JPS6139541A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPS6139541A JPS6139541A JP16045284A JP16045284A JPS6139541A JP S6139541 A JPS6139541 A JP S6139541A JP 16045284 A JP16045284 A JP 16045284A JP 16045284 A JP16045284 A JP 16045284A JP S6139541 A JPS6139541 A JP S6139541A
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- JP
- Japan
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- chip
- electrical characteristics
- grade
- data
- wafer
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 8
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は半導体装置の製造方法に関し、とくに半導体チ
ップのグレード判別方法に関する。
ップのグレード判別方法に関する。
(従来技術)
各種半導体集積回路の、ウェハー状態での電気的特性の
測定において、従来から、良品チップと不良品チップと
の区別をつけるため、ウニノ1−上の谷チップ上に目視
での判別が可能な如くマークが付され、測定終了後組立
工程にて、マーキングの有無によって良品チップの選別
を行なうという方法が一般的にとられてきた。
測定において、従来から、良品チップと不良品チップと
の区別をつけるため、ウニノ1−上の谷チップ上に目視
での判別が可能な如くマークが付され、測定終了後組立
工程にて、マーキングの有無によって良品チップの選別
を行なうという方法が一般的にとられてきた。
また、最近、半導体集積回路の持つ機能が複雑になるに
つれて、ウェハー状態での電気的特性の測定内容も複雑
になシ、測定項目も多くなってきている。比べて、各チ
ップの電気的特性による分類の方法は、定められた規格
を満足するか否かによりて、前記マーキング等の方法に
よシ、良品チップ、不良品チップの判定をするというの
が大部分でめった。
つれて、ウェハー状態での電気的特性の測定内容も複雑
になシ、測定項目も多くなってきている。比べて、各チ
ップの電気的特性による分類の方法は、定められた規格
を満足するか否かによりて、前記マーキング等の方法に
よシ、良品チップ、不良品チップの判定をするというの
が大部分でめった。
加えて半導体集積回路の機能が多岐にlシ、定められた
規格に対して各半導体装置の持つ電気的特性のいくつか
の項目、例えば、スピードや消費電力で半導体装置をグ
レード分類することが多くなってきた。
規格に対して各半導体装置の持つ電気的特性のいくつか
の項目、例えば、スピードや消費電力で半導体装置をグ
レード分類することが多くなってきた。
これに対して従来から、組立終了後、製品での良品検査
工程において、規格内の良品をさらにいくつかの項目に
よってグレード分類を行なっているのが現実である。従
って製品での良品検査工程において始めて各グレードの
派生が明らかKなシ、逆に言えば最終工程まで進まない
とその製品のグレードが明らかにならなかった。従って
、組立工程を経ることによって、ウェハ一段階での各チ
ップのグレードがどれくらい劣化するのかという詳しい
情報を入手するのも困難であった。
工程において、規格内の良品をさらにいくつかの項目に
よってグレード分類を行なっているのが現実である。従
って製品での良品検査工程において始めて各グレードの
派生が明らかKなシ、逆に言えば最終工程まで進まない
とその製品のグレードが明らかにならなかった。従って
、組立工程を経ることによって、ウェハ一段階での各チ
ップのグレードがどれくらい劣化するのかという詳しい
情報を入手するのも困難であった。
一方、ウェハー状態で各チップをいろいろな電気的特性
によってグレード分類し、そのグレード単位で組立が可
能であれば、組立工程の技術向上が期待され、加えてウ
ェハー状態でのグレードと組立後の製品でのグレードと
の対応をとることによって、ウェハー状態でのグレード
の派生の状況によシ製品でのグレードの派生を推測する
ことが可能になるという利点がある。
によってグレード分類し、そのグレード単位で組立が可
能であれば、組立工程の技術向上が期待され、加えてウ
ェハー状態でのグレードと組立後の製品でのグレードと
の対応をとることによって、ウェハー状態でのグレード
の派生の状況によシ製品でのグレードの派生を推測する
ことが可能になるという利点がある。
(発明の目的)
本発明は上にグレード判別を容易に行なえる方法を提供
することを目的とする。
することを目的とする。
(発明の構成)
本発明はウェハー状態での電気的特性の測定で得た情報
を必要な項目によってグレード分類し、結果をメモリに
記憶しておいて組立工程まで反映するようKしたことを
特徴とするものである。
を必要な項目によってグレード分類し、結果をメモリに
記憶しておいて組立工程まで反映するようKしたことを
特徴とするものである。
(実施例の説明)
以下、本発明の一実施例を図面に従い説明する。
ウェハー状態での電気的特性の測定時に、例えば、A、
B、 C,Dという4つの項目によってグレードを分
類すると仮定する。次に測定器(以下、テスターと称す
)のメモリにウェハー内の各素子(チップ)の位置をあ
らかじめ記憶させておき、各電気的特性の測定を行なう
。測定時に、記憶させたある番地のチップが、電気的特
性上、A、 B。
B、 C,Dという4つの項目によってグレードを分
類すると仮定する。次に測定器(以下、テスターと称す
)のメモリにウェハー内の各素子(チップ)の位置をあ
らかじめ記憶させておき、各電気的特性の測定を行なう
。測定時に、記憶させたある番地のチップが、電気的特
性上、A、 B。
C,Dのどのグレードに属するのかを、各チップ毎に記
憶する。記憶された各チップのグレードの分布が第1図
の如くになるとする。図上X印は、不良チップである。
憶する。記憶された各チップのグレードの分布が第1図
の如くになるとする。図上X印は、不良チップである。
第1図の各チップに対するグレードの情報を、フロッピ
ーディスク、または、P−ROM等に書き換え、ウェハ
ーと対応力ゞ°つくようにして組立工程へ進む。
ーディスク、または、P−ROM等に書き換え、ウェハ
ーと対応力ゞ°つくようにして組立工程へ進む。
組立工程では、マウント時に第1図のフェノ・−の各チ
ップのグレードの情報を、マウンター内に取シ込み、A
、 B、 C,Dのグレードの内、必要なグレードだけ
選び出すことによって同一グレードのチップのセレクト
して組立てることによって、ウェハ一時での電気的特性
の結果を組立後の製品での良品検査測定にまで反映する
ことが可能である。
ップのグレードの情報を、マウンター内に取シ込み、A
、 B、 C,Dのグレードの内、必要なグレードだけ
選び出すことによって同一グレードのチップのセレクト
して組立てることによって、ウェハ一時での電気的特性
の結果を組立後の製品での良品検査測定にまで反映する
ことが可能である。
第1図は本発明の一実施例を説明するための模式図であ
る。 図においてA、 B、 C,Dはウェハー状態で測定さ
れた電気的特性のグレードを表わし、x印は、前記測定
で不良となったチップを表わす。 第1図
る。 図においてA、 B、 C,Dはウェハー状態で測定さ
れた電気的特性のグレードを表わし、x印は、前記測定
で不良となったチップを表わす。 第1図
Claims (1)
- 半導体ウェハーの電気的特性の測定において、ウェハ
ー上の各チップの位置とそのチップの電気的特性の情報
を夫々対応して記憶し、組立工程において前記情報に従
ってチップを選択分類することを特徴とする半導体装置
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16045284A JPS6139541A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16045284A JPS6139541A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139541A true JPS6139541A (ja) | 1986-02-25 |
Family
ID=15715238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16045284A Pending JPS6139541A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6139541A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286320A (ja) * | 1988-05-12 | 1989-11-17 | Nec Corp | 半導体チップ配列方法 |
| JPH02143542A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Nec Corp | Icへのグレード別マーキング方法 |
| JPH0359551U (ja) * | 1989-10-16 | 1991-06-12 | ||
| JPH08162512A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-06-21 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法及びその装置 |
| JP2005508093A (ja) * | 2001-10-31 | 2005-03-24 | クリー インコーポレイテッド | 発光装置及びその製造方法並びに発光デバイスの製造システム |
| US9575115B2 (en) | 2012-10-11 | 2017-02-21 | Globalfoundries Inc. | Methodology of grading reliability and performance of chips across wafer |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16045284A patent/JPS6139541A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286320A (ja) * | 1988-05-12 | 1989-11-17 | Nec Corp | 半導体チップ配列方法 |
| JPH02143542A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Nec Corp | Icへのグレード別マーキング方法 |
| JPH0359551U (ja) * | 1989-10-16 | 1991-06-12 | ||
| JPH08162512A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-06-21 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法及びその装置 |
| JP2005508093A (ja) * | 2001-10-31 | 2005-03-24 | クリー インコーポレイテッド | 発光装置及びその製造方法並びに発光デバイスの製造システム |
| US7858403B2 (en) | 2001-10-31 | 2010-12-28 | Cree, Inc. | Methods and systems for fabricating broad spectrum light emitting devices |
| US8476091B2 (en) | 2001-10-31 | 2013-07-02 | Cree, Inc. | Methods of selectively applying luminous material to light emitting devices based on measured output thereof |
| US9575115B2 (en) | 2012-10-11 | 2017-02-21 | Globalfoundries Inc. | Methodology of grading reliability and performance of chips across wafer |
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