JPH08170907A - 画像処理測定機用の倍率校正プレート - Google Patents
画像処理測定機用の倍率校正プレートInfo
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- JPH08170907A JPH08170907A JP6314409A JP31440994A JPH08170907A JP H08170907 A JPH08170907 A JP H08170907A JP 6314409 A JP6314409 A JP 6314409A JP 31440994 A JP31440994 A JP 31440994A JP H08170907 A JPH08170907 A JP H08170907A
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- JP
- Japan
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- magnification
- calibration plate
- dark
- magnification calibration
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 画像処理測定機用の倍率校正プレートに関
し、照明光の状態により測定誤差が生じない。 【構成】 基準長さの両端Ax〜Ex,Ay〜Eyには、明
部40と暗部50の境界を成す境界部がそれぞれ形成さ
れている。
し、照明光の状態により測定誤差が生じない。 【構成】 基準長さの両端Ax〜Ex,Ay〜Eyには、明
部40と暗部50の境界を成す境界部がそれぞれ形成さ
れている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、画像処理測定機用の
倍率校正プレートに関し、特に照明光の状態により測定
誤差が生じないようにしたものである。
倍率校正プレートに関し、特に照明光の状態により測定
誤差が生じないようにしたものである。
【0002】
【従来の技術】一般的に、画像処理装置を用いてテレビ
画面内で行う寸法測定においては、画面上の座標を正し
く校正して倍率を合わせる必要がある。この校正を行う
には、所定の基準長さが予め正確に測定された倍率校正
プレートが用いられる。
画面内で行う寸法測定においては、画面上の座標を正し
く校正して倍率を合わせる必要がある。この校正を行う
には、所定の基準長さが予め正確に測定された倍率校正
プレートが用いられる。
【0003】従来、この種の倍率校正プレートとして
は、例えば直径の大きさが正確にわかっている円、ある
いは対辺の間隔が正確にわかっている方形からなるパタ
ーンを、例えばガラス等の透明基板上に形成したものが
使用されていた。上記従来の倍率校正プレートを用い、
円の直径や方形の対辺の間隔等を画像処理により測定
し、測定結果が既知の値と同じになるような補正係数を
決定する処理が行われていた。
は、例えば直径の大きさが正確にわかっている円、ある
いは対辺の間隔が正確にわかっている方形からなるパタ
ーンを、例えばガラス等の透明基板上に形成したものが
使用されていた。上記従来の倍率校正プレートを用い、
円の直径や方形の対辺の間隔等を画像処理により測定
し、測定結果が既知の値と同じになるような補正係数を
決定する処理が行われていた。
【0004】また、補正する測定する顕微鏡部分がズー
ム等の変倍機能を備えている場合には、大小の大きさの
円や正方形のパータンを有する倍率校正プレートが使用
されていた。
ム等の変倍機能を備えている場合には、大小の大きさの
円や正方形のパータンを有する倍率校正プレートが使用
されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
の倍率校正プレートでは、測定時の照明光の状態、特に
照明光の照度変化によりそのパターンの明暗の境界位置
がずれて、測定値に誤差を生じるといった第1の問題点
があった。すなわち、従来の倍率校正プレート上の画像
処理測定について、例えば図5(a)に示すように、所
定の基準長さWを有する正方形のパターンを例に挙げて
説明する。同図(a)は従来の倍率校正プレートのパタ
ーン例を示す平面図、(b)は適正な光量での検出光量
レベルの波形図、(c)は光量が減少した場合の検出光
量レベルの波形図、(d)は光量が増加した場合の検出
光量レベルの波形図をそれぞれ示す。
の倍率校正プレートでは、測定時の照明光の状態、特に
照明光の照度変化によりそのパターンの明暗の境界位置
がずれて、測定値に誤差を生じるといった第1の問題点
があった。すなわち、従来の倍率校正プレート上の画像
処理測定について、例えば図5(a)に示すように、所
定の基準長さWを有する正方形のパターンを例に挙げて
説明する。同図(a)は従来の倍率校正プレートのパタ
ーン例を示す平面図、(b)は適正な光量での検出光量
レベルの波形図、(c)は光量が減少した場合の検出光
量レベルの波形図、(d)は光量が増加した場合の検出
光量レベルの波形図をそれぞれ示す。
【0006】まず、図5(a)の正方形のパターン面の
裏側から透過照明を照らし、その表面側で検出する場
合、透過照明の光量が適正なときは、同図(b)に示す
ような検出光量の波形が得られる。そして、上記検出光
量の波形から測定値を得るには、図5(b)に破線で示
すように、その検出光量波形の波高値の中心付近を通る
ようなしきい値レベルSLを予め設定し、このしきい値
SLと検出光量波形の2つの交点を明暗の境界位置と規
定し、この境界位置の間隔A1を求めていた。
裏側から透過照明を照らし、その表面側で検出する場
合、透過照明の光量が適正なときは、同図(b)に示す
ような検出光量の波形が得られる。そして、上記検出光
量の波形から測定値を得るには、図5(b)に破線で示
すように、その検出光量波形の波高値の中心付近を通る
ようなしきい値レベルSLを予め設定し、このしきい値
SLと検出光量波形の2つの交点を明暗の境界位置と規
定し、この境界位置の間隔A1を求めていた。
【0007】境界位置の間隔A1は、透過照明の光量が
適正なときには、図5(a)に示す正方形のパターンの
基準長さWと等しくなる。これに対し、例えば透過照明
光の光量が低下した場合には、検出光量波形の波高値が
低下するが、前記しきい値レベルSLより低下しなけれ
ば測定は可能である。
適正なときには、図5(a)に示す正方形のパターンの
基準長さWと等しくなる。これに対し、例えば透過照明
光の光量が低下した場合には、検出光量波形の波高値が
低下するが、前記しきい値レベルSLより低下しなけれ
ば測定は可能である。
【0008】しかし、透過照明光の光量が低下したこと
により、パターンの明暗の境界部分での光の回折量が減
少する等の理由により、透過照明の光量低下に伴って、
一般にパターンの両側の明暗の境界位置は、図5(b)
に示すように、外側に各々Δdずつ広がることが多い。
このため、境界位置の間隔A2は、図5(a)に示す正
方形のパターンの基準長さWより短くなってしまう。し
たがって、片側で、Δdの誤差があれば、求めた測定値
には、Δdの倍の誤差が加算されこととなる。
により、パターンの明暗の境界部分での光の回折量が減
少する等の理由により、透過照明の光量低下に伴って、
一般にパターンの両側の明暗の境界位置は、図5(b)
に示すように、外側に各々Δdずつ広がることが多い。
このため、境界位置の間隔A2は、図5(a)に示す正
方形のパターンの基準長さWより短くなってしまう。し
たがって、片側で、Δdの誤差があれば、求めた測定値
には、Δdの倍の誤差が加算されこととなる。
【0009】逆に透過照明光の光量が増加した場合に
は、一般にパターンの両側の明暗の境界位置は、図5
(c)に示すように、内側に各々同程度ずつ狭まること
が多い。このため、境界位置の間隔A3は、図5(a)
に示す正方形のパターンの基準長さWより長くなってし
まう。一方、校正すべき画像処理測定機がズーム等の変
倍機構を備えている場合は、大小の違う大きさの円や方
形のパターンを幾つも用意する必要があり、変倍時に適
切な大きさの円や方形のパターンを選び、倍率校正プレ
ートをその度に移動させなければならないという第2の
問題点もある。
は、一般にパターンの両側の明暗の境界位置は、図5
(c)に示すように、内側に各々同程度ずつ狭まること
が多い。このため、境界位置の間隔A3は、図5(a)
に示す正方形のパターンの基準長さWより長くなってし
まう。一方、校正すべき画像処理測定機がズーム等の変
倍機構を備えている場合は、大小の違う大きさの円や方
形のパターンを幾つも用意する必要があり、変倍時に適
切な大きさの円や方形のパターンを選び、倍率校正プレ
ートをその度に移動させなければならないという第2の
問題点もある。
【0010】そこで、請求項1記載の発明は、上記した
従来の技術の有する第1の問題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、照明光の状態により
測定誤差が生じないようにした画像処理測定機用の倍率
校正プレートを提供しようとするものである。請求項
2,請求項3記載の発明は、上記した請求項1記載の発
明の目的に加え、上記した従来の技術の有する第2の問
題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするとこ
ろは、次の通りである。
従来の技術の有する第1の問題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、照明光の状態により
測定誤差が生じないようにした画像処理測定機用の倍率
校正プレートを提供しようとするものである。請求項
2,請求項3記載の発明は、上記した請求項1記載の発
明の目的に加え、上記した従来の技術の有する第2の問
題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするとこ
ろは、次の通りである。
【0011】すなわち、請求項2記載の発明は、プレー
ト設置時のパターンの中心位置出しが容易で、プレート
位置を移動させずに複数倍率での校正ができるようにし
たものである。請求項3記載の発明は、上記した請求項
1又は請求項2記載の発明の目的に加え、プレート設置
時のパターンの中心位置出しが容易で、プレート設置後
はプレート位置を移動させずに、方形の明暗部の2組の
対辺を使用して、縦横二方向の測定ができるようにした
ものである。
ト設置時のパターンの中心位置出しが容易で、プレート
位置を移動させずに複数倍率での校正ができるようにし
たものである。請求項3記載の発明は、上記した請求項
1又は請求項2記載の発明の目的に加え、プレート設置
時のパターンの中心位置出しが容易で、プレート設置後
はプレート位置を移動させずに、方形の明暗部の2組の
対辺を使用して、縦横二方向の測定ができるようにした
ものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記した目的
を達成するためのものであり、以下にその内容を図面に
示した実施例を用いて説明する。請求項1記載の発明
は、次のような特徴を備える。すなわち、基準長さ(A
x〜Ex,Ay〜Ey)の両端には、例えば図1に示すよう
に、明部(40)と暗部(50)との境界を成す境界部がそれぞ
れ形成されている。
を達成するためのものであり、以下にその内容を図面に
示した実施例を用いて説明する。請求項1記載の発明
は、次のような特徴を備える。すなわち、基準長さ(A
x〜Ex,Ay〜Ey)の両端には、例えば図1に示すよう
に、明部(40)と暗部(50)との境界を成す境界部がそれぞ
れ形成されている。
【0013】請求項2記載の発明は、上記した請求項1
記載の特徴に加え、次のような特徴を備える。すなわ
ち、前記基準長さ(Ax〜Ex,Ay〜Ey)の両端の境界
部を、例えば図1に示すように、同心状に複数組に配置
している。請求項3記載の発明は、上記した請求項1又
は請求項2記載の特徴に加え、次のような2つの特徴を
備える。
記載の特徴に加え、次のような特徴を備える。すなわ
ち、前記基準長さ(Ax〜Ex,Ay〜Ey)の両端の境界
部を、例えば図1に示すように、同心状に複数組に配置
している。請求項3記載の発明は、上記した請求項1又
は請求項2記載の特徴に加え、次のような2つの特徴を
備える。
【0014】第1に、前記明暗部(40,50)は、例えば図
1に示すように、大きさの異なる複数の方形を同心に配
置して形成されている。第2に、前記方形の対角線(a
−b)で、例えば図1に示すように、前記明暗部(40,5
0)を反転させている。
1に示すように、大きさの異なる複数の方形を同心に配
置して形成されている。第2に、前記方形の対角線(a
−b)で、例えば図1に示すように、前記明暗部(40,5
0)を反転させている。
【0015】
【作 用】したがって、請求項1記載の発明によれば、
基準長さ(Ax〜Ex,Ay〜Ey)の両端では、各境界部
での明暗の変化の方向が同じなので、例えば図3に示す
ように、明暗部(40,50)の相対位置関係に起因する、そ
の境界位置のズレ方向も基準長さ(Ax〜Ex,Ay〜E
y)の両端で同じとなる。
基準長さ(Ax〜Ex,Ay〜Ey)の両端では、各境界部
での明暗の変化の方向が同じなので、例えば図3に示す
ように、明暗部(40,50)の相対位置関係に起因する、そ
の境界位置のズレ方向も基準長さ(Ax〜Ex,Ay〜E
y)の両端で同じとなる。
【0016】請求項2記載の発明によれば、上記した請
求項1記載の発明の作用に加え、次のような作用を奏す
る。すなわち、境界部を、例えば図1に示すように、同
心状に配置しているので、中心位置合わせが容易であ
る。また、変倍時には、中心位置を変化させることな
く、当該倍率に適合した基準長さを有する境界部を使用
して測定できる。
求項1記載の発明の作用に加え、次のような作用を奏す
る。すなわち、境界部を、例えば図1に示すように、同
心状に配置しているので、中心位置合わせが容易であ
る。また、変倍時には、中心位置を変化させることな
く、当該倍率に適合した基準長さを有する境界部を使用
して測定できる。
【0017】請求項3記載の発明によれば、上記した請
求項1又は請求項2記載の発明の作用に加え、次のよう
な作用を奏する。すなわち、中心の方形の明暗部(40,5
0)を、例えば図1に示すように、パターンの中心として
位置合わせできる。また、明暗部(40,50)が方形である
ので、その2組の対辺を使用して縦横二方向の測定でき
る。
求項1又は請求項2記載の発明の作用に加え、次のよう
な作用を奏する。すなわち、中心の方形の明暗部(40,5
0)を、例えば図1に示すように、パターンの中心として
位置合わせできる。また、明暗部(40,50)が方形である
ので、その2組の対辺を使用して縦横二方向の測定でき
る。
【0018】
【実施例】図1〜3は、本発明の第1実施例を示すもの
であり、図1は倍率校正プレートの平面図、図2は倍率
校正プレートを用いる画像処理測定機の概略構成図、図
3は倍率校正プレートを用いた倍率校正の説明図で、同
図(a)は倍率校正プレートの一部平面図、(b)は適
正な光量での検出光量レベルの波形図、(c)は光量が
減少した場合の検出光量レベルの波形図をそれぞれ示
す。
であり、図1は倍率校正プレートの平面図、図2は倍率
校正プレートを用いる画像処理測定機の概略構成図、図
3は倍率校正プレートを用いた倍率校正の説明図で、同
図(a)は倍率校正プレートの一部平面図、(b)は適
正な光量での検出光量レベルの波形図、(c)は光量が
減少した場合の検出光量レベルの波形図をそれぞれ示
す。
【0019】図1中、10は、倍率校正プレートを示し、
この倍率校正プレート10は、例えば図2に例示する画像
処理測定機20で使用される。上記画像処理測定機20は、
大別すると、図2に示すように、ベース21と、このベー
ス21から上方にL字形に延びる支柱22とを備える。そし
て、ベース21の上面には、図2に示すように、水平二軸
方向に移送可能なXYステージ23を設けている。このX
Yステージ23の上面には、上記した倍率校正プレート10
や、図示しないが被測定物が載置され、その下方からベ
ース21に埋め込まれた透過照明24により下方より照明さ
れる。
この倍率校正プレート10は、例えば図2に例示する画像
処理測定機20で使用される。上記画像処理測定機20は、
大別すると、図2に示すように、ベース21と、このベー
ス21から上方にL字形に延びる支柱22とを備える。そし
て、ベース21の上面には、図2に示すように、水平二軸
方向に移送可能なXYステージ23を設けている。このX
Yステージ23の上面には、上記した倍率校正プレート10
や、図示しないが被測定物が載置され、その下方からベ
ース21に埋め込まれた透過照明24により下方より照明さ
れる。
【0020】上記XYステージ23の上方には、図2に示
すように、XYステージ23上の倍率校正プレート10や被
測定物(図示せず)を可変倍率で撮像可能な撮像手段30
が設けられている。上記撮像手段30は、図2に示すよう
に、透過照明24により下方から照明された倍率校正プレ
ート10や被測定物(図示せず)の透過光を可変倍率で結
像するズーム機構付き顕微鏡部31と、この顕微鏡部31に
より結像された画像を読み取るCCDカメラ32とを備え
ている。そして、撮像手段30は、上下動部25を介して支
柱22に上下動可能に支持されている。
すように、XYステージ23上の倍率校正プレート10や被
測定物(図示せず)を可変倍率で撮像可能な撮像手段30
が設けられている。上記撮像手段30は、図2に示すよう
に、透過照明24により下方から照明された倍率校正プレ
ート10や被測定物(図示せず)の透過光を可変倍率で結
像するズーム機構付き顕微鏡部31と、この顕微鏡部31に
より結像された画像を読み取るCCDカメラ32とを備え
ている。そして、撮像手段30は、上下動部25を介して支
柱22に上下動可能に支持されている。
【0021】上記顕微鏡部31の下端部には、対物レンズ
33と、TTL照明34とが装着されている。前記顕微鏡部
31のズーム機構は、図示しないが、ズーム用駆動レンズ
の駆動機構と、駆動レンズ位置検出手段とを備えてい
る。そして、ズーム倍率は、無段階で駆動レンズ位置検
出手段により決定される。また、倍率校正プレート10を
使用して、任意の倍率、例えば5段階の倍率で倍率補正
を行い、その補正計数を記憶し、測定時には、その結果
を補正する。
33と、TTL照明34とが装着されている。前記顕微鏡部
31のズーム機構は、図示しないが、ズーム用駆動レンズ
の駆動機構と、駆動レンズ位置検出手段とを備えてい
る。そして、ズーム倍率は、無段階で駆動レンズ位置検
出手段により決定される。また、倍率校正プレート10を
使用して、任意の倍率、例えば5段階の倍率で倍率補正
を行い、その補正計数を記憶し、測定時には、その結果
を補正する。
【0022】上記した構成を備えた画像処理測定機20
は、図示しないが、モニタに接続され、このモニタ上に
CCDカメラ32で撮像された画像を表示する。一方、前
記倍率校正プレート10には、図1に示すように、倍率校
正時に測定される基準長さAx〜Ex,Ay〜Eyを有す
るパータンが形成されている。上記基準長さAx〜Ex,
Ay〜Eyは、図1に示すように、各縦横軸毎に、5種
類の基準寸法を同軸上に備え、上記したズーム機構付き
顕微鏡部31の5段階の倍率補正に対応している。
は、図示しないが、モニタに接続され、このモニタ上に
CCDカメラ32で撮像された画像を表示する。一方、前
記倍率校正プレート10には、図1に示すように、倍率校
正時に測定される基準長さAx〜Ex,Ay〜Eyを有す
るパータンが形成されている。上記基準長さAx〜Ex,
Ay〜Eyは、図1に示すように、各縦横軸毎に、5種
類の基準寸法を同軸上に備え、上記したズーム機構付き
顕微鏡部31の5段階の倍率補正に対応している。
【0023】前記パターンは、図1に示すように、明部
40と暗部50とから構成されている。すなわち、パータン
は、ガラス等の透明基板にクロム等の蒸着物質を蒸着し
たものである。同図において、ハッチングを付した部分
が蒸着されている部分で、蒸着部分を、上記した透過照
明24を透過してCCDカメラ32側から観察すると、
「暗」となり、暗部50を構成する。これに対し、非蒸着
部は、上記した透過照明24を透過してCCDカメラ32側
から観察すると、「明」となり、明部40を構成する。
40と暗部50とから構成されている。すなわち、パータン
は、ガラス等の透明基板にクロム等の蒸着物質を蒸着し
たものである。同図において、ハッチングを付した部分
が蒸着されている部分で、蒸着部分を、上記した透過照
明24を透過してCCDカメラ32側から観察すると、
「暗」となり、暗部50を構成する。これに対し、非蒸着
部は、上記した透過照明24を透過してCCDカメラ32側
から観察すると、「明」となり、明部40を構成する。
【0024】前記明部40と暗部50とは、図1に示すよう
に、大きさの異なる複数の方形、本実施例では正方形を
同心に配置して形成している。前記明部40と暗部50と
は、前記正方形の対角線a−bで、「明」と「暗」とを
互いに反転させている。したがって、明部40は、図1に
示すように、第1〜第5明部41〜45より構成されてい
る。また、暗部50は、第1〜第6暗部51〜56より構成さ
れている。
に、大きさの異なる複数の方形、本実施例では正方形を
同心に配置して形成している。前記明部40と暗部50と
は、前記正方形の対角線a−bで、「明」と「暗」とを
互いに反転させている。したがって、明部40は、図1に
示すように、第1〜第5明部41〜45より構成されてい
る。また、暗部50は、第1〜第6暗部51〜56より構成さ
れている。
【0025】つぎに、上記した構成を備えた倍率校正プ
レート10を用いた倍率校正について、図3を用いて説明
する。まず、使用者は、倍率校正プレート10を、図2に
示す画像処理測定機20のXYステージ21上に載せる。そ
して、ズーム機構付き顕微鏡部31を比較的低倍率に設定
し、透過照明24により下方から照明された倍率校正プレ
ート10の透過光を、CCDカメラ32を通してモニタ(図
示せず)に映し出された映像を見ながら、倍率校正プレ
ート10の中心の位置合わせを行う。倍率校正プレート10
の中心は、図1に示すように、第1明部41と第1暗部51
との境界の対角線の中点となる。
レート10を用いた倍率校正について、図3を用いて説明
する。まず、使用者は、倍率校正プレート10を、図2に
示す画像処理測定機20のXYステージ21上に載せる。そ
して、ズーム機構付き顕微鏡部31を比較的低倍率に設定
し、透過照明24により下方から照明された倍率校正プレ
ート10の透過光を、CCDカメラ32を通してモニタ(図
示せず)に映し出された映像を見ながら、倍率校正プレ
ート10の中心の位置合わせを行う。倍率校正プレート10
の中心は、図1に示すように、第1明部41と第1暗部51
との境界の対角線の中点となる。
【0026】その後、ズーム機構付き顕微鏡部31の倍率
を上げ、本実施例では、その最大倍率で、モニタの画面
一杯に第1明部41と第1暗部51とが映し出される。ここ
で、倍率校正を行い、次に倍率を下げ、第2明部42と第
2暗部52とがモニタの画面一杯に映し出された位置で、
同様に倍率校正を行う。このとき、明部40と暗部50と
が、図1に示すように、同心に配置されていることか
ら、倍率校正プレート10の移動が必要ない。こうして、
順次各倍率で倍率校正を行い、計5回の倍率校正を行
う。
を上げ、本実施例では、その最大倍率で、モニタの画面
一杯に第1明部41と第1暗部51とが映し出される。ここ
で、倍率校正を行い、次に倍率を下げ、第2明部42と第
2暗部52とがモニタの画面一杯に映し出された位置で、
同様に倍率校正を行う。このとき、明部40と暗部50と
が、図1に示すように、同心に配置されていることか
ら、倍率校正プレート10の移動が必要ない。こうして、
順次各倍率で倍率校正を行い、計5回の倍率校正を行
う。
【0027】つぎに、図3(a)に示すように、第3明
部43と第3暗部53とがモニタの画面一杯に映し出された
位置で、同図の一点鎖線に沿って測定した場合を例に挙
げて説明する。図3(a)の一点鎖線との2つの交点
a,bは、基準長さAxの両端部に位置している。そし
て、交点aは、第2明部42と第1暗部51との境界に当た
り、同図において向かって左側から見たときには、その
明暗の変化は、「明」から「暗」に変化している。ま
た、交点bは、第1明部41と第2暗部52との境界に当た
り、その明暗の変化は、交点aと同様に「明」から
「暗」に変化している。
部43と第3暗部53とがモニタの画面一杯に映し出された
位置で、同図の一点鎖線に沿って測定した場合を例に挙
げて説明する。図3(a)の一点鎖線との2つの交点
a,bは、基準長さAxの両端部に位置している。そし
て、交点aは、第2明部42と第1暗部51との境界に当た
り、同図において向かって左側から見たときには、その
明暗の変化は、「明」から「暗」に変化している。ま
た、交点bは、第1明部41と第2暗部52との境界に当た
り、その明暗の変化は、交点aと同様に「明」から
「暗」に変化している。
【0028】同様に、図3(a)の一点鎖線との2つの
交点c,dは、基準長さBxの両端部に位置している。
そして、交点cは、第3暗部53と第2明部42との境界に
当たり、同図において向かって左側から見たときには、
その明暗の変化は、「暗」から「明」に変化している。
また、交点dは、第2暗部52と第3明部43との境界に当
たり、その明暗の変化は、交点cと同様に「暗」から
「明」に変化している。
交点c,dは、基準長さBxの両端部に位置している。
そして、交点cは、第3暗部53と第2明部42との境界に
当たり、同図において向かって左側から見たときには、
その明暗の変化は、「暗」から「明」に変化している。
また、交点dは、第2暗部52と第3明部43との境界に当
たり、その明暗の変化は、交点cと同様に「暗」から
「明」に変化している。
【0029】そして、透過照明24の光量が適正な場合に
は、検出光量レベルは図3(b)のような波形となる。
ここで、図中の破線は、しきい値レベルSLを示してお
り、このしきい値レベルSLと検出光量の波形の2交点
の間隔が測定値と規定される。通常、しきい値レベルS
Lは適正光量時の検出光量の波高値の中間付近に設定さ
れることが多い。
は、検出光量レベルは図3(b)のような波形となる。
ここで、図中の破線は、しきい値レベルSLを示してお
り、このしきい値レベルSLと検出光量の波形の2交点
の間隔が測定値と規定される。通常、しきい値レベルS
Lは適正光量時の検出光量の波高値の中間付近に設定さ
れることが多い。
【0030】前述したように、基準長さAxの両端の境
界部の明暗の方向が同じであるため、検出光量の波形に
おいて、図3(a)の基準長さAxの両端に対応する同
図(b)の交点EG1,EG2が、ともにHレベル(明)から
Lレベル(暗)に向かう下り傾斜の途中に位置すること
となる。この状態で、透過照明24の光量が低下すると、
検出光量の波形は図3(c)のように変化する。光量が
低下すると、光を遮光する第1,第2暗部51,52の両側
が外側に広がるため、波形の山部分が狭くなるのに対
し、底部分は逆に広くなる。これにより、適正光量時の
交点EG1,EG2は、同図の左方に同じ量だけ移動し、交点E
G5,EG6の位置が決められる。しかし、移動方向及び移動
量が共に等しいため、交点EG1,EG2の間隔A1と、交点E
G5,EG6の間隔A2は、光量減少前後で変化しない。すな
わち、光量の変化による測定値の変動が基準寸法の両側
で打ち消し合い、光量変動に影響されない測定値が得ら
れたこととなる。
界部の明暗の方向が同じであるため、検出光量の波形に
おいて、図3(a)の基準長さAxの両端に対応する同
図(b)の交点EG1,EG2が、ともにHレベル(明)から
Lレベル(暗)に向かう下り傾斜の途中に位置すること
となる。この状態で、透過照明24の光量が低下すると、
検出光量の波形は図3(c)のように変化する。光量が
低下すると、光を遮光する第1,第2暗部51,52の両側
が外側に広がるため、波形の山部分が狭くなるのに対
し、底部分は逆に広くなる。これにより、適正光量時の
交点EG1,EG2は、同図の左方に同じ量だけ移動し、交点E
G5,EG6の位置が決められる。しかし、移動方向及び移動
量が共に等しいため、交点EG1,EG2の間隔A1と、交点E
G5,EG6の間隔A2は、光量減少前後で変化しない。すな
わち、光量の変化による測定値の変動が基準寸法の両側
で打ち消し合い、光量変動に影響されない測定値が得ら
れたこととなる。
【0031】基準寸法Bxの両側でも同様で、ただこの
場合には、適正光量時の交点EG3,EG4が、図3(b),
(c)に示すように、共にLレベル(明)からHレベル
(暗)に向かう登り傾斜途中に位置するので、光量減少
後は、共に同図の右側に移動することが上記の場合と異
なる。図示及び説明は省略するが、横方向の残りの基準
長さCx〜Ex、及び縦方向の基準長さAy〜Eyについて
も、同様な原理で光量変動に影響されないで測定でき
る。
場合には、適正光量時の交点EG3,EG4が、図3(b),
(c)に示すように、共にLレベル(明)からHレベル
(暗)に向かう登り傾斜途中に位置するので、光量減少
後は、共に同図の右側に移動することが上記の場合と異
なる。図示及び説明は省略するが、横方向の残りの基準
長さCx〜Ex、及び縦方向の基準長さAy〜Eyについて
も、同様な原理で光量変動に影響されないで測定でき
る。
【0032】つぎに、本発明の第2実施例について、図
5を用いて説明する。本第2実施例の特徴は、先に説明
した第1実施例の明暗部40,50が同心の正方形状に形成
されているのに対し、同心円状に形成されている点にあ
る。そして、各同心円の直径が基準長さとして規定され
ている。
5を用いて説明する。本第2実施例の特徴は、先に説明
した第1実施例の明暗部40,50が同心の正方形状に形成
されているのに対し、同心円状に形成されている点にあ
る。そして、各同心円の直径が基準長さとして規定され
ている。
【0033】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ので、以下に記載されるような効果を奏する。請求項1
記載の発明によれば、照明光の状態により測定誤差が生
じないようにした画像処理測定機用の倍率校正プレート
を提供することができる。
ので、以下に記載されるような効果を奏する。請求項1
記載の発明によれば、照明光の状態により測定誤差が生
じないようにした画像処理測定機用の倍率校正プレート
を提供することができる。
【0034】請求項2記載の発明によれば、上記した請
求項1記載の発明の効果に加え、次のような効果を奏す
る。すなわち、請求項2記載の発明によれば、プレート
設置時のパターンの中心位置出しが容易で、プレート位
置を移動させずに複数倍率での校正することができる。
求項1記載の発明の効果に加え、次のような効果を奏す
る。すなわち、請求項2記載の発明によれば、プレート
設置時のパターンの中心位置出しが容易で、プレート位
置を移動させずに複数倍率での校正することができる。
【0035】請求項3記載の発明によれば、上記した請
求項1又は請求項2記載の発明が効果に加え、次のよう
な効果を奏する。すなわち、請求項3記載の発明によれ
ば、プレート設置時のパターンの中心位置出しが容易
で、プレート設置後はプレート位置を移動させずに、方
形の明暗部の2組の対辺を使用して、縦横二方向の測定
を行うことができる。
求項1又は請求項2記載の発明が効果に加え、次のよう
な効果を奏する。すなわち、請求項3記載の発明によれ
ば、プレート設置時のパターンの中心位置出しが容易
で、プレート設置後はプレート位置を移動させずに、方
形の明暗部の2組の対辺を使用して、縦横二方向の測定
を行うことができる。
【図1】倍率校正プレートの平面図である。
【図2】倍率校正プレートを用いる画像処理測定機の概
略構成図である。
略構成図である。
【図3】倍率校正プレートを用いた倍率校正の説明図で
あり、同図(a)は倍率校正プレートの一部平面図、
(b)は適正な光量での検出光量レベルの波形図、
(c)は光量が減少した場合の検出光量レベルの波形図
である。
あり、同図(a)は倍率校正プレートの一部平面図、
(b)は適正な光量での検出光量レベルの波形図、
(c)は光量が減少した場合の検出光量レベルの波形図
である。
【図4】本発明の第2実施例を示すものであり、倍率校
正プレートの平面図である。
正プレートの平面図である。
【図5】本発明の従来例を示すもので、同図(a)は従
来の倍率校正プレートのパターン例を示す平面図、
(b)は適正な光量での検出光量レベルの波形図、
(c)は光量が減少した場合の検出光量レベルの波形
図、(d)は光量が増加した場合の検出光量レベルの波
形図である。
来の倍率校正プレートのパターン例を示す平面図、
(b)は適正な光量での検出光量レベルの波形図、
(c)は光量が減少した場合の検出光量レベルの波形
図、(d)は光量が増加した場合の検出光量レベルの波
形図である。
10 倍率校正プレート 20 画像処理測定機 21 ベース 22 支柱 23 XYステージ 24 透過照明 25 上下動部 30 撮像手段 31 ズーム機構付き顕微鏡部 32 CCDカメラ 33 対物レンズ 34 TTL照明 40〜45 明部 50〜46 暗部 Ax〜Ex,Ay〜Ey 基準長さ
Claims (3)
- 【請求項1】 倍率校正時に測定される基準長さを有す
るパターンが形成された画像処理測定機用の倍率校正プ
レートにおいて、 前記基準長さの両端には、明部と暗部との境界を成す境
界部がそれぞれ形成されていることを特徴とする画像処
理測定機用の倍率校正プレート。 - 【請求項2】 前記基準長さの両端の境界部を、同心状
に複数組み配置したことを特徴とする請求項1記載の画
像処理測定機用の倍率校正プレート。 - 【請求項3】 前記明暗部は、大きさの異なる複数の方
形を同心に配置して形成するとともに、前記方形の対角
線で、前記明暗部を反転させたことを特徴とする請求項
1又は請求項2記載の画像処理測定機用の倍率校正プレ
ート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31440994A JP3409931B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 画像処理測定機用の倍率校正プレート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31440994A JP3409931B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 画像処理測定機用の倍率校正プレート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08170907A true JPH08170907A (ja) | 1996-07-02 |
JP3409931B2 JP3409931B2 (ja) | 2003-05-26 |
Family
ID=18053000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31440994A Expired - Lifetime JP3409931B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 画像処理測定機用の倍率校正プレート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3409931B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010003381A (ko) * | 1999-06-23 | 2001-01-15 | 정선종 | 영상 처리장치의 배율 측정용 치구 및 배율 측정 방법 |
CN1303400C (zh) * | 2005-03-04 | 2007-03-07 | 清华大学 | 超精密工作台自标定方法及装置 |
DE102010000745A1 (de) | 2009-01-08 | 2010-07-15 | Mitutoyo Corp., Kawasaki-shi | Kalibrierungsmuster für Bildvorrichtung |
JP2011163952A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Mitsutoyo Corp | 撮像用パターン |
DE102011103233A1 (de) | 2010-06-17 | 2011-12-22 | Mitutoyo Corporation | Kalibriermister für Abbildungsvorrichtung |
JP2014149289A (ja) * | 2012-12-19 | 2014-08-21 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | 顕微鏡装置の自己較正方法 |
JP2015031957A (ja) * | 2013-08-03 | 2015-02-16 | カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy Gmbh | デジタル光学機器の校正方法およびデジタル光学機器 |
US10067028B2 (en) | 2016-09-23 | 2018-09-04 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Calibration structure and calibration method for calibrating optical measuring devices |
JP2019100795A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 株式会社ミツトヨ | 倍率検査用ワーク、倍率検査方法および光学式測定装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010139329A (ja) | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Fanuc Ltd | キャリブレーション用の校正治具および校正治具を備えた画像計測システム |
JP5832278B2 (ja) | 2011-12-26 | 2015-12-16 | 三菱重工業株式会社 | カメラ計測システムのキャリブレーション方法 |
-
1994
- 1994-12-19 JP JP31440994A patent/JP3409931B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010003381A (ko) * | 1999-06-23 | 2001-01-15 | 정선종 | 영상 처리장치의 배율 측정용 치구 및 배율 측정 방법 |
CN1303400C (zh) * | 2005-03-04 | 2007-03-07 | 清华大学 | 超精密工作台自标定方法及装置 |
DE102010000745A1 (de) | 2009-01-08 | 2010-07-15 | Mitutoyo Corp., Kawasaki-shi | Kalibrierungsmuster für Bildvorrichtung |
JP2010160051A (ja) * | 2009-01-08 | 2010-07-22 | Mitsutoyo Corp | 画像機器の校正用パターン |
JP2011163952A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Mitsutoyo Corp | 撮像用パターン |
JP2012002664A (ja) * | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Mitsutoyo Corp | 画像機器の校正用パターン |
DE102011103233A1 (de) | 2010-06-17 | 2011-12-22 | Mitutoyo Corporation | Kalibriermister für Abbildungsvorrichtung |
US8451334B2 (en) | 2010-06-17 | 2013-05-28 | Mitutoyo Corporation | Calibration pattern for imaging device |
DE102011103233B4 (de) * | 2010-06-17 | 2014-05-15 | Mitutoyo Corporation | Kalibriermuster für eine Abbildungsvorrichtung |
JP2014149289A (ja) * | 2012-12-19 | 2014-08-21 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | 顕微鏡装置の自己較正方法 |
JP2015031957A (ja) * | 2013-08-03 | 2015-02-16 | カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy Gmbh | デジタル光学機器の校正方法およびデジタル光学機器 |
US10067028B2 (en) | 2016-09-23 | 2018-09-04 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Calibration structure and calibration method for calibrating optical measuring devices |
DE102016218360B4 (de) * | 2016-09-23 | 2019-08-29 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Kalibrierstruktur und Kalibrierverfahren zur Kalibrierung von optischen Messgeräten |
JP2019100795A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 株式会社ミツトヨ | 倍率検査用ワーク、倍率検査方法および光学式測定装置 |
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---|---|
JP3409931B2 (ja) | 2003-05-26 |
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