JPH0820518B2 - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH0820518B2
JPH0820518B2 JP62041514A JP4151487A JPH0820518B2 JP H0820518 B2 JPH0820518 B2 JP H0820518B2 JP 62041514 A JP62041514 A JP 62041514A JP 4151487 A JP4151487 A JP 4151487A JP H0820518 B2 JPH0820518 B2 JP H0820518B2
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
    • H05G1/08—Electrical details
    • H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/29—Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70558—Dose control, i.e. achievement of a desired dose

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、軟Ｘ線などの放射線を利用して露光する際
その放射線量をモニタしながら露光量を調整するように
した露光装置に関する。
［従来の技術］ この種の放射線量検出装置の検出性能は被曝量積によ
り変化したり、また経時的に変化するため頻繁に新しい
放射線量検出装置と取り替えて放射線をモニタし、露光
装置の露光制御を行なわなければならなかった。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、放射線量検出装置を用いた露光装置
において、被曝量積により変化する感度特性または経時
的に変化する感度特性を補償して入射放射線量の計測値
を較正することにある。
［問題点を解決するための手段］ 上記の目的を達成するため、放射源と、放射源からの
放射線によって露光される被露光部材を保持するステー
ジと、放射源からの放射線を検出する放射線検出器と、
放射線検出器に接続され、放射線検出器の被曝量積対検
出感度特性に従って、放射線検出器の出力信号を較正す
る換算器と、換算器に接続され、換算器によって較正さ
れた出力信号を積分して被曝量積を得る積分器と、換算
器の出力信号に基づいて、被露光部材への露光を調整す
る調整手段とを備え、換算器は、非被曝時の放射線検出
器の感度回復を補償するために、積分器の積分結果を減
算する手段を有することを特徴とする。また、放射源は
Ｘ線源であることを特徴とする。
これによれば、換算器が積分結果を減算する手段を含
むことにより放射線量検知器の感度が非被曝時に回復す
る場合にも対応できる。
［実施例］ 第１図は本発明の一実施例を適用した露光装置を示
す。図において１はＸ線源を構成する管球、２はＸ線量
検知器、３は検知器の出力信号の換算器、４は被曝開始
から検知器の出力信号を積分していく積分器、５は制御
手段、６はステージ、７は感光材料、８は遮蔽手段であ
る。
この構成において、管球１から発したＸ線はＸ線量検
知器２、感光材料７、遮蔽手段８に達する。Ｘ線量検知
器２はこのＸ線被曝量を表す信号を出力する。この出力
信号を換算器３は、被曝量を累積記憶している積分器４
の出力信号により較正して真の入射Ｘ線量を出力する。
この較正出力信号を積分器４と制御手段５に入力する。
積分器４は真の入射Ｘ線量を表わす較正入力信号を累積
する。制御手段５はステージ６の移動速度を入射Ｘ線量
に従って制御して遮蔽手段８のスリットを通ってまたＸ
線の感光材料７への露光量を一定に保つ。
Ｘ線量検知器の被曝量積と感度の関係の一例を次表に
示す。
被曝量積 出力計数 ０ 1.00 １ 0.99 ２ 0.96 ３ 0.91 ４ 0.84 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 積分器４の積分結果を減算する手段を設ければ、検知
器２の感度が非被曝時に回復する場合にも対応できる。
また積分器の代りに被曝開始と同時に作動するタイマー
を使用して、経時的に性能が変化する検知器の出力信号
を較正することもできる。
［発明の効果］ 以上から明らかなように、本発明によれば、積分器の
積分結果を減算する手段を設けたため、非被曝時の放射
線検出器の感度回復を補償することができる。また、本
発明により放射線検知器の性能劣化または感度変化によ
る検知器の交換は殆ど不要になり、又検出特性の異なる
検知器を使用する場合には感度特性表の交換だけで対処
できるようになる。このためSORやプラズマＸ線等広い
放射線に対する検知器に広く適用できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の放射線量検出装置を適用した露光装置
の略図である。 図中、 1:管球、2:検知器、6:ステージ、 7:感材、8:遮蔽手段。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】放射源と、 前記放射源からの放射線によって露光される被露光部材
    を保持するステージと、 前記放射源からの放射線を検出する放射線検出器と、 前記放射線検出器に接続され、放射線検出器の被曝量積
    対検出感度特性に従って、前記放射線検出器の出力信号
    を較正する換算器と、 前記換算器に接続され、換算器によって較正された出力
    信号を積分して前記被曝量積を得る積分器と、 前記換算器の出力信号に基づいて、前記被露光部材への
    露光を調整する調整手段とを備え、 前記換算器は、非被曝時の前記放射線検出器の感度回復
    を補償するために、前記積分器の積分結果を減算する手
    段を有することを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項２】前記放射源はＸ線源であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項記載の露光装置。
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