JPH08198850A - １，８−複素環置換ナフタレン化合物及びその製造方法 - Google Patents
１，８−複素環置換ナフタレン化合物及びその製造方法Info
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- JPH08198850A JPH08198850A JP7030209A JP3020995A JPH08198850A JP H08198850 A JPH08198850 A JP H08198850A JP 7030209 A JP7030209 A JP 7030209A JP 3020995 A JP3020995 A JP 3020995A JP H08198850 A JPH08198850 A JP H08198850A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 新規な含窒素複素環化合物を提供する。
【構成】 一般式（Ｉ）で表わされる化合物ならびにそ
の製造方法。 （Ｒ1 〜Ｒ6 は各々水素、置換基であり、Ａ1 、Ａ2 は
各々ピリジン環、ピリジニウム環である。）
の製造方法。 （Ｒ1 〜Ｒ6 は各々水素、置換基であり、Ａ1 、Ａ2 は
各々ピリジン環、ピリジニウム環である。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な含窒素複素環化合
物及びその製造方法に関するものであり、特にナフタレ
ンの１，８位にピリジン環またはピリジニウム環が連結
された含窒素複素環化合物に関するものである。
物及びその製造方法に関するものであり、特にナフタレ
ンの１，８位にピリジン環またはピリジニウム環が連結
された含窒素複素環化合物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】含窒素複素環化合物はそれ自身ＵＶ吸収
剤、染料、医薬品、農薬、キレート剤、添加剤などとし
て有用であるばかりでなく、各種機能性化合物（シアニ
ン色素、染料、医薬品、農薬、機能性材料など）の合成
中間体として重要である。特にビス型含窒素複素環化合
物は新しい機能を発現する素材として注目されている。
しかし、ナフタレン１，８位へ含窒素６員複素環である
ピリジン環あるいはピリジニウム環を導入した化合物は
従来知られていない。
剤、染料、医薬品、農薬、キレート剤、添加剤などとし
て有用であるばかりでなく、各種機能性化合物（シアニ
ン色素、染料、医薬品、農薬、機能性材料など）の合成
中間体として重要である。特にビス型含窒素複素環化合
物は新しい機能を発現する素材として注目されている。
しかし、ナフタレン１，８位へ含窒素６員複素環である
ピリジン環あるいはピリジニウム環を導入した化合物は
従来知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題はナフタ
レン１，８位へ含窒素複素環化合物を連結した化合物及
びその製造方法を提供することである。
レン１，８位へ含窒素複素環化合物を連結した化合物及
びその製造方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題は、下記一般式
（Ｉ）で表わされる化合物により達成された。 一般式（Ｉ）
（Ｉ）で表わされる化合物により達成された。 一般式（Ｉ）
【０００５】
【化３】
【０００６】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及
びＲ6 は各々水素原子または置換基を表わす。Ａ1 及び
Ａ2 は各々ピリジン環またはピリジニウム環を表わ
す。）
びＲ6 は各々水素原子または置換基を表わす。Ａ1 及び
Ａ2 は各々ピリジン環またはピリジニウム環を表わ
す。）
【０００７】以下、一般式（Ｉ）で表わされる化合物に
ついて詳細に説明する。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5
及びＲ6 は各々水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基
［例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル基などであり、さら
に置換されていてもよい。前記アルキル基は好ましくは
炭素数１〜４の低級アルキル基である。置換基として
は、例えば、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ
素、フッ素原子）、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、
メトキシ、エトキシ）、アリーロキシ基（例えば、フェ
ノキシ）、アミド基、アルキニル基、アルケニル基、カ
ルバモイル基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基
などがあげられる。以下、置換基群Ｘという。］、炭素
数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、１−ナフ
チル、２−ナフチルなどであり、置換されていてもよ
い。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげられ
る。）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−プロポキシなどで
あり、置換されていてもよい。置換基としては上記の置
換基群Ｘがあげられる。）、炭素数６〜２０のアリーロ
キシ基（例えばフェノキシ、１−ナフトキシ、２−ナフ
トキシなどであり、置換されていてもよい。置換基とし
ては上記置換基群Ｘがあげられる。）、カルボキシ基、
スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子（例
えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である。）、炭素数
２〜２０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、フェノキシカルボニ
ル、ベンジルカルボニルなどであり、置換されていても
よい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげられ
る。）、炭素数１〜２０のアシルオキシ基（例えば、ア
セチルオキシ、プロピオニルオキシなどであり、置換さ
れていてもよい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあ
げられる。）、炭素数１〜２０のアシル基（例えば、ア
セチル、プロピオニル、ベンゾイル、メチルなどであ
り、置換されていてもよい。置換基としては上記の置換
基群Ｘがあげられる。）、炭素数１〜２０のカルバモイ
ル基（例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル、モルホリノカルバモイルなどであり、置換され
ていてもよい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげ
られる。）、炭素数１〜２０のアルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、エチルチオなどであり、置換されてい
てもよい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげられ
る。）である。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6
として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アリール基であり、特に好ましくは水素原子であ
る。
ついて詳細に説明する。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5
及びＲ6 は各々水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基
［例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル基などであり、さら
に置換されていてもよい。前記アルキル基は好ましくは
炭素数１〜４の低級アルキル基である。置換基として
は、例えば、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ
素、フッ素原子）、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、
メトキシ、エトキシ）、アリーロキシ基（例えば、フェ
ノキシ）、アミド基、アルキニル基、アルケニル基、カ
ルバモイル基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基
などがあげられる。以下、置換基群Ｘという。］、炭素
数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、１−ナフ
チル、２−ナフチルなどであり、置換されていてもよ
い。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげられ
る。）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−プロポキシなどで
あり、置換されていてもよい。置換基としては上記の置
換基群Ｘがあげられる。）、炭素数６〜２０のアリーロ
キシ基（例えばフェノキシ、１−ナフトキシ、２−ナフ
トキシなどであり、置換されていてもよい。置換基とし
ては上記置換基群Ｘがあげられる。）、カルボキシ基、
スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子（例
えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である。）、炭素数
２〜２０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、フェノキシカルボニ
ル、ベンジルカルボニルなどであり、置換されていても
よい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげられ
る。）、炭素数１〜２０のアシルオキシ基（例えば、ア
セチルオキシ、プロピオニルオキシなどであり、置換さ
れていてもよい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあ
げられる。）、炭素数１〜２０のアシル基（例えば、ア
セチル、プロピオニル、ベンゾイル、メチルなどであ
り、置換されていてもよい。置換基としては上記の置換
基群Ｘがあげられる。）、炭素数１〜２０のカルバモイ
ル基（例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル、モルホリノカルバモイルなどであり、置換され
ていてもよい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげ
られる。）、炭素数１〜２０のアルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、エチルチオなどであり、置換されてい
てもよい。置換基としては上記の置換基群Ｘがあげられ
る。）である。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6
として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アリール基であり、特に好ましくは水素原子であ
る。
【０００８】Ａ1 およびＡ2 は各々炭素数１〜２０のピ
リジン環（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−
ピリジルであり、置換されていてもよい。置換基として
は炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルなど）、炭素数６〜２０
のアリール基（例えば、フェニル、１−ナフチル、２−
ナフチルなど）あるいは上記の置換基群Ｘがあげられ
る。置換基としてはアルキル基、ハロゲン原子、アルキ
ルチオ基が好ましい。置換されたピリジン環としては例
えば、２−（３−メチル）ピリジル、３−（２−メチ
ル）ピリジル、４−（２−メチル）ピリジル、２−（４
−エチル）ピリジル、３−（２−ブチル）ピリジル、４
−（３−プロピル）ピリジル、２−（３−クロロ）ピリ
ジル、３−（２−クロロ）ピリジル、４−（２−クロ
ロ）ピリジル、２−（３−ブロモ）ピリジル、３−（４
−ブロモ）ピリジル、２−（５−ヨード）ピリジル、２
−（３−メチルチオ）ピリジル、３−（２−メチルチ
オ）ピリジル、４−（２−エチルチオ）ピリジルなどが
あげられる。）または炭素数１〜２０のピリジニウム環
（例えば、２−（１−ヒドロキシ）ピリジニウム、３−
（１−ヒドロキシ）ピリジニウム、４−（１−ヒドロキ
シ）ピリジニウム、２−（１−メチル）ピリジニウム、
３−（１−メチル）ピリジニウム、４−（１−メチル）
ピリジニウム、２−（１−フェニル）ピリジニウム、３
−（１−フェニル）ピリジニウム、４−（１−フェニ
ル）ピリジニウムであり、置換されていてもよい。置換
基としては炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルなど）、炭素数
６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、１−ナフチ
ル、２−ナフチルなど）あるいは上記の置換基群Ｘがあ
げられる。置換基としてはアルキル基、ハロゲン原子、
アルキルチオ基が好ましい。） 好ましい置換基としては、メチル基、エチル基、塩素原
子、臭素原子、メチルチオ基、エチルチオ基、スルホ基
などがあげられる。
リジン環（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−
ピリジルであり、置換されていてもよい。置換基として
は炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルなど）、炭素数６〜２０
のアリール基（例えば、フェニル、１−ナフチル、２−
ナフチルなど）あるいは上記の置換基群Ｘがあげられ
る。置換基としてはアルキル基、ハロゲン原子、アルキ
ルチオ基が好ましい。置換されたピリジン環としては例
えば、２−（３−メチル）ピリジル、３−（２−メチ
ル）ピリジル、４−（２−メチル）ピリジル、２−（４
−エチル）ピリジル、３−（２−ブチル）ピリジル、４
−（３−プロピル）ピリジル、２−（３−クロロ）ピリ
ジル、３−（２−クロロ）ピリジル、４−（２−クロ
ロ）ピリジル、２−（３−ブロモ）ピリジル、３−（４
−ブロモ）ピリジル、２−（５−ヨード）ピリジル、２
−（３−メチルチオ）ピリジル、３−（２−メチルチ
オ）ピリジル、４−（２−エチルチオ）ピリジルなどが
あげられる。）または炭素数１〜２０のピリジニウム環
（例えば、２−（１−ヒドロキシ）ピリジニウム、３−
（１−ヒドロキシ）ピリジニウム、４−（１−ヒドロキ
シ）ピリジニウム、２−（１−メチル）ピリジニウム、
３−（１−メチル）ピリジニウム、４−（１−メチル）
ピリジニウム、２−（１−フェニル）ピリジニウム、３
−（１−フェニル）ピリジニウム、４−（１−フェニ
ル）ピリジニウムであり、置換されていてもよい。置換
基としては炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルなど）、炭素数
６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、１−ナフチ
ル、２−ナフチルなど）あるいは上記の置換基群Ｘがあ
げられる。置換基としてはアルキル基、ハロゲン原子、
アルキルチオ基が好ましい。） 好ましい置換基としては、メチル基、エチル基、塩素原
子、臭素原子、メチルチオ基、エチルチオ基、スルホ基
などがあげられる。
【０００９】好ましい置換基の組合せとしては、Ｒ1 〜
Ｒ6 が水素原子、Ａ1 及びＡ2 が各々ピリジン環または
ピリジニウム環である場合である。また、Ｒ1 〜Ｒ6 又
はＡ1 とＡ2 は互いに同じでも異なっていてもよい。
Ｒ6 が水素原子、Ａ1 及びＡ2 が各々ピリジン環または
ピリジニウム環である場合である。また、Ｒ1 〜Ｒ6 又
はＡ1 とＡ2 は互いに同じでも異なっていてもよい。
【００１０】以下に本発明の一般式（Ｉ）で表わされる
化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるも
のではない。
化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるも
のではない。
【００１１】
【化４】
【００１２】
【化５】
【００１３】
【化６】
【００１４】本発明の化合物はパラジウム触媒カップリ
ング反応を利用して製造することができる。特に、下記
式で表わされる製造方法が有効である。
ング反応を利用して製造することができる。特に、下記
式で表わされる製造方法が有効である。
【００１５】
【化７】
【００１６】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ａ1 及びＡ2 は前記のものと同義であり、Ｘは脱
離基、Ｒ7 はアルキル基を表わす。） 以下、Ｘ、Ｒ7 及び反応条件を詳細に説明する。Ｘは脱
離基を表わす。脱離基とは、Ｊｅｒｒｙ Ｍａｒｃｈ
著、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ−Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，ｍｅｃｈａｎｉｓｍｓ，
ａｎｄ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ−、Ｔｈｉｒｄ Ｅｄｉｔ
ｉｏｎ、１７９頁、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社
（１９８５年）に定義されているものを表し、具体的に
は同著、３１０〜３１６頁、４６６頁、５７７頁、８９
５頁に記載されているものが挙げられ、例えばハロゲン
原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子）、炭素数１〜
２０のアルキルスルホネート（例えば、メチルスルホネ
ート、トリフルオロメタンスルホネートなど）あるいは
炭素数６〜２０のアリールスルホネート（例えば、パラ
トルエンスルホネートなど）が挙げられる。好ましくは
ハロゲン原子およびアルキルスルホネート基であり、臭
素原子、ヨウ素原子およびトリフルオロメタンスルホネ
ート基である。
Ｒ6 、Ａ1 及びＡ2 は前記のものと同義であり、Ｘは脱
離基、Ｒ7 はアルキル基を表わす。） 以下、Ｘ、Ｒ7 及び反応条件を詳細に説明する。Ｘは脱
離基を表わす。脱離基とは、Ｊｅｒｒｙ Ｍａｒｃｈ
著、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ−Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，ｍｅｃｈａｎｉｓｍｓ，
ａｎｄ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ−、Ｔｈｉｒｄ Ｅｄｉｔ
ｉｏｎ、１７９頁、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社
（１９８５年）に定義されているものを表し、具体的に
は同著、３１０〜３１６頁、４６６頁、５７７頁、８９
５頁に記載されているものが挙げられ、例えばハロゲン
原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子）、炭素数１〜
２０のアルキルスルホネート（例えば、メチルスルホネ
ート、トリフルオロメタンスルホネートなど）あるいは
炭素数６〜２０のアリールスルホネート（例えば、パラ
トルエンスルホネートなど）が挙げられる。好ましくは
ハロゲン原子およびアルキルスルホネート基であり、臭
素原子、ヨウ素原子およびトリフルオロメタンスルホネ
ート基である。
【００１７】Ｒ7 は炭素数１〜２０のアルキル基（例え
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルなどで
あり、置換されていてもよい。置換基としては上記の置
換基群Ｘがあげられる。）である。好ましいＲ7 は、メ
チル基およびｎ−ブチル基である。
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルなどで
あり、置換されていてもよい。置換基としては上記の置
換基群Ｘがあげられる。）である。好ましいＲ7 は、メ
チル基およびｎ−ブチル基である。
【００１８】パラジウム触媒は０価または２価のもので
もよく、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、テトラキス
トリフェニルホスフィンパラジウム、ビストリフェニル
ホスフィンパラジウムジクロライド、ビスベンゾニトリ
ルパラジウムジクロライド、ビスジフェニルホスフィノ
エタノパラジウムジクロライド、ビスジフェニルホスフ
ィノプロパノパラジウムジクロライド、ジフェニルホス
フィンフェロセノパラジウムジクロライドなどが挙げら
れる。パラジウム触媒の配位子としてＰ化合物あるいは
Ａｓ化合物を添加することもできる。配位子としては、
トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィンおよび
トリフリルホスフィンなどが挙げられる。好ましいパラ
ジウム触媒は酢酸パラジウム、テトラキストリフェニル
ホスフィンパラジウム、ビスジフェニルホスフィノフェ
ロセノパラジウムジクロライドである。パラジウム触媒
の量は特に制限はないが、ナフタレン化合物に対して
０．０１モル％から１００モル％の範囲で使用すること
ができ、好ましくは０．０５モル％から２０モル％の範
囲であり、特に好ましくは１モル％から５モル％の範囲
である。
もよく、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、テトラキス
トリフェニルホスフィンパラジウム、ビストリフェニル
ホスフィンパラジウムジクロライド、ビスベンゾニトリ
ルパラジウムジクロライド、ビスジフェニルホスフィノ
エタノパラジウムジクロライド、ビスジフェニルホスフ
ィノプロパノパラジウムジクロライド、ジフェニルホス
フィンフェロセノパラジウムジクロライドなどが挙げら
れる。パラジウム触媒の配位子としてＰ化合物あるいは
Ａｓ化合物を添加することもできる。配位子としては、
トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィンおよび
トリフリルホスフィンなどが挙げられる。好ましいパラ
ジウム触媒は酢酸パラジウム、テトラキストリフェニル
ホスフィンパラジウム、ビスジフェニルホスフィノフェ
ロセノパラジウムジクロライドである。パラジウム触媒
の量は特に制限はないが、ナフタレン化合物に対して
０．０１モル％から１００モル％の範囲で使用すること
ができ、好ましくは０．０５モル％から２０モル％の範
囲であり、特に好ましくは１モル％から５モル％の範囲
である。
【００１９】反応溶媒は、有機溶媒均一系あるいは有機
溶媒−水２相系でもよく、好ましい有機溶媒としてはジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニ
トリル、トルエンなどが挙げられる。好ましい２相系と
しては、トルエン−水が好ましい。特に好ましい反応溶
媒はジメチルホルムアミド、トルエン−水である。
溶媒−水２相系でもよく、好ましい有機溶媒としてはジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニ
トリル、トルエンなどが挙げられる。好ましい２相系と
しては、トルエン−水が好ましい。特に好ましい反応溶
媒はジメチルホルムアミド、トルエン−水である。
【００２０】反応系に塩基を添加してもよい。塩基とし
ては無機塩基あるいは有機塩基でもよく、好ましい塩基
としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエ
チルアミンあるいはジアザビシクロウンデセン（ＤＢ
Ｕ）などが挙げられる。
ては無機塩基あるいは有機塩基でもよく、好ましい塩基
としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエ
チルアミンあるいはジアザビシクロウンデセン（ＤＢ
Ｕ）などが挙げられる。
【００２１】反応温度は、２０℃以上１８０℃以下が好
ましく、特に好ましくは１００〜１５０℃の範囲であ
る。
ましく、特に好ましくは１００〜１５０℃の範囲であ
る。
【００２２】反応時間は１時間以上３０時間以下が好ま
しく、特に好ましくは２〜１６時間の範囲である。
しく、特に好ましくは２〜１６時間の範囲である。
【００２３】
【実施例】次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説
明する。 実施例１（化合物２の合成）
明する。 実施例１（化合物２の合成）
【００２４】
【化８】
【００２５】原料（１）１．４ｇ及び原料（２）２．３
ｇをテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム［Ｐ
ｄ（ＰＰｈ3 ）4 ］０．２ｇ（５ｍｍｏｌ％）存在下ジ
メチルホルムアミド中で４時間加熱還流させ、反応液を
冷却後、アンモニア水を加えた。塩化メチレンで有機物
を抽出し、乾燥後、減圧下溶媒留去した。残さをアルミ
ナクロマトグラフィー（溶離液＝ヘキサン：酢酸エチル
エステル）により精製し、目的化合物（２）０．５５ｇ
を得た。 融点１６４℃ λｍａｘ＝２９８ｎｍ（ε＝１１８００）（ＭｅＯＨ） ＩＲ（ＫＢｒ）３０５０，１５８０，１５６０，１５０
０，１４８０，１４３０，１４１０，１３７０，１３２
０，１１８５，１１００，１０２０，８８０，８３５，
８００，７８０，７２０ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ6.8 〜7.0 (m，2H），7.1
〜7.3 (m，2H），7.40（d ,2H ,J=7Hz），7.62（t ,2H
，J=7Hz ），8.08（d,2H,J=7Hz），8.28（dd，2H，J=4
，1Hz ），8.28〜8.4 (m，2H） 実施例２（化合物５の合成）
ｇをテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム［Ｐ
ｄ（ＰＰｈ3 ）4 ］０．２ｇ（５ｍｍｏｌ％）存在下ジ
メチルホルムアミド中で４時間加熱還流させ、反応液を
冷却後、アンモニア水を加えた。塩化メチレンで有機物
を抽出し、乾燥後、減圧下溶媒留去した。残さをアルミ
ナクロマトグラフィー（溶離液＝ヘキサン：酢酸エチル
エステル）により精製し、目的化合物（２）０．５５ｇ
を得た。 融点１６４℃ λｍａｘ＝２９８ｎｍ（ε＝１１８００）（ＭｅＯＨ） ＩＲ（ＫＢｒ）３０５０，１５８０，１５６０，１５０
０，１４８０，１４３０，１４１０，１３７０，１３２
０，１１８５，１１００，１０２０，８８０，８３５，
８００，７８０，７２０ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ6.8 〜7.0 (m，2H），7.1
〜7.3 (m，2H），7.40（d ,2H ,J=7Hz），7.62（t ,2H
，J=7Hz ），8.08（d,2H,J=7Hz），8.28（dd，2H，J=4
，1Hz ），8.28〜8.4 (m，2H） 実施例２（化合物５の合成）
【００２６】
【化９】
【００２７】原料（３）０．３ｇ及び原料（４）０．３
ｇをジフェニルホスフィンフェロセノパラジウムジクロ
ライド［Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ2 ］４０ｍｇの存在下ジ
メチルホルムアミド中で３時間加熱還流させ、反応液を
冷却後、アンモニア水を加えた。塩化メチレンで有機物
を抽出し、乾燥後、減圧下溶媒留去した。残さをアルミ
ナクロマトグラフィーにより精製し、目的化合物（５）
０．１８ｇを得た。 融点１４１℃ λｍａｘ＝３０６ｎｍ（ε＝１１５００）（ＭｅＯＨ） ＩＲ（ＫＢｒ）３０５０，１９３０，１６０２，１５４
２，１５１０，１４５０，１４０２，１３４０，１２９
０，１２６０，１１２０，１０２０，８８０，８４０，
８００，７８０ｃｍ-1 実施例３（化合物１７の合成）
ｇをジフェニルホスフィンフェロセノパラジウムジクロ
ライド［Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ2 ］４０ｍｇの存在下ジ
メチルホルムアミド中で３時間加熱還流させ、反応液を
冷却後、アンモニア水を加えた。塩化メチレンで有機物
を抽出し、乾燥後、減圧下溶媒留去した。残さをアルミ
ナクロマトグラフィーにより精製し、目的化合物（５）
０．１８ｇを得た。 融点１４１℃ λｍａｘ＝３０６ｎｍ（ε＝１１５００）（ＭｅＯＨ） ＩＲ（ＫＢｒ）３０５０，１９３０，１６０２，１５４
２，１５１０，１４５０，１４０２，１３４０，１２９
０，１２６０，１１２０，１０２０，８８０，８４０，
８００，７８０ｃｍ-1 実施例３（化合物１７の合成）
【００２８】
【化１０】
【００２９】化合物（５）５０ｍｇとＭｅＩ１．８ｇを
３０分間加熱環流させ、反応液を冷却後、ヘキサン５ｍ
ｌを加え、析出した粗結晶をろ別した。得られた粗結晶
は逆相分取クロマトグラフィーにより精製し、目的化合
物（１７）を得た。 λｍａｘ＝３４８ｎｍ（ε＝８１００）（ＭｅＯＨ） 実施例４（化合物１８の合成）
３０分間加熱環流させ、反応液を冷却後、ヘキサン５ｍ
ｌを加え、析出した粗結晶をろ別した。得られた粗結晶
は逆相分取クロマトグラフィーにより精製し、目的化合
物（１７）を得た。 λｍａｘ＝３４８ｎｍ（ε＝８１００）（ＭｅＯＨ） 実施例４（化合物１８の合成）
【００３０】
【化１１】
【００３１】化合物（５）５０ｍｇとＭｅＩ０．３６ｇ
をジメチルホルムアミド中２時間加熱還流させ、反応液
を冷却後、ヘキサン２ｍｌを加え、析出した結晶をろ別
し目的化合物（１８）８６ｍｇを得た。 融点 λｍａｘ＝３５６ｎｍ（ε＝１４６００）（ＭｅＯＨ）
をジメチルホルムアミド中２時間加熱還流させ、反応液
を冷却後、ヘキサン２ｍｌを加え、析出した結晶をろ別
し目的化合物（１８）８６ｍｇを得た。 融点 λｍａｘ＝３５６ｎｍ（ε＝１４６００）（ＭｅＯＨ）
【００３２】参考例１．ゼラチン濃度７０ｇ／Ｌのゼラ
チン水溶液５０ｇに４０℃で、本発明の化合物（２）あ
るいは比較化合物の０．０００５ｍｏｌ／Ｌメタノール
溶液を加え調製した溶液５ｍｌを、ポリエチレンテレフ
タレート基板上に円形に塗布し、基板上のゼラチン濃度
を３０ｍｇ／ｍ2 にする。これを２５℃６０ＲＨで１２
時間乾燥し、ゼラチン乾膜（１および２）を得た。この
ゼラチン乾膜のＵＶ可視吸収スペクトルを日立製ＵＶ−
３１００にて測定した。２６０ｎｍより長波長成分にお
ける吸収強度を横軸（ｅＶ）に対して積分し、その積分
比Ｓ（Ｓ＝ゼラチン膜１の値／ゼラチン膜２の値）を求
めたところ、Ｓ＝１．４２となった。
チン水溶液５０ｇに４０℃で、本発明の化合物（２）あ
るいは比較化合物の０．０００５ｍｏｌ／Ｌメタノール
溶液を加え調製した溶液５ｍｌを、ポリエチレンテレフ
タレート基板上に円形に塗布し、基板上のゼラチン濃度
を３０ｍｇ／ｍ2 にする。これを２５℃６０ＲＨで１２
時間乾燥し、ゼラチン乾膜（１および２）を得た。この
ゼラチン乾膜のＵＶ可視吸収スペクトルを日立製ＵＶ−
３１００にて測定した。２６０ｎｍより長波長成分にお
ける吸収強度を横軸（ｅＶ）に対して積分し、その積分
比Ｓ（Ｓ＝ゼラチン膜１の値／ゼラチン膜２の値）を求
めたところ、Ｓ＝１．４２となった。
【００３３】
【化１２】
【００３４】以上の結果より、本発明化合物は比較化合
物より塗布膜吸収が増加していることがわかる。この吸
収率向上の理由は、ピリジン環同士の相互作用に基づく
ものと考えられ、従来にない現象と考えられる。
物より塗布膜吸収が増加していることがわかる。この吸
収率向上の理由は、ピリジン環同士の相互作用に基づく
ものと考えられ、従来にない現象と考えられる。
【００３５】
【発明の効果】本発明により、光吸収強度が高い含窒素
複環化合物を提供することができる。
複環化合物を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 213/70 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物。 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は各々
水素原子または置換基を表わす。Ａ1 及びＡ2 は各々ピ
リジン環またはピリジニウム環を表わす。） - 【請求項２】 対応のナフタレン化合物の１，８位をピ
リジンもしくはピリジニウム化合物と、パラジウム触媒
の存在下でカップリング反応させることを特徴とする請
求項１記載の一般式（Ｉ）で表わされる化合物の製造方
法。 - 【請求項３】 下記式に従い、ナフタレン化合物とピリ
ジンもしくはピリジニウム化合物とを反応させることを
特徴とする請求項２記載の一般式（Ｉ）で表わされる化
合物の製造方法。 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ａ1 及
びＡ2 は請求項１に記載のものと同義であり、Ｘは脱離
基、Ｒ7 はアルキル基を表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7030209A JPH08198850A (ja) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | １，８−複素環置換ナフタレン化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7030209A JPH08198850A (ja) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | １，８−複素環置換ナフタレン化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08198850A true JPH08198850A (ja) | 1996-08-06 |
Family
ID=12297349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7030209A Pending JPH08198850A (ja) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | １，８−複素環置換ナフタレン化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08198850A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010116483A (ja) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Ricoh Co Ltd | エレクトロクロミック化合物とこれを担持したエレクトロクロミック組成物およびこれらを有する表示素子 |
-
1995
- 1995-01-27 JP JP7030209A patent/JPH08198850A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010116483A (ja) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Ricoh Co Ltd | エレクトロクロミック化合物とこれを担持したエレクトロクロミック組成物およびこれらを有する表示素子 |
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