JPH08210556A - 真空用仕切弁 - Google Patents

真空用仕切弁

Info

Publication number
JPH08210556A
JPH08210556A JP1944595A JP1944595A JPH08210556A JP H08210556 A JPH08210556 A JP H08210556A JP 1944595 A JP1944595 A JP 1944595A JP 1944595 A JP1944595 A JP 1944595A JP H08210556 A JPH08210556 A JP H08210556A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
valve plate
actuator
valve
vacuum container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1944595A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichi Uryu
修一 瓜生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Steel Works Ltd
Original Assignee
Japan Steel Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Steel Works Ltd filed Critical Japan Steel Works Ltd
Priority to JP1944595A priority Critical patent/JPH08210556A/ja
Publication of JPH08210556A publication Critical patent/JPH08210556A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Details Of Valves (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は真空用仕切弁に関し、特に、弁板を
作動させるアクチュエータを真空下の製造装置又は真空
容器の厚さ以内に配置し、小型で薄型とすることを目的
とする。 【構成】 本発明による真空用仕切弁は、弁板(3)を回
動するためのアクチュエータ(10)のアクチュエータ動作
方向(10A)を前記弁板(3)の弁板長手方向(3a)に対して直
交させ、かつ、前記アクチュエータ動作方向(10A)を、
製造装置(5)又は真空容器(1)の側壁(1a,5a)の奥行方向
(1aA)に沿うように配置した構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空用仕切弁に関し、
特に、弁板を作動させるアクチュエータを、真空下の製
造装置又は真空容器の厚さ以内に配置し、小型で薄型と
するための新規な改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、用いられていたこの種の真空用仕
切弁としては、一般に、図6及び図7で示す構成が採用
されている。すなわち、図6において符号1で示される
ものはウェハー等の板状加工物を収納可能な薄形箱形状
をなす真空容器であり、この真空容器1の開口2には、
弁板3を有する真空用仕切弁4が真空容器1の薄形平面
方向に直交して設けられていると共に、この真空容器1
はこの真空用仕切弁4を介して真空下の半導体等の製造
装置5に接続されている。
【0003】前記弁板3は前記開口2の周囲に当接する
シール部材6を有すると共に、この弁板3を内蔵する箱
体7の上部にベローズ8を介して設けられたロッド9
は、この弁板3に接続されており、このロッド9は前記
箱体7側に固定保持されたシリンダ等のアクチュエータ
10に接続されている。従って、前記アクチュエータ1
0の作動によって、ロッド9を介して弁板3を上下動さ
せ、開口面に沿って往復移動させることにより開口2の
開閉を行っている。
【0004】また、図7で示す他の従来構成において
は、弁板3、ロッド9及びアクチュエータ10を真空容
器1の奥方向に傾斜させて取付け、同様に傾斜させて形
成された開口2に対し、弁板3を開口面に対して鉛直方
向に往復移動させることにより開口2の開閉を行ってお
り、図6の構成よりは、全体の高さを低く抑えるように
している。なお、図6と同一部分には同一符号を付し、
その説明は省略している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空用仕切弁
は、以上のように構成されていたため、次のような課題
が存在していた。すなわち、図6の構成の場合、弁板3
の面方向とロッド9の長手方向とが同一であり、このロ
ッド9の長手方向とアクチュエータ10の軸方向とが同
一方向であるため、その全体の高さHが真空容器1の高
さH1 よりも高くなり、この種の製造装置の小型化及び
薄型化への大きな障害となっている。また、図7に示す
構成の場合、高さHはやや低く出来るが、傾斜している
ために長さLが発生し、真空容器1と製造装置5との接
続に際して障害となっていた。
【0006】本発明は、以上のような課題を解決するた
めになされたもので、特に、弁板を作動させるアクチュ
エータを、真空下の製造装置又は真空容器の厚さ以内に
配置し、小型で薄型とする真空用仕切弁を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による真空用仕切
弁は、真空下の製造装置と前記製造装置に接続される真
空容器との間に位置する開口を弁板で開閉するようにし
た真空用仕切弁において、前記弁板を回動するためのア
クチュエータのアクチュエータ動作方向を前記弁板の弁
板長手方向に対して直交させ、かつ、前記アクチュエー
タ動作方向を、前記製造装置又は真空容器の側壁の奥行
方向に沿うように配置した構成である。
【0008】さらに詳細には、前記アクチュエータは前
記真空容器に設けられている構成である。
【0009】さらに詳細には、前記弁板は、前記開口の
近傍に設けられた軸支部に回動自在に設けられ、前記ア
クチュエータと前記弁板とを接続するロッド及びリンク
により前記弁板を回動させるようにした構成である。
【0010】さらに詳細には、前記真空容器は、可搬型
である構成である。
【0011】さらに詳細には、前記真空容器は、据置型
である構成である。
【0012】さらに詳細には、前記真空容器には、ゲッ
ターポンプが設けられている構成である。
【0013】
【作用】本発明による真空用仕切弁においては、アクチ
ュエータを作動させることにより、ロッドとリンクを介
して弁板が回動するため、アクチュエータの押動作で開
口が開弁し、引き動作で開口が閉弁する。また、この弁
板を回動するためのアクチュエータのアクチュエータ動
作方向は、製造装置又は真空容器の側壁の奥行方向に沿
っているため、このアクチュエータは、真空用仕切弁及
び製造装置又は真空容器全体の高さ(厚さ)を低く(薄
く)かつ小型化することができる。
【0014】
【実施例】以下、図面と共に本発明による真空用仕切弁
の好適な実施例について詳細に説明する。なお、従来例
と同一又は同等部分については同一符号を用いて説明す
る。図1において符号1で示されるものはウェハー等の
板状加工物を収納可能な薄形箱形状をなす真空容器であ
り、この真空容器1の開口2には、この開口2を覆うこ
とができる形状され2重のシール部材6を有す長手形状
の弁板3が、図2及び図5で示すように、真空容器1の
前壁60に設けた軸支部20を介して一方の長辺側を回
転中心として回動自在に設けられ、この弁板3により開
口2の開閉が行われる。
【0015】前記真空容器1の開口2の両側に位置する
側壁1aには、アクチュエータ20が設けられており、
各アクチュエータ20の各アクチュエータ長手方向20
Aは、前記弁板3の弁板長手方向3aと直交し、かつ、
前記側壁1aの奥行方向1aAに沿って設けられれてい
る。前記各アクチュエータ20は、前記弁板3に弁板3
の短辺部に設けられた第1軸部23を介して接続したリ
ンク22、このリンク22に第2軸部24を介して接続
したロッド9、このロッド9に接続部25を介して接続
し取手30aを有する回動レバー30とから構成され、
この回動レバー30は、前記各側壁1aに設けられ1対
の位置決め凹部31ち,31bを有する位置決め体31
に回動レバー30の突起30bが係合することにより、
弁体3の開弁A及び閉弁B状態を保持することができる
ように構成されている。
【0016】前記各ロッド9は、周知の金属製のベロー
ズ8がその外周に同軸配置され、このベローズ8の基端
8aが前記真空容器1の開口2を有する前壁60に気密
状に固定されていることにより、ロッド9が作動した場
合でもこの真空容器1内は外気と触れることのないよう
に気密(真空)に保持されるように構成されている。
【0017】前記真空容器1の前記前壁60と対向する
後壁32の内側には、この真空容器1内のパーティクル
等を吸収するための周知のゲッターポンプ33が設けら
れていると共に、この真空容器1の前壁60には、周知
の半導体製造装置又は薄膜製造装置からなる製造装置5
が機密状態で接続される。従って、前述の弁板3及びア
クチュエータ10とからなる真空用仕切弁4及び開口2
は、前記製造装置5と真空容器1との間に位置し、この
真空容器1は、製造装置5から真空状態のまま切離し、
可搬型として、構成されているが、他の構成として据置
型とすることもできる。また、この各アクチュエータ1
0及び弁板3も真空容器1側だけでなく、製造装置5の
側壁5aに前述と同様の構成で取付けることもできる。
また、前述のアクチュエータ10は、回動レバー30を
用いた構成に限らず、ロッド9を図示しない)シリンダ
又はモータと送りねじで押引する構成又はカムを用いて
作動させた場合も同じ作用を得ることができる。
【0018】次に、動作について述べる。まず、図1に
おいて、内部が所要真空度の状態にある真空容器1と製
造装置5とを機密状態に接続した状態で、接続部の空間
を所要真空度に真空引きした後、回動レバー30を点線
で示す開弁Aの位置に回動させておくことにより弁板2
がロッド9で押されて開口2が図5のように開弁状態と
なり、製造装置5側で作られたウェハー50が図示しな
いマニピュレータを介して開口2から真空容器1内に搬
送される。
【0019】このウェハー50の搬入される状態ではこ
の真空容器1内も真空状態下であるため、回動レバー3
0を点線から実線の位置に回動することによって、回動
レバー30は閉弁Bの位置に移動し、同時に、弁板3は
図5から図2のように閉弁状態となる。この状態で、真
空容器1を製造装置5から切離すと、ウェハー50を真
空状態下で内蔵した真空容器1を独立させることがで
き、例えば、任意の場所に搬送してこのウェハー50の
特性をサンプリング検査することができる。また、真空
状態に密封された真空容器1内は、新たに発生するパー
ティクル等がゲッターポンプ33により吸収されること
により、真空状態が維持される。以上説明した弁板3及
びアクチュエータ10の構成を構造装置5の開口部に設
けることにより、同様の作用を得ることが可能である。
【0020】
【発明の効果】本発明による真空用仕切弁は、以上のよ
うに構成されているため、次のような効果を得ることが
できる。すなわち、弁板を作動させるためのアクチュエ
ータが、製造装置又は真空容器側の側壁の奥行方向に沿
って配設されているため、アクチュエータと製造装置又
は真空容器全体の厚さを小さくすることができ、従来に
比べると、高さを大幅に低くして、小型化、薄型化、軽
量化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空用仕切弁を真空容器に取付け
た状態を示す半断面を含む平面図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】図1の矢視P図である。
【図4】図1の左側面図である。
【図5】図1の要部の拡大断面図である。
【図6】真空用仕切弁の第1従来例を示す構成図であ
る。
【図7】真空用仕切弁の第2従来例を示す構成図であ
る。
【符号の説明】
1 真空容器 1a,5a 側壁 2 開口 3 弁板 3a 弁板長手方向 5 製造装置 9 ロッド 10 アクチュエータ 10A アクチュエータ動作方向 22 リンク 24 軸支部 30 回動レバー 33 ゲッターポンプ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空下の製造装置(5)と前記製造装置(5)
    に接続される真空容器(1)との間に位置する開口(2) を
    弁板(3) で開閉するようにした真空用仕切弁において、
    前記弁板(3)を回動するためのアクチュエータ(10)のア
    クチュエータ動作方向(10A)を前記弁板(3)の弁板長手方
    向(3a)に対して直交させ、かつ、前記アクチュエータ動
    作方向(10A)を、前記製造装置(5)又は真空容器(1)の側
    壁(1a,5a) の奥行方向(1aA)に沿うように配置した構成
    よりなることを特徴とする真空用仕切弁。
  2. 【請求項2】 前記アクチュエータ(20)は前記真空容器
    (1)に設けられていることを特徴とする請求項1記載の
    真空用仕切弁。
  3. 【請求項3】 前記弁板(3)は、前記開口(2)の近傍に設
    けられた軸支部(20)に回動自在に設けられ、前記アクチ
    ュエータ(10)と前記弁板(3)とを接続するロッド(9)及び
    リンク(22)により前記弁板(3)を回動させる構成とした
    ことを特徴とする請求項1又は2記載の真空用仕切弁。
  4. 【請求項4】 前記真空容器(1)は、可搬型であること
    を特徴とする請求項1ないし3の何れかに記載の真空用
    仕切弁。
  5. 【請求項5】 前記真空容器(1)は、据置型であること
    を特徴とする請求項1ないし3の何れかに記載の真空用
    仕切弁。
  6. 【請求項6】 前記真空容器(1)には、ゲッターポンプ
    (33)が設けられていることを特徴とする請求項1ないし
    5の何れかに記載の真空用仕切弁。
JP1944595A 1995-02-07 1995-02-07 真空用仕切弁 Pending JPH08210556A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1944595A JPH08210556A (ja) 1995-02-07 1995-02-07 真空用仕切弁

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1944595A JPH08210556A (ja) 1995-02-07 1995-02-07 真空用仕切弁

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08210556A true JPH08210556A (ja) 1996-08-20

Family

ID=11999515

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1944595A Pending JPH08210556A (ja) 1995-02-07 1995-02-07 真空用仕切弁

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08210556A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8834673B2 (en) 2006-11-10 2014-09-16 Adp Engineering Co., Ltd. Process chamber having gate slit opening and closing apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8834673B2 (en) 2006-11-10 2014-09-16 Adp Engineering Co., Ltd. Process chamber having gate slit opening and closing apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4785962A (en) Vacuum chamber slit valve
US11817333B2 (en) Miniaturized semiconductor manufacturing system
JP2009117444A (ja) 真空ゲートバルブおよびこれを使用したゲート開閉方法
JP2006214489A (ja) 真空処理装置
JPH08210556A (ja) 真空用仕切弁
JP2001015571A (ja) ゲートバルブ
JP3273560B2 (ja) マルチチャンバロードロック装置のシール機構
KR101531632B1 (ko) 진공시스템의 게이트 밸브 구조
US6251218B1 (en) Ion beam processing apparatus
JP2974947B2 (ja) 真空装置における可動部材の駆動方法および駆動装置
JPH11315939A (ja) ゲート式真空遮断弁
JP2011133005A (ja) 開閉バルブ
JPS6257377B2 (ja)
JP4270617B2 (ja) 真空搬送装置
JPH06338469A (ja) 真空仕切弁
JP3032701B2 (ja) 真空搬送容器
US20230029491A1 (en) Placement system for door of wafer pod
JP7296083B1 (ja) 回転駆動式ゲートバルブ
JPS6237327Y2 (ja)
JPH10298745A (ja) 真空成膜装置
JPH07226429A (ja) 自動姿勢変更装置
JPH11233393A (ja) 半導体処理装置
JP4550554B2 (ja) 試料処理装置
JP3182496B2 (ja) 真空ロード・アンロード方法および真空ゲートバルブならびに真空搬送容器
JPS6230877A (ja) シヤツタ装置