JPH0816751B2 - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH0816751B2 JPH0816751B2 JP60277271A JP27727185A JPH0816751B2 JP H0816751 B2 JPH0816751 B2 JP H0816751B2 JP 60277271 A JP60277271 A JP 60277271A JP 27727185 A JP27727185 A JP 27727185A JP H0816751 B2 JPH0816751 B2 JP H0816751B2
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶表示装置に於て、表示品質を向上する
ため表示パターン以外の部分の光反射及び光透過を防止
する膜を形成する方法に関する。
ため表示パターン以外の部分の光反射及び光透過を防止
する膜を形成する方法に関する。
液晶表示装置に於て表示パターン以外の部分の光透過
及び光反射を防止すると、ブラツクストライプの効果を
発揮し表示の鮮鋭度が増すため、表示品質を向上できる
事が知られている。従来この様な効果を得るためには、 １）液晶の中へ二色性染料を添加するＧ−Ｈ法 ２）透過率の低い偏光板を使用する。
及び光反射を防止すると、ブラツクストライプの効果を
発揮し表示の鮮鋭度が増すため、表示品質を向上できる
事が知られている。従来この様な効果を得るためには、 １）液晶の中へ二色性染料を添加するＧ−Ｈ法 ２）透過率の低い偏光板を使用する。
３）液晶セル内面の点灯不要部分へ光遮断膜を形成し光
を遮断する。
を遮断する。
等の方法が考えられていたが、３）の方法が光遮断効果
からして最も有効な方法であると考えられており、その
製造方法としては従来、下記の様な方法が取られてい
た。
からして最も有効な方法であると考えられており、その
製造方法としては従来、下記の様な方法が取られてい
た。
１）ゼラチン等の水溶性高分子材料に重クロム酸塩等の
感材を添加して感光性を付与し、光を遮断するべき部分
にパターニングした後、必要とする分光特性を有する染
料で染色する。
感材を添加して感光性を付与し、光を遮断するべき部分
にパターニングした後、必要とする分光特性を有する染
料で染色する。
２）Al,Ni,Cr等の金属薄膜又はFe2O3,MgO,CoO,NiO等の
金属酸化物の薄膜を蒸着あるいはスパツタリング法によ
り透明電極基板上に形成しフオトエツチング法によりパ
ターンニングする。
金属酸化物の薄膜を蒸着あるいはスパツタリング法によ
り透明電極基板上に形成しフオトエツチング法によりパ
ターンニングする。
等である。
１）の方法は必要な光遮断特性を得るのに１μ〜２μ
程度の膜厚が必要である事と耐熱性が180℃程度と低い
ため液晶セル製造工程の熱処理条件を管理する必要があ
り液晶表示装置の表示寿命に悪影響を及ぼしている。又
２）の方法は、Al,Ni,Cr等の導体金属を用いる場合、透
明電極とのシヨート不良を防ぐため光遮断膜と透明電極
の間に間隔を設ける必要があり完全に光を遮断する事は
出来ない。又Fe2O3,MgO,CoO等の金属酸化物を使用する
場合でも、該金属酸化物が不透明であるため透明電極に
対するアライメント操作が困難であり、前記透明電極パ
ターンと前記金属及び金属酸化物のパターンニング位置
のズレにより完全な遮光が出来ない等の問題点があっ
た。
程度の膜厚が必要である事と耐熱性が180℃程度と低い
ため液晶セル製造工程の熱処理条件を管理する必要があ
り液晶表示装置の表示寿命に悪影響を及ぼしている。又
２）の方法は、Al,Ni,Cr等の導体金属を用いる場合、透
明電極とのシヨート不良を防ぐため光遮断膜と透明電極
の間に間隔を設ける必要があり完全に光を遮断する事は
出来ない。又Fe2O3,MgO,CoO等の金属酸化物を使用する
場合でも、該金属酸化物が不透明であるため透明電極に
対するアライメント操作が困難であり、前記透明電極パ
ターンと前記金属及び金属酸化物のパターンニング位置
のズレにより完全な遮光が出来ない等の問題点があっ
た。
本発明の液晶表示装置の製造方法は，基板上に透明導
電膜を形成する工程と，該透明導電膜の全面上にフォト
レジストを塗布する工程と，しかる後，露光・現像して
前記フォトレジストをパターニングする工程と，該フォ
トレジストが被着されていない前記透明導電膜をエッチ
ングして除去する工程と，前記フォトレジスト上および
前記透明導電膜が除去された前記基板上に，異なる物質
で且つ互いに補色関係にある金属酸化物を積層して光遮
断絶縁層を形成する工程と，前記フォトレジスト上に形
成された前記光遮断絶縁材層および該フォトレジストを
除去する工程とを，少なくとも具備することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
電膜を形成する工程と，該透明導電膜の全面上にフォト
レジストを塗布する工程と，しかる後，露光・現像して
前記フォトレジストをパターニングする工程と，該フォ
トレジストが被着されていない前記透明導電膜をエッチ
ングして除去する工程と，前記フォトレジスト上および
前記透明導電膜が除去された前記基板上に，異なる物質
で且つ互いに補色関係にある金属酸化物を積層して光遮
断絶縁層を形成する工程と，前記フォトレジスト上に形
成された前記光遮断絶縁材層および該フォトレジストを
除去する工程とを，少なくとも具備することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
本発明を第１図にもとずいて説明すると、第１図
（ａ）の様に透明基板１の片面にITO又はSnO2等の透明
透電膜２を有する基板に於て、該透明電極をパターンニ
ングするため（ｂ）の様にフオトレジスト３を前記透明
導電膜２の上全面に塗布する。しかる後露光，現像する
事によりＣ）−３の様にフオトレジストをパターンニン
グする。しかる後、前記透明導電膜がフオトレジストに
より被覆されていない部分をエツチングして除去し
（ｄ）の様な状態とする。次に金属酸化物又は有機、無
機顔料等による光遮断絶縁材層４を真空蒸着法又はスパ
ツタリング法によりｅ）の様な状態に形成する。しかる
後、アルカリ水溶液、又はアセトン中へ基板１を浸漬し
フオトレジスト２と該フオトレジスト３の上に乗ってい
る光遮断絶縁層４を除去しｆ）の通り透明電極２以外の
部分に光遮断絶縁層４を形成する。
（ａ）の様に透明基板１の片面にITO又はSnO2等の透明
透電膜２を有する基板に於て、該透明電極をパターンニ
ングするため（ｂ）の様にフオトレジスト３を前記透明
導電膜２の上全面に塗布する。しかる後露光，現像する
事によりＣ）−３の様にフオトレジストをパターンニン
グする。しかる後、前記透明導電膜がフオトレジストに
より被覆されていない部分をエツチングして除去し
（ｄ）の様な状態とする。次に金属酸化物又は有機、無
機顔料等による光遮断絶縁材層４を真空蒸着法又はスパ
ツタリング法によりｅ）の様な状態に形成する。しかる
後、アルカリ水溶液、又はアセトン中へ基板１を浸漬し
フオトレジスト２と該フオトレジスト３の上に乗ってい
る光遮断絶縁層４を除去しｆ）の通り透明電極２以外の
部分に光遮断絶縁層４を形成する。
ここで、光遮断絶縁材料として、金属酸化物、例え
ば、Fe2O3,NiO,CoO,MgO等が有効であり、前記金属酸化
物材料を真空蒸着又はスパツタリング法により、単独又
は２種類以上の異種物質を組合せて積層したり、混合し
て成膜する事で、より良好な光遮断特性を得る事が可能
である。又、金属酸化物以外の材料として無機あるいは
有機の顔料をスパツタリング法により成膜する事が可能
である。
ば、Fe2O3,NiO,CoO,MgO等が有効であり、前記金属酸化
物材料を真空蒸着又はスパツタリング法により、単独又
は２種類以上の異種物質を組合せて積層したり、混合し
て成膜する事で、より良好な光遮断特性を得る事が可能
である。又、金属酸化物以外の材料として無機あるいは
有機の顔料をスパツタリング法により成膜する事が可能
である。
前記顔料を使用する場合、前記金属酸化物を使用する
場合に比べて必要とされる分光特性を比較的自由に選択
できる点に大きなメリツトが有る。
場合に比べて必要とされる分光特性を比較的自由に選択
できる点に大きなメリツトが有る。
次に本発明を実施例によって詳細に説明する。
実施例１ 第１図（ｄ）のように透明電極２を形成した後，フォ
トレジスト３が前記透明導電膜２の上に残っている状態
でFe2O3をスパッタリング法により第１図（ｅ）のよう
な状態に500Åの厚さで形成する。さらに，該Fe2O3によ
る光遮断膜上にCoOを500Åの厚さでスパッタリング法で
形成する。しかる後第１図（ｅ）の基板をKOH10％水溶
液に１分間浸漬し，フォトレジスタ３を剥離し純粋で充
分リンスする。500Å程度の厚みを持つFe2O3膜は長波長
側に光もれが有るため黄褐色である。又500Å程度の厚
みを持つCoO膜は短波長側に光漏れが有り青色である。
したがってFe2O3の膜とCoOの膜は補色の関係に有り両方
を積層する事により良好な遮光特性を得た。
トレジスト３が前記透明導電膜２の上に残っている状態
でFe2O3をスパッタリング法により第１図（ｅ）のよう
な状態に500Åの厚さで形成する。さらに，該Fe2O3によ
る光遮断膜上にCoOを500Åの厚さでスパッタリング法で
形成する。しかる後第１図（ｅ）の基板をKOH10％水溶
液に１分間浸漬し，フォトレジスタ３を剥離し純粋で充
分リンスする。500Å程度の厚みを持つFe2O3膜は長波長
側に光もれが有るため黄褐色である。又500Å程度の厚
みを持つCoO膜は短波長側に光漏れが有り青色である。
したがってFe2O3の膜とCoOの膜は補色の関係に有り両方
を積層する事により良好な遮光特性を得た。
上述の如く本発明によれば，フォトレジスト上に形成
された光遮断絶縁材層および該フォトレジストを除去す
る工程により透明導電膜間に正確且つ位置ずれを生ずる
こともなく容易に積層形成することができる。しかも，
異なる物質で且つ互いに補色関係にある金属酸化物を積
層して光遮断絶縁層を形成するので格段に良好な遮光特
性を有する。
された光遮断絶縁材層および該フォトレジストを除去す
る工程により透明導電膜間に正確且つ位置ずれを生ずる
こともなく容易に積層形成することができる。しかも，
異なる物質で且つ互いに補色関係にある金属酸化物を積
層して光遮断絶縁層を形成するので格段に良好な遮光特
性を有する。
第１図（ａ）〜（ｆ）は本発明による光遮断絶縁層の形
成工程側説明図。 １……透明ガラス基板 ２……透明導電膜 ３……フオトレジスト ４……光遮断絶縁層
成工程側説明図。 １……透明ガラス基板 ２……透明導電膜 ３……フオトレジスト ４……光遮断絶縁層
Claims (2)
- 【請求項１】基板上に透明導電膜を形成する工程と， 該透明導電膜の全面上にフォトレジストを塗布する工程
と， しかる後，露光・現像して前記フォトレジストをパター
ニングする工程と， 該フォトレジストが被着されていない前記透明導電膜を
エッチングして除去する工程と， 前記フォトレジスト上および前記透明導電膜が除去され
た前記基板上に，異なる物質で且つ互いに補色関係にあ
る金属酸化物を積層して光遮断絶縁層を形成する工程
と， 前記フォトレジスト上に形成された前記光遮断絶縁材層
および該フォトレジストを除去する工程とを，少なくと
も具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】前記光遮断絶縁層としてFe2O3とCoOとが積
層形成されたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60277271A JPH0816751B2 (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60277271A JPH0816751B2 (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62135809A JPS62135809A (ja) | 1987-06-18 |
| JPH0816751B2 true JPH0816751B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=17581196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60277271A Expired - Fee Related JPH0816751B2 (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0816751B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108681166A (zh) * | 2018-05-16 | 2018-10-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0721563B2 (ja) * | 1987-07-24 | 1995-03-08 | 凸版印刷株式会社 | カラ−フイルタ− |
| JP2601932B2 (ja) * | 1990-04-13 | 1997-04-23 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 液晶表示装置およびその製造方法 |
| JP3067362B2 (ja) * | 1991-12-19 | 2000-07-17 | ソニー株式会社 | 液晶パネルの製造方法 |
| JP2944854B2 (ja) * | 1993-06-29 | 1999-09-06 | シャープ株式会社 | 液晶素子の製造方法 |
| US5664982A (en) * | 1994-10-18 | 1997-09-09 | Shipley Company, L.L.C. | Manufacturing method for a liquid crystal display |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS561016A (en) * | 1979-06-19 | 1981-01-08 | Sony Corp | Production of liquid crystal display device |
| JPS5627114A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-16 | Canon Inc | Liquid crystal display cell |
-
1985
- 1985-12-10 JP JP60277271A patent/JPH0816751B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108681166A (zh) * | 2018-05-16 | 2018-10-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62135809A (ja) | 1987-06-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |