JPH08213464A - 識別機能付半導体集積回路 - Google Patents
識別機能付半導体集積回路Info
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- JPH08213464A JPH08213464A JP7015291A JP1529195A JPH08213464A JP H08213464 A JPH08213464 A JP H08213464A JP 7015291 A JP7015291 A JP 7015291A JP 1529195 A JP1529195 A JP 1529195A JP H08213464 A JPH08213464 A JP H08213464A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、半導体集積回路(IC/LSI)
に係り、特に、その製造時のウェハー状態における各種
情報、及び品質情報をウェハーテストの情報に基づいて
記憶内蔵させて識別機能を付加することにより、アセン
ブリ工程の合理化及び不良解析の合理化に役立てるよう
にした識別機能付半導体集積回路を提供する。 【構成】 本発明によると、個々の半導体素子を集積し
て電気的機能を実現する半導体集積回路チップにおい
て、当該チップ電気的機能の良否を識別する情報を内蔵
させるためのヒューズ素子を具備したことを特徴とする
識別機能付半導体集積回路が提供される。
に係り、特に、その製造時のウェハー状態における各種
情報、及び品質情報をウェハーテストの情報に基づいて
記憶内蔵させて識別機能を付加することにより、アセン
ブリ工程の合理化及び不良解析の合理化に役立てるよう
にした識別機能付半導体集積回路を提供する。 【構成】 本発明によると、個々の半導体素子を集積し
て電気的機能を実現する半導体集積回路チップにおい
て、当該チップ電気的機能の良否を識別する情報を内蔵
させるためのヒューズ素子を具備したことを特徴とする
識別機能付半導体集積回路が提供される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路(IC
/LSI)に係り、特にその製造時のウェハー状態にお
ける各種情報、及び品質情報をウェハーテストの情報に
基づいて記憶内蔵させて識別機能を付加することによ
り、アセンブリ工程の合理化、不良解析の合理化に役立
てるようにした識別機能付半導体集積回路に関する。
/LSI)に係り、特にその製造時のウェハー状態にお
ける各種情報、及び品質情報をウェハーテストの情報に
基づいて記憶内蔵させて識別機能を付加することによ
り、アセンブリ工程の合理化、不良解析の合理化に役立
てるようにした識別機能付半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】通常、IC/LSIの製造において、そ
の工程は大きく前工程、D/S工程、後工程に分けられ
る。ここで、前工程はウェハーの投入から各種のICパ
ターンの焼付け、酸化、蒸着、エッチングといったIC
/LSIチップを形成する工程を意味する。
の工程は大きく前工程、D/S工程、後工程に分けられ
る。ここで、前工程はウェハーの投入から各種のICパ
ターンの焼付け、酸化、蒸着、エッチングといったIC
/LSIチップを形成する工程を意味する。
【0003】一般的には、この工程の中でゴミや各処理
の欠陥等により不具合が発生し、ある確率・割合で不良
品が発生する。また、同様に処理を行ったとしても、そ
の微妙な変化・変動により、良品チップといえども、そ
の詳細な性能に違いが発生する。
の欠陥等により不具合が発生し、ある確率・割合で不良
品が発生する。また、同様に処理を行ったとしても、そ
の微妙な変化・変動により、良品チップといえども、そ
の詳細な性能に違いが発生する。
【0004】例えば普通、ゲートポリシリコンが細目に
作られると、回路動作が高速になり、同一製品中でも動
作スピードの早いものが得られる。以上のことから前工
程を通って完成したウェハーは、次のD/S工程で良・
不良の判別を行う必要がある。
作られると、回路動作が高速になり、同一製品中でも動
作スピードの早いものが得られる。以上のことから前工
程を通って完成したウェハーは、次のD/S工程で良・
不良の判別を行う必要がある。
【0005】最近ではそれだけではなく、ある程度の品
質レベルをも判別するようにすることが多い。現在、こ
のD/S工程では、上記前工程にて形成したIC/LS
Iの良/不良チップの選別をウェハーの状態で行う。
質レベルをも判別するようにすることが多い。現在、こ
のD/S工程では、上記前工程にて形成したIC/LS
Iの良/不良チップの選別をウェハーの状態で行う。
【0006】そして、不良チップには、後工程での誤用
を防止するために、それと分かるように、インクを用い
てマークを付けることが行われている。次の後工程で
は、上記D/S工程を経たウェハーをスクライビング
(切り放し)して個々のチップに分け、その中から良品
チップを選別して組立し、パッケージに納める。
を防止するために、それと分かるように、インクを用い
てマークを付けることが行われている。次の後工程で
は、上記D/S工程を経たウェハーをスクライビング
(切り放し)して個々のチップに分け、その中から良品
チップを選別して組立し、パッケージに納める。
【0007】その後、所望とされるバーンイン・テスト
を行ない、良不良の最終判別と、動作仕様に基づいた分
別(品種バージョンと呼ぶ)を行う。その後、IC/L
SIは分別された群毎にパッケージ表面に製品名称や商
標などが印刷された後、梱包されて出荷される。
を行ない、良不良の最終判別と、動作仕様に基づいた分
別(品種バージョンと呼ぶ)を行う。その後、IC/L
SIは分別された群毎にパッケージ表面に製品名称や商
標などが印刷された後、梱包されて出荷される。
【0008】このような一連の流れの中で、IC/LS
Iの生産・開発側のニーズとして、下記のような項目が
ある。IC/LSIの生産計画において、市場の要求を
生産数量に反映させることが、在庫を最小にし納期を最
短にするためにも効果的で必要な手法である。
Iの生産・開発側のニーズとして、下記のような項目が
ある。IC/LSIの生産計画において、市場の要求を
生産数量に反映させることが、在庫を最小にし納期を最
短にするためにも効果的で必要な手法である。
【0009】しかしながら、従来は仮にD/S工程で必
要な仕様毎の分別を行うことができたとしても、一つ一
つのチップを外見状分別することはできない。上述した
ように良品・不良品は、不良チップにインクによるマー
クをつけることで判別できるようになっているが、良品
チップの品種バージョンは判別できない。
要な仕様毎の分別を行うことができたとしても、一つ一
つのチップを外見状分別することはできない。上述した
ように良品・不良品は、不良チップにインクによるマー
クをつけることで判別できるようになっているが、良品
チップの品種バージョンは判別できない。
【0010】従って、バージョン分別は最終工程で行っ
ており、分別後数量を予測することはできないので、結
果として品種別の要求数量と生産数量との間には大幅な
過不足を生じてしまう。
ており、分別後数量を予測することはできないので、結
果として品種別の要求数量と生産数量との間には大幅な
過不足を生じてしまう。
【0011】そこで、客先要求を満足するためには、あ
る程度は余分な製品在庫を持つ必要がある。また、出荷
後の半導体製品に品質不良が発見された場合には、その
チップのウェハー状態におけるロット、ウェハーN
o.、チップロケーション等の情報を知りたい場合が多
くある。
る程度は余分な製品在庫を持つ必要がある。また、出荷
後の半導体製品に品質不良が発見された場合には、その
チップのウェハー状態におけるロット、ウェハーN
o.、チップロケーション等の情報を知りたい場合が多
くある。
【0012】しかし、現在はそれをチップから知ること
は不可能である。そのために、そのICが出荷された時
期や製品コードなどから大まかな製造状況が判るだけで
ある。
は不可能である。そのために、そのICが出荷された時
期や製品コードなどから大まかな製造状況が判るだけで
ある。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来技
術の解決すべき課題は下記の通りである。 (1)パッケージに納められたチップの、ウェハー状態
における位置を判別することができない(スクライビン
グした時点で、チップ上からは、ウェハー番号、チップ
ロケーション等の情報はなくなる)。
術の解決すべき課題は下記の通りである。 (1)パッケージに納められたチップの、ウェハー状態
における位置を判別することができない(スクライビン
グした時点で、チップ上からは、ウェハー番号、チップ
ロケーション等の情報はなくなる)。
【0014】(2)パッケージ表面に上記情報(歩留
等)を印刷したとすると、他社に各種の情報をもらすこ
とになる。 (3)印刷を行なう場合、ウェハー状態での情報を印刷
工程まで持っていく必要があるが、ウェハー単位、チッ
プ単位の情報を保持できるのはマウンティング工程まで
であり、パッケージ上に組み上げられた製品とそのチッ
プが存在していたウェハー上における位置とをリンクす
るのは、現在では困難である。
等)を印刷したとすると、他社に各種の情報をもらすこ
とになる。 (3)印刷を行なう場合、ウェハー状態での情報を印刷
工程まで持っていく必要があるが、ウェハー単位、チッ
プ単位の情報を保持できるのはマウンティング工程まで
であり、パッケージ上に組み上げられた製品とそのチッ
プが存在していたウェハー上における位置とをリンクす
るのは、現在では困難である。
【0015】そこで、本発明は以上のような点に鑑みて
なされたもので、その目的とするところは、IC/LS
Iのウェハー状態における各種情報、及び品質情報をI
C/LSIチップに書き込むことにより、個別のチップ
での判別を可能とし、アセンブリ工程の合理化、不良解
析の合理化に役立てるようにした識別機能付半導体集積
回路を提供することにある。
なされたもので、その目的とするところは、IC/LS
Iのウェハー状態における各種情報、及び品質情報をI
C/LSIチップに書き込むことにより、個別のチップ
での判別を可能とし、アセンブリ工程の合理化、不良解
析の合理化に役立てるようにした識別機能付半導体集積
回路を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明によると、上記課
題を解決するために、個々の半導体素子を集積して電気
的機能を実現する半導体集積回路チップにおいて、当該
チップ電気的機能の良否を識別する情報を内蔵させるた
めのヒューズ素子を具備したことを特徴とする識別機能
付半導体集積回路が提供される。
題を解決するために、個々の半導体素子を集積して電気
的機能を実現する半導体集積回路チップにおいて、当該
チップ電気的機能の良否を識別する情報を内蔵させるた
めのヒューズ素子を具備したことを特徴とする識別機能
付半導体集積回路が提供される。
【0017】また、本発明によると、前記識別ヒューズ
素子は、当該チップの一領域に、レーザ光線によって切
断され得るポリシリコンヒューズまたは金属ヒューズま
たはそれに類するレーザカット型のヒューズによって形
成・配置され、ウェハー状態でのチップの良・不良判定
測定後に、前記測定結果に基づき該当するヒューズを切
断し、当該チップの識別情報を内蔵するようにしたこと
を特徴とする識別機能付半導体集積回路が提供される。
素子は、当該チップの一領域に、レーザ光線によって切
断され得るポリシリコンヒューズまたは金属ヒューズま
たはそれに類するレーザカット型のヒューズによって形
成・配置され、ウェハー状態でのチップの良・不良判定
測定後に、前記測定結果に基づき該当するヒューズを切
断し、当該チップの識別情報を内蔵するようにしたこと
を特徴とする識別機能付半導体集積回路が提供される。
【0018】また、本発明によると、個々の半導体素子
を集積して電気的機能を実現する半導体集積回路チップ
において、当該チップの電気的機能の品質を識別する情
報を内蔵させるための複数のヒューズ素子を有し、当該
ヒューズ素子は当該半導体素子の電気的機能とは隔絶さ
れるように構成配置され、当該チップを有するウェハー
の前工程終了後に機能確認試験を行い、その結果によっ
て判定された品質情報を当該ヒューズ素子を切断するこ
とによって識別情報を内蔵させることを特徴とした識別
機能付半導体集積回路が提供される。
を集積して電気的機能を実現する半導体集積回路チップ
において、当該チップの電気的機能の品質を識別する情
報を内蔵させるための複数のヒューズ素子を有し、当該
ヒューズ素子は当該半導体素子の電気的機能とは隔絶さ
れるように構成配置され、当該チップを有するウェハー
の前工程終了後に機能確認試験を行い、その結果によっ
て判定された品質情報を当該ヒューズ素子を切断するこ
とによって識別情報を内蔵させることを特徴とした識別
機能付半導体集積回路が提供される。
【0019】また、本発明によると、前記識別ヒューズ
素子はレーザカット型のヒューズで構成され、そのヒュ
ーズの識別をレーザ照射光の反射光などの光学手段によ
って認識・識別するヒューズを具備したことを特徴とす
る識別機能付半導体集積回路が提供される。
素子はレーザカット型のヒューズで構成され、そのヒュ
ーズの識別をレーザ照射光の反射光などの光学手段によ
って認識・識別するヒューズを具備したことを特徴とす
る識別機能付半導体集積回路が提供される。
【0020】さらに、本発明によると、個々の半導体素
子を集積して電気的機能を実現する半導体集積回路チッ
プにおいて、当該チップの電気的機能の品質を識別する
情報を内蔵させるための複数のヒューズ素子と、上記の
ヒューズ素子の切断状況を電気的に読取るための回路手
段と、前記ヒューズ素子と回路手段とを電気的に接続す
るための手段とを有し、当該チップを有するウェハーの
前工程終了後に機能確認試験を行い、その結果によって
判定された品質情報を当該ヒューズ素子を切断すること
によって識別情報を内蔵させ、その品質情報を外部に電
気的に読出すための外部端子とを具備したことを特徴と
する識別機能付半導体集積回路が提供される。
子を集積して電気的機能を実現する半導体集積回路チッ
プにおいて、当該チップの電気的機能の品質を識別する
情報を内蔵させるための複数のヒューズ素子と、上記の
ヒューズ素子の切断状況を電気的に読取るための回路手
段と、前記ヒューズ素子と回路手段とを電気的に接続す
るための手段とを有し、当該チップを有するウェハーの
前工程終了後に機能確認試験を行い、その結果によって
判定された品質情報を当該ヒューズ素子を切断すること
によって識別情報を内蔵させ、その品質情報を外部に電
気的に読出すための外部端子とを具備したことを特徴と
する識別機能付半導体集積回路が提供される。
【0021】
【作用】上述した解決手段によると、個別のチップ情報
を記憶・識別するために、例えばレーザーカット型のヒ
ューズ素子をチップ上に主回路とは隔絶して配置し、D
/S工程中で当該ヒューズ素子を切断することにより、
チップ識別情報をチップ上に残置することができる。
を記憶・識別するために、例えばレーザーカット型のヒ
ューズ素子をチップ上に主回路とは隔絶して配置し、D
/S工程中で当該ヒューズ素子を切断することにより、
チップ識別情報をチップ上に残置することができる。
【0022】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明の構成要素を示すもので、シリコン
ウェハー1の上に形成された複数の半導体集積回路(I
C/LSI)チップ2がマトリックス状に配置されてい
る。
する。図1は本発明の構成要素を示すもので、シリコン
ウェハー1の上に形成された複数の半導体集積回路(I
C/LSI)チップ2がマトリックス状に配置されてい
る。
【0023】個々のIC/LSIチップ2はスクライブ
ライン3によって区分けされている。そして、各チップ
2内には、ICとしての機能を付与するところのデバイ
ス回路部4と、チップ識別情報を記憶するための素子を
作成する識別情報記憶部5とが存在する。
ライン3によって区分けされている。そして、各チップ
2内には、ICとしての機能を付与するところのデバイ
ス回路部4と、チップ識別情報を記憶するための素子を
作成する識別情報記憶部5とが存在する。
【0024】ここで、デバイス回路部4とチップ識別情
報記憶部5は、本実施例においては電気的に絶縁された
状態にしてある。これはチップ識別情報を記憶するため
の素子が、図2に示すとおりに、複数のレーザカット型
のヒューズ6によって構成されており、これらのヒュー
ズをあらかじめ決められたパターンに切断することによ
り、当該チップの識別情報を書き込むために、レーザー
のダメージがデバイス回路部分に及ばないようにするた
めであると共に、後にパターンを読みとるときに周囲の
パターンの光学的な影響を受けないようにするためであ
る。
報記憶部5は、本実施例においては電気的に絶縁された
状態にしてある。これはチップ識別情報を記憶するため
の素子が、図2に示すとおりに、複数のレーザカット型
のヒューズ6によって構成されており、これらのヒュー
ズをあらかじめ決められたパターンに切断することによ
り、当該チップの識別情報を書き込むために、レーザー
のダメージがデバイス回路部分に及ばないようにするた
めであると共に、後にパターンを読みとるときに周囲の
パターンの光学的な影響を受けないようにするためであ
る。
【0025】勿論、図1におけるチップ識別情報記憶部
5は上記に示した構成要素と条件を満足するならば、必
ずしも図1の場所に限定されない。半導体集積回路チッ
プ2中のいかなる場所に配置しても良いが、一般的には
チップの周辺や、スクライブライン近くが望ましい。
5は上記に示した構成要素と条件を満足するならば、必
ずしも図1の場所に限定されない。半導体集積回路チッ
プ2中のいかなる場所に配置しても良いが、一般的には
チップの周辺や、スクライブライン近くが望ましい。
【0026】また、識別素子は本実施例においてはレー
ザーカットヒューズを用いる例を示したが、電流溶断型
ヒューズを用いることも可能である。この場合には、当
然専用の書き込み溶断回路と、情報読みだし回路の付属
回路部分を必要とする。
ザーカットヒューズを用いる例を示したが、電流溶断型
ヒューズを用いることも可能である。この場合には、当
然専用の書き込み溶断回路と、情報読みだし回路の付属
回路部分を必要とする。
【0027】図2(a)は、本発明の識別情報記憶部5
を詳細に示したものである。この例ではレーザーカット
型のヒューズ6a,6b,6cの3本持っている場合を
示した。
を詳細に示したものである。この例ではレーザーカット
型のヒューズ6a,6b,6cの3本持っている場合を
示した。
【0028】本実施例における工程の流れについて簡単
に説明すると下記のようになる。先ず、設計の段階で識
別素子を組み込んだマスクを用いたウェハーが前工程を
終了してD/S工程にくる。
に説明すると下記のようになる。先ず、設計の段階で識
別素子を組み込んだマスクを用いたウェハーが前工程を
終了してD/S工程にくる。
【0029】次に、従来と同様にテストがプローバー上
で行われる。その結果に基づいて、良品・不良品、グレ
ード情報が決定される。その情報はヒューズカットの情
報に変換され、それに基づいて図2(b)に示すように
ヒューズ6aがカットされる。
で行われる。その結果に基づいて、良品・不良品、グレ
ード情報が決定される。その情報はヒューズカットの情
報に変換され、それに基づいて図2(b)に示すように
ヒューズ6aがカットされる。
【0030】すなわち、図2はヒューズ6a,6b,6
cの3本が用意された場合についての実施例を示してあ
り、(a)は切断する前の状態を示し、(b)、(c)
にはテスト後に切断された例を示しており、(b)には
不良品の例が、(c)には良品で高速品の場合の一例を
示した。
cの3本が用意された場合についての実施例を示してあ
り、(a)は切断する前の状態を示し、(b)、(c)
にはテスト後に切断された例を示しており、(b)には
不良品の例が、(c)には良品で高速品の場合の一例を
示した。
【0031】すなわち、第1ヒューズ6aは良不良チッ
プ識別であり、第2ヒューズ6bは消費電流の多少に関
する識別情報であり、第3ヒューズ6cはアクセスタイ
ムの遅速に関する識別情報を持つ。
プ識別であり、第2ヒューズ6bは消費電流の多少に関
する識別情報であり、第3ヒューズ6cはアクセスタイ
ムの遅速に関する識別情報を持つ。
【0032】なお、切断する側をどちらに取るかについ
ては、一般には、比率的に少ない方を切断側に取った方
が効率がよい。これはヒューズを切断する回数・時間を
節約することができ、生産性を良くすることができるか
らである。
ては、一般には、比率的に少ない方を切断側に取った方
が効率がよい。これはヒューズを切断する回数・時間を
節約することができ、生産性を良くすることができるか
らである。
【0033】良品歩留まりは一般的に50%以上有する
ので、不良品を切断する側にした方が良く、その他につ
いては比率によったり、暗号化した情報の形で切断する
ようにすればよい。
ので、不良品を切断する側にした方が良く、その他につ
いては比率によったり、暗号化した情報の形で切断する
ようにすればよい。
【0034】本発明は、以上のようにして半導体集積回
路(IC/LSI)のウェハー状態における各種情報、
及び品質情報をウェハーテストの情報に基づいて効果的
に記憶内蔵させることができる。
路(IC/LSI)のウェハー状態における各種情報、
及び品質情報をウェハーテストの情報に基づいて効果的
に記憶内蔵させることができる。
【0035】これによって、特別な情報通信手段を用い
ることなく、次工程であるアセンブリ工程に個々のチッ
プの品質情報を誤り無く伝達することができるようにな
る。また、その情報に基いて生産数量の適切な管理・合
理的な生産計画及び運用を行うことができる。
ることなく、次工程であるアセンブリ工程に個々のチッ
プの品質情報を誤り無く伝達することができるようにな
る。また、その情報に基いて生産数量の適切な管理・合
理的な生産計画及び運用を行うことができる。
【0036】これにより、市場要求数を生産数量に反映
させ、在庫を最小にし納期を最短にすることができるの
で、在庫を最小にすることによって、その分の経営上の
損益を改善することができる。
させ、在庫を最小にし納期を最短にすることができるの
で、在庫を最小にすることによって、その分の経営上の
損益を改善することができる。
【0037】なお、従来は、スクライビング後のチップ
は、どのウェハーのどの位置に存在していたかを判別す
るための情報がまったく無くなってしまうために、切り
放されたチップの各種情報等の判別は不可能になってし
まう。
は、どのウェハーのどの位置に存在していたかを判別す
るための情報がまったく無くなってしまうために、切り
放されたチップの各種情報等の判別は不可能になってし
まう。
【0038】この点、本発明によれば、チップ上に自身
の識別情報を持っているので、チップ表面を観察すれば
良不良やグレードーどの判別が可能であり、不良品の混
入・異なるバージョンの混入を防止できる。
の識別情報を持っているので、チップ表面を観察すれば
良不良やグレードーどの判別が可能であり、不良品の混
入・異なるバージョンの混入を防止できる。
【0039】また、従来はそれらの混入を防止するため
に分別保管する手間が掛かっていたが、本発明によれば
それらの手間を省くことができるので、省力化・工期の
短縮化が可能になる。
に分別保管する手間が掛かっていたが、本発明によれば
それらの手間を省くことができるので、省力化・工期の
短縮化が可能になる。
【0040】また、製品出荷後に不幸にして、IC/L
SIが破壊したり、故障したりすることがあると、市場
からの回収品を解析して原因を導定することが行われ
る。この不良解析においてもっとも手間取るのは市場に
おいて不良になったICが如何なる素性のものであるか
を調査することである。
SIが破壊したり、故障したりすることがあると、市場
からの回収品を解析して原因を導定することが行われ
る。この不良解析においてもっとも手間取るのは市場に
おいて不良になったICが如何なる素性のものであるか
を調査することである。
【0041】これは多大な時間と労力の掛かる仕事であ
るが、本発明を用いた場合には、適当な情報をヒューズ
の組み合わせ情報としてチップ上に残すことで、後々の
トレースを的確に行うことができる。この場合にはヒュ
ーズの数はトレースしたい情報の量に応じて増加する。
すなわち、本発明は、不良解析の合理化にも役立つ技術
である。
るが、本発明を用いた場合には、適当な情報をヒューズ
の組み合わせ情報としてチップ上に残すことで、後々の
トレースを的確に行うことができる。この場合にはヒュ
ーズの数はトレースしたい情報の量に応じて増加する。
すなわち、本発明は、不良解析の合理化にも役立つ技術
である。
【0042】
【発明の効果】従って、以上詳述したように、本発明に
よればIC/LSIのウェハー状態における各種情報、
及び品質情報をIC/LSIチップに書き込むことによ
り、個別のチップでの判別を可能とし、アセンブリ工程
の合理化、不良解析の合理化に役立てるようにした識別
機能付半導体集積回路を提供することが可能となる。
よればIC/LSIのウェハー状態における各種情報、
及び品質情報をIC/LSIチップに書き込むことによ
り、個別のチップでの判別を可能とし、アセンブリ工程
の合理化、不良解析の合理化に役立てるようにした識別
機能付半導体集積回路を提供することが可能となる。
【図1】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図2】図1の識別情報記憶部の詳細図で、(a)は測
定前の状態(カット前の状態)を示し、(b)は不良品
のカット状態の例を示し、(c)は良品のカット状態の
例を示す。
定前の状態(カット前の状態)を示し、(b)は不良品
のカット状態の例を示し、(c)は良品のカット状態の
例を示す。
1…シリコンウェハー、2…半導体集積回路(IC/L
SI)チップ、3…スクライブライン、4…デバイス回
路部、5…チップ識別情報記憶部、6a,6b,6c…
情報記憶溶ポリシリコンレーザーヒューズ。
SI)チップ、3…スクライブライン、4…デバイス回
路部、5…チップ識別情報記憶部、6a,6b,6c…
情報記憶溶ポリシリコンレーザーヒューズ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01R 31/28 G (72)発明者 鈴木 順一 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 一條 博明 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 佐々木 寿 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 個々の半導体素子を集積して電気的機能
を実現する半導体集積回路チップにおいて、 当該チップ電気的機能の良否を識別する情報を内蔵させ
るためのヒューズ素子を具備したことを特徴とする識別
機能付半導体集積回路。 - 【請求項2】 前記識別ヒューズ素子は、 当該チップの一領域に、レーザ光線によって切断され得
るポリシリコンヒューズまたは金属ヒューズまたはそれ
に類するレーザカット型のヒューズによって形成・配置
され、ウェハー状態でのチップの良・不良判定測定後
に、前記測定結果に基づき該当するヒューズを切断し、
当該チップの識別情報を内蔵するようにしたことを特徴
とする請求項1に記載の識別機能付半導体集積回路。 - 【請求項3】 個々の半導体素子を集積して電気的機能
を実現する半導体集積回路チップにおいて、 当該チップの電気的機能の品質を識別する情報を内蔵さ
せるための複数のヒューズ素子を有し、 当該ヒューズ素子は当該半導体素子の電気的機能とは隔
絶されるように構成配置され、 当該チップを有するウェハーの前工程終了後に機能確認
試験を行い、その結果によって判定された品質情報を当
該ヒューズ素子を切断することによって識別情報を内蔵
させることを特徴とした識別機能付半導体集積回路。 - 【請求項4】 前記識別ヒューズ素子はレーザカット型
のヒューズで構成され、そのヒューズの識別をレーザ照
射光の反射光などの光学手段によって認識・識別するヒ
ューズを具備したことを特徴とする請求項3に記載の識
別機能付半導体集積回路。 - 【請求項5】 個々の半導体素子を集積して電気的機能
を実現する半導体集積回路チップにおいて、 当該チップの電気的機能の品質を識別する情報を内蔵さ
せるための複数のヒューズ素子と、 上記のヒューズ素子の切断状況を電気的に読取るための
回路手段と、 前記ヒューズ素子と回路手段とを電気的に接続するため
の手段と、 当該チップを有するウェハーの前工程終了後に機能確認
試験を行い、その結果によって判定された品質情報を当
該ヒューズ素子を切断することによって識別情報を内蔵
させ、その品質情報を外部に電気的に読出すための外部
端子とを具備したことを特徴とする識別機能付半導体集
積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7015291A JPH08213464A (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | 識別機能付半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7015291A JPH08213464A (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | 識別機能付半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08213464A true JPH08213464A (ja) | 1996-08-20 |
Family
ID=11884745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7015291A Pending JPH08213464A (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | 識別機能付半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08213464A (ja) |
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-
1995
- 1995-02-01 JP JP7015291A patent/JPH08213464A/ja active Pending
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