JPH0627482A - 電極基板及びそれを用いた液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
電極基板及びそれを用いた液晶表示装置及びその製造方法Info
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Abstract
及び輝度傾斜、コントラストの改善を目的とする。 【構成】マトリクス型表示パネルにおいて、表示用の透
明電極の抵抗を下げるため表示エリア外の一部を金属電
極10とコンタクトし、金属膜を表示エリア内では、透
明電極7の間に配線することによりブラックマスク10
として用いることを特徴とする。
Description
属電極との配線の製造方法とその配線構造に関するもの
である。
極の抵抗を低くする方法としては、 (1)透明電極膜を厚くした構成、もしくは、透明電極
の比抵抗を下げた材料にする。
せた構成がある。この構成は、図7、図8に示すよう
に、補助電極を透明電極膜の上面に配した構造である。
(詳しくは特開昭61−77031号公報参照)また
は、特開昭2−281237号公報に示すように、補助
電極を透明電極膜の下面に配した構造である。
ように透明電極を厚くすると、透過率が低下すると共に
表面状態が悪化してしまう。また、透明電極の比抵抗の
低い材料が近年開発されつつあるが、エッチング性が悪
い、膜質が安定しないなどの問題があった。また、
(2)の構成では、以下にかかげる問題があった。
チングし、透明電極膜としては極力エッチングしにくい
ものを使用するが実際には透明電極膜もエッチングされ
その表面状態も悪くなったり、膜厚も薄くなってしまい
抵抗値が上昇する。 2)補助電極膜が透明電極膜の上にある場合は、補助電
極がオーバーエッチングされ、補助電極を寸法精度よく
形成することが出来ない。そのため、補助電極と透明電
極膜との密着不良による接触抵抗値の上昇がおこる。
合は、透明電極がオーバーエッチングされた時、補助電
極を透明電極の下に寸法精度よく構成することが出来な
い。そのため、抵抗値のバラツキが発生したり、完全に
遮光できずに光漏れができてしまった。
は、クロストローク及び輝度の改善が困難であった。
ネルにおいて、クロストーク及び輝度傾斜やコントラス
トの改善を可能とした液晶表示装置を提供することを目
的とする。
示用電極の抵抗を下げるため表示用電極の下に金属膜を
設けたことを特徴とする。
シール部を介して液晶が挟持され、少なくとも一方に透
明電極を持つ液晶表示装置において、表示用電極の抵抗
を下げるため表示用電極の下に金属膜を設けたことを特
徴とする。
ックマスクとして用いる金属膜の幅を、透明電極間幅、
もしくは透明電極間幅よりも大きく配線し、表示エリア
内のみ透明な絶縁膜を形成し、さらにその上に透明電極
を形成したことを特徴とする。
構成を示す断面図である。
4は液晶である。
ねる。6,7は本発明の第1実施例の透明電極であり、
各々のガラス基板8,9上に形成してある。ガラス基板
の外側には、位相差フィルム11と偏光板12がある。
透明電極6と透明電極7とは平面上に直交している。図
2は、透明電極部分の拡大図である。金属補助電極10
のブラックマスクは、透明電極間幅に形成され、比抵抗
が低く導通性があり且つ遮光性のある金属、たとえばA
l、Cr、Ta、Mo、Au、Ag等である。そして、
端子部分でコンタクトされていることを特徴とする。
の構成を示す断面図で、金属補助電極10は、ブラック
マスクと金属補助電極でこの場合はAl層である。ガラ
ス基板8もしくは基板9の上に透明電極間幅W1で形成
してある。そして図4は、駆動エリア部分の要部構造図
で金属補助電極10上に絶縁膜5としてSiO2もしく
は絶縁性のある透明レジストを用いて表示エリア全部を
覆ってある。透明レジストを用いた場合は、図5に示す
ように必要に応じてコンタクトホール16を開けておく
ことにより信頼性を上げることは、言うまでもない。
O)7が、金属補助電極10の端子部分W2を完全に覆
ってガラス基板8上に形成してあることを示しこれは、
基板9の上においても同様であり、片方の基板のみであ
ってもさしつかえない。図4の透明電極7の幅W3に対
して、図6の駆動回路からのリード線が接続される端末
部分の幅W4は、W3に等しいかもしくはW3よりも広
い。金属補助電極10の幅W2は、W4とほぼ同等の幅
である。しかし、実装のボンディング方法により金属部
が最表面になる構造をなすこともある。その場合、腐食
され易い金属の場合実装後樹脂にてモールドを行う必要
がある。
成方法について説明する。
蒸着法にてAlを200〜3000Å膜付けを行い、次
にフォトレジストにてパターンギャップ幅W1にレジス
トを残し、Alのエッチングをおこなう。その上に、端
子部分W2のみを残し絶縁膜の樹脂コート膜をコーター
にて1〜3ミクロン施し、さらにその上にITO膜や酸
化スズの膜付けをおこない、露光、現像により電極パタ
ーニングをおこなう。この時の透明電極は、金属補助電
極により抵抗値を下げることができるため1500Å以
下の薄膜にすることができる。そのため、透過率が5%
以上上がりなおかつ膜づけ時間とエッチング時間の大幅
短縮が可能となった。また、この絶縁膜5は、耐薬品性
がありITOや酸化スズのエッチングの際に、金属配線
が切れたり細くなったりすることがない。
ピンコート、ディップ処理等にて全面に行う場合は、感
光性樹脂を用いて露光現像をおこない、金属配線と接続
する部分のみ樹脂を除き、その上にITO膜や酸化スズ
の膜付けをおこなう。この方法だと複雑な配線パターン
においても、透明電極のITOや酸化スズとの接続部分
を多くとることができ、低抵抗における配線間のバラツ
キが小さくなりより信頼性が増す。本実施例は、液晶表
示パネルについてのみ述べたが、ELやプラズマディス
プレイについても同様のことが言える。
電極が精度よく、且つ透明電極になんら影響も与えずに
形成され、又透明電極も補助電極になんら影響を与えず
に形成されるため、良好な透明電極を形成することがで
きる。これにより、端子間の電気抵抗を小さくでき、表
示パネルに適用した場合にはクロストーク及び輝度傾斜
コントラストを大幅に改善出来ると言う効果を有する。
Claims (6)
- 【請求項1】表示用電極の抵抗を下げるため表示用電極
の下に金属膜を設けたことを特徴とする電極基板。 - 【請求項2】請求項1の金属膜を表示エリア内では、表
示電極の間に配線することにより、ブラックマスクとし
て用いることを特徴とする電極基板。 - 【請求項3】請求項1の金属膜に200〜5000Åの
膜厚の低抵抗金属を用い、透明電極として酸化インジュ
ームに酸化スズなどの金属酸化物を添加した金属酸化物
膜、もしくは酸化スズを用いたことを特徴とする請求項
1または、2記載の電極基板。 - 【請求項4】1対の基板間にシール部を介して液晶が挟
持され、少なくとも一方に透明電極を持つ液晶表示装置
において、電極抵抗を下げるため請求項1の電極基板を
用いたことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項5】請求項2記載の電極基板を用いたことを特
徴とする液晶表示装置。 - 【請求項6】ブラックマスクとして用いる金属膜の幅を
透明電極間幅、もしくは透明電極間幅よりも大きく配線
し、表示エリア内のみ透明な絶縁膜を形成し、さらにそ
の上に透明電極を形成したことを特徴とする液晶表示装
置の製造方法。
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JP04184974A JP3111658B2 (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 電極基板の製造方法及び液晶装置の製造方法 |
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Family Applications (1)
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- 1992-07-13 JP JP04184974A patent/JP3111658B2/ja not_active Expired - Fee Related
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