JPH08181158A - 真空吸引装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】ダイシング工程で切断された半導体チップをリ
ードフレーム上に移設するダイボンド工程の際精度よく
半導体チップを傷つけることなく確実に作業できる構造
のコレットを持つ真空吸引装置の提供。 【構成】ワークを真空吸引して移動させる真空吸引装置
において、ワークとこのワークを吸引するコレットの開
口部全面に多孔質シートを介在させる又はワークとこの
ワークを吸引するコレットの開口部との間に多孔質シー
トを介在させ、この多孔質シートがリールに巻かれた長
尺の多孔質シートから供給されワークとコレットの先端
の開口部との間を通りこの多孔質シートの巻取り手段で
あるリールまで移送する機構を備えた真空吸引装置に係
り、多孔質シートが、分子量５０万以上の超高分子量ポ
リエチレンからなる真空吸引装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は真空吸引装置に関し、よ
り詳しくは、ダイシング工程で切断された半導体チップ
をリードフレーム上に移設するダイボンド工程の際精度
よく半導体チップを傷つけることなく確実に作業できる
構造のコレットを持つ真空吸引装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体の製造、組立工程は以下
の如く行われる。半導体の回路パターンが形成されたチ
ップが整然と縦横に並ぶ、ウェハ工程、検査工程を経た
ＬＳＩウェハは、次にダイシング工程に付される。ダイ
シング工程では、このウエハを粘着剤の付いたプラスチ
ックフィルムの上に貼りつけ、ダイシングソーで切り溝
を入れ、次いで、プラスチックフィルムを治具を用いて
引き伸ばし、チップが一定間隔だけ離れて整然と並び、
一つ一つのチップが容易に取れる様にされる。次に、パ
ツケージ工程に付される。即ち、これらのチップを個々
を、それぞれリードフレーム中央のダイパッドに移設
し、銀ペーストにより接着するダイボンド工程を行い、
次に、チップのボンディングパッドとリードフレームを
エポキシ樹脂でモールドし、その後、リードを所定の長
さに切断し、折り曲げると製品の形態ができあがる。こ
のような半導体の組立工程のダイボンド工程で、半導体
チップをリードフレームへ移設する際に、真空吸引装置
が用いられる。図３乃至図４は、それぞれチップＡをコ
レットＢ及びコレットＣが吸引している状態を断面で説
明する図面で、従来、ダイボンド工程で使用する真空吸
引装置には、図３に示すような平面丸型コレットＢ又は
図４に示すような角錐型コレットＣが汎用されていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】この様な真空吸引装置
の内、平面丸型コレットＢは直径の異なった部品を数種
類そろえるだけでチップＡの全種類に対応でき、更に、
メンテナンスも容易である等の利点を有する反面、チッ
プＡ表面とコレットＢの先端が直接接触するために、チ
ップＡの表面に圧迫傷が発生するという問題があった。
また、角錐型コレットＣは、チップＡの側面とコレット
Ｃの内側面が直接接触するため、チップＡ表面の圧迫傷
の発生は無いものの、チップサイズ毎にコレットが必要
となり作業が煩雑となる欠点が有った。そのうえ、角錐
型コレットＣはボンディングに用いるロー材がコレット
の先端部周辺に付着しやすく、この付着したロー材がチ
ップＡに付着し、この付着によりチップＡが不良となり
チップＡひいては半導体素子を損傷させる等の問題があ
った。本発明は上記の様な欠点を解消するためになされ
たものであり、チップ表面に圧迫傷をつけず、チップに
ロー材が付着しない、優れたコレットを備えた真空吸引
装置を提供せんとする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたものであって、請求項１に記載の
発明に係る真空吸引装置は、ワークを真空吸引して移動
させる真空吸引装置において、ワークとこのワークを吸
引するコレットの開口部全面に多孔質シートを介在させ
たことを特徴とし、請求項２に記載の発明に係る真空吸
引装置はワークを真空吸引して移動させる真空吸引装置
において、ワークとこのワークを吸引するコレットの開
口部との間に多孔質シートを介在させ、この多孔質シー
トがリールに巻かれた長尺の多孔質シートから供給され
ワークとコレットの先端の開口部との間を通りこの多孔
質シートの巻取り手段であるリールまで移送する機構を
備えたことを特徴とし、請求項３に記載の発明は請求項
１又は請求項２記載の真空吸引装置であって、前記多孔
質シートが、分子量５０万以上の超高分子量ポリエチレ
ンからなることを特徴とするものである。

【０００５】

【作用】請求項１の真空吸引装置によれば、ワークとこ
のワークを吸引するコレットの開口部全面に多孔質シー
トを介在させているので、真空吸引力は多孔質シートを
介して十分に作用するうえ、チップ表面とコレットは接
触するにもかかわらずチップに圧迫傷をつけることがな
い。請求項２の真空吸引装置によれば、ワークとこのワ
ークを吸引するコレットの開口部との間に多孔質シート
を介在させ、この多孔質シートがリールに巻かれた長尺
の多孔質シートから供給されワークとコレットの先端の
開口部との間を通りこの多孔質シートの巻取り手段であ
るリールまで移送する機構を備えているから、真空吸引
力は多孔質シートを介して十分に作用するうえ、チップ
と接触するシート面を常時更新でき、万が一、シート面
に、塵埃が付着したり、シートが変形した場合でも、常
に新規な面がチップとの接触面に供給されるのでチップ
を傷つけることはない。しかも、いずれのコレットも多
孔質シートの材質が超高分子量ポリエチレン多孔質シー
トから成る場合には、特に機械的強度に優れ、耐久性が
良好である。

【０００６】

【実施例】以下、本発明に係る真空吸引装置の実施例に
ついて、図１及び図２に基づいて説明する。図１は本発
明による第一実施例に係る真空吸引装置をもちいて、チ
ップを吸引している状態を示す断面説明図である。１は
多孔質シートで、２は金属製平面丸型コレット、３はチ
ップである。図示する如く、金属製平面丸型コレット２
の先端部の開口部に、チップ３とコレット２との接触面
全面を覆うように多孔質シート１が接着固定され、この
多孔質シート１を介してチップ３がコレット２に吸引さ
れている。

【０００７】本発明で用いる多孔質シートとしては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオ
ロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、
ポリアミド、ポリエステル等の合成樹脂シートが好適に
使用でき、とくにこの発明においては、これら合成樹脂
シートのうち超高分子量の多孔質シートが好ましく使用
できる。超高分子量の多孔質シートとしては、超高分子
量ポリエチレン、超高分子量ポリプロピレン、超高分子
量ポリ塩化ビニル、超高分子量ポリアミド等が例示でき
る。この超高分子量ポリエチレンとは、粘度法での測定
値が約５０万以上の高分子量を有する高分子で、耐久性
及び耐磨耗性にすぐれている。この様な超高分子量ポリ
エチレン等を超高分子量の多孔質シートを調製するに
は、この特許出願人が特公平５−６６８５５号公報で既
に明らかにした方法がある。

【０００８】即ち、この既開示の方法は、超高分子量ポ
リエチレン等の粉末を金型に充填し、該ポリエチレンの
融点よりも低い温度で加熱した後加圧することにより予
備成形物を得、この予備成形物を減圧雰囲気中に置き該
成形物の空気を除去し、ついでこのポリエチレンの融点
以上に加熱された水蒸気雰囲気中で焼結した後、冷却す
る方法である。本発明に用いる超高分子量ポリエチレン
多孔質シートに、必要に応じ帯電防止処理を施せば、シ
ートに帯電した静電気によりスパークが発生したり、空
中の塵埃が吸引されることによりチップや半導体素子の
破損が無くより望ましい。尚、この発明において使用す
る多孔質シートとしては、厚さ０．０５〜０．５ｍｍ、
気孔率５〜６０％とするのが好ましいが、この発明にお
いては特に限定されるわけではない。

【０００９】図２はこの発明に係る第二実施例を示し、
図面において４は長尺でリールに巻回された多孔質シー
ト１の巻きだしリール、５は多孔質シート１の巻きだし
リール４の巻き取り用のリール、６はガイドロールであ
る。尚、図１と同様２はコレット、３はチップである。
図２で明らかな如く、この発明に係る第二実施例は、多
孔質シート１は、リールに巻かれた長尺の多孔質シート
１の巻きだしリール４から供給され、ワーク１とコレッ
ト２の先端の開口部２Ａとの間を通りこの多孔質シート
１の巻取り手段であるリール５までガイドロール６に誘
導されて移送される。

【００１０】図１及び図２において、コレット２は、図
示していない排気手段によって減圧され、発生した真空
吸引力は多孔質シート１を介してチップ３へと作用する
ことにより、チップ８は多孔質シート１に吸引される。
この発明の実施例においては、コレット２形状が角錐型
のようにチップ３端面からはみ出る形状は採用できない
が、それ以外の形状は任意に採用できる。この発明の第
一実施例及び第二実施例においては、コレット２形状に
よりコレット２にひいてはチップ３にロー材が付着する
ことは無い。

【００１１】この発明の第二実施例においては、コレッ
ト２とチップ３との接触面全面に、多孔質シート１をま
いた巻きだしリール４から多孔質シート１が供給され介
装される。巻きだしリール４又は巻取りリール５は小型
モーター等によって回転駆動可能に固定されている。巻
きだしリール４により、引き出された多孔質シート１
は、回転自在なガイドローラー６を経て、コレット２の
端面２Ａ全面を覆い、摺動しながら巻取りリール４へと
移送される。

【００１２】巻きだしリール４及び巻取りリール５を駆
動して、適宜多孔質シート１を移送することにより、チ
ップ３との接触面は常に新規な多孔質シート１の面が供
給され、チップ３の表面に形成された回路パターンを損
傷することはない。本発明は、半導体チップのダイボン
ド工程にのみ限定して適用されるもので無く、その他の
電子部品、一般部品等を移設する際の真空吸引に使用で
きる。

【００１３】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１にかかる
この発明は、ワークを真空吸引して移動させる真空吸引
装置において、ワークとこのワークを吸引するコレット
の開口部全面に多孔質シートを介在させたことを特徴と
する真空吸引装置であり、請求項２にかかるこの発明は
ワークを真空吸引して移動させる真空吸引装置におい
て、ワークとこのワークを吸引するコレットの開口部と
の間に多孔質シートを介在させ、この多孔質シートがリ
ールに巻かれた長尺の多孔質シートから供給されワーク
とコレットの先端の開口部との間を通りこの多孔質シー
トの巻取り手段であるリールまで移送する機構を備えた
ことを特徴とする真空吸引装置であり、請求項３にかか
る発明は前記多孔質シートが、分子量５０万以上の超高
分子量ポリエチレンからなることを特徴とする請求項１
又は請求項２記載の真空吸引装置であるから、次の効果
を奏する。

【００１４】即ち、請求項１の真空吸引装置によれば、
ワークとこのワークを吸引するコレットの開口部全面に
多孔質シートを介在させているので、真空吸引力は多孔
質シートを介して十分に作用するうえ、チップ表面とコ
レットは接触するにもかかわらずチップに圧迫傷をつけ
ることがなく、請求項２の真空吸引装置によれば、ワー
クとこのワークを吸引するコレットの開口部との間に多
孔質シートを介在させ、この多孔質シートがリールに巻
かれた長尺の多孔質シートから供給されワークとコレッ
トの先端の開口部との間を通りこの多孔質シートの巻取
り手段であるリールまで移送する機構を備えているか
ら、真空吸引力は多孔質シートを介して十分に作用する
うえ、チップと接触するシート面を常時更新でき、万が
一、シート面に、塵埃が付着したり、シートが変形した
場合でも、常に新規な面がチップとの接触面に供給され
るのでチップを傷つけることはない効果を持つ。しか
も、いずれのコレットも多孔質シートの材質が超高分子
量ポリエチレン多孔質シートから成る場合には、特に機
械的強度に優れ、耐久性が良好であるという効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る真空吸引装置の第１実施例の断面
説明図である。

【図２】本発明に係る真空吸引装置の第２実施例の断面
説明図である。

【図３】従来の真空吸引装置の断面説明図である。

【図４】従来の真空吸引装置の他の例の断面説明図であ
る。

【符号の説明】

１─多孔質シート ２─コレット ３─チップ ４─巻き出しリール ５─リール

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ワークを真空吸引して移動させる真空吸
   引装置において、ワークとこのワークを吸引するコレッ
   トの開口部全面に多孔質シートを介在させたことを特徴
   とする真空吸引装置。
2. 【請求項２】 ワークを真空吸引して移動させる真空吸
   引装置において、ワークとこのワークを吸引するコレッ
   トの開口部との間に多孔質シートを介在させ、この多孔
   質シートがリールに巻かれた長尺の多孔質シートから供
   給されワークとコレットの先端の開口部との間を通りこ
   の多孔質シートの巻取り手段であるリールまで移送する
   機構を備えたことを特徴とする真空吸引装置。
3. 【請求項３】 前記多孔質シートが、分子量５０万以上
   の超高分子量ポリエチレンからなることを特徴とする請
   求項１又は請求項２記載の真空吸引装置。