1′−ビナフチル(III)は、例えば高
谷らの方法CJ、 Drg、 Chem、 51.62
9(1986) ]に基づいて合成することができ、そ
の水素化はルテニウム−炭素触媒存在下に、水素圧50
〜150 kH/cm2.70〜120℃で15〜25
時間行なわれる。
また化合物(IV)と金属マグネシウムとの反応及び得
られたグリニヤール試薬(V)とジフェニルホスフィニ
ルハライドとの反応は、通常のグリニヤール反応に従え
ばよい。
られたグリニヤール試薬(V)とジフェニルホスフィニ
ルハライドとの反応は、通常のグリニヤール反応に従え
ばよい。
ラセミ体(VI)は、光学活性なジベンゾイル酒石酸を
分割剤として用い、クロロホルム−酢酸エチルの混合溶
媒から再結晶を行ない、析出結晶を濾取した後、IN−
水酸化ナトリウムで処理してホスフィンオキシトとし、
光学活性カラム(牛うルセルOG (ダイセル化学社製
))を用いた高速液体クロマトグラフィーにより光学純
度を検定し、光学的に純粋となるまでジアステレオマー
の再結晶を繰返す。(−)−ジベンゾイル酒石酸を用い
た光学分割では化合物(VI)の(=)体がジアステレ
オマーとして析出し、(+)−ジベンゾイル酒石酸を用
いた光学分割では化合物(VI)の(+)体がジアステ
レオマーとして析出する。
分割剤として用い、クロロホルム−酢酸エチルの混合溶
媒から再結晶を行ない、析出結晶を濾取した後、IN−
水酸化ナトリウムで処理してホスフィンオキシトとし、
光学活性カラム(牛うルセルOG (ダイセル化学社製
))を用いた高速液体クロマトグラフィーにより光学純
度を検定し、光学的に純粋となるまでジアステレオマー
の再結晶を繰返す。(−)−ジベンゾイル酒石酸を用い
た光学分割では化合物(VI)の(=)体がジアステレ
オマーとして析出し、(+)−ジベンゾイル酒石酸を用
いた光学分割では化合物(VI)の(+)体がジアステ
レオマーとして析出する。
さらに、得られた(−) −(VI)又は(+)−(V
I)を、公知の方法によりトリクロルシランで還元すれ
ば、本発明に係る0cH−BINAPの(+)体又は(
−)体を得ることができる。
I)を、公知の方法によりトリクロルシランで還元すれ
ば、本発明に係る0cH−BINAPの(+)体又は(
−)体を得ることができる。
このようにして得られる本発明の0cH−BINAPは
、配位子として遷移金属と共に錯体を形成する。この錯
体を形成する遷移金属としては、ロジウム、パラジウム
、ルテニウム、イリジウム、ニッケル等が挙げられ、形
成される錯体としては、例えば以下のものが挙げられる
。
、配位子として遷移金属と共に錯体を形成する。この錯
体を形成する遷移金属としては、ロジウム、パラジウム
、ルテニウム、イリジウム、ニッケル等が挙げられ、形
成される錯体としては、例えば以下のものが挙げられる
。
[Rh(COD) (OcH−BINAP)] Cf
O,。
O,。
[Rh(COD) (OcH−BINAP)] PF6
゜[Rh(COD) (Oc)I−BINAP)]
BF、。
゜[Rh(COD) (Oc)I−BINAP)]
BF、。
Rh(COD) (OcH−BINAP) Cf 。
Rh (CD) (OcH−BINAP) C1。
PdCA 2(OCHBINAP)。
Ru2Cj’ 、 (Oc)l−BINAP) (NB
t、)。
t、)。
Ru(OAc)2(OcH−BINAP)。
[:RuI (p−Cymene) (OCH−BIN
AP) ] L[RuCj2 (C6H6) (Oc
H−BINAP)] Cj2 。
AP) ] L[RuCj2 (C6H6) (Oc
H−BINAP)] Cj2 。
[:Ir(COD)(OcH−BINAP)] BF、
。
。
[Ir(Con)(OcH−BINAP)] PF6゜
[:Ir(COD) (Oc)I−BINAP)] C
j! 0.。
[:Ir(COD) (Oc)I−BINAP)] C
j! 0.。
NICj22(OcH−BINAP)
(式中、CODは1.5−シクロオクタジエンを示し、
Etはエチル基を示し、Acはアセチル基を示す。以下
、同様。) これらの遷移金属錯体は、例えばJ、 A、 0sbo
rnら; J、 Am、Chem、Soc、、 93.
p2397〜240’? (1971)に報告されて
いる[Rh(COD) (dppe) 〕CA’ O。
Etはエチル基を示し、Acはアセチル基を示す。以下
、同様。) これらの遷移金属錯体は、例えばJ、 A、 0sbo
rnら; J、 Am、Chem、Soc、、 93.
p2397〜240’? (1971)に報告されて
いる[Rh(COD) (dppe) 〕CA’ O。
(dppeは1.2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エ
タンを意味する)の合成法と同様にして製造することが
できる。
タンを意味する)の合成法と同様にして製造することが
できる。
すなわち、オスボンらの方法[J、Am、 Chem。
Sac、、 93. p3089 (1971)]に従
って、[Rh(COD)IJ!] 、 、COD及びA
gCj!D、から合成した[Rh(COD)、、] C
1,,と本発明に係る0cH−BiNAPを反応させる
ことにより、1.5−シクロオクタジエン−[2,2’
−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5゜5′、6.6′
、 7.7’ 、 8.8’ −オクタヒドロ−1,
1゛−ビナフチル〕ロジウムバークロレートCRh (
COD) (OcHBINAP)] CjH]、を得ル
コトカテキル。
って、[Rh(COD)IJ!] 、 、COD及びA
gCj!D、から合成した[Rh(COD)、、] C
1,,と本発明に係る0cH−BiNAPを反応させる
ことにより、1.5−シクロオクタジエン−[2,2’
−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5゜5′、6.6′
、 7.7’ 、 8.8’ −オクタヒドロ−1,
1゛−ビナフチル〕ロジウムバークロレートCRh (
COD) (OcHBINAP)] CjH]、を得ル
コトカテキル。
また、市販品の1.5−シクロオクタジエンジ−μmク
ロログロジウム[Rh(Con)Cjl! ] 2と本
発明に係る0cH−BINAPを塩化メチレン中で反応
させることにより、1.5−シクロオクタジエン−〔2
,2゜ビス(ジフェニルホスフィノ)−5,5°、6.
6°、7゜7’ 、 8.8° −才クタヒド口−1,
1゛−ビナフチル〕塩化ロジウムRh (COD) (
OcH−BINAP) CI!が得られる。
ロログロジウム[Rh(Con)Cjl! ] 2と本
発明に係る0cH−BINAPを塩化メチレン中で反応
させることにより、1.5−シクロオクタジエン−〔2
,2゜ビス(ジフェニルホスフィノ)−5,5°、6.
6°、7゜7’ 、 8.8° −才クタヒド口−1,
1゛−ビナフチル〕塩化ロジウムRh (COD) (
OcH−BINAP) CI!が得られる。
さらに、G、 Wilkinson ; Inorg、
5ynth、、 8゜p214〜217 (196
6)に報告されているRh ((1,0) C1(PP
h:+)z (Phはフェニル基を意味する)の合成法
と同様にして、市販品の[Rh (CD) 、[1,β
]2と本発明に係る0cH−BINAPを室温下、塩化
メチレン中で反応させることにより、カルボニル−〔2
,2”−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5,5”、
6.6’ 、 7.7’ 、 8゜8゛−オクタヒドロ
−1,1゛−ビナフチル〕ロジウムクロリドRh(Co
) (OcH−BINAP)Cj2を得ることができる
。
5ynth、、 8゜p214〜217 (196
6)に報告されているRh ((1,0) C1(PP
h:+)z (Phはフェニル基を意味する)の合成法
と同様にして、市販品の[Rh (CD) 、[1,β
]2と本発明に係る0cH−BINAPを室温下、塩化
メチレン中で反応させることにより、カルボニル−〔2
,2”−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5,5”、
6.6’ 、 7.7’ 、 8゜8゛−オクタヒドロ
−1,1゛−ビナフチル〕ロジウムクロリドRh(Co
) (OcH−BINAP)Cj2を得ることができる
。
また、T、 Ikariyaら; J、Chem、 S
ac、、 (:hem。
ac、、 (:hem。
Commun、 p922 (1985)に開示されて
いるRuzCf −(BINAP) (NEh)の合成
法と同様にして、ルテニウムクロリドとCODより容易
に得ることができる[:RuCj! −(COD))−
と、本発明に係る 0cH−BINAPをトリエチルア
ミンの存在下、トルエン溶媒中で加熱反応させることに
より、 Ru=Cj24(OcH−BINAP) 2 (N8h
)を得ることができる。
いるRuzCf −(BINAP) (NEh)の合成
法と同様にして、ルテニウムクロリドとCODより容易
に得ることができる[:RuCj! −(COD))−
と、本発明に係る 0cH−BINAPをトリエチルア
ミンの存在下、トルエン溶媒中で加熱反応させることに
より、 Ru=Cj24(OcH−BINAP) 2 (N8h
)を得ることができる。
このようにして得られる本発明の遷移金属錯体は、不斉
合成反応、例えば2−(N−アシルアミノ)メチル−3
−オキソブタン酸エステルの不斉水素化の触媒として用
いると、高い触媒活性を示し、高い光学純度、および高
いジアステレオ選択率を持った2−(N−アシルアミノ
)メチル−3−ヒドロキシブタン酸エステルを与える。
合成反応、例えば2−(N−アシルアミノ)メチル−3
−オキソブタン酸エステルの不斉水素化の触媒として用
いると、高い触媒活性を示し、高い光学純度、および高
いジアステレオ選択率を持った2−(N−アシルアミノ
)メチル−3−ヒドロキシブタン酸エステルを与える。
また、ゲラニオールあるいはネロールの不斉水素化の触
媒として用いると、高い触媒活性を示し、しかも高い不
斉収率でシトロネロールを得ることができる。また、本
発明に係る0cH−BINAPの(−)体又は(+)の
いずれか一方を選択し、これを配位子とした遷移金属錯
体を触媒として用いることにより、不斉合成反応におい
て所望する絶対配置の目的物を得ることができる。
媒として用いると、高い触媒活性を示し、しかも高い不
斉収率でシトロネロールを得ることができる。また、本
発明に係る0cH−BINAPの(−)体又は(+)の
いずれか一方を選択し、これを配位子とした遷移金属錯
体を触媒として用いることにより、不斉合成反応におい
て所望する絶対配置の目的物を得ることができる。
次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下の測定には次の機器を用いた。
NMR: AM−400型装置(400MHz)(プル
ツカ−社製) 内部標準物質: ’H−NMR・・・テトラメチルシラ
ン 外部標準物質: ”P−NMR・・・85%リン酸旋光
度:DIP−4型装置(日本分光工業■製)光学純度:
高速液体クロマトグラフィーL−6000(■日立製作
新製) 検出器:UV検出器 L−4000UV(@J日立製作
所M) カラムニキラルセルOG (ダイセル化学社製) 条件:ヘキサン/イソプロピルアル コール=90/10 流速:1ml/分 検 出:UV 254nm 化学純度:高速液体クロマトグラフィーL−6000(
■日立製作新製) 検出器:UV検出器 し−4000LIV(@日立製作
新製) カラム;コスモシル 5SL (■日立製作新製) 条件:へキサン/イソプロピルアル コール=90/10 流速:1m1l!/分 検 出:UV 254nm 実施例1 ■ 2,2゛−ジブロモ−5,5′、 6.6’ 、
7.7°、8,8” −オクタヒドロ−1,1°−ビナ
フチル(rV)の合成:500m1のステンレス製オー
トクレーブに、2.2°−ジブロモ−1,1゛−ビナフ
チル(II[)35g(0,085mol)、 5%
−ルテニウム−炭素(NIliCI(EMCAT社製)
5.25g、酢酸エチル13〇−及び95%エタノール
130mj!を加えた。水素圧50kg/cm’、温度
100℃で20時間水素化し、基質に対して、4倍モル
の水素の吸収を確認した後、30℃まで冷却して触媒を
濾別し、濾液を室温にて一夜放置して析出結晶を濾取し
た。
ツカ−社製) 内部標準物質: ’H−NMR・・・テトラメチルシラ
ン 外部標準物質: ”P−NMR・・・85%リン酸旋光
度:DIP−4型装置(日本分光工業■製)光学純度:
高速液体クロマトグラフィーL−6000(■日立製作
新製) 検出器:UV検出器 L−4000UV(@J日立製作
所M) カラムニキラルセルOG (ダイセル化学社製) 条件:ヘキサン/イソプロピルアル コール=90/10 流速:1ml/分 検 出:UV 254nm 化学純度:高速液体クロマトグラフィーL−6000(
■日立製作新製) 検出器:UV検出器 し−4000LIV(@日立製作
新製) カラム;コスモシル 5SL (■日立製作新製) 条件:へキサン/イソプロピルアル コール=90/10 流速:1m1l!/分 検 出:UV 254nm 実施例1 ■ 2,2゛−ジブロモ−5,5′、 6.6’ 、
7.7°、8,8” −オクタヒドロ−1,1°−ビナ
フチル(rV)の合成:500m1のステンレス製オー
トクレーブに、2.2°−ジブロモ−1,1゛−ビナフ
チル(II[)35g(0,085mol)、 5%
−ルテニウム−炭素(NIliCI(EMCAT社製)
5.25g、酢酸エチル13〇−及び95%エタノール
130mj!を加えた。水素圧50kg/cm’、温度
100℃で20時間水素化し、基質に対して、4倍モル
の水素の吸収を確認した後、30℃まで冷却して触媒を
濾別し、濾液を室温にて一夜放置して析出結晶を濾取し
た。
収量30.6g、収率85.7%、融点146〜147
℃IH−NMR(CDC1,) δppm :1、7
5(m、 8H)、 2.08(dt、 2H,J47
.67Hz)。
℃IH−NMR(CDC1,) δppm :1、7
5(m、 8H)、 2.08(dt、 2H,J47
.67Hz)。
2J3(dt、2H,J=17.67Hz)、 2.7
7(m、4H)。
7(m、4H)。
6、98 (d、 2H,J=8.2Hz) 、 7゜
42 (d、 2H,J=8.2Hz)。
42 (d、 2H,J=8.2Hz)。
■ 2,2°−ビス(ジフェニルホスホリル)−5,5
°。
°。
6、6’ 、 7.7°、8,8°−才クタヒドロ−1
,1°−ビナフチル(VI)の合成: 11の4つロフラスコにマグネシウム4.26 g(0
,177mol)を入れ、窒素置換の後、少量のヨード
を添加した。乾燥テトラヒドロフラン20−を加え、続
いて0.6rdの1.2−ジブロモエタンを注射器を用
いて添加した。これに、別に用意した2゜2′−ジブロ
モ−5,5°、 6.6’ 、 7.7’ 、 8.8
’ −オクタヒドロ−1,1°−ビナフタレン(rV
)32.5g(0,0774mol)のトルエン330
dとテトラヒドロフラン90m1混合溶液を、滴下ロー
トより7時間で滴下した。この時の反応液の温度は80
〜90℃であった。滴下後、更に94℃で19時間攪拌
した。液温を5℃に冷却してから、34.27 g(0
,148mol)のジフェニルホスフィン酸クロリドを
30分で滴下した。次に液温を72℃に加温し、3.5
時間撹拌した。室温に戻した後、水10〇−を加えて再
び加温し、80℃で20分撹拌し、再び室温にもどして
一夜放置した。析出した白色固体を濾取し、水100m
j!で2回洗浄し、次にヘキサン−トルエン(9: 1
)の混合液100rnlで洗浄した後、減圧下(0,1
闘Hg)、70℃で7時間乾燥して32.8 gの表題
化合物(VT)を得た。
,1°−ビナフチル(VI)の合成: 11の4つロフラスコにマグネシウム4.26 g(0
,177mol)を入れ、窒素置換の後、少量のヨード
を添加した。乾燥テトラヒドロフラン20−を加え、続
いて0.6rdの1.2−ジブロモエタンを注射器を用
いて添加した。これに、別に用意した2゜2′−ジブロ
モ−5,5°、 6.6’ 、 7.7’ 、 8.8
’ −オクタヒドロ−1,1°−ビナフタレン(rV
)32.5g(0,0774mol)のトルエン330
dとテトラヒドロフラン90m1混合溶液を、滴下ロー
トより7時間で滴下した。この時の反応液の温度は80
〜90℃であった。滴下後、更に94℃で19時間攪拌
した。液温を5℃に冷却してから、34.27 g(0
,148mol)のジフェニルホスフィン酸クロリドを
30分で滴下した。次に液温を72℃に加温し、3.5
時間撹拌した。室温に戻した後、水10〇−を加えて再
び加温し、80℃で20分撹拌し、再び室温にもどして
一夜放置した。析出した白色固体を濾取し、水100m
j!で2回洗浄し、次にヘキサン−トルエン(9: 1
)の混合液100rnlで洗浄した後、減圧下(0,1
闘Hg)、70℃で7時間乾燥して32.8 gの表題
化合物(VT)を得た。
収率64.1%、融点300℃(分解)’H−NMR(
CDCj! 3) δppm :6、938 (d、
1N、 J=13.29Hz) 、 6.958 (
d、 LH,J=13.29Hz) 。
CDCj! 3) δppm :6、938 (d、
1N、 J=13.29Hz) 、 6.958 (
d、 LH,J=13.29Hz) 。
7.002(d、IH,J=3.19Hz)、 7.
022(d、lH,J=3.19Hz)。
022(d、lH,J=3.19Hz)。
7.36(m、4H)、 7.43(m、4H)、 7
.5Htq、4)1)。
.5Htq、4)1)。
7.65(dq、4H)、 7.78(dq、4H)。
”P−NMR([’DCf!3) δppm : 2
8.415■ 2.2°−ビス(ジフェニルホスホリル
)−5,5’。
8.415■ 2.2°−ビス(ジフェニルホスホリル
)−5,5’。
6.6”、7,7°、8,8°−才クタヒド口−1,1
°−ビナフチル(VI)の光学分割ニ ラセミ体のホスフィンオキシト(VI)90g(11,
62m+mol)を加温したクロロホルム2000rn
lに溶解し、別に(−)−ジベンゾイル酒石酸47.6
9g(13,31mmo1)を70℃の酢酸エチル13
00rdに溶解し、両者を撹拌下に混合した。室温で一
夜放置し、析出結晶を濾取し、減圧下(0,IIIIX
IIHg)に室温で10時間乾燥して、57.94 g
の塩を得た。これを再びクロロホルム700mf、エタ
ノール12〇−及び酢酸エチル1400mf!の混合溶
媒に加温して溶解した後、室温で結晶を析出させ、これ
を濾取した後、減圧下(0,1mmHg)に室温で乾燥
させて54.87 gの塩を得た。これに1.5N水酸
化す) IJウム1000m12を加えてから、クロロ
ホルム10100Oで3回抽出し、更に1.5N水酸化
ナトリウム40〇−で洗浄、水1000−で3回洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して32.48
gの光学活性な(VI)を得た。収率44.21%〔
α〕:’ −33,91° (C=0.5. CHCj
23)。
°−ビナフチル(VI)の光学分割ニ ラセミ体のホスフィンオキシト(VI)90g(11,
62m+mol)を加温したクロロホルム2000rn
lに溶解し、別に(−)−ジベンゾイル酒石酸47.6
9g(13,31mmo1)を70℃の酢酸エチル13
00rdに溶解し、両者を撹拌下に混合した。室温で一
夜放置し、析出結晶を濾取し、減圧下(0,IIIIX
IIHg)に室温で10時間乾燥して、57.94 g
の塩を得た。これを再びクロロホルム700mf、エタ
ノール12〇−及び酢酸エチル1400mf!の混合溶
媒に加温して溶解した後、室温で結晶を析出させ、これ
を濾取した後、減圧下(0,1mmHg)に室温で乾燥
させて54.87 gの塩を得た。これに1.5N水酸
化す) IJウム1000m12を加えてから、クロロ
ホルム10100Oで3回抽出し、更に1.5N水酸化
ナトリウム40〇−で洗浄、水1000−で3回洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して32.48
gの光学活性な(VI)を得た。収率44.21%〔
α〕:’ −33,91° (C=0.5. CHCj
23)。
一方、分割で生成した母液に1.5N水酸化す) IJ
ウム1400mf!を加え、クロロホルム10100O
で2回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、別に用意した(+)−ジベンゾイル酒石酸28gを
70℃の酢酸エチル200−に溶かした溶液をクロロホ
ルム溶液に加え、室温で一夜放置した。析出結晶を濾取
し、再びクロロホルム700mji!、エタノール12
〇−及び酢酸エチル1400mj?の混合溶媒に溶かし
、室温で析出した結晶を濾取し、1,5N水酸化す)I
Jウム1000−を加えてから、クロロホルム1010
0O!で3回抽出し、水1000m17で3回洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮して29.8
gの光学活性な(Vl)を得た。収率40.67% 〔α〕二’ +34.66° (C・0.5. CHI
3)。
ウム1400mf!を加え、クロロホルム10100O
で2回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、別に用意した(+)−ジベンゾイル酒石酸28gを
70℃の酢酸エチル200−に溶かした溶液をクロロホ
ルム溶液に加え、室温で一夜放置した。析出結晶を濾取
し、再びクロロホルム700mji!、エタノール12
〇−及び酢酸エチル1400mj?の混合溶媒に溶かし
、室温で析出した結晶を濾取し、1,5N水酸化す)I
Jウム1000−を加えてから、クロロホルム1010
0O!で3回抽出し、水1000m17で3回洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮して29.8
gの光学活性な(Vl)を得た。収率40.67% 〔α〕二’ +34.66° (C・0.5. CHI
3)。
上記方法で得た(−) −(VI)および(+)(VI
)は、光学活性カラム(キラルセルOG)を付けた高速
液体クロマトグラフィーにより各々98、46%ee、
100%eeであることを確認した。
)は、光学活性カラム(キラルセルOG)を付けた高速
液体クロマトグラフィーにより各々98、46%ee、
100%eeであることを確認した。
■ 光学活性fL2.2’−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ) −5,5’、 6.6’、7.7′、8.8′−
才クタヒド口−1゜1゛−ビナフチル(I)の合成: 500mj’の4つロフラスコに4.6gの(−)−(
VI) (6,04mmol)を入れて、窒素置換を
行った後、キシレン150mf、)リエチルアミン3.
67g (36,24mmol)及びトリクロルシラン
4.91g(36,24mmol)を加え、室温で20
分、90〜110℃で20分、110〜120℃で1時
間、130℃で16.5時間撹拌した。更に、トリクロ
ルシラン1.88 g (13,88mmol)とトリ
エチルアミン1.38 g (13,64mmol)を
加え、130℃で6時間撹拌した。室温まで冷却した後
、3N水酸化ナトリウム100rnlを加え、60℃で
2時間撹拌した。室温まで冷却して有機層と水層を分離
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥してから濃縮
して3.49gの(−)−(I)を得た。収率91.7
%〔α〕シ’ −72,42° (C=0.504
. )ルエン)。
ノ) −5,5’、 6.6’、7.7′、8.8′−
才クタヒド口−1゜1゛−ビナフチル(I)の合成: 500mj’の4つロフラスコに4.6gの(−)−(
VI) (6,04mmol)を入れて、窒素置換を
行った後、キシレン150mf、)リエチルアミン3.
67g (36,24mmol)及びトリクロルシラン
4.91g(36,24mmol)を加え、室温で20
分、90〜110℃で20分、110〜120℃で1時
間、130℃で16.5時間撹拌した。更に、トリクロ
ルシラン1.88 g (13,88mmol)とトリ
エチルアミン1.38 g (13,64mmol)を
加え、130℃で6時間撹拌した。室温まで冷却した後
、3N水酸化ナトリウム100rnlを加え、60℃で
2時間撹拌した。室温まで冷却して有機層と水層を分離
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥してから濃縮
して3.49gの(−)−(I)を得た。収率91.7
%〔α〕シ’ −72,42° (C=0.504
. )ルエン)。
融点 207〜208℃
’H−NMR(CDCjl! 3) δppm :0
.890 (m、 2H) 、 1.27 (m、 2
H) 、 1.45 (m、 4H) 。
.890 (m、 2H) 、 1.27 (m、 2
H) 、 1.45 (m、 4H) 。
1.54(dt、2H)、 1.84(dq、2H)、
2.64(dt、2H)。
2.64(dt、2H)。
2.7Hdt、2H)、 6.88(dt、2H)、
7.03(d、2H)。
7.03(d、2H)。
7.20(br s、10H)、 7.30(m、10
)1)。
)1)。
”P−NMR(CDCj’ 、) δppmニー15
.3374元素分析: (C4,H,、P2Rhとして
)計算値 C;83.79%、 H;6.39%実測値
C;83.51%、 H,6,38%同様な操作で(
+) −(VI)を用いて(+)−(I)を得た。
.3374元素分析: (C4,H,、P2Rhとして
)計算値 C;83.79%、 H;6.39%実測値
C;83.51%、 H,6,38%同様な操作で(
+) −(VI)を用いて(+)−(I)を得た。
Cαln’ +72J5° (C=0.516. ト
ルエン)。
ルエン)。
融点 207〜208℃
(+)−(I)の’ H−NMRは上記(−)−(I)
と同一であった。
と同一であった。
実施例2
実施例1■で得た(−) −0cH−BINAP (
I)0、4107 g (0,652mmol)とオス
ホルンらの方法に従い合成したC Rh (COD)
2コC1l [1,0,225g (0,537mmo
l)を塩化メチレン3rdに溶かし、室温で3時間反応
せしめた。反応液を1.5 mlに濃縮した後、エーテ
ル6mlを徐々に加えた。析出結晶を濾取し、エーテル
3m12で洗浄後、乾燥して0.48gの1.5−シク
ロオクタジエン−2,2“−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)−5,5’、6.6’、7.7’、8.8’オクタ
ヒドロ−1,1′−ビナフチル)ロジウムバータロレー
) [Rh(Con)((−)−0cH−BINAP)
] C1,を得た。収率95% 3’P−NMR(CD(J’、) δpprn :
25.01元素分析: (C52H32Cf O,P、
Rhとして)計算値 C;66、35%、 )l;5.
57%実測値 C;65.97%、 H;5,49%実
施例3 50−の枝付ナスフラスコに、53 mg (0,13
6mmol)の[Rh(CD)2fJ] 、 (アル
ドリッチ社製)と174 mg (0,276mmol
)の実施例1■で得た(−)−0ct(−BINAPを
入れ、窒素置換の後、塩化メチレン5ml!を加え、室
温で2時間撹拌した。不溶部を濾別した後、濾液を濃縮
、乾燥して0.206 gのカルボニル−[2,2”−
ビス(ジフェニルホスフィノ)−5,5°、 6.6’
、 7.7’ 、 8.8° −才クタヒド口−1゜
1′−ビナフチル〕ロジウムクロリド[Rh (CD)
((−)−OcH−BINAP)] Cji!を得た
。収率95.1%’H−NMR(CDCl2) δ
ppm :1.05〜2.50(m、16H)、 6
.60〜7.90(m、24H)。
I)0、4107 g (0,652mmol)とオス
ホルンらの方法に従い合成したC Rh (COD)
2コC1l [1,0,225g (0,537mmo
l)を塩化メチレン3rdに溶かし、室温で3時間反応
せしめた。反応液を1.5 mlに濃縮した後、エーテ
ル6mlを徐々に加えた。析出結晶を濾取し、エーテル
3m12で洗浄後、乾燥して0.48gの1.5−シク
ロオクタジエン−2,2“−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)−5,5’、6.6’、7.7’、8.8’オクタ
ヒドロ−1,1′−ビナフチル)ロジウムバータロレー
) [Rh(Con)((−)−0cH−BINAP)
] C1,を得た。収率95% 3’P−NMR(CD(J’、) δpprn :
25.01元素分析: (C52H32Cf O,P、
Rhとして)計算値 C;66、35%、 )l;5.
57%実測値 C;65.97%、 H;5,49%実
施例3 50−の枝付ナスフラスコに、53 mg (0,13
6mmol)の[Rh(CD)2fJ] 、 (アル
ドリッチ社製)と174 mg (0,276mmol
)の実施例1■で得た(−)−0ct(−BINAPを
入れ、窒素置換の後、塩化メチレン5ml!を加え、室
温で2時間撹拌した。不溶部を濾別した後、濾液を濃縮
、乾燥して0.206 gのカルボニル−[2,2”−
ビス(ジフェニルホスフィノ)−5,5°、 6.6’
、 7.7’ 、 8.8° −才クタヒド口−1゜
1′−ビナフチル〕ロジウムクロリド[Rh (CD)
((−)−OcH−BINAP)] Cji!を得た
。収率95.1%’H−NMR(CDCl2) δ
ppm :1.05〜2.50(m、16H)、 6
.60〜7.90(m、24H)。
”P−NMR(CDCj!、) δppm :22.
44(dd)、 45.75(dd)。
44(dd)、 45.75(dd)。
IR(KBr) : 2005 cm−’ (stro
ng)元素分析: (C4SH,OCf 0P2Rfi
として)計算値 C;67.81%、 H;5.06
%実測値 C; 67J%、 H;4.98%実施例
4 100−の波付フラスコに、(+ ) −0cH−BI
NAP O,189g (0,3+r+mol) ト
、CRh<C0D)CI E x(ストレムケミカルズ
社製) 0.15 g (0,6mmol)、NaBL
0.200g(1,8mmol) 、([:Js)
JBr 0.013g(0,06mmol) 、塩化メ
チレン30艷および水20艷を入れ、5〜10℃で1.
5時間反応せしめた。
ng)元素分析: (C4SH,OCf 0P2Rfi
として)計算値 C;67.81%、 H;5.06
%実測値 C; 67J%、 H;4.98%実施例
4 100−の波付フラスコに、(+ ) −0cH−BI
NAP O,189g (0,3+r+mol) ト
、CRh<C0D)CI E x(ストレムケミカルズ
社製) 0.15 g (0,6mmol)、NaBL
0.200g(1,8mmol) 、([:Js)
JBr 0.013g(0,06mmol) 、塩化メ
チレン30艷および水20艷を入れ、5〜10℃で1.
5時間反応せしめた。
塩化メチレンを分液し、水を用いて各々20rrL!、
で3回洗浄した。塩化メチレン溶液を濃縮乾固して(1
,5−シクロオクタジエン)−2,2″−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)−5,5°、 6.6’ 、 7.7
”、 8.8’ −才クタヒド口−1,1’−ビナフチ
ルロジウムテトラブルオロボレート[Rh(COD)
((+)−DcH−BINAP)) BF。
で3回洗浄した。塩化メチレン溶液を濃縮乾固して(1
,5−シクロオクタジエン)−2,2″−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)−5,5°、 6.6’ 、 7.7
”、 8.8’ −才クタヒド口−1,1’−ビナフチ
ルロジウムテトラブルオロボレート[Rh(COD)
((+)−DcH−BINAP)) BF。
0.279 gを得た。
元素分析: (C52HsaBF、P、Rhとして)計
算値 C;67、26%、 H,5,64%実測値 C
;67、31%、 H;5.58%実施例5 300艷の波付フラスコに、0.236 g (0,2
41mmol)の真島らの方法[J、 Chem、 S
oc、、 ChemCommun、、p1208 (1
989)]で合成した〔RuI2(pCymene)
] 2と0.3035 g (0,481mmol)の
実施例1■で得た(−)−0cH−BINAPを入れ、
窒素置換の後に、塩化メチレン1(lfflを加え、4
0℃で2時間撹拌した。塩化メチレンを留去し、減圧下
(0,1mm)Ig) 、室温で15時間乾燥して0.
58 gのヨード−π−p−シメン−〔2,2″−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−5,5°、 6.6’ 、
7.7’ 、 8.8’ −才クタヒド口−1,1
゛−ビナフチル〕ヨウ化ルテニウム[:Ru[(p−C
ymene)((−)−0cH−BINAP)) Iを
得た。
算値 C;67、26%、 H,5,64%実測値 C
;67、31%、 H;5.58%実施例5 300艷の波付フラスコに、0.236 g (0,2
41mmol)の真島らの方法[J、 Chem、 S
oc、、 ChemCommun、、p1208 (1
989)]で合成した〔RuI2(pCymene)
] 2と0.3035 g (0,481mmol)の
実施例1■で得た(−)−0cH−BINAPを入れ、
窒素置換の後に、塩化メチレン1(lfflを加え、4
0℃で2時間撹拌した。塩化メチレンを留去し、減圧下
(0,1mm)Ig) 、室温で15時間乾燥して0.
58 gのヨード−π−p−シメン−〔2,2″−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−5,5°、 6.6’ 、
7.7’ 、 8.8’ −才クタヒド口−1,1
゛−ビナフチル〕ヨウ化ルテニウム[:Ru[(p−C
ymene)((−)−0cH−BINAP)) Iを
得た。
収率:定量的
”P−NMR(CDCj! 3) δppm :23
.2418(d)、 39.7730(d)。
.2418(d)、 39.7730(d)。
元素分析: ((:5−H34I2P2Ruとして)計
算値 c; 57.92%、 )I;4.86%実
測値 C; 56.66%、 H;4.80%実施
例6 200mjl!の波付フラスコに、0.985 g (
3,38mmol)のボネットらの方法[Chem、
& Ind、、 1516゜(1959))で三塩化ル
テニウムと1,5−シクロオクタジエンをエタノール中
で反応させることにより合成した[Ru(COD)[’
j! 2]−と2.40g (3,81mmol)の実
施例1■で得た(−)−0cH−BINAPを入れ、窒
素置換の後に、トルエン100m7!とトリエチルアミ
ン2−(14,35mmol>を加え、115℃で15
時間加熱還流した。30℃に冷却し、減圧下(2mmH
g)でトルエンを留去し、続いて高真空下(0,1mm
Hg)に10時間乾燥して3.25g(収率100%)
のテトラクロロージ〔2,2°−ビス(ジフェニルホス
フィノ) −5,5’、6.6’、7.7’、8.8’
オクタヒドロ−1,1′−ビナフチルクジルテニウムト
リエチルアミンRu2Ci = ((−)−DC)I−
BINAP) 2 (NBb)を得た。収率:定量的 ”P−NMR(CDfJ3) δppo :44.7
8(d)、 51.34(d)。
算値 c; 57.92%、 )I;4.86%実
測値 C; 56.66%、 H;4.80%実施
例6 200mjl!の波付フラスコに、0.985 g (
3,38mmol)のボネットらの方法[Chem、
& Ind、、 1516゜(1959))で三塩化ル
テニウムと1,5−シクロオクタジエンをエタノール中
で反応させることにより合成した[Ru(COD)[’
j! 2]−と2.40g (3,81mmol)の実
施例1■で得た(−)−0cH−BINAPを入れ、窒
素置換の後に、トルエン100m7!とトリエチルアミ
ン2−(14,35mmol>を加え、115℃で15
時間加熱還流した。30℃に冷却し、減圧下(2mmH
g)でトルエンを留去し、続いて高真空下(0,1mm
Hg)に10時間乾燥して3.25g(収率100%)
のテトラクロロージ〔2,2°−ビス(ジフェニルホス
フィノ) −5,5’、6.6’、7.7’、8.8’
オクタヒドロ−1,1′−ビナフチルクジルテニウムト
リエチルアミンRu2Ci = ((−)−DC)I−
BINAP) 2 (NBb)を得た。収率:定量的 ”P−NMR(CDfJ3) δppo :44.7
8(d)、 51.34(d)。
元素分析: (Cs4HssC1<NP4Ru2として
)計算値 C;66、16%、 H;5.61%実測値
C;67、03%、 H;5.78%実施例7 200mj!の波付フラスコに、1.94 g (1
,14mmol)の実施例6で得られたRuzCIl
4((−) −0ct(BINAP) 2 (NBh)
と0.984g (12mmol)の酢酸ナトリウムを
入れて、窒素置換を行った後、tert−ブタノール5
0mf!を加え、85℃で10時間還流した。
)計算値 C;66、16%、 H;5.61%実測値
C;67、03%、 H;5.78%実施例7 200mj!の波付フラスコに、1.94 g (1
,14mmol)の実施例6で得られたRuzCIl
4((−) −0ct(BINAP) 2 (NBh)
と0.984g (12mmol)の酢酸ナトリウムを
入れて、窒素置換を行った後、tert−ブタノール5
0mf!を加え、85℃で10時間還流した。
その後50℃に冷却し、減圧下(20關Hg)でter
t−ブタノールを留去して暗緑色の固体を得た。得られ
た固体に30dのエタノールを加え、可溶部を取り出し
、再び残渣に3(lyt7’のエタノールを加えて可溶
部を取り出し、溶液を合せて濃縮乾固した。続いてトル
エン8mfを加え加熱還流した後、可溶部を取り出し、
n−ヘキサン16mj!を加えて、冷蔵庫に一夜放置し
析出固体を濾取し、減圧下(0,1mmHg) 、室温
で乾燥して1.48gの〔2,2°−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)−5,5°、6,6′、 ?、 7’ 。
t−ブタノールを留去して暗緑色の固体を得た。得られ
た固体に30dのエタノールを加え、可溶部を取り出し
、再び残渣に3(lyt7’のエタノールを加えて可溶
部を取り出し、溶液を合せて濃縮乾固した。続いてトル
エン8mfを加え加熱還流した後、可溶部を取り出し、
n−ヘキサン16mj!を加えて、冷蔵庫に一夜放置し
析出固体を濾取し、減圧下(0,1mmHg) 、室温
で乾燥して1.48gの〔2,2°−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)−5,5°、6,6′、 ?、 7’ 。
8.8”−オクタヒドロ−1,1°−ビナフチル〕ルテ
ニウムジアセタートRLI(OAC)2((−)−0C
H−BINAP)を得た。収率76.4% ”P−NMR(CDC1,) δppm : 64.
18元素分析: (C4Jas04PaRuとして)計
算値 C;67、83%、 t(;5.46%実測値
C;67、98%、 l(;5.65%実施例8 50−の枝材フラスコに、M、Greenらの方法[J
、Chem、Sac、、 (A) 2334 (19
71年)〕に基づいて合成した[:b(Con) (C
H,CN)−] BF、 0.64 g(1,36mm
ol)を入れ、15m1!のテトラヒトo7ランを加え
た。続いて、実施例1■で得た(−)DC)1−BIN
AP O,86g <1.36 mmol)のテトラヒ
ドロフラン溶液10m1を加え、30分、室温で撹拌し
た。不溶物を濾別してから濾液を300mfのエーテル
に加え、室温で60時間放置し、析出結晶を濾取、乾燥
して1.3gの1.5−シクロオクタジエン−C2,2
’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5゜5“、6,6
°、 7.7’ 、 8.8° −才クタヒド口−1,
1°−ビナフチルクイリジウムテトラフルオロボレート
〔Ir (COD) ((−)−0c)I−BINAP
″] BF、を得た。収率93.9% ”P−NMR(CDC1,) δppm + 14.
9 (s)’H−NMR([:DC13) δppm
:3.95(m、2H)、 4.26(m、2H)、
6.94(d、2H)。
ニウムジアセタートRLI(OAC)2((−)−0C
H−BINAP)を得た。収率76.4% ”P−NMR(CDC1,) δppm : 64.
18元素分析: (C4Jas04PaRuとして)計
算値 C;67、83%、 t(;5.46%実測値
C;67、98%、 l(;5.65%実施例8 50−の枝材フラスコに、M、Greenらの方法[J
、Chem、Sac、、 (A) 2334 (19
71年)〕に基づいて合成した[:b(Con) (C
H,CN)−] BF、 0.64 g(1,36mm
ol)を入れ、15m1!のテトラヒトo7ランを加え
た。続いて、実施例1■で得た(−)DC)1−BIN
AP O,86g <1.36 mmol)のテトラヒ
ドロフラン溶液10m1を加え、30分、室温で撹拌し
た。不溶物を濾別してから濾液を300mfのエーテル
に加え、室温で60時間放置し、析出結晶を濾取、乾燥
して1.3gの1.5−シクロオクタジエン−C2,2
’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5゜5“、6,6
°、 7.7’ 、 8.8° −才クタヒド口−1,
1°−ビナフチルクイリジウムテトラフルオロボレート
〔Ir (COD) ((−)−0c)I−BINAP
″] BF、を得た。収率93.9% ”P−NMR(CDC1,) δppm + 14.
9 (s)’H−NMR([:DC13) δppm
:3.95(m、2H)、 4.26(m、2H)、
6.94(d、2H)。
7.32(q、4H)、 7.40(d、2H)、 7
.54(m、16H)。
.54(m、16H)。
実施例9
100−の枝材フラスコに、0.2 g (0,4mm
ol)の真島らの方法CJ、 Chem、 Soc、、
Chem、 Commun、。
ol)の真島らの方法CJ、 Chem、 Soc、、
Chem、 Commun、。
p120g (19g9)) テ合成シf= [Ru(
C,L)i 2] 2と0.505 g (0,8mm
ol)の実施例1■で得た(−)−OcH−BINAP
を入れ、窒素置換の後に、エタノール90m1’とベン
ゼン12m1を加え、50tで45分間撹拌した。不溶
物を濾別した後、濾液を濃縮して0.62 gのジクロ
ロ−π−ベンゼン−〔2,2″−ビス(ジフェニルホス
フィノ)−5,5”、 6.6’ 、 7.7’ 。
C,L)i 2] 2と0.505 g (0,8mm
ol)の実施例1■で得た(−)−OcH−BINAP
を入れ、窒素置換の後に、エタノール90m1’とベン
ゼン12m1を加え、50tで45分間撹拌した。不溶
物を濾別した後、濾液を濃縮して0.62 gのジクロ
ロ−π−ベンゼン−〔2,2″−ビス(ジフェニルホス
フィノ)−5,5”、 6.6’ 、 7.7’ 。
8.8′−才クタヒド口−1,1′−ビナフチル〕ルテ
ニウム[RuCj! (C−Hs) ((−)−0c)
I−BINAP) ] Cj!を得た。収率87.9% ’H−NMR(CDCj7 、) δppm :0.
95〜2.60(m、16H)、 5.59(s、6)
1)、 6.06(d、1)1)。
ニウム[RuCj! (C−Hs) ((−)−0c)
I−BINAP) ] Cj!を得た。収率87.9% ’H−NMR(CDCj7 、) δppm :0.
95〜2.60(m、16H)、 5.59(s、6)
1)、 6.06(d、1)1)。
6.89(d、1)1)、 7.15〜7.43([1
1,6)1)、 7.48(m、8H)。
1,6)1)、 7.48(m、8H)。
7.72 (d、 LH) 。
”P−NMR(CDfJ3)δppm : 28.14
(d)、 37.19(d)。
(d)、 37.19(d)。
使用例1
200−のステンレス製オートクレーブに、2−ペンズ
アミドメチル−3−オキソ酪酸メチル3、56 g (
0,0143mol)を入れ、窒素置換シタ後、別に用
意した実施例5で得られたC Rul (p−Cyme
ne)((−)−[]c)l−8INAP)) 1 0
.01g(0,00894mmol)のジクロロメタン
/メタノ−ルーフ/1混合液7−を加え、水素圧50
kg/cm2.65℃で20時間撹拌した。反応後、反
応液を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、転
化率80%、ジアステレオ選択性91.6%、不斉収率
99%eeで2−ベンズアミドメチル−3−ヒドロキシ
酪酸メチル2.79g(収率78%)が生成した。
アミドメチル−3−オキソ酪酸メチル3、56 g (
0,0143mol)を入れ、窒素置換シタ後、別に用
意した実施例5で得られたC Rul (p−Cyme
ne)((−)−[]c)l−8INAP)) 1 0
.01g(0,00894mmol)のジクロロメタン
/メタノ−ルーフ/1混合液7−を加え、水素圧50
kg/cm2.65℃で20時間撹拌した。反応後、反
応液を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、転
化率80%、ジアステレオ選択性91.6%、不斉収率
99%eeで2−ベンズアミドメチル−3−ヒドロキシ
酪酸メチル2.79g(収率78%)が生成した。
使用例2
200m1のステンレス製オートクレーブに、ゲラニオ
ール16.1 g (0,104mmol) 、実施例
7で得られたRu (OAc) 2 ((−)−0cH
−BINAP) 17.7 mg(0,0208mmo
l)及びメタノール18mj’を加え、水素圧100
kg/cm225℃で5時間撹拌した。
ール16.1 g (0,104mmol) 、実施例
7で得られたRu (OAc) 2 ((−)−0cH
−BINAP) 17.7 mg(0,0208mmo
l)及びメタノール18mj’を加え、水素圧100
kg/cm225℃で5時間撹拌した。
反応終了後、溶媒を留去し、減圧蒸留(クライゼン蒸留
器)により 15.89gのシトロネロールを得た。収
率98%。また、シトロネロールの光学純度は98.3
%aeであった。
器)により 15.89gのシトロネロールを得た。収
率98%。また、シトロネロールの光学純度は98.3
%aeであった。
〔α〕シ’5.11° (C=20.0. CHCj!
3)使用例3 100mj2のステンレス製オートクレーブに、実施例
8で得られた[Ir(COD)((−)−0cH−BI
NAP)) BF。
3)使用例3 100mj2のステンレス製オートクレーブに、実施例
8で得られた[Ir(COD)((−)−0cH−BI
NAP)) BF。
206 mg (0,2mmol)を入れ、窒素置換シ
タ後、テトラヒドロフラン/メタノール=5/1混合液
2−及び3−オキソテトラヒドロチオフェン2.07g
(20,3mmol)を加え、水素圧50 kg/
cm 230℃で45時間撹拌した。反応終了後、メタ
ノールを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン/酢酸エチル=8/1)で未反応物と水素化
物を分離し、0.56 gの3−ヒドロキシテトラヒド
ロチオフェンを得た。
タ後、テトラヒドロフラン/メタノール=5/1混合液
2−及び3−オキソテトラヒドロチオフェン2.07g
(20,3mmol)を加え、水素圧50 kg/
cm 230℃で45時間撹拌した。反応終了後、メタ
ノールを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン/酢酸エチル=8/1)で未反応物と水素化
物を分離し、0.56 gの3−ヒドロキシテトラヒド
ロチオフェンを得た。
〔α〕:4−8.95° (C=2.0. CHCf、
)文献値は〔α〕二’−14.6° (C=2. CH
Cl!3)従って水晶の光学純度は62.1%eeであ
る。
)文献値は〔α〕二’−14.6° (C=2. CH
Cl!3)従って水晶の光学純度は62.1%eeであ
る。
本発明の0cH−BINAPは、不斉合成用触媒の配位
子として優れたものであり、これとロジウム、ルテニウ
ム、イリジウム、パラジウム等の遷移金属との錯体は、
不斉水素化、不斉異性化、不斉シリル化等、種々の不斉
合成用触媒として優れた触媒活件を有し、これを用いれ
ば光学純度の高い光学活住体を製造することができる。
子として優れたものであり、これとロジウム、ルテニウ
ム、イリジウム、パラジウム等の遷移金属との錯体は、
不斉水素化、不斉異性化、不斉シリル化等、種々の不斉
合成用触媒として優れた触媒活件を有し、これを用いれ
ば光学純度の高い光学活住体を製造することができる。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる2,2′−ビス(ジフェニルホスフィノ)
−5,5′,6,6′,7,7′,8,8′−オクタヒ
ドロ−1,1′−ビナフチル。 2、2,2′−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5,5
′,6,6′,7,7′,8,8′−オクタヒドロ−1
,1′−ビナフチルを配位子とする遷移金属錯体。 3、遷移金属がロジウム、ルテニウム又はイリジウムで
ある請求項2記載の錯体。 4、次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1はハロゲン原子、ハロゲン化マグネシウ
ム又は▲数式、化学式、表等があります▼を示す) で表わされる5,5′,6,6′,7,7′,8,8′
−オクタヒドロ−1,1′−ビナフチル誘導体。 5、2,2′−ジハロゲノ−1,1′−ビナフチルをル
テニウム−炭素触媒の存在下に水素化することを特徴と
する2,2′−ジハロゲノ−5,5′,6,6′,7,
7′,8,8′−オクタヒドロ−1,1′−ビナフチル
の製造法。 6、2,2′−ジハロゲノ−1,1′−ビナフチルをル
テニウム−炭素触媒の存在下に水素化した後、金属マグ
ネシウムを反応させ、次いでジフェニルホスフィニルハ
ライドを反応させることを特徴とする2,2′−ビス(
ジフェニルホスホリル)−5,5′,6,6′,7,7
′,8,8′−オクタヒドロ−1,1′−ビナフチルの
製造法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2263440A JP2681057B2 (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | 2,2’―ビス(ジフェニルホスフィノ)―5,5’,6,6’,7,7’,8,8’―オクタヒドロ―1,1’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 |
EP91308957A EP0479542B1 (en) | 1990-10-01 | 1991-09-30 | A phosphino binaphthyl compound and transition metal complexes thereof |
DE69114986T DE69114986T2 (de) | 1990-10-01 | 1991-09-30 | Eine Phosphino-Binapthyl-Verbindung und Übergangsmetall-Komplexe davon. |
US07/769,264 US5206399A (en) | 1990-10-01 | 1991-10-01 | 2,2'-bis(diphenylphosphino)-5,5',6,6',7,7',8,8'-octahydro-1,1'-binaphthyl and transition metal complex containing the same as ligand |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2263440A JP2681057B2 (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | 2,2’―ビス(ジフェニルホスフィノ)―5,5’,6,6’,7,7’,8,8’―オクタヒドロ―1,1’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04139140A true JPH04139140A (ja) | 1992-05-13 |
JP2681057B2 JP2681057B2 (ja) | 1997-11-19 |
Family
ID=17389537
Family Applications (1)
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US5789333A (en) * | 1997-03-05 | 1998-08-04 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Catalyst system comprising a first catalyst system tethered to a supported catalyst |
US7223879B2 (en) * | 1998-07-10 | 2007-05-29 | Massachusetts Institute Of Technology | Ligands for metals and improved metal-catalyzed processes based thereon |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0673911A1 (en) * | 1994-03-08 | 1995-09-27 | Takasago International Corporation | Process for producing optically active carboxylic acids and chiral ligands for this purpose |
US7038087B2 (en) | 2002-09-06 | 2006-05-02 | Takasago International Corporation | Process for the production of optically active amino alcohols |
WO2005054491A1 (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-16 | Mercian Corporation | 光学活性テトラヒドロチオフェン誘導体の製造方法、および、光学活性テトラヒドロチオフェン-3-オールの晶析方法 |
JP2008521763A (ja) * | 2004-11-26 | 2008-06-26 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | メントールの調製法 |
JP2013155183A (ja) * | 2004-11-26 | 2013-08-15 | Basf Se | メントールの調製法 |
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