JPH08167187A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 透明基板上に少なくとも記録磁性層が形成さ
れた光磁気ディスク１を作製した後、前記記録磁性層の
磁化方向を、外部磁界の印加のみによって一方向（図中
Ｂ方向）に統一させ、信号の消去を行う。外部磁界を印
加するためには、１対の電磁石４にて、前記記録磁性層
の室温における飽和磁化よりも大きな外部磁界を発生さ
せ、該電磁石４間に光磁気ディスク１を通過させる。 【効果】 短時間で効率よく信号消去を行える。このた
め、コストの大幅な上昇を伴うことなく、既に信号消去
が行われた光磁気ディスクを提供でき、他製品との差別
化が図れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気光学効果を利用し
て情報信号の記録・再生を行う光磁気ディスクの製造方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報記録の分野においては、使用
者が情報の記録，消去を繰り返し行うことが可能な書き
込み可能型の光記録媒体として光磁気ディスクの開発が
進められ、商品化も実現されている。

【０００３】この光磁気ディスクとしては、ポリカーボ
ネート等からなる透明基板の一主面に、膜面と垂直方向
に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大きな記録磁
性層（例えば希土類−遷移金属合金非晶質薄膜）や反射
層、誘電体層を積層することにより記録部を形成し、さ
らにこの記録部の腐蝕を防止するために、記録部上に紫
外線効果樹脂等よりなるオーバーコート層を形成したも
のが知られている。

【０００４】このような構成を有する光磁気ディスクに
対する記録方式としては、図２に示されるような光変調
方式が知られている。即ち、レーザ光ＬＢの照射により
記録磁性層１０１を部分的にキュリー点または温度補償
点以上に昇温し、この部分の保磁力を消滅させた状態
で、磁気ヘッド装置にて図中Ａ方向の記録磁界を印加
し、これによって記録磁性層１０１の磁化の向きを反転
させる。なお、再生に際しては、該記録磁性層１０１に
レーザ光ＬＢを照射し、磁気カー効果もしくはファラデ
ー効果を利用して信号を検出する。

【０００５】ところで、成膜がなされたままの記録磁性
層１０１の磁化方向はバラバラであるため、上述のよう
な光変調方式による記録を行うには、予め、記録磁性層
１０１の磁化方向を統一し、該記録磁性層１０１の全域
に亘って信号を消去しておく必要がある。

【０００６】なお、信号の消去は、図３に示されるよう
に、磁気ヘッド装置にて印加する磁界の方向が記録磁界
の方向と逆方向（図中Ｂ方向）である以外は、信号の記
録と同様にして行うことができる。即ち、レーザ光ＬＢ
を記録磁性層１０１に照射することにより保磁力を消滅
させた状態にて、磁気ヘッド装置にて図中Ｂ方向の外部
磁界を印加するという操作を、記録磁性層１０１の全ト
ラックに対して順に行えばよい。

【０００７】このため、光磁気ディスクの製品を購入し
たユーザーは、全面に亘って信号の消去を行った後、こ
の光磁気ディスクを使用することとなる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、信号を
消去するためには、上述したように、記録磁性層の全ト
ラックに対して順にレーザ光を照射する必要があること
から、例えば、現在商品化されている直径１３４ｍｍ
（５．２５インチ）の光磁気ディスクにおいて片面全域
の信号消去を行うためには、約２０分もの時間を要す
る。

【０００９】既に信号消去が行われた光磁気ディスクを
製品として出荷すれば、ユーザーの労力が軽減できる
が、製造工程で、磁気ヘッド装置を大量に用いることに
なり、また、多くの時間も費やされることから、コスト
の増大が免れられない。

【００１０】そこで本発明は、かかる実情に鑑みて提案
されたものであり、短時間で効率よく信号消去を行える
光磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とす
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光磁気ディ
スクの製造方法は、上述の目的を達成するために提案さ
れたものであり、透明基板上に少なくとも記録磁性層を
形成する工程と、前記記録磁性層の磁化方向を、外部磁
界の印加のみによって一方向に統一させる工程とを有す
るものである。

【００１２】即ち、本発明は、レーザ光の照射を行わな
い状態で、記録磁性層に対して垂直な外部磁界のみを与
えて、信号の消去状態を形成するものである。

【００１３】このためには、外部磁界として、前記記録
磁性層の室温における飽和磁化よりも大きな磁界を印加
して好適である。外部磁界が記録磁性層の飽和磁化より
小さいと、該記録磁性層の磁化方向を変化させることが
困難となる。通常、記録磁性層の室温における飽和磁化
は８〜１５ｋＯｅ程度であるため、１８ｋＯｅ以上の外
部磁界を印加すれば、確実に記録磁性層の磁化方向を統
一することできる。

【００１４】このような外部磁界を印加するには、従来
公知の磁界発生手段を用いて均一な磁界を発生させ、該
磁界内に、記録磁性層が形成されてなる光磁気ディスク
を通過させればよい。磁界発生領域が光磁気ディスクよ
りも大きければ、該磁界発生領域内に、光磁気ディスク
を５００ｍｍ／秒以下の速度で１回通過させるのみで記
録磁性層の磁化方向を統一させることができる。但し、
磁界発生領域を拡大すると、電磁石の作製コストを大き
く増大させることになるため、光磁気ディスクよりも小
さな磁界発生領域に該光磁気ディスクを複数回通過させ
て、記録磁性層全域に対する処理を行うようにしてもよ
い。

【００１５】本発明は従来公知のあらゆる構成の光磁気
ディスクに対しても適用可能であるが、光変調方式によ
って信号の記録がなされるものに適用して好適である。

【００１６】

【作用】本発明を適用すると、記録磁性層の全トラック
に対して順にレーザ光を照射する必要がないため、記録
磁性層全域に亘って一括で信号を消去することができ
る。

【００１７】したがって、既に信号の消去が行われた光
磁気ディスクを、コストの大幅な上昇を伴うことなく提
供することができる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明に係る光磁気ディスクの製造方
法を適用した具体例について、図面を参照しながら説明
する。

【００１９】本実施例では、透明基板の一主面に第１の
誘電体層、記録磁性層、第２の誘電体層、反射層をこの
順に成膜して記録部を形成した後、該記録部を被覆する
ごとく保護層を形成した光磁気ディスクに対して、該記
録磁性層の信号を消去するための処理を行った。

【００２０】具体的には、直径１３４ｍｍ（５．２５イ
ンチ）のポリカーボネート基板よりなる透明基板上に、
第１の誘電層としてＳｉ₃ Ｎ₄ 膜、記録磁性層としてＴ
ｂＦｅＣｏ膜、第２の誘電層としてＳｉ₃ Ｎ₄ 膜、反射
層としてＡｌ膜、保護層として紫外線硬化樹脂を形成し
て光磁気ディスクを作製した。なお、記録磁性層の室温
における飽和磁化は８〜１５ｋＯｅであり、磁化方向は
ランダムであった。

【００２１】信号消去手段としては、直径１３４ｍｍ以
上領域に亘って、２０ｋＯｅなる磁界を発生可能な１対
の電磁石４を、上方がＮ極、下方がＳ極となるように対
向させたものを用いた。

【００２２】そして、図１に示されるように、上述の電
磁石４の間に、記録磁性層が形成されている面を上方に
向けた上述の光磁気ディスク１を５００ｍｍ／秒以下の
速度で通過させた。

【００２３】これにより、記録磁性層は、膜面に垂直な
図中Ｂ方向の磁界を受け、磁化方向が全て図中Ｂ方向に
統一された。

【００２４】以上のようにして光磁気ディスクを作製す
ると、通常２０分の時間を要していた信号の消去作業を
１／４秒程度で終了させることができた。

【００２５】以上、本発明に係る光磁気ディスクの製造
方法の一例について説明したが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、例えば、上述したと同様にして記録
磁性層の磁化方向を一定方向に統一する工程までを行っ
た光磁気ディスク同士を、保護膜同士を対向させてホッ
トメルト接着剤にて貼り合わせて両面型の光磁気ディス
クを完成させてもよい。

【００２６】また、直径８９ｍｍ（３．５インチ）の光
磁気ディスクを上述した実施例と同じく５００ｍｍ／秒
以下の速度で磁界発生領域内に通過させるならば、直径
８９ｍｍ以上の領域に亘って磁界を発生可能な電磁石で
あればよい。逆に、光磁気ディスクの直径よりも大きな
磁界発生領域内に該光磁気ディスクを通過させる場合に
は、通過速度を５００ｍｍ／秒以上とすることも可能で
ある。さらに、直径３００ｍｍ等の大径の光磁気ディス
クに対して磁化方向の統一を行う場合には、磁界発生領
域が該光磁気ディスクよりも小面積の電磁石を用い、該
光磁気ディスクを、この磁界発生領域内へ記録磁性層の
位置を異ならせて２回ないし３回通過させればよい。

【００２７】その他、本発明を適用して製造できる光磁
気ディスクは、その構造、構成材料、サイズ等、何等限
定されず、光変調方式の記録がなされるものであれば、
従来公知のいずれの光磁気ディスクであってもよい。ま
た、本発明を適用して、磁界変調方式の光磁気ディスク
の信号を予め消去しておくことも可能である。

【００２８】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明を適用すると、短時間で効率よく信号消去を行える。
このため、コストの大幅な上昇を伴うことなく、既に信
号消去が行われた光磁気ディスクを提供でき、他製品と
の差別化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による信号消去工程を示す模式図であ
る。

【図２】光変調方式による記録工程を示す模式図であ
る。

【図３】従来法による信号消去工程を示す模式図であ
る。

【符号の説明】

１ 光磁気ディスク ４ 電磁石

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に少なくとも記録磁性層を形
   成する工程と、 前記記録磁性層の磁化方向を、外部磁界の印加のみによ
   って一方向に統一させる工程とを有する光磁気ディスク
   の製造方法。
2. 【請求項２】 前記外部磁界として、前記記録磁性層の
   室温における飽和磁化よりも大きな磁界を印加すること
   を特徴とする請求項１記載の光磁気ディスクの製造方
   法。
3. 【請求項３】 前記記録磁性層は、光変調方式によって
   信号の記録がなされるものであることを特徴とする請求
   項１または請求項２に記載の光磁気ディスクの製造方
   法。