JPH08206584A

JPH08206584A - 艶消被膜形成方法

Info

Publication number: JPH08206584A
Application number: JP1624395A
Authority: JP
Inventors: Taketoshi Minohara; 雄敏蓑原; Nobuhiro Ito; 信広伊藤; Shuichi Sugita; 修一杉田; Hirotoshi Kamata; 博稔鎌田
Original assignee: Showa Denko KK; Toyota Motor Corp
Current assignee: Toyota Motor Corp; Resonac Holdings Corp
Priority date: 1995-02-02
Filing date: 1995-02-02
Publication date: 1996-08-13
Anticipated expiration: 2017-01-15
Also published as: JP3247267B2

Abstract

(57)【要約】【目的】着色剤を含む系であっても、また厚膜に塗布さ
れた場合であっても、光重合法により艶消被膜を容易に
形成する。【構成】重合性不飽和化合物と、紫外線重合開始剤と、
近赤外光領域に吸収をもつ陽イオン染料と、ホウ素系触
媒とを含む液状組成物を塗布した後、５００ｍＪ／ｃｍ
²以上の光強度となる紫外線を照射し、次いで５００ｍ
Ｊ／ｃｍ²以上の光強度となる近赤外線を照射する。表
面に先ず重合層が形成され、次いで内部が硬化する際に
表面に凹凸が生じるので、その凹凸による光散乱作用で
艶消被膜が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は艶消被膜を形成する方法
に関し、さらに詳しくは、紫外線及び近赤外線を用いた
光重合法により塗膜を硬化させて艶消被膜を形成する方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】自動車の内装品などに施される塗装は、
鏡面塗装のような光沢のあるものはあまり好まれず、家
具などと同様に光沢がある程度消された艶消し塗装が主
流となっている。この艶消し塗装に用いられる艶消し塗
料としては、シリカ粉末やガラスビーズあるいはポリエ
チレンワックスなどを艶消し剤として添加したものが一
般的である。このような艶消し塗料を塗布すると、塗膜
からの溶剤の揮発及び硬化時の塗膜の収縮などにより艶
消し剤が塗膜表面に浮き上がり、塗膜表面に集まった艶
消し剤の光散乱作用により艶消し効果が得られる。

【０００３】ところで塗料やインキの硬化手段として、
速硬化性と無溶剤化の可能性をもつ紫外線硬化法などの
光重合法が近年注目を集めている。ところが従来の光重
合法では、溶剤がほとんど用いられないので溶剤の揮発
が少なく、塗膜の硬化も急速過ぎるために、上記した艶
消し剤の塗膜表面への浮き上がりが不十分となりやす
く、艶消し効果が低いという不具合があった。このよう
な不具合は、艶消し剤を増量することによりある程度解
決できるものの、その反面、強度などの塗膜物性が低下
するという問題がある。

【０００４】そこで特開昭５５−５９９７号公報には、
光強度の異なる紫外線を２段階で照射する艶消被膜形成
方法が開示されている。この方法によれば、先ず低強度
の紫外線を照射して塗膜内部の硬化を先行させる。これ
により塗膜表面の硬化は酸素の影響のため遅れるもの
の、内部の硬化により若干の塗膜収縮が生じ艶消し剤が
表面層に移動して表面の艶消し剤濃度が高くなる。また
若干のモノマーやオリゴマーの蒸発も生じるので艶消し
剤が表面に集まる。次いで高強度の紫外線を照射するこ
とにより、塗膜表面及び内部が完全硬化し、艶消し剤濃
度が高くなった塗膜表面では良好な艶消し効果が得られ
るのである。

【０００５】ところが特開昭５５−５９９７号公報に開
示の方法では、着色塗料への適用が困難である。つまり
着色顔料や不透明な染料などの着色剤が塗膜中に存在す
ると、照射された紫外線が着色剤に遮られて塗膜内部に
届かず、塗膜内部が未硬化状態となるという問題があ
る。また着色剤を含まずとも、塗膜厚さが極端に厚い場
合には紫外線が内部まで届かず、同様の不具合が発生す
る。

【０００６】また特開平６−７５３７４号公報には、紫
外線と近赤外線を照射することで、着色剤を含有する場
合であっても内部硬化を可能とした光硬化性材料及び硬
化方法が開示されている。しかし艶消被膜を形成する方
法は開示されていない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した事情
に鑑みてなされたものであり、特開平６−７５３７４号
公報に開示された光硬化性材料を利用して、着色剤を含
む系であっても、また厚膜に塗布された場合であって
も、光重合法により艶消被膜を容易に形成することを目
的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の艶消被膜形成方法は、重合性不飽和化合物と、紫外
線重合開始剤と、一般式（１）で表され近赤外光領域に
吸収をもつ陽イオン染料と、一般式（２）で表されるホ
ウ素系触媒と、を含む液状組成物を被塗物表面に塗布し
た後、５００ｍＪ／ｃｍ²以上の光強度となる紫外線を
照射し、次いで５００ｍＪ／ｃｍ²以上の光強度となる
近赤外線を照射することを特徴とする艶消被膜形成方
法。

【０００９】一般式（１）：Ｄ⁺・Ａ^- （式中、Ｄ⁺は近赤外光領域に吸収をもつ陽イオンを示
し、Ａ^-は各種陰イオンを示す。）一般式（２）：

【００１０】

【化３】

【００１１】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂及びＲ₃はそれぞれ独
立してアルキル基、アリール基、アリル基、アラルケル
基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環
基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、
置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル
基、ハロゲン原子または置換シリル基を示し、Ｚ⁺は４
級アンモニウム陽イオン、４級ピリジニウム陽イオン、
４級キノリニウム陽イオン、ホスホニウム陽イオンまた
は金属陽イオンを示す。）また第２の発明の艶消し被膜形成方法は、重合性不飽和
化合物と、紫外線重合開始剤と、一般式（１）で表され
近赤外光領域に吸収をもつ陽イオン染料と、一般式
（２）で表されるホウ素系触媒と、艶消し剤と、を含む
る液状組成物を被塗物表面に塗布した後、５００ｍＪ／
ｃｍ²以上の光強度となる近赤外線を照射し、次いで５
００ｍＪ／ｃｍ²以上の光強度となる紫外線を照射する
ことを特徴とする。

【００１２】一般式（１）：Ｄ⁺・Ａ^- （式中、Ｄ⁺は近赤外光領域に吸収をもつ陽イオンを示
し、Ａ^-は各種陰イオンを示す。）一般式（２）：

【００１３】

【化４】

【００１４】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂及びＲ₃はそれぞれ独
立してアルキル基、アリール基、アリル基、アラルケル
基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環
基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、
置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル
基、ハロゲン原子または置換シリル基を示し、Ｚ⁺は４
級アンモニウム陽イオン、４級ピリジニウム陽イオン、
４級キノリニウム陽イオン、ホスホニウム陽イオンまた
は金属陽イオンを示す。）

【００１５】

【作用】

〔第１発明の作用〕第１発明の艶消被膜形成方法では、
ウェット塗膜に先ず紫外線が高強度となるように照射さ
れる。すると紫外線重合開始剤が励起されて光重合が開
始され、塗膜の表面層が主として硬化する。塗膜内部
は、着色剤や厚膜である場合は、紫外線が到達せず未硬
化状態となっている。そして表面層には、酸素の透過性
をほとんど無視できる重合膜が形成されている。

【００１６】次いで近赤外線が高強度となるように照射
されると、一般式（２）の増感剤の併用により一般式
（１）の陽イオン染料が励起され、消色反応により陽イ
オン染料の色が消色するとともに、重合性不飽和化合物
の重合反応が開始される。近赤外線は高い透過性を有す
るため、着色剤を含んだ塗膜であっても、また厚膜に塗
布された塗膜であっても、近赤外線は塗膜の内部まで充
分に到達して重合反応が開始され、内部が硬化する。こ
の時、既に硬化した表面層の重合膜が未硬化の塗膜内部
への酸素の進入を阻止するので、酸素による重合阻害が
生じず塗膜内部は完全に硬化する。

【００１７】ここで内部の硬化に伴い塗膜内部には収縮
が生じるが、この収縮により既に硬化している表面層の
重合膜には微細な凹凸が生じ、その凹凸を残した状態で
硬化が完了する。したがって形成された被膜表面には微
細な凹凸が存在し、これの光散乱作用により艶消被膜と
なる。〔第２発明の作用〕第２発明の艶消被膜形成方法では、
ウェット塗膜に先ず近赤外線が照射される。すると一般
式（２）の増感剤の併用により一般式（１）の陽イオン
染料が励起され、消色反応により陽イオン染料の色が消
色するとともに、重合性不飽和化合物の重合反応が開始
される。近赤外線は高い透過性を有するため、着色剤を
含んだ塗膜であっても、また厚膜に塗布された塗膜であ
っても、高強度となるように照射された近赤外線は塗膜
の内部まで充分に到達して重合反応が開始される。

【００１８】これにより塗膜は内部まで充分に硬化する
が、この時の塗膜の収縮により、含まれている艶消し剤
が表面層に移行し、表面層は艶消し剤濃度が高い状態と
なる。しかし近赤外線による重合では、高強度となるよ
うに照射されても酸素阻害により塗膜の表面層は未硬化
の状態である。そこで、次いで紫外線を高強度となるよ
うに照射する。すると紫外線重合開始剤が励起されて光
重合が開始され、主として塗膜の表面が硬化する。これ
により艶消し剤濃度の高い表面層では、艶消し剤がさら
に表面に移行して表出し、艶消し剤の光散乱作用により
艶消被膜が形成される。

【００１９】

【実施例】

〔発明の具体例〕重合性不飽和化合物とは、１分子中に
２個以上のラジカル重合性炭素二重結合を有する不飽和
樹脂、又はこの不飽和樹脂と１分子中に１個以上のラジ
カル重合性炭素二重結合を有する不飽和モノマーとの混
合物をいう。このうち不飽和樹脂としては、例えばポリ
エステルに（メタ）アクリル酸を縮合させた樹脂、エチ
レン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂、エチレン性不飽
和基含有エポキシ樹脂、エチレン性不飽和基含有リンエ
ポキシ樹脂、エチレン性不飽和基含有アクリル樹脂、エ
チレン性不飽和基含有シリコン樹脂、エチレン性不飽和
基含有メラミン樹脂などが挙げられる。

【００２０】不飽和モノマーは、重合性不飽和モノマー
ばかりではなく重合性不飽和オリゴマーも包含され、具
体的には以下のものが例示される。重合性不飽和モノマ
ーとしては、先ずアクリル酸又はメタクリル酸と炭素数
１〜２８個の１価アルコールとのエステル化物が挙げら
れ、例えばアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−
ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−
ブチル、メタクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｔｅ
ｒｔ−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリ
ル酸プロピル、メタクリル酸プロピル、アクリル酸ヘキ
シル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、メ
タクリル酸オクチル、アクリル酸ラウリル、メタクリル
酸ラウリル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリ
ル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ステアリル、
メタクリル酸ステアリルなどが例示される。また重合性
不飽和モノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、
メチルスチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼンな
どのビニル芳香族化合物：酢酸ビニル、塩化ビニル、ビ
ニルイソブチルエーテル、メチルビニルエーテル、アク
リロニトリル、２−エチルヘキシルビニルエーテルなど
その他のビニル化合物も使用できる。さらに、アクリル
酸、メタクリル酸などのカルボキシル基含有モノマー：
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどの水
酸基含有モノマー：ブチルイソシアネート、フェニルイ
ソシアネートなどのイソシアネート化合物と上記水酸基
含有モノマーとの付加物：リン酸と上記水酸基含有モノ
マーとの付加物：ビニルピロリドン、ビニルピリジンな
どの含窒素複素環を有する不飽和モノマーなども使用で
きる。

【００２１】また重合性不飽和オリゴマーとしては、例
えばジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール
ジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオー
ルジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリ
レート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，
４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラメタクリレート、トリシクロデ
カンジアルコールジアクリレート、トリシクロデカンジ
アルコールジメタクリレート、などのジ、トリ又はテト
ラビニル化合物：多価アルコールとエチレンオキシドと
の付加物にアクリル酸及び／又はメタクリル酸を反応せ
しめた生成物：多価アルコールとプロピレンオキシドと
の付加物にアクリル酸及び／又はメタクリル酸を反応せ
しめた生成物：多価アルコールとε−カプロラクトンと
の付加物にアクリル酸及び／又はメタクリル酸を反応せ
しめた生成物：含リン重合性不飽和オリゴマーなどが包
含される。

【００２２】なお、上に例示したモノマー及びオリゴマ
ーは、単独で又は２種以上混合して使用できる。不飽和
樹脂と不飽和モノマーとの混合比率は特に制限されない
が、合計を１００重量％とした場合に、不飽和樹脂は１
００〜２０重量％、特には８０〜４０重量％とすること
が好ましい。

【００２３】紫外線重合開始剤としては、紫外線の照射
により励起されてラジカルを発生させる通常の開始剤が
用いられ、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインｎ−プロピ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾ
インｎ−ブチルエーテル、α−ヒドロキシイソブチルフ
ェノン、ベンゾフェノン、ｐ−メチルベンゾフェノン、
ミヒラーケトン、アセトフェノン、１−ヒドロキシ−１
−シクロヘキシルアセトフェノン、２−クロロチオキサ
ントン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルフォリノ−プロパノン、アントラキノ
ン、２−メチルアントラキノン、フェニルジスルフィ
ド、２−ニトロフルオレンなどが挙げられる。これらの
開始剤は単独で又は２種以上混合して使用でき、その添
加量は不飽和樹脂に対して０．１〜１０重量％の範囲が
好ましい。

【００２４】また紫外線重合開始剤による光重合反応を
促進させるために、光増感促進剤を併用することも好ま
しい。併用できる光増感促進剤としては、例えばトリエ
チルアミン、トリエタノールアミン、２−（ジメチルア
ミノ）エタノール等の３級アミン：トリフェニルホスフ
ィン等のアルキルホスフィン：β−チオジグリコール等
のチオエーテルなどが挙げられる。これらの光増感促進
剤は単独で、又は２種以上を混合して用いることがで
き、その添加量は不飽和樹脂に対して０．１〜１０重量
％の範囲が好ましい。

【００２５】一般式（１）で表される陽イオン染料は、
近赤外線により励起されて反応開始剤として機能するも
のであり、陽イオンＤ⁺としては７４０ｎｍ以上の近赤
外光の波長領域に吸収をもつもの、好ましくは７８０ｎ
ｍ以上の波長領域に吸収をもつものが用いられる。この
ような陽イオンとしては、例えばメチン、ポリメチン、
インドリン、シアニン、キサンテン、オキサジン、チア
ジン、ジアリールメタン、ピリリウム系陽イオン染料の
陽イオンなどが挙げられるが、このような陽イオンの代
表例としては、例えば表１及び表２に示すようなものが
挙げられる。

【００２６】

【表１】

【００２７】

【表２】

【００２８】また一般式（１）の陽イオン染料のカウン
ターアニオン（Ａ^-）は任意の陰イオンであり、例えば
塩素アニオン、臭素アニオン、沃素アニオン等のハロゲ
ンアニオン：ベンゼンスルホン酸アニオン、ｐ−トルエ
ンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン等の
スルホン酸アニオン：ＰＦ₆アニオン：ホウ素アニオン
など種々のアニオン性化合物が挙げられる。中でも一般
式（３）で表されるホウ素アニオンが特に好ましい。

【００２９】一般式（３）：

【００３０】

【化５】

【００３１】（式中、Ｒ₅，Ｒ₆，Ｒ₇及びＲ₈はそれ
ぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基、アラ
ルケル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複
素環基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル
基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキ
ニル基、ハロゲン原子または置換シリル基を示す。）一般式（２）で表されるホウ素系触媒は、近赤外線に対
する増感促進剤として機能して上記陽イオン染料の励起
を援助するものであり、ホウ素系アニオンの具体例とし
ては、ｎ−ブチルトリフェニルホウ素イオン、ｎ−オク
チルトリフェニルホウ素イオン、ｎ−ブチルトリアニシ
ルホウ素イオン、ジｎ−ドデシルジフェニルホウ素イオ
ン、テトラフェニルホウ素イオン、トリフェニルナフチ
ルホウ素イオン、テトラブチルホウ素イオン等が挙げら
れ、その中でもトリフェニルアルキルホウ素イオンが、
入手の容易さ、反応性などの点から特に好ましい。

【００３２】また一般式（２）のカチオンＺ⁺として
は、４級アンモニウム陽イオン、４級ピリジニウム陽イ
オン、４級キノリニウム陽イオン、ホスホニウム陽イオ
ン、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム
等の金属陽イオンなどが挙げられ、特に４級アンモニウ
ムイオンが好適である。４級アンモニウムイオンとして
は、４つの置換基がそれぞれ独立して水素原子、アルキ
ル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換
アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換ア
ルケニル基又は置換アルキニル基であるようなアンモニ
ウムイオンであり、例えばテトラメチルアンモニウムイ
オン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラブチル
アンモニウムイオン等のテトラアルキルアンモニウムイ
オンが例示される。

【００３３】一般式（１）の陽イオン染料及び一般式
（２）のホウ素系触媒の添加量は、それぞれ組成物全体
の０．００１重量％以上とすることが望ましい。これよ
り少ないと重合反応速度が低下し、硬化反応速度が低下
して硬化不良となったり、所望の光沢をもつ艶消被膜の
形成が困難となる場合がある。艶消し剤としては、従来
の艶消し塗料に用いられている艶消し剤を用いることが
でき、例えばシリカ粉末、ガラスビーズ、アクリルビー
ズなどが例示される。

【００３４】紫外線及び近赤外線は、それぞれ光強度が
５００ｍＪ／ｃｍ²以上となるように照射される。光強
度がこれより小さいと、硬化反応速度が低下して硬化不
良となったり、所望の光沢をもつ艶消被膜の形成が困難
となる場合がある。特に望ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ
²以上である。なお、このような光強度となるように照
射するには、出力が大きな光源を選択する以外に、塗膜
と光源の距離を近づける方法、照射時間を長くする方法
などがある。〔実施例〕以下、実施例により具体的に説明する。（重合性組成物の調製）以下の組成で各原料を配合し、
攪拌混合して重合性組成物とした。

【００３５】原料配合ウレタンアクリレート５０重量部多官能アクリレートオリゴマー５０重量部陽イオン染料０．５重量％（全体の）ホウ素系触媒１．０重量％（全体の）紫外線重合開始剤３．０重量％（全体の）光増感促進剤２重量部酢酸ブチル（溶剤）８０重量部なお、ウレタンアクリレートは、テトラヒドロ無水フタ
ル酸が３ｍｏｌ、１，５ペンタンジオールが３ｍｏｌ、
トリメチロールプロパンが１ｍｏｌ、イソホロンジイソ
シアネートが３ｍｏｌ、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ートが３．３ｍｏｌの組成で重合されたウレタンアクリ
レート（「ＨＷＲ−１９」日本ペイント社製）を用い、
多官能アクリレートオリゴマーは、「カヤラッドＤＰＣ
Ａ−６０」（日本化薬社製）を用いた。

【００３６】陽イオン染料としては、前述の表１に示す
番号３の陽イオンと、カウンターイオンとしてのｎ−ブ
チルトリフェニルホウ素アニオンとからなるものを用い
た。またホウ素系触媒としては、テトラブチルアンモニ
ウムｎ−ブチルトリフェニルホウ素を用いた。紫外線重
合開始剤としては「ダロキュアー１１７３」（メルク社
製）を、光増感促進剤としてはヒンダードアミン（「Ｌ
Ｓ−２９２」チバガイギー社製）を用いた。（クリア塗料の調製）上記重合性組成物をそのままクリ
ア塗料として用いた。（黒色塗料の調製）上記重合性組成物に対して、カーボ
ンブラック（「ＦＰＧＫ１００」大日精化社製）をカー
ボンとして３重量部さらに加えて黒色塗料とした。（メタリック塗料の調製）上記重合性組成物に対して、
箔状アルミ粉末（「７６４０ＮＳ」東洋アルミ社製）を
ＰＷＣ＝１３．５％となるように加えてメタリック塗料
とした。（着色メタリック塗料の調製）上記重合性組成物に対し
て、着色マイカ粉末（「イリオジン９１０３」メルク社
製）をＰＷＣ＝１０．０％となるように加えて着色メタ
リック塗料とした。（艶消し剤含有塗料の調製）上記の各塗料に対して、シ
リカ粉末（「ミズカシルＰ８０１」水沢化学社製）をそ
れぞれ１０重量部さらに添加して、それぞれの艶消し剤
含有塗料を調製した。（実施例及び比較例）「サーフクリーナＳＤ５５０」
（日本ペイント社製）で脱脂処理され、カチオン電着塗
料「サーフダインＳＤ５０００」（日本ペイント社製）
が膜厚２０μｍに塗装され、さらにオイルフリーアルキ
ド・メラミン樹脂系中塗り塗料（「オルガＰ−２」（日
本ペイント社製）が３５μｍの膜厚に塗装され焼き付け
後水研された中塗り鋼板を用意し、上記の各塗料をスプ
レー塗装した後、８０℃で５分間プレヒートし、その後
表３に示す各条件にて紫外線及び近赤外線を照射して塗
膜を硬化させた。固定された照射条件は以下の通りであ
る。

【００３７】紫外線：高圧水銀ランプ８０Ｗ／ｃｍ（２ＫＷ）近赤外線：ハロゲンランプ３００Ｗ得られた塗膜の硬化状態を「ＪＩＳ−Ｋ−５４００」に
準拠した鉛筆引っ掻き試験機での測定（鉛筆硬度がＦ以
上であり、さらにカッターナイフで硬化塗膜を傷つけ塗
膜の内部を目視観察及び手で触れ、べとつき、タックが
全くない状態を完全硬化とする）で判定するとともに、
完全に硬化した塗膜についてはその６０°反射率により
光沢値を測定し、結果を表３に示す。

【００３８】

【表３】

【００３９】表３より、シリカ粉末を含まない場合は、
どの色調の塗料であっても、先ず５００ｍＪ／ｃｍ²以
上の光強度となるように紫外線を照射し、次いで５００
ｍＪ／ｃｍ²以上の光強度となるように近赤外線を照射
することで良好な艶消塗膜が形成されていることがわか
る。またシリカ粉末を含む場合は、どの色調の塗料であ
っても、先ず５００ｍＪ／ｃｍ²以上の光強度となるよ
うに近赤外線を照射し、次いで５００ｍＪ／ｃｍ²以上
の光強度となるように紫外線を照射することで良好な艶
消塗膜が形成されていることがわかる。

【００４０】なお、Ｎｏ．１では光沢が９２で艶消塗膜
となっていないが、これはクリア塗膜のために紫外線が
内部まで到達し、最初の紫外線照射で内部まである程度
硬化してしまい次の近赤外線照射時に表面層に凹凸が形
成されなかったことによるものである。したがってＮ
ｏ．２のように紫外線の光強度を小さくすれば、艶消塗
膜を形成することができるものである。

【００４１】

【発明の効果】すなわち第１発明の艶消被膜形成方法に
よれば、艶消し剤を用いずに艶消被膜を形成することが
できるので、艶消し剤による塗膜物性の低下が回避され
る。また従来光硬化が困難であった光透過性の低い顔料
などを含有していても、光重合法で容易に艶消被膜を形
成することができる。

【００４２】また第２発明の艶消被膜形成方法によれ
ば、従来光硬化が困難であった光透過性の低い顔料など
を含有していても、光重合法で容易に艶消被膜を形成す
ることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所 // Ｃ０９Ｄ 5/00 ＰＮＹ 163/10 ＰＤＹ 175/14 ＰＤＺ (72)発明者杉田修一千葉県千葉市緑区大野台１−１−１昭和電工株式会社総合研究所内 (72)発明者鎌田博稔千葉県千葉市緑区大野台１−１−１昭和電工株式会社総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】重合性不飽和化合物と、紫外線重合開始
剤と、一般式（１）で表され近赤外光領域に吸収をもつ
陽イオン染料と、一般式（２）で表されるホウ素系触媒
と、を含む液状組成物を被塗物表面に塗布した後、５０
０ｍＪ／ｃｍ ²以上の光強度となる紫外線を照射して表
面層を硬化させ、次いで５００ｍＪ／ｃｍ²以上の光強
度となる近赤外線を照射することを特徴とする艶消被膜
形成方法。一般式（１）：Ｄ⁺・Ａ^- （式中、Ｄ⁺は近赤外光領域に吸収をもつ陽イオンを示
し、Ａ^-は各種陰イオンを示す。）一般式（２）：【化１】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂及びＲ₃はそれぞれ独立してアルキ
ル基、アリール基、アリル基、アラルケル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、シリル基、複素環基、置換アルキ
ル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル
基、置換アルケニル基、置換アルキニル基、ハロゲン原
子または置換シリル基を示し、Ｚ⁺は４級アンモニウム
陽イオン、４級ピリジニウム陽イオン、４級キノリニウ
ム陽イオン、ホスホニウム陽イオンまたは金属陽イオン
を示す。）
【請求項２】重合性不飽和化合物と、紫外線重合開始
剤と、一般式（１）で表され近赤外光領域に吸収をもつ
陽イオン染料と、一般式（２）で表されるホウ素系触媒
と、艶消し剤と、を含む液状組成物を被塗物表面に塗布
した後、５００ｍＪ／ｃｍ²以上の光強度となる近赤外
線を照射し、次いで５００ｍＪ／ｃｍ ²以上の光強度と
なる紫外線を照射することを特徴とする艶消被膜形成方
法。一般式（１）：Ｄ⁺・Ａ^- （式中、Ｄ⁺は近赤外光領域に吸収をもつ陽イオンを示
し、Ａ^-は各種陰イオンを示す。）一般式（２）：【化２】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂及びＲ₃はそれぞれ独立してアルキ
ル基、アリール基、アリル基、アラルケル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、シリル基、複素環基、置換アルキ
ル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル
基、置換アルケニル基、置換アルキニル基、ハロゲン原
子または置換シリル基を示し、Ｚ⁺は４級アンモニウム
陽イオン、４級ピリジニウム陽イオン、４級キノリニウ
ム陽イオン、ホスホニウム陽イオンまたは金属陽イオン
を示す。）