JPH08212925A - 蛍光面作製方法および作製装置と蛍光面インク - Google Patents

蛍光面作製方法および作製装置と蛍光面インク

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JPH08212925A
JPH08212925A JP1923295A JP1923295A JPH08212925A JP H08212925 A JPH08212925 A JP H08212925A JP 1923295 A JP1923295 A JP 1923295A JP 1923295 A JP1923295 A JP 1923295A JP H08212925 A JPH08212925 A JP H08212925A
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JP
Japan
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ink
phosphor screen
nozzle
phosphor
fluorescent screen
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JP1923295A
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English (en)
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Takeshi Maekawa
武之 前川
Noritsuna Hashimoto
典綱 橋本
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 多数回の塗布・露光・現像工程が必要であっ
た従来の露光現像法の欠点を解消し、一度のプロセスで
ブラックマトリックスと蛍光面パターンの形成を可能と
し、生産性が高く、大がかりな設備投資を必要とせず、
かつ、製造コストが安価な蛍光面作製方法、蛍光面作製
装置および蛍光面インクを提供する。 【構成】 本発明はインクジェット方式のノズル機構を
用いて蛍光面構成物質を含むインクを所定位置に所定量
吐出し、ドット状またはストライプ状の蛍光面パターン
を形成することを特徴としており、さらに、電子銃の電
子源位置を考慮して、シャドウマスクの開口位置を光学
的に検出して計算し、吐出位置、吐出量を制御できるよ
うに構成されている。この装置に適用される蛍光面イン
クの粒径、粘度、沸点が発明にしたがって調整される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカラー陰極線管などに用
いられるドットまたはストライプ状の蛍光面作製方法お
よび作製装置、ならびにそれに用いられる蛍光面インク
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2は従来のカラー陰極線管の蛍光面の
断面構造を示した図である。この蛍光面パターンは必要
な解像度に応じたサイズで形成されており、通常のTV
動画の表示を対象とした陰極線管では約100μmピッ
チ、コンピュータ端末の表示を対象とした陰極線管では
約80μmピッチで蛍光体ドットまたはストライプが形
成されている。
【0003】このようなパターンサイズで、ブラックマ
トリックスを形成するカーボン粉末や発光部を形成する
蛍光体粉末を所定の位置に固定するためには、通常は、
紫外線を用いた露光現像法が用いられる。図3に露光現
像法によるパターン形成方法を示す。図において、対と
なるシャドウマスク24を露光マスクとし、あらかじめ
フェースプレート22の内面に全面塗布しておいた、感
光剤を含む蛍光面スラリー26に、R、GまたはBの各
電子源位置に相当する光源からの紫外線23を照射して
露光する。つまり、ブラックマトリックスを形成する際
には光源を全て点灯して露光し、蛍光体のパターンを形
成する際にはそれぞれの色に対応する電子源位置の光源
のみを点灯させる。こうして、感光剤を含む蛍光面スラ
リーの光照射部は感光し、フェースプレート上に固定さ
れる。つぎに未露光部分を洗い流すことにより蛍光面パ
ターンの一部が形成される。ブラックマトリックスを形
成する場合には、レジスト21を用いた反転現像により
パターン形成を行う点が異なるが、基本的にはシャドウ
マスクを用いた露光現像法と同じである。これらの方法
では蛍光面構成物質(カーボン、蛍光体など)をそれぞ
れ別々にパターン形成するため、ブラックマトリックス
とR、GまたはBの各蛍光体の少なくとも計4回の現像
・露光工程が必要となる。
【0004】現像露光法以外にも電着法、転写法、スク
リーン印刷法なども提案されているが、これらの方法は
蛍光面のような微細なパターン形成のためには精度やコ
ストの面において大きな問題があり、カラー陰極線管の
蛍光面を量産するためには、ほとんど露光現像法が適用
されているのが現状である。
【0005】また、その他の露光現像法を一部にのみ用
いる蛍光面作製方法としては、特公昭54−13497
0号公報記載の発明にスキャニングヘッドを用いたサー
ボ式カラーブラウン管パネルスクリーニング装置が示さ
れている。これはあらかじめシャドウマスクを用いた露
光現像法によりブラックマトリックスのみのストライプ
を形成しておき、このストライプパターンをイメージセ
ンサにより読みとって、サーボ機構によりズレを補正し
ながら蛍光面を形成するというものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】現在広く用いられてい
る露光現像法も多くの本質的な問題を抱えている。ま
ず、パターン形成のためには塗布・露光・現像といった
工程が数多く必要であり、しかもブラックマトリックス
とR、G、B各蛍光体の各パターン形成においてこれら
の工程を少なくとも4回繰り返すため、歩留まりが悪く
なってしまう問題点がある。また、陰極線管の大画面化
のニーズに応えて、サイズの大きなフェースプレートの
塗布・露光・現像工程を行わなければならないため、重
量物のフェースパネルを各ラインに頻繁に搬送する必要
がある。そのため、各工程に用いる設備も大規模なもの
になり設備投資も巨額なものとなる。さらに露光工程で
は紫外線が使用されるため、生産ライン全体をイエロー
ルーム化せねばならず、生産装置の使用環境にも厳しい
制限が必要となる。また、特公昭54−134970号
公報記載の発明で開示されている方法では、少なくとも
ブラックマトリックス形成のためにシャドウマスクを用
いた露光法を使用するために、先に述べたような大規模
な設備が必要であり、生産性がなかなか上がらない。
【0007】さらには、現在の加工技術レベルではシャ
ドウマスクのエッチング精度のばらつきが不可避である
ため、シャドウマスクと蛍光面パターンは一対一に対応
させて準備しなければならない。そのため、常にフェー
スプレートとシャドウマスクを対にして生産ラインに投
入しなければならず、塗布・露光工程を行うたびにフェ
ースプレートからシャドウマスクを着脱しなければなら
ない。これはフェースパネルとシャドウマスクの相対位
置精度の低下を引き起こすため、好ましくない。
【0008】また、露光現像法では塗布した蛍光面スラ
リーの大部分を露光後に洗い流してしまうため、蛍光面
構成物質、すなわち、カーボンや蛍光体の使用効率がわ
るいという問題がある。
【0009】また、特公昭54−134970号公報記
載の発明の蛍光面作製方法では、あらかじめ露光法でブ
ラックストライプを形成しておく必要があり、本質的に
露光現像法の欠点を改善してはいない。さらに、この方
法はストライプ状蛍光面にのみ適応可能であるが、コン
ピュータ端末用途に多用されるドット状の蛍光面には応
用できない。
【0010】この発明はかかる課題を解決するためにな
されたもので、ドット状やストライプ状のさまざまな形
状の高精度なパターン形成が可能であり、生産性が高
く、大がかりな設備投資を必要とせず、かつ、製造コス
トが安価な蛍光面の製法および蛍光面作製装置と蛍光面
インクを提供するものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、インクジェッ
ト方式のノズル機構を用いて蛍光面構成物質を含むイン
クを所定位置に所定量吐出し、ドット状あるいはストラ
イプ状の蛍光面パターンを形成することを特徴とするも
のである。
【0012】インクジェット方式とは、インクを何らか
の方法でノズルから吐出させる方式の総称であり、その
方式により様々なタイプが存在する。これまでインクジ
ェット方式は主にプリンタ、すなわちインクを紙に吐出
するような用途に適しているとして開発が進められてき
た。インクジェット方式としては、連続的に吐出するイ
ンクを飛行軌道制御する荷電制御方式、ピエゾ素子の変
形によってインクを断続的に吐出する電気機械変換方
式、熱による気泡の発生でインクを吐出する電気熱変換
方式、静電吸引力によりインクを吐出する静電吸引方式
などがある。最近の微細加工技術の進展によりノズル部
の高密度化が可能となり、ノズル設計の自由度も増大し
たため、前記各方式のインクジェット機構を用いて高精
度な蛍光面パターンを形成することが可能である。
【0013】さらに、電子銃の電子源位置を考慮して、
シャドウマスクの開口位置を光学的に検出して計算し、
しかるべき位置にインクを吐出するようにノズルを制御
する。
【0014】ノズルの開口部の大きさは蛍光面パターン
の精度をよくするためにはなるべく小さく、かつノズル
が目詰まりしないように決める必要がある。ノズルから
蛍光面構成物質を含むインクが吐出されるとき、数個か
ら数百個の粒子が凝集して吐出されると考えられ、ノズ
ルの開口部の大きさは吐出する物質の粒子サイズの5倍
程度から50倍程度が適している。
【0015】また、ノズル部は複数個のノズルを備えて
いることによって蛍光面構成物質を含む各インクの条件
別に、吐出の精度や速度を効率よく設計することができ
る。
【0016】また、フェースプレートの内面は曲率をも
つため、ノズル部はフェースプレートの曲面に沿って移
動する。
【0017】吐出される蛍光面インクは蛍光面構成物質
として少なくともカーボン、蛍光体または顔料を含んで
構成される。
【0018】吐出される蛍光面インクに含まれるカーボ
ンは、ブラックマトリックスを形成する目的で吐出され
る。しかし、通常のブラックマトリックスで使用される
カーボンとは異なり、微細なノズルから蛍光面インクと
して吐出する必要があるためカーボンの粒径は小さい方
が望ましい。カーボンのばあいは、外光吸収体としての
機能を有している。
【0019】外光というのは、陰極線管から出る光が画
像を形成するのに対し、陰極線管の周囲、背景にある蛍
光灯や太陽光などのことであり、フェースプレート上の
反射作用があるので画像の視認性を損なうものである。
この外向を吸収して反射作用を抑制するための外光吸収
体としてカーボンが利用される。
【0020】このカーボンをノズルから吐出できる可能
な粒径の上限は2.0μmである。また、粒径があまり
に小さいとカーボンそのものの値段が高くなったり、外
光を吸収するための充分な厚さがえられず、ブラックマ
トリックスとして不適当なものとなるため粒径の下限は
0.01μmである。
【0021】吐出される蛍光面インクに含まれる蛍光体
の種類は発光色により選択される。蛍光体も微細なノズ
ルから吐出されるため粒径は小さい方が望ましい。蛍光
体のばあい、100μm以下のストライプまたはドット
形成が可能で、かつ、ノズルから吐出の可能な粒径の上
限は5.0μmである。また、蛍光体の粒径があまりに
小さいと蛍光体そのものの発光効率が著しく低下し、蛍
光面としての輝度が低下するので粒径の下限は0.5μ
mである。
【0022】吐出される蛍光面インクに含まれる顔料は
内面フィルタを形成する目的で吐出される。
【0023】陰極線管の電子線は電子が高電圧で加速さ
れているため高エネルギー状態で照射され蛍光面構成物
質にダメージを与えてしまう。顔料には有機、無機の顔
料があるが、前者はこの高エネルギーの電子の照射によ
り破壊されるため使用することができない。
【0024】このため普通、無機顔料が使用される。こ
の無機顔料は微細なノズルから蛍光面インクとして吐出
する必要があるため、やはり顔料の粒径は小さい方が望
ましい。そのため、透過性のフィルタを形成するために
顔料の粒径が透過する光の波長の半分以下すなわちサブ
ミクロン以下となって顔料が透過性を保持でき、かつ、
ノズルから吐出可能な顔料サイズである1.0μmが上
限であり、現在入手できる最も小さい顔料粒子である
0.005μmの粒径が下限となる。
【0025】吐出される蛍光面インクは、微細なノズル
から目詰まりすることなく吐出が可能なように、粘度は
ノズルの目詰まりをおこさないように低めとなるよう
に、かつ、チキソトロピーを発生させない分散条件とす
るため200CP以上5000CP以下、沸点は蛍光面
インクの溶媒を沸騰させることがないように、および、
蛍光面インク溶媒に高分子量のものを用いることが多い
ので温度による粘度の変化の影響を少なくするため50
℃以上150℃以下に調整されている。
【0026】
【作用】本発明は、インクジェット方式の複数のノズル
を持つノズル部を用いて蛍光面構成物質を含む蛍光面イ
ンクを吐出して蛍光面パターンを作製することにより、
従来の多数回の塗布・露光・現像工程が必要であった露
光現像法の欠点を克服し、一度のプロセスでブラックマ
トリックスと蛍光面ドットあるいはストライプパターン
の形成が可能となる生産性が向上する。さらに、従来の
方法では、露光後不必要な部分の蛍光面スラリーを洗い
流していたが、本発明では必要な場所に必要な量だけの
蛍光面インクを吐出すればよく、高価な蛍光体が無駄に
なることがなく、コストの面でも非常に有利である。ま
た、一度のプロセスで蛍光面が形成できるために、従来
の方法では不可避であったシャドウマスクの着脱時の位
置精度低下がなく、高精度なパターン形成が可能とな
る。さらに、従来のように大がかりな塗布・露光、現像
のための生産装置をいくつものラインにわたって保有す
る必要がないため、多額の設備投資も必要としない。
【0027】さらに本発明によりえられた蛍光面のパタ
ーンサイズは、半導体の加工技術の進展に伴いさらに微
細なノズルを用いることで、従来の紫外線を用いた露光
現像法以上の微細なパターン形成が可能であり、HDT
Vなどの用途において、今後、ますます高度に精細化し
ていくピッチの小さい蛍光面を作製するために有効であ
る。
【0028】さらには、制御信号により蛍光面パターン
をコントロールできるので、シャドウマスクの開口部の
ズレを光学的に検出し位置補正のための制御信号をノズ
ル部に送ることによって、開口部位置に極めて正確に対
応した良質な蛍光面パターンをえることが可能である。
このとき、フェースプレート内面は曲率を持つため、ノ
ズルのフェースプレート間の距離を一定に保つようにノ
ズル部を移動させればよい。たとえば、シンドリカルの
形状であるようなフェースプレート上に蛍光面を作製す
るのであれば、ノズル部が移動するアームの曲率をフェ
ースプレートの曲率と一致させておけばよい。
【0029】
【実施例】図1に本発明の適用例を示し、以下、この図
を用いて実施例を詳細に説明する。
【0030】[実施例1]陰極線管の最前面にあり、
R、G、B各蛍光体およびブラックマトリックスから構
成される蛍光体層をおおっているフェースプレートは内
面が図1に示すようにスフェリカル形状に形成されてい
る。このフェースプレートの17インチサイズのものの
内面の洗浄を完了し、フェースプレートの内面が上向き
になるように支持部1に固定し、その上に電気機械変換
方式のインクジェット機構をもつノズル部2と、ノズル
部を二次元的に移動させることのできるアーム3をセッ
トした。このアームはフェースプレート内面の曲率に沿
ってあらかじめある曲率をもって設計されており、両端
のステッピングモーターにより左右方向への微小量の移
動が可能である。ノズル部内にはインクジェット方式の
ノズルがブラックマトリックス用とR、G、B各蛍光体
用に合計4列設置されており、そのノズルサイズはカー
ボン吐出用として、φ1μm×36本が1セット、蛍光
体用としてφ80μm×36本が3セットの構成であ
る。さらに、ノズル部に蛍光面インクを供給するチュー
ブ4とノズル部に制御進行を伝達する信号線7を繋い
だ。つぎに、別にシャドウマスクとの凸部先端が、二次
元の受光素子5に対して、シャドウマスク中央で10m
mの間隔になるようにセットし、17インチの陰極線管
の、R、G、B各蛍光体のそれぞれを発光させるための
3つの電子源位置に相当する位置から、200Wハロゲ
ンランプ6を点灯した。そして、この光の透過光線を受
光素子35で受け取り、二次元に配列された受光素子の
各座標に発生する電気信号からシャドウマスクの開口位
置を算出し、その開口位置データをもとに、このシャド
ウマスクを用いたばあいに電子銃からでた電子線がフェ
ースプレートで到達する位置を座標化した。
【0031】別にブラックマトリックスまたは蛍光体パ
ターンを形成する各蛍光面インクを調整した。まず、ブ
ラックマトリックス用に平均粒径0.05μmのカーボ
ン粒子を準備し、これをバインダー成分となるポリビニ
ルアルコール(以下、単にPVAという)5wt%を含
む水溶液と分散剤であるポリカルボン酸アンモニウム
0.5wt%を加えたものに、PVA/カーボン=20
wt%になるようにカーボンを添加し、イソプロピルア
ルコールと純水を加えて粘度が1000cp、共沸点が
120℃になるように調整した。また、蛍光体パターン
用蛍光面インクとして、一般に用いられる組成をもつ平
均粒径3μmのR、G、B各蛍光体とそれぞれに対して
バインダー成分としてPVA10wt%を含む水溶液
に、PVA/蛍光体=10wt%になるように蛍光体を
それぞれ添加し、エチルアルコールと純水を加えて粘度
が2000cp、共沸点が90℃になるように調整し
た。そして、これらの蛍光面インクをノズル部に供給す
るインクタンク部38に充填した。
【0032】蛍光体の粒径は0.5μmから5μmまで
の範囲で、平均粒径3μmとしたので、インクジェット
のノズルの目詰まりを起こすことがなく、かつ、蛍光体
としての強い発光をうることができ、したがって高輝
度、高解像度の蛍光面をうることができる。
【0033】蛍光面インクの粘度については、バインダ
ー成分のPVAが高分子化合物であるため、PVA/蛍
光体混合物は高粘度になりやすいためインクジェットの
ノズルの目詰まりを起さないように200cpから50
00cpでの範囲でエチルアルコールと純水を加えて調
整した。
【0034】エチルアルコールを蛍光面インクの溶媒に
用いるとエチルアルコールの蒸発気化によって粘度や共
沸点が変化しやすくなるが吐出性を安定に保つため50
℃から150℃までの範囲で調整した。これらの条件を
適切に調整することによって微細なパターンに対して作
動中の蛍光面インクの変化がなく安定した吐出をするこ
とができた。
【0035】シャドウマスクを通過した光により算出し
たシャドウマスク開口部の仮想座標をもとに、蛍光体ト
リオピッチ(順に並ぶR、G、B、R、G・・・の同じ
色同士の間隔)が300μmになるようにドットの中心
位置を算出し、さらに各座標における蛍光体のドットサ
イズと形状を計算して、ブラックマトリックスインク用
の開口部サイズがφ0.5μmであるノズルに位置信号
を送信した。また、同時に所定のサイズの蛍光体ドット
になるように蛍光体インク用の開口部サイズがφ40μ
mであるノズルを用いて、1回の蛍光面インク吐出量が
約100×10-12ccとなるような吐出信号を送っ
た。
【0036】これにより、フェースプレート上の所定の
位置にブラックマトリックスを形成するカーボンが吐出
され、その結果、フェースプレート上に吐出された位置
によりその形状は若干ことなるものの、およそφ50μ
mのドット状の空きをもつブラックマトリックスがフェ
ースプレート内面に全面に形成された。なお、このと
き、バインダー成分により固形分を迅速に固定させるた
めに150℃程度にフェースプレートを加熱してもよ
い。つぎに、ブラックマトリックスのばあいと同様の原
理で計算した結果を用いて、このブラックマトリックス
の上に各色の蛍光体をそれぞれ吐出した。
【0037】蛍光体は粒径が大きいため、蛍光面パター
ンの微細なエッジを形成することが困難であり、普通、
カーボンは蛍光体よりも粒径が1桁以上小さいため、こ
のカーボンによって形成するブラックマトリックスを微
細なエッジを形成するためのカードバンドとし、その内
部に蛍光体を吐出する。ここで蛍光体はカーボンのドッ
トよりも若干大きなφ65μmのドットを形成した。も
ちろん、ブラックマトリックスの形成とR、G、B各蛍
光体パターンの形成は、ノズル部がアームに沿って所定
の位置を通過するタイミングで同時に行ってもよい。
【0038】これらの方法で作製した蛍光面に、フェー
スプレートとは反対側の面に設けて蛍光体の後ろ側への
発光を前側へ反射する作用を有していてかつ電極も兼ね
ているところのアルミバックを施し、500℃、1時
間、大気中でベーキングして有機成分を除去したのち、
対となるシャドウマスクを取り付け、通常の実装、排気
工程を経て17インチ陰極線管をえた。
【0039】また本実施例1において、インク吐出方式
として荷電制御方式を用いて蛍光面インクを吐出するこ
とも可能であり、電気機械変換方式で実施した工程と同
様の工程によって17インチ陰極線管をえることができ
た。
【0040】[実施例2]21インチのシリンドリカル
型フェースプレートの内面を洗浄したのち、ブラックマ
トリックスとなるカーボンと各色蛍光体をフェースプレ
ートに固定するためのバインダー成分として、シランカ
ップリング剤をスピンコートによりフェースプレート内
面に一様に作製した。つぎにフェースプレート内面が上
向きになるようにフェースプレートをセットした。
【0041】別に平均粒径0.1μmのカーボン粒子を
準備し、分散剤であるポリカルボン酸アンモニウム1.
5wt%を加えた水溶液にカーボンが30wt%になる
ように添加し、メチルアルコールと純水を加えて粘度が
500cp、共沸点が70℃になるように調整した。ま
た、蛍光体パターン用蛍光面インクとして、ポリカルボ
ン酸アンモニウム3.5wt%を加えた水溶液に、一般
に用いられる組成をもつ平均粒径1μmのR、Gまたは
B蛍光体が20wt%になるように添加し、メチルアル
コールと純水を加えて粘度が3000cp、共沸点が6
0℃になるように調整した。これらのインクを電気熱変
換方式のインクジェット機構をもつノズルを用いて吐出
し、実施例1と同様の方法で蛍光面を作製した。
【0042】つぎにこの蛍光面を大気中200℃で30
分焼成することで、シランカップリング剤を熱分解しフ
ェースプレートと結着させた。そののち、アルミバック
を施し、500℃、1時間、大気中でベーキングして有
機成分を除去したのち、対となるシャドウマスクと取り
付け、通常の実装、排気工程を経て21インチ陰極線管
をえた。
【0043】[実施例3]ノズルにより吐出される蛍光
面インクとして、赤色無機顔料としてベンガラ(平均粒
径0.005μm)、緑色無機顔料として酸化クロム
(平均粒径0.01μm)、青色無機顔料としてアルミ
ン酸コバルト(平均粒径0.05μm)を分散させたそ
れぞれの蛍光面インクを静電吸引方式のインクジェット
機構をもつノズルを用いて吐出し、カラーフィルタ層を
形成した以外は実施例1と同様な方法で蛍光面を作製
し、内面フィルタ付き蛍光面をえた。
【0044】
【発明の効果】本発明によれば、従来の多数回の塗布・
露光・現像工程が必要であった露光現像法の欠点を克服
し、一度のプロセスでブラックマトリックスと蛍光面ド
ットあるいはストライプパターンの形成が可能となり、
生産性が向上する。さらに、従来の方法では、露光後、
不必要となる部分の蛍光面スラリーを洗い流していた
が、本発明では必要な場所に必要な量だけの蛍光面イン
クをインクジェット方式のノズルを用いて吐出する所定
位置に対応した制御信号をノズル部に伝達して制御する
ことによって吐出すればよく、高価な蛍光体が無駄にな
ることなく、コストの面でも非常に有利である。
【0045】また、フェースプレート上の開口位置に対
応して蛍光面を形成するように吐出する所定位置を計算
して吐出することにより、一度のプロセスで蛍光面が形
成できるために、従来の方法では不可避であったシャド
ウマスクを着脱するときの位置精度の低下がなくなるの
で高精度なパターン形成が可能となる。さらには、制御
信号により蛍光面パターンをコントロールでき、かつノ
ズル部がフェースプレートの内曲面に沿ってノズル部と
フェースプレート間の距離を一定に保って移動できるの
でシャドウマスクの開口部のズレを光学的に検出し位置
補正のための制御信号をノズル部に送ることによって、
開口部位置に極めて正確に対応した良質な蛍光面パター
ンをえることが可能である。
【0046】また、ノズル部は複数個のノズルを備えて
いることによって蛍光面構成物質を含む各インクの条件
別に、吐出の精度や速度を効率よく設計することができ
る。
【0047】吐出する蛍光面インクをR、G、B各色の
蛍光面構成物質たる蛍光体または無機顔料およびブラッ
クマトリックスを形成するカーボン、バインダー成分の
PVAなどを含むように実施例に述べたように構成した
ことと、粘度や沸点が異なる蛍光面インクを吐出して微
細なパターンに形成するうえで、荷電制御方式、電気機
械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式それぞれに
対してインクジェットのノズルの口径を請求項および実
施例において述べたように決定したこと、蛍光面物質な
どの粒径、粘度、沸点を請求項および実施例において述
べたようにそれぞれの方式に適合するように調整するこ
とによって高輝度、高解像度、高コントラストの蛍光面
をえることができ、高い生産性をうることができた。
【0048】さらに半導体の加工技術の進展に伴い、よ
り精細な吐出のできるノズルを本発明に適用することに
より原理的には、従来の紫外線を用いた露光現像法以上
の微細なパターン形成が可能であり、HDTVなどの用
途に、今後、ますます高度に精細化していく、ピッチの
小さな蛍光面を作製するために有効である。
【0049】さらに、従来のように大がかりな塗布・露
光・現像のための生産装置をいくつものラインにわたっ
て保有する必要がないため、多額の設備投資を必要とし
ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明をカラー陰極線管に適用した蛍光面作
製方法を示す説明図である。
【図2】 従来のカラー陰極線管の蛍光面の断面構造を
示す図である。
【図3】 露光現像法による蛍光面パターン形成方法の
例を示す、工程別に示す図である。
【符号の説明】
1 支持部、2 ノズル部、3 アーム、4 チュー
ブ、5 受光素子、6 ハロゲンランプ、7 信号線、
8 インクタンク部、9 CPU、11 シャドウマス
ク、12 固定ピン、13R 赤色蛍光体、13G 緑
色蛍光体、13B 青色蛍光体、14 フェースプレー
ト、15 ブラックマトリックス、16 アルミバッ
ク、17 ファンネル、18 アノードボタン、21
レジスト、22 フェースプレート、23 紫外光、2
4 シャドウマスク、25 カーボンスラリー、26
蛍光面スラリー、A フェースプレートの側面、B フ
ェースプレートの内面、C 光、D シャドウマスク。

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 蛍光面構成物質を含むインクをインクジ
    ェット方式のノズルを用いて吐出することによって蛍光
    面を作製することを特徴とする蛍光面作製方法。
  2. 【請求項2】 前記インクを吐出する方法として荷電制
    御方式インクジェット機構を用いる請求項1記載の蛍光
    面作製方法。
  3. 【請求項3】 前記インクを吐出する方法として電気機
    械変換方式インクジェット機構を用いる請求項1記載の
    蛍光面作製方法。
  4. 【請求項4】 前記インクを吐出する方法として電気熱
    変換方式インクジェット機構を用いる請求項1記載の蛍
    光面作製方法。
  5. 【請求項5】 前記インクを吐出する方法として静電吸
    引方式インクジェット機構を用いる請求項1記載の蛍光
    面作製方法。
  6. 【請求項6】 前記インクを吐出する所定位置に対応し
    た制御信号を前記ノズルを含むノズル部に伝達し、前記
    所定位置に所定量の前記インクを吐出して前記蛍光面を
    作製する請求項1、2、3、4または5記載の蛍光面作
    製方法。
  7. 【請求項7】 シャドウマスクの開口位置を光学的に検
    出し、フェースプレート上に前記開口位置に対応して前
    記蛍光面を形成するように前記インクを吐出する前記所
    定位置を計算して前記制御信号を前記ノズル部に伝達し
    て前記蛍光面を作製する請求項1、2、3、4、5また
    は6記載の蛍光面作製方法。
  8. 【請求項8】 蛍光面構成物質を含むインクを所定位置
    に所定量吐出するインクジェット方式のノズルを含むノ
    ズル部、該ノズル部の位置制御機構、前記ノズル部に前
    記インクを供給する機構、前記ノズル部への制御信号の
    伝達部およびフェースプレートを固定する支持部からな
    ることを特徴とする蛍光面作製装置。
  9. 【請求項9】 電子銃の電子源位置に設置された光源が
    発した光をシャドウマスクに照射し、該シャドウマスク
    に対して前記光源と反対側に設置された受光素子で透過
    光を受光して、前記シャドウマスクの開口位置を検出
    し、該開口位置に対応して蛍光面を形成するように前記
    インクを吐出する機構を有する請求項8記載の蛍光面作
    製装置。
  10. 【請求項10】 前記ノズル部は複数の前記ノズルをも
    つ請求項8または9記載の蛍光面作製装置。
  11. 【請求項11】 前記ノズル部は前記フェースプレート
    の内曲面に沿って、前記ノズルと前記フェースプレート
    間の距離を一定に保ちながら移動する機構を有する請求
    項8、9または10記載の蛍光面作製装置。
  12. 【請求項12】 前記ノズルの先端の開口部の大きさ
    は、前記蛍光面構成物質の粒径の5倍以上50倍以下で
    ある請求項8、9、10または11記載の蛍光面作製装
    置。
  13. 【請求項13】 蛍光面構成物質として少なくともカー
    ボン、蛍光体または顔料を含む請求項1、2、3、4、
    5、6または7記載の蛍光面作製方法において用いられ
    る蛍光面インク。
  14. 【請求項14】 前記蛍光面構成物質として含まれる前
    記カーボンの粒径は0.01μm以上2.0μm以下と
    する請求項13記載の蛍光面インク。
  15. 【請求項15】 前記蛍光面構成物質として含まれる前
    記蛍光体の粒径は0.5μm以上5.0μm以下である
    請求項13記載の蛍光面インク。
  16. 【請求項16】 前記蛍光面構成物質として含まれる前
    記顔料の粒径は0.005μm以上1.0μm以下であ
    る請求項13記載の蛍光面インク。
  17. 【請求項17】 粘度が200cp以上5000cp以
    下に調整されることを特徴とする請求項13、14、1
    5または16記載の蛍光面インク。
  18. 【請求項18】 沸点が50℃以上150℃以下に調整
    されることを特徴とする請求項13、14、15、16
    または17記載の蛍光面インク。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000003408A1 (fr) * 1998-07-08 2000-01-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Procede de production d'ecrans plasma pour image haute qualite, dispositif de production et encre fluorescente a cet effet
JP2001043800A (ja) * 1999-08-02 2001-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 吐出手段
JP2003528418A (ja) * 1998-08-24 2003-09-24 キャンデゼント テクノロジーズ コーポレイション ピクセルアセンブリを形成するための方法及び装置
WO2004030417A1 (ja) 2002-09-24 2004-04-08 Sharp Kabushiki Kaisha アクティブマトリクス型有機el表示体の製造方法およびその装置およびアクティブマトリクス型有機el表示体、並びに液晶アレイの製造方法および液晶アレイ、並びにカラーフィルタ基板の製造方法およびその装置およびカラーフィルタ基板

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000003408A1 (fr) * 1998-07-08 2000-01-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Procede de production d'ecrans plasma pour image haute qualite, dispositif de production et encre fluorescente a cet effet
US6547617B1 (en) 1998-07-08 2003-04-15 Hiroyuki Kawamura Plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel with superior picture quality, a manufacturing apparatus and a phosphor ink
US6857925B2 (en) 1998-07-08 2005-02-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel with superior picture quality, a manufacturing apparatus, and a phosphor ink
US7140940B2 (en) 1998-07-08 2006-11-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel with superior picture quality, a manufacturing apparatus, and a phosphor ink
CN1326180C (zh) * 1998-07-08 2007-07-11 松下电器产业株式会社 荧光体墨
JP2003528418A (ja) * 1998-08-24 2003-09-24 キャンデゼント テクノロジーズ コーポレイション ピクセルアセンブリを形成するための方法及び装置
JP2001043800A (ja) * 1999-08-02 2001-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 吐出手段
JP4508315B2 (ja) * 1999-08-02 2010-07-21 大日本印刷株式会社 吐出手段
WO2004030417A1 (ja) 2002-09-24 2004-04-08 Sharp Kabushiki Kaisha アクティブマトリクス型有機el表示体の製造方法およびその装置およびアクティブマトリクス型有機el表示体、並びに液晶アレイの製造方法および液晶アレイ、並びにカラーフィルタ基板の製造方法およびその装置およびカラーフィルタ基板
KR100710760B1 (ko) * 2002-09-24 2007-04-24 샤프 가부시키가이샤 액티브 매트릭스형 유기 el 표시체의 제조 방법 및 그장치 및 액티브 매트릭스형 유기 el 표시체와, 액정어레이의 제조 방법 및 액정 어레이와, 컬러 필터 기판의제조 방법 및 그 장치 및 컬러 필터 기판
US8932666B2 (en) 2002-09-24 2015-01-13 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate

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