JPH0820091B2 - 清浄室装置 - Google Patents

清浄室装置

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JPH0820091B2
JPH0820091B2 JP62045188A JP4518887A JPH0820091B2 JP H0820091 B2 JPH0820091 B2 JP H0820091B2 JP 62045188 A JP62045188 A JP 62045188A JP 4518887 A JP4518887 A JP 4518887A JP H0820091 B2 JPH0820091 B2 JP H0820091B2
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air
clean room
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clean
air supply
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久良 松藤
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Sanki Engineering Co Ltd
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Sanki Engineering Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、クリーンルームにおいて、配設された装置
又は機器から発生する粉塵や熱気を、特別に天井から排
出する清浄室装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、ウェーハなどの半導体を処理するには、第5図
および第6図に示すように、横吹出吸込型のクリーンル
ームRにおいて、1台以上の機器又は装置Kを、例え
ば、4列又は5列などに列べて配設し、一方の側壁から
HEPAフィルタHを介して清浄空気Aを1m/sec以下の風速
で供給し、対向した他の側壁から排気Eとして排出する
ことにより、室内空気の清浄度をクラス100〜100,000に
維持しながら前記機器又は装置Kに収容した被処理物W
の処理を行っていた。なお、排気Eは、リターンチャン
バRCから排気ダクトEdを通って送風ファンFsにより再び
給気ダクトAdからプレナムチャンバPCを介してHEPAフィ
ルタHに送られる空気循環方式が採られていた。なお、
Gは、送風ファンFsへの外気吸込口である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、このような従来のクリーンルームにお
いて装置又は機器を使用する場合、被処理物に発生する
粉塵あるいは熱気などにより室内空気の清浄度が低下す
るばかりか、特に、その下流に装置又は機器が位置して
いて随時に被処理物の出し入れが行われると、もろに悪
影響を受けて汚染されるという問題点がある。
本発明は、上記問題点に着目してなされたもので、発
生した粉塵等を撤き散らすことなくすみやかに吸い取り
クリーンルームから排除することを目的としたものであ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に係る清浄室装置は、床面に配設された1基以
上の装置又は機器それぞれの外周を囲む給気筒を設ける
とともに、各給気筒専用の給気ファンを別に設置して流
速のより速い清浄空気を上方へ吹き出す構成とし、さら
に、前記給気筒それぞれに対向した天井位置に吸込口を
穿設し、特に前記吹出し空気を吸入排除するようにした
ものである。
〔作用〕
本発明の清浄室装置にあっては、被処理物の機器又は
装置からの取出しに際しても、発生した粉塵等は、その
機器又は装置の位置で、一方の側壁側から流される、又
は床面から吹き出される清浄空気よりも速い上昇気流に
乗り、当該上方の吸込口によって天井面から排除される
ため、クリーンルーム内の空気を汚染することがないば
かりか、たとえ下流において被処理物の設定準備や取出
しが行われても、該被処理物を汚染することはなく、し
たがって、随時、随所の機器又は装置で被処理物の設定
や取出し作業を行うことができる。
〔実施例〕
以下、本発明の第1実施例を第1図及び第2図に基づ
いて説明する。
本第1実施例は、横吹出横吸込型クリーンルームに清
浄室装置を適用したものである。
機器又は装置Kを1基設置した場合の構成を示す第1
図において、1は、横吹出横吸込型クリーンルーム、2
は、該クリーンルーム1内に区画された作業室、4は、
前記クリーンルーム1の給気側に設けられたプレナムチ
ャンバ3と作業室2との間に介在するHEPAフィルタ、5
は、該フィルタ4に対向して、全面に排気孔5k多数を穿
設した排気壁、6は、該排気壁5により区画されたリタ
ーンチャンバ、7は、作業室2の床2Fに設置された1基
の機器又は装置Kの外周を囲み、該機器又は装置Kの側
面から上方へ向かってリング状の開口7kを有する給気
筒、8は、前記天井2Tの該給気筒7に対向する位置に穿
設された吸込口である。
そして、外気の給気系統と空気循環系統とは、従来と
ほぼ同様に構成されているが、特に、給気筒7へ外気吸
込口9,給気ファン10,ダンパ11及び小型HEPAフィルタ12
を経由して清浄空気aを送る特別給気系統13と、吸込口
8からダンパ14を介し排気ファン15により被処理物Wか
ら発生する粉塵や熱気を含む排気eを外部へ排出する排
気系統16とが設けられている。
叙上の構成となっているので、通常の熱処理作業中
は、外気又は循環空気は、送風ファンFsにより、給気ダ
クトAdを経てプレナムチャンバ3へ送られHEPAフィルタ
4で濾過されて清浄空気Aとなり、作業室2へ供給され
るが、排気壁5から排気Eとなってリターンチャンバ6
を通り、排気ダクトEdを経て再び送風ファンFsへ到る循
環動作が行われ、この循環気流等によって作業室2の室
内空気は、清浄度クラスが、100〜100,000に維持され
る。
ところで、被処理物Wを機器又は装置Kから取出すに
際しては、特別給気系統13により給気筒7から清浄空気
Aよりも速い流速をもって清浄空気aを上方へ吹き出す
一方、排気系統16により前記排気eを吸い込み排出させ
て、粉塵や熱気の拡散を防止し、作業室2の室内空気の
汚染を回避するわけである。
今、機器又は装置Kを縦型炉にした場合を例にとり、
さらに特別給排気の動作を詳述すると、縦型炉1基に対
して電気的の操作盤(図示省略)1台が設けられてお
り、該操作盤のスイッチを連動して次の順序に従い特別
給気系統13と排気系統16とを動作させる。
(1)まず、給気ファン10と排気ファン15との運転を開
始する。
(2)続いて、ダンパ11,14を開放する。
(3)そして、給排気が安定した状態となったところで
縦型炉を開き、被処理物Wの出入れ等の操作を行う。
(4)上記操作終了によって縦型炉の蓋を閉鎖する。
(5)閉鎖後、暫時、まだ給排気を続ける。
(6)適当なところでダンパ11,14を閉鎖する。
(7)ダンパ11,14が完全に閉鎖したならば、給気ファ
ン10と排気ファン14とを停止する。
(8)最後に、処理済みの被処理部Wを撤去する。
以上の手順により被処理物Wの出入れ操作等を行うの
で、そのとき被処理物Wは、清浄空気aの上昇による円
筒状の気流幕に包囲されているため、発生した粉塵や熱
気は、清浄空気Aの下流に拡散することがなく吸込口8
から作業室2外へ排出されてしまい、たとえ当該縦型炉
の下流において、他の被処理物Wが設定準備中であって
も汚染されることはない。
次に示す第2図は、横吹出横吸込型クリーンルーム21
の作業室22に、清浄空気Aの流れ方向に沿って床22Fに
3基の機器又はKa,Kb,Kcを配設した場合の構成を示した
もので、それぞれに給気筒7a,7b,7cを取り付け、特別給
気系統13a,13b,13cと天井22Tに穿設した吸込口8a,8b,8c
にそれぞれ接続する排気系統16a,16b,16cとを組み合わ
せて清浄室装置が構成されている。したがって各機器又
は装置Ka,Kb,Kcごと独立して特別の給排気を行わせるこ
とにより、前述のクリーンルーム1の場合と同様の効果
を得ることができる。
次に、第2実施例を第3図および第4図に基づいて説
明する。
本第2実施例は、床面吹出天井面吸込型クリーンルー
ムに清浄室装置を適用したものである。
機器又は装置Kを1基設置した場合の構成を示す第3
図において、31は、床面吹出天井面吸込型クリーンルー
ム、32は、該クリーンルーム31内に、多数の給気孔32Fk
を有する床32Fと、多数の排気孔32Tkを有する天井32Tと
に区画された作業室、34は、前記クリーンルーム31の給
気側に設けられたプレナムチャンバ33と床32Fとの間に
介在するHEPAフィルタ、36は、天井32T上に区画された
リターンチャンバで、排気Eを送風ファンFsへ循環させ
るリターンダクトEdを接続している。
7は、床32Fに設置された1基の機器又は装置Kの側
面から上方へ向かってリング状の開口7kを有する給気
筒、8は、前記天井32Tの該給気筒7に対向する位置に
設けられた吸込口である。
そして、外気の給気系統と空気循環系統は、従来とほ
ぼ同様に構成されており、特別給気系統37は、給気ダク
トAdから分岐して給気ファン10により給気を更に加圧し
て給気筒7から清浄空気aを清浄空気Aよりも速い上昇
気流で吹き出すようにしており、一方、排気系統は、第
1実施例の排気系統16と同様に構成してある。
また、第4図は、床面吹出天井面吸込型クリーンルー
ム41に清浄室装置を適用したもので、3基の機器又は装
置Ka,kb,Kcを作業室42の床42Fに配設した場合の構成を
示している。
各機器又は装置Ka,Kb,Kcごとに第2図の場合と同様の
特別給気系統13a,13b,13cと給気筒7a,7b,7cとを取り付
け、作業室42の天井42T裏に吸込口8a,8b,8cを設け、そ
れぞれに排気系統16a,16b,16cを設け、それぞれに排気
系統16a,16b,16cを組み合わせて清浄室装置を構成した
ものである。
本第2実施例は、叙上の構成としてあるので、作用及
び効果は第1実施例とほぼ同様であるため、その説明は
省略する。
なお、両実施例とも、給気筒7から清浄空気aを吹き
出すのは、常時行う場合と、必要のときだけ間欠的に吹
く場合とがあり、また、排気系統16へ導いた粉塵や熱気
を含む排気eをそのまま外部へ排出する場合と、所要の
配管を施して送風ファンFsへ戻し循環させる場合とがあ
る。
さらに、配設される機器又は装置Kは、1基以上の基
数に対してすべて適用することのできるのは、いうまで
もない。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、作業室に配設された機
器又は装置の外周を囲んで上方へ開口した給気筒を設
け、加速した清浄空気を筒状の上昇気流として吹き出さ
せるとともに、前記給気筒の直上にそれぞれ吹込口を設
け、被処理物から発生する粉塵や熱気を包み込んで作業
室外へ排出する構成としたため、粉塵や熱気が作業室内
の他の区域に拡散することがないので、随時随所の機器
又は装置における被処理物の取出し、あるいは設定作業
を行っても被処理物を汚染することがないばかりか、室
内空気の清浄度低下を防止し、作業効率と被処理物の品
質との向上を図ることができ、また、HEPAフィルタの寿
命延長にも寄与させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の第1実施例である清浄室装置を横吹
出横吸込型クリーンルームに機器又は装置1基を設置し
た場合に適用した構成図、第2図は、同じく機器又は装
置3基を配設した場合に適用した構成図、第3図は、第
2実施例を床面吹出天井面吸込型クリーンルームに適用
した第1図相当図、第4図は、同じく第2図相当図、第
5図は、従来の横吹出吸込型クリーンルーム装置の構成
図、第6図は、同じくクリーンルームの平面図である。 1,21,31,41……クリーンルーム 2F,22F,32F,42F……床 2T,22T,32T,42T……天井 7……給気筒 7k……開口 8……吸込口 K……機器又は装置 a……清浄空気

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】クリーンルームにおいて、床面に配設され
    た装置又は機器の外周を囲み、その装置又は機器の側面
    から上方に向かって開口を有し、清浄空気を上方へ吹出
    し可能な給気筒を設け、該給気筒に対向した天井の位置
    に排気する吸込口を穿設したことを特徴とする清浄室装
    置。
JP62045188A 1987-03-02 1987-03-02 清浄室装置 Expired - Lifetime JPH0820091B2 (ja)

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JPS63213736A JPS63213736A (ja) 1988-09-06
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JP4721671B2 (ja) * 2004-08-03 2011-07-13 トヨタ自動車株式会社 排気システム及び排気方法
JP5677189B2 (ja) * 2011-05-10 2015-02-25 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 空調設備

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JPS54147647A (en) * 1978-05-12 1979-11-19 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd Exhaust hood
JPS61186747A (ja) * 1985-02-13 1986-08-20 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd クリ−ンル−ム

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