JPH0397141A - 光磁気メモリ素子の記録再生方法並びにその装置 - Google Patents

光磁気メモリ素子の記録再生方法並びにその装置

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JPH0397141A
JPH0397141A JP1234205A JP23420589A JPH0397141A JP H0397141 A JPH0397141 A JP H0397141A JP 1234205 A JP1234205 A JP 1234205A JP 23420589 A JP23420589 A JP 23420589A JP H0397141 A JPH0397141 A JP H0397141A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は少なくとも2層の磁性薄膜、例えば、メモリ層
と補助層とを備え、光変調によりオーバライト方式で記
録再生を行うようにした光磁気メモリ素子への記録再生
方法並びにその装置に関するものである。
〔従来の技術〕
光変調による光磁気メモリ素子へのオーバライト方法を
第3図〜第6図を用いて説明する。
特開昭62−175948号公報に開示される如く、光
変調方式により記録を行う光磁気メモリ素子1(第6図
参照)は、その温度と保磁力との関係を第5図に模式的
に直線Iで示すように、室温での保磁力H.が大きく、
保磁力がほぼ“0“となる温度であるキュリー点T,が
比較的低温である材料からなるメモリN2(第3図参照
)と、第5図に模式的に直線■で示すように、室温での
保磁力H2が比較的小さく、キュリー点T2がメモリ層
2より高い材料からなる補助層3とを備えている。
第6図にも示すように、上記の光磁気メモリ素子1への
記録再生を行う記録再生装置は、高低2レベルのレーザ
光強度変調を行いながら、光磁気メモリ素子1にレーザ
光を照射するレーザ光g<図示せず)と対物レンズ4と
を含む光ヘッド5と、記録磁場Hwを印加する記録磁場
印加手段6と、初期化磁場H iniを印加する初期化
磁場印加千段7とを備えている。なお、光磁気メモリ素
子1は、より具体的には、例えば、基板10上に、エン
ハンス層l1と、メモリ層2及び補助層3からなる磁性
層8と、保護層12と、保護コート層13とを順次積層
した構或からなり、スピンドルモータl4により所定の
回転速度で回転されるようになっている。
次に、オーバライトの手順につき説明する。初期化にお
いては第3図に示す方向に初期化磁場Hiniを印加す
ることにより補助層3の磁化のみを一方向、つまり、図
中下向きに揃える。なお、初期化は常時行われるか、又
は、記録時のみに行われる。この時、第5図の如く、メ
モリ層2の保磁力H1は初期化磁場Hiniより大きい
ので、メモリ層2の磁化の反転は生じない。
記録は記録磁場Hwを印加しながら、高低2レベルに強
度変調されるレーザ光を照射することにより行う。すな
わち、第4図にIで示す高レベルのレーザ光が照射され
ると、メモリ層2及び補助層3がともにキュリー点T.
−T.付近又はそれ以上となる温度T.まで昇温し、同
図に■で示す低レベルのレーザ光が照射されると、メモ
リ層2のみがキュリー点T,又はそれ以上となる温度T
Lまで昇温するように設定されている。
従って、高レベルのレーザ光が照射されると、補助層3
の磁化は、記録磁場Hwにより第3図の上向きに反転し
、メモリ層2の磁化の向きは冷却の過程で界面に作用す
る交換力により補助層3の磁化の向きと一致する。従っ
て、メモリ層2の磁化の向きは上向きとなる。
一方、低レベルのレーザ光が照射されると、補助層3の
磁化は記録磁場Hwの影響で反転することはなく、この
場合も、メモリ層2の磁化の向きは、やはり冷却の過程
で補助層3の磁場の向きと一致することになる。従って
、メモリ層2の磁化の向きは第3図中下向きとなる。な
お、第5図に示す如く、記録磁場Hwは初期化磁場H 
iniよりかなり小さくなるように設定されている。更
に、第4図に■で示すように、再生時のレーザ光の強度
は、記録時よりもかなり低い値に設定されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記のようなオーバライト方法では、記録再
生装置に記録磁場印加手段6と初期化磁場印加手段7と
を別個に設ける必要がある(SPI E  Vol.1
078  0ptical Data Storage
 TopicalMeeting(1989) p25
8 −264 、Fig. 4参照)。
このように、記録磁場発生手段6と初期化磁場発生手段
7とを個別に設けることは、光磁気メモリ素子1がカー
トリッジケース等で被覆されて(,sない場合(例えば
、いわゆる、コンパクトディスクのような形態の場合)
にはオニバライトが可能であるが、光磁気メモリ素子1
がカートリ・ンジケース等に覆われている場合(例えば
、いわゆる、フロッピーディスクのような形態の場合)
、記録磁場印加千段6と初期化磁場印加千段7の双方を
光磁気メモリ素子1に対する磁場の印加が行えるように
設置するスペースを確保することが困難であるため、上
記のオーバライト方法を実施することが不可能であった
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る光磁気メモリ素子の記録再生方法は、上記
の課題を解決するために、少なくとも2層の磁性薄膜が
磁気的に結合されて積層された磁性層を有する光磁気メ
モリ素子に、記録磁場と初期化磁場とを用いて光変調に
よりオーバライト方式で記録再生する記録再生方法にお
いて、記録再生位置への光磁気メモリ素子のセ・冫ト時
、再生終了時、記録終了時及び記録・消去等の確認時の
みに初期化磁場を光磁気メモリ素子に印加するようにし
たことを特徴とするものである。
又、本発明に係る光磁気メモリ素子の記録再生装置は、
少なくとも2層の磁性薄膜が磁気的に結合されて積層さ
れた磁性層を有する光磁気メモリ素子に、記録磁場と初
期化磁場とを用いて光変調によりオーバライト方式で記
録再生する記録再生装置において、光磁気メモリ素子に
記録磁場を印加する記録磁場印加手段と、光磁気メモリ
素子に上記記録磁場印加手段と同一位置で初期化磁場を
印加する初期化磁場印加手段と、記録時に記録磁場を印
加させる一方、本記録再生装置への光磁気メモリ素子の
セット時、再生終了時、記録終了時及び記録・消去等の
確認時のみに初期化磁場を印加させるように記録磁場印
加手段と初期化磁場印加手段とを制御する磁場制御手段
と、記録時に記録信号に応じて光ビームの強度変調を行
うビーム制御手段とを備えていることを特徴とするもの
である。
なお、上記記録磁場印加手段と初期化磁場印加手段とは
同一の電磁石から構或することができる。
又、上記記録磁場印加手段と初期化磁場印加手段とは互
いに異なる磁石から構威し、かつ、上記ずれかを磁場発
生位置に移動させて記録磁場又は初期化磁場のいずれか
を発生させる磁石交互移動手段を設けても良い。
〔作 用〕
上記した本発明の光磁気メモリ素子の記録再生方法によ
れば、少なくとも2層の磁性薄膜が磁気的に結合されて
積層されてなる磁性層を有する光磁気メモリ素子にオー
バライト方式で記録再生を行うに際し、記録再生位置へ
の光磁気メモリ素子のセット時、再生終了時、記録終了
時及び記録・消去の確認時のみに初期化磁場の印加を行
うようにし、換言すれば、初期化磁場と記録磁場を同時
には印加しないようにしたので、記録磁場の印加と初期
化磁場の印加とを同一位置で行うことができるようにな
り、その結果、例えば、カートリッジケース等に収納さ
れた光磁気メモリ素子に対してもオーバライトによる記
録が可能となる。又、記録再生位置への光磁気メモリ素
子のセット時、再生終了時、記録終了時及び記録・消去
の確認時のみに初期化磁場を印加するようにすれば、上
記少なくとも2層の磁性薄膜のうち初期化の必要な磁性
薄膜は常時初期化された状態となり、所望の時点でオー
バライトが行える。
又、本発明に係る光磁気メモリ素子の記録再生装置は、
上記した方法で記録再生を行うために、記録磁場を印加
する記録磁場印加手段と初期化磁場を印加する初期化磁
場印加手段とを設け、記録時には記録磁場を印加する一
方、光磁気メモリ素子のセット時、再生終了時、記録終
了時及び記録・消去等の確認時のみに初期化磁場を印加
するようにしている。このように、記録磁場の印加と初
期化磁場の印加とを同時には行わないようにするととも
に、記録磁場印加手段による記録磁場の印加と初期化磁
場印加手段による初期化磁場の印加とを同一位置で行う
ようにしたので、例えば、カートリッジケース等に収納
された光磁気メモリ素子に対してもオーバライトによる
記録が可能となる。又、上記したように、光磁気メモリ
素子のセット時、再生終了時、記録終了時及び記録・消
去の確認時のみに初期化磁場を印加するようにすれば、
上記少なくとも2層の磁性薄膜のうち初期化の必要な磁
性薄膜は常時初期化された状態となり、所望の時点でオ
ーバライトが行える。
更に、記録磁場印加手段と初期化磁場印加手段とを同一
の電磁石で構或すれば、部品点数の削減を図ることがで
きる。その場合、記録磁場と初期化磁場の切換えは、例
えば、上記電磁石に流す電流量又は電流の向きを調整す
ることにより行える。
〔実施例l〕
本明細書の特許請求の範囲の欄の請求項第1〜3項に関
連する本発明の一実施例を第1図及び第3図〜第5図に
基づいて説明すれば、以下の通りである。
第1図に示すように、光磁気メモリ素子2oはガラス又
は透光性の樹脂等からなる基板21上に、再生時に再生
信号をエンハンスするための透光性のエンハンス層22
、磁性層23、保護層24及び保護コート層25を順次
積層して構威されている。なお、光磁気メモリ素子20
は図示しないカートリッジケースに収納されている。
第3図にも示すように、磁性N23は、従来と同様、室
温での保磁力H+が大きく、保磁力がほぼ゛0゛となる
温度であるキュリー点TIの比較的低い材料からなるメ
モリ層26(第5図の模式的な直線I参照)と、室温で
の保磁力H2が比較的小さく、キュリー点T2の高い材
料からなる補助N27(第5図の模式的な直線■参照)
とを備えている。
光磁気メモリ素子20に、オーバライト方式で記録再生
を行うための記録再生装置28は、光磁気メモリ素子2
0を所定回転速度で回転させるスピンドルモータ29と
、図示しないレーザ光源及び対物レンズ30を含む光ヘ
ッド3lと、記録時に記録信号に応じて上記レーザ光源
から照射するレーザビームの強度を第4図にI及び■で
示すように、高低2レベルに変調する図示しないビーム
制御手段とを備えている。
更に、記録再生装置28は、記録磁場Hwを印加する記
録磁場印加手段としての役割と、初期化磁場Hiniを
印加する初期化磁場・印加手段としての役割とを有する
電磁石32と、この電磁石32に電圧を印加する電源3
3と、電源33から電磁石32に印加する電圧の大きさ
及び向きを制御することにより、電磁石32に流れる電
流量及び向きを制御し、記録磁場Hwと初期化磁場H 
iniのいずれかを選択的に発生させる磁場制御手段と
しての役割を有するコントローラ34とを備えている。
コントローラ34は記録時には電磁石32から光磁気メ
モリ素子20に記録磁場Hwを印加さセる一方、記録再
生装置30への光磁気メモリ素子20の挿入による光磁
気メモリ素子20の記録再生位置へのセット時、再生終
了時、記録終了時及び記録・消去等の確認時のみに電磁
石32から光?気メモリ素子20に初期化磁場H in
iを印加させるように構威されている。
上記の構或において、光磁気メモリ素子20に記録を行
う際には、電磁石32から記録磁場Hwを印加しながら
、上記レーザ光源から高レベル又は低レベルのレーザビ
ームを照射することにより、磁性li23のメモリN2
6に所望の信号が記録される。その際、従来例における
説明と同様に、レーザビームの強度が高レベルの場合と
低レベルの場合とで、メモリ層26の磁化の向きは逆向
きになる。
又、記録再生装置28への光磁気メモリ素子20の挿入
による光磁気メモリ素子20のセット時、再生終了時、
記録終了時及び記録・消去等の確認時のみに光磁気メモ
リ素子20に初期化磁場Hiniを印加することにより
、補助層27を常時初期化された状態に保■つことがで
きる。しかも、本実施例では、記録磁場Hwと初朋化磁
場Hiniとを同一の電磁石32、つまり、同一位置で
印加するようにしたので、光磁気メモリ素子2oがカー
トリッジケース等に収納されていても、記録磁場Hw及
び初期化磁場H iniを問題なく光磁気メモリ素子2
0に印加することができる。更に、記録磁場印加手段と
初期化磁場印加手段とを同一の電磁石32で構威したの
で、部品点数の削減を図ることができる。
なお、再生時には、第4図に■で示すように、記録時よ
りも低いレベルのレーザビームを照射することにより、
メモリ層26に記録された信号が再生される。
〔実施例2〕 次に、特許請求の範囲の欄の請求項第1・2・4項に関
連する第2実施例を説明する。
第2図及び第3図に示すように、第2実施例における光
磁気メモリ素子20は第1実施例と同様に構威されてお
り、ここでは、対応する部位に同一の参照番号を付して
重複した説明を省略する。
又、光磁気メモリ素子20に、オーバライト方式で記録
再生を行う記録再生装置37は、第1実施例と同様、光
磁気メモリ素子20を回転させるスピンドルモータ29
と、図示しないレーザ光源と対物レンズ30とを含む光
ヘッド31と、記録時に記録信号に応じて上記レーザ光
源から照射するレーザビームの強度を高低2レベルに変
調する図示しないビーム制御手段とを備えている。
又、記録再生装置37は記録磁場印加手段としての第l
の永久磁石38と、初期化磁場印加手段としての第2の
永久磁石39と、第1・第2の永久磁石38・39を互
いに対向する端面にて支持する支持部材40とを備えて
いる。
支持部材40は磁石交互移動手段としてのステッピング
モータ41により回動自在に支持され、ステッピングモ
ータ4lにより支持部材40を180゜ずつ回動させる
ことにより、第l又は第2の永久磁石38又は39のい
ずれかが選択的に光磁気メモリ素子20に対向させられ
るようになっている。ステッピングモータ41には電源
42から給電が行われ、電源42はコントローラ43に
より制御されるように構成されている。
すなわち、コントローラ43は磁場制御手段としての役
割を有し、記録時には第1の永久磁石3日を光磁気メモ
リ素子20に対向させ、記録磁場Hwを印加させる一方
、記録再生装置35への光磁気メモリ素子20の挿入に
よる光磁気メモリ素子20の記録再生位置へのセット時
、再生終了時、記録終了時及び記録・消去等の確認時の
みに第2の永久磁石39を光磁気メモリ素子20に対向
させ、初期化磁場H iniを印加させるようになって
いる。なお、記録再生動作は第1実施例と同様であるの
で、説明を省略する。
上記の各実施例では、磁性層23をメモリ層26と補助
層27の2層構戒としたが、必要に応じて、メモリN2
6と補助層27との間に初期化磁場H iniを低減さ
せるための中間N(前記SPIE  Vol.1078
  0ptical Data Storage To
picalMeeting(1989) p25B−2
64参照)を設ける等、磁性層23を3層以上で構威す
ることもできる。
〔発明の効果〕
本発明に係る光磁気メモリ素子の記録再生方法は、以上
のように、少なくとも2層の磁性薄膜が磁気的に結合さ
れて積層された磁性層を有する光磁気メモリ素子に、記
録磁場と初期化磁場とを用いて光変調によりオーバライ
ト方式で記録再生する記録再生方法において、記録再生
位置への光磁気メモリ素子のセット時、再生終了時、記
録終了時及び記録・消去等の確認時のみに初期化磁場を
光磁気メモリ素子に印加するようにした構成である。
これにより、光磁気メモリ素子のセット時、再生終了時
、記録終了時及び記録・消去の確認時のみに初期化磁場
の印加を行うようにし、換言すれば、初期化磁場と記録
磁場を同時には印加しないようにしたので、記録磁場の
印加と初期化磁場の印加とを同一位置で行うことができ
るようになり、その結果、例えば、カートリッジヶース
等に収納された光磁気メモリ素子に対してもオーバライ
トによる記録が可能となる。又、光磁気メモリ素子の挿
入時、再生終了時、記録終了時及び記録・消去の確認時
のみに初期化磁場を印加するようにすれば、上記少なく
とも2層の磁性WJ膜のうち初朋化の必要な磁性薄膜は
常時初期化された状態となり、所望の時点でオーバライ
トが行える。
又、本発明に係る光磁気メモリ素子の記録再生装置は、
少なくとも2Nの磁性薄膜が磁気的に結合されて積層さ
れた磁性層を有する光磁気メモリ素子に、記録磁場と初
期化磁場とを用いて光変調によりオーバライト方式で記
録再生する記録再生装置において、光磁気メモリ素子に
記録磁場を印加する記録磁場印加手段と、光磁気メモリ
素子に上記記録磁場印加手段と同一位置で初期化磁場を
印加する初期化磁場印加手段と、記録時に記録磁場を印
加させる一方、本記録再生装置への光磁気メモリ素子の
セット時、再生終了時、記録終了時及び記録・消去等の
確認時のみに初期化磁場を印加させるように記録磁場印
加手段と初期化磁場印加手段とを制御する磁場制御手段
と、記録時に記録信号に応じて光ビームの強度変調を行
うビーム制御手段とを備えている構或である。
これにより、記録磁場の印加と初期化磁場の印加とを同
時には行わないようにするとともに、記録磁場印加手段
による記録磁場の印加と初期化磁場印加手段による初期
化磁場の印加とを同一位置で行うようにしたので、例え
ば、カートリッジケース等に収納された光磁気メモリ素
子に対してもオーバライトによる記録が可能となる。又
、上記したように、光磁気メモリ素子のセット時、再生
終了時、記録終了時及び記録・消去の確認時の、みに初
期化磁場を印加するようにすれば、上記少なくとも2層
の磁性薄膜のうち初期化の必要な磁性薄膜は常時初期化
された状態となる。
又、上記記録磁場印加手段と初期化磁場印加手段とを同
一の電磁石で構或すれば、部品点数の削減を図ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例における光磁気メモリ素子
及び記録再生装置を示す説明図である。 第2図は本発明の第2実施例における光磁気メモリ素子
及び記録再生装置を示す説明図である。 第3図は光磁気メモリ素子の要部拡大説明図である。 第4図はレーザビームの強度の変化を示す説明図である
。 第5図は磁性層における温度と保磁力との関係を示すグ
ラフである。 第6図は従来例を示す説明図である。 20は光磁気メモリ素子、23は磁性層、26はメモリ
N(磁性薄膜)、27は補助N(磁性薄膜)、28・3
7は記録再生装置、32は電磁石(記録磁場印加手段兼
初期化磁場印加手段)、34・43はコントローラ(磁
場制御手段)、38は第1の永久磁石(記録磁場印加手
段)、39は第2の永久磁石(初期化磁場印加手段)、
41はステッピングモータ(磁石交互移動手段)である
。 第3図 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、少なくとも2層の磁性薄膜が磁気的に結合されて積
    層された磁性層を有する光磁気メモリ素子に、記録磁場
    と初期化磁場とを用いて光変調によりオーバライト方式
    で記録再生する記録再生方法において、記録再生位置へ
    の光磁気メモリ素子のセット時、再生終了時、記録終了
    時及び記録・消去等の確認時のみに初期化磁場を光磁気
    メモリ素子に印加するようにしたことを特徴とする光磁
    気メモリ素子の記録再生方法。 2、少なくとも2層の磁性薄膜が磁気的に結合されて積
    層された磁性層を有する光磁気メモリ素子に、記録磁場
    と初期化磁場とを用いて光変調によりオーバライト方式
    で記録再生する記録再生装置において、光磁気メモリ素
    子に記録磁場を印加する記録磁場印加手段と、光磁気メ
    モリ素子に上記記録磁場印加手段と同一位置で初期化磁
    場を印加する初期化磁場印加手段と、記録時に記録磁場
    を印加させる一方、本記録再生装置への光磁気メモリ素
    子のセット時、再生終了時、記録終了時及び記録・消去
    等の確認時のみに初期化磁場を印加させるように記録磁
    場印加手段と初期化磁場印加手段とを制御する磁場制御
    手段と、記録時に記録信号に応じて光ビームの強度変調
    を行うビーム制御手段とを備えていることを特徴とする
    光磁気メモリ素子の記録再生装置。 3、上記記録磁場印加手段と初期化磁場印加手段とは同
    一の電磁石からなることを特徴とする請求項第2項に記
    載の光磁気メモリ素子の記録再生装置。 4、上記記録磁場印加手段と初期化磁場印加手段とは互
    いに異なる磁石からなり、かつ、上記磁場制御手段の制
    御に基づき上記複数の磁石のいずれかを磁場発生位置に
    移動させて記録磁場又は初期化磁場のいずれかを発生さ
    せる磁石交互移動手段を備えていることを特徴とする請
    求項第2項に記載の光磁気メモリ素子の記録再生装置。
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