JPH08161750A - 光ディスク原盤記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数の光ビームを光ディスク原盤の半径方向
に連ねて、隣どうしの一部を重ねて合成させ露光部の光
量を均一にさせて、単一の光ビームスポットより幅広
で、溝型状記録部の底部を平坦に形成出来るようにさせ
た光ディスク原盤記録装置を提供することにある。 【構成】 光ビームを発生させる光ビーム発生手段１
と、上記光ビーム発生手段（１）からの光ビームを複数
の光ビームに分割するビーム分割手段２と、上記ビーム
分割手段２で分割された複数の光ビームを光ディスク原
盤１１上の半径方向に連ねて、隣どうしの一部が重なる
ように合成させるビーム合成手段３を有し、光ディスク
原盤１１の記録層に上記複数の光ビームスポットを照射
して形成される溝型状記録部の底部が平坦になるよう
に、露光部の光量を均一にさせて情報記録させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤の記録
層に光ビームスポットを照射して情報記録させる光ディ
スク原盤記録装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の、光ディスク原盤の記録層に光ビ
ームスポットを照射して情報記録させる光ディスク原盤
記録装置においては、光ビーム発生手段から発生された
光ビームを第一のビームと第二ビームに２分割し、その
内の第一のビームをさらに２分割させて、光ディスク原
盤の半径方向に一部が重なるように配置して幅広の溝を
形成させ、残りの第二ビームを上記第一のビームを２分
割した中心位置または中心位置よりトラックピッチの半
分の距離ずらせた位置に制御することにより、イングル
ーブ記録やオンランド記録に対応したフォーマットも出
来るようにさせていた（特開平５ー３１４５４３号公
報）。また、他の光ディスク原盤記録装置においては、
光ディスク原盤の回転方向と異なる方向に二本のレーザ
光を重複領域を持つように配置して、単一のレーザ光が
形成する光ビームスポットの直径より大きな幅の露光部
を持たせるようにさせていた（特開平１ー１８５８５１
号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来の技術で
は、記録層に単一の光ビームスポットより幅広の記録溝
を形成させることは出来るが、記録層に入射する光量が
均一でないため、溝型状記録部の底部が平坦になるよう
にさせることが出来ず、２つ以上の深さの異なる記録部
を形成することが出来ないと云う不具合を生じていた。

【０００４】

【発明の目的】本発明は、複数の光ビームを光ディスク
原盤の半径方向に連ねて、隣どうしの一部を重ねて合成
させ露光部の光量を均一にさせて、単一の光ビームスポ
ットより幅広で、溝型状記録部の底部を平坦にさせ、深
さの異なる複数の記録部を形成出来るようにさせた光デ
ィスク原盤記録装置を提供することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、光ディスク原盤の記録層に光ビームスポ
ットを照射して情報記録させる光ディスク原盤記録装置
において、光ビームを発生させる光ビーム発生手段と、
上記光ビーム発生手段からの光ビームを複数の光ビーム
に分割するビーム分割手段と、上記ビーム分割手段で分
割された複数の光ビームスポットを光ディスク原盤の半
径方向に連ねて、隣どうしの一部が重なるように合成さ
せるビーム合成手段を有し、光ディスク原盤の記録層に
上記複数の光ビームスポットを照射して形成される溝型
状記録部の底部が平坦になるように、露光部の光量を均
一にさせて情報記録させることを最も主要な特徴とす
る。

【０００６】第２の発明は、上記光ディスク原盤記録装
置において、二つの光ビームスポットで溝型状記録部の
底部が平坦になるようにさせる場合、光ビームスポット
の径をｄ、光ビームスポット間の距離をｌとすると、
０．３８ｄ≦ｌ≦０．６７ｄからなる構成としたことを
他の特徴とする。第３の発明は、上記第２の光ディスク
原盤記録装置において、上記ビーム合成手段の一部に対
物レンズが用いられて、形成される溝型状記録部の底部
幅は、上記ビーム合成手段でつくられる光ビームスポッ
トの径ｄと、上記対物レンズの入射角θによって調整さ
れる構成としたことを他の特徴とする。

【０００７】第４の発明は、上記第２の光ディスク原盤
記録装置において、二つの光ビームの内一つの光ビーム
は記録層に集光させる対物レンズに入射する時、光ディ
スク原盤の半径方向に入射角θずれて入射する構成とし
たことを特徴とする。第５の発明は、上記第２の光ディ
スク原盤記録装置において、上記光ビーム発生手段と上
記ビーム分割手段の間に、上記光ビーム発生手段からの
光ビームを拡大するビームエクスパンダを用いる構成と
したことを他の特徴とする。

【０００８】第６の発明は、上記第２の光ディスク原盤
記録装置において、光ビームを分割、合成させる上記ビ
ーム分割手段と上記ビーム合成手段の一部に、ポッケル
スセルと偏光ビームスプリッタを用いる構成としたこと
を他の特徴とする。第７の発明は、上記５の光ディスク
原盤記録装置において、上記ビームエクスパンダと上記
ビーム分割手段の間に、光ビームを光ディスク原盤の半
径方向に調整可能なように設置された可変スリットを用
いる構成としたことを他の特徴とする。

【０００９】

【作用】上記のように構成された光ディスク原盤記録装
置は、光ビームを発生させる光ビーム発生手段と、複数
の光ビームに分割するビーム分割手段と、分割された複
数の光ビームスポットを光ディスク原盤の半径方向に連
ねて、隣どうしの一部が重なるように合成させるビーム
合成手段を有しているので、重なり具合を調整して合成
ビーム時に重複部分の光量和の形状を矩形化することが
出来るので、照射する光量を均一にさせることが出来
る。また、ビーム分割手段やビーム合成手段で二つの光
ビーム、または、それ以上の光ビームを分割したり、合
成したりすることが出来るので、それぞれに応じて重複
部分の光量和の形状を矩形化する光ビームスポット径や
光ビームスポット間距離の最適値を設定出来る。

【００１０】上記第１の光ディスク原盤記録装置で、二
つの光ビームスポット径ｄと光ビームスポット間距離ｌ
との関係を、０．３８ｄ≦ｌ≦０．６７ｄとなるように
したので、合成ビーム時の重複部分の光量和の形状を矩
形化することが出来る。

【００１１】上記第２の光ディスク原盤記録装置で、上
記ビーム合成手段の一部に対物レンズが使用されている
ので、光ビームスポット径ｄと対物レンズに入射する入
射角θを調整すれば、簡単に二つの光ビームスポットを
光ディスク原盤の記録層に距離ｌ離して照射させること
が出来る。上記第２の光ディスク原盤記録装置で、二つ
の光ビームの内の一つを光ディスク原盤の半径方向に入
射角θだけずらせて入射させ、上記の０．３８ｄ≦ｌ≦
０．６７ｄの関係式を得ることが可能になる。

【００１２】上記第２の光ディスク原盤記録装置で、ビ
ームエクスパンダがビーム分割手段の前に設定してある
ので、一つのビームエクスパンダを調整するだけで済
み、分割されたレーザ光は同じビーム形状を得ることが
可能である。上記第２の光ディスク原盤記録装置で、ビ
ーム分割手段とビーム合成手段の一部に、ポッケルスセ
ルと偏光ビームスプリッタを用いているので、分割や合
成時の光損失を防ぐことが出来る。また、ポッケルスセ
ルによる高速の変調が可能である。

【００１３】上記第５の光ディスク原盤記録装置で、可
変スリットをビームエクスパンダとビーム分割手段の間
に用いているので、一個の可変スリットで二つに分割さ
れる光ビームの形状を均一に変えることが出来る。ま
た、ビームエクスパンダで拡大されたレーザ光を可変ス
リットで調整するので、調整が容易に出来る。

【００１４】

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の光ディスク原盤記録装置の
一実施例の要部ブロック図である。図１において、ビー
ム発生手段１としてのＡｒ+ レーザ発生光源１ａから発
生されたレーザ光は、アナログ変調器６、デジタル変調
器７、ウォブル変調器８等の各種の変調器により、光量
変調、パルス変調、偏向変調されてビームエクスパンダ
４に入力される。このビームエクスパンダ４では、変調
されてきたレーザ光を対物レンズ３ｂの有効径近くまで
拡大させる。ここで上記レーザ光を対物レンズ３ｂの有
効径以上に拡大すると、対物レンズ３ｂで変調されてき
たレーザ光がケラれてしまい、少しの光軸変動によって
もレーザ光のスポットの形状が変化してしまう為、光デ
ィスク原盤１１の記録層に形成される記録部の溝型形状
は、形成のたびに変化して安定な形状が得られない。

【００１５】上記ビームエクスパンダ４で適量の大きさ
に拡大されたレーザ光は、反射ミラー９で方向を変えら
れ、レーザ光を複数のレーザ光に分割するビーム分割手
段２に入力される。図１の実施例では２分割する場合に
ついて説明する。また、上記ビームエクスパンダ４と上
記ビーム分割手段２との間には、レーザ光のビームスポ
ット径を調整するための可変スリット５が設けられてい
る。ビーム分割手段２は、ポッケルスセル２ａと偏光ビ
ームスプリッタ２ｂ等から構成されていて、ポッケルス
セル２ａではそれまで直線偏光であったレーザ光を円偏
光に変換する。偏光ビームスプリッタ２ｂでは、入射し
てきたレザー光を全透過、全反射、等分割することが可
能である。図１の場合は、偏光ビームスプリッタ２ｂが
等分割の場合で、偏光ビームスプリッタ２ｂへの入射レ
ーザ光ＬＢは、偏光ビームスプリッタ２ｂを通過する
と、実線の通過レーザ光ＬＢー１と点線で示された通過
レーザ光ＬＢー２に等分割される。ここで、上記レーザ
光は二つのレーザ光に分割されても、一個のビームエク
スパンダ４で拡大されているので、お互いの形状は基本
的には同じである。分割された二つのレーザ光（ＬＢー
１、ＬＢー２）は、ビーム合成手段３で合成されて、光
ディスク原盤１１上の記録層に照射される。ビーム合成
手段３は、図１では、調整用反射ミラー３ｃ、合成用偏
光ビームスプリッタ３ａ、対物レンズ３ｂから構成され
ている。即ち、上記偏光ビームスプリッタ２ｂで分割さ
れた二つのレーザ光（ＬＢー１、ＬＢー２）は、それぞ
れの調整用反射ミラー３ｃで望ましい方向に向けられ、
合成用偏光ビームスプリッタ３ａで再び一緒にされる。
但し、合成用偏光ビームスプリッタ３ａを通過した二つ
のレーザ光ＬＢー１、ＬＢー２の内の一つの光ビーム
は、対物レンズ３ｂに入射する時、光ディスク原盤１１
の半径方向に入射角θずれて入射させる。こうすること
により、二つのレーザ光を光ディスク原盤１１上で半径
方向に連ねさせて、隣どうしの一部が重なるように合成
させることが出来る。

【００１６】図２は、図１に示した光ディスク原盤記録
装置の要部を立体的に現わした斜視図で、アナログ変調
器６、デジタル変調器７、ウォブル変調器８等の各種の
変調器を通過してきたレーザ光ＬＢがビームエクスパン
ダ４に入射する状態から示されている。可変スリット５
は光ビームを光ディスク原盤１１上の記録層の半径方向
に調整可能なように設置されている。また、図２におい
ては、反射ミラー９は省略されている。

【００１７】図３（Ａ）（Ｂ）及び図４（Ａ）（Ｂ）
は、ビームエクスパンダ４でレーザ光を対物レンズ３ｂ
の有効径以下、または、有効径以上に拡大させた場合の
レーザ光の強度分布や記録層に形成される記録溝の形状
を示している。図３（Ａ）は対物レンズ３ｂに入射する
レーザ光のビームスポット径ｄが、対物レンズ３ｂの有
効径Ｄ以下である場合で、図３（Ｂ）の最上部の波形は
対物レンズ３ｂに入射するレーザ光のビームスポット径
ｄの強度分布を示し、中央部の波形は対物レンズ３ｂに
より集光されて光ディスク原盤１１上の記録層に照射す
るレーザ光の強度分布を示し、最下部の波形はその結果
光ディスク原盤１１の記録層に形成される記録部の溝形
状である。

【００１８】図４（Ａ）はビームスポット径ｄが対物レ
ンズ３ｂの有効径Ｄ以上である場合で、図４（Ｂ）の最
上部の波形は対物レンズ３ｂの有効径Ｄ以上のレーザ光
の強度分布を示し、中央部の波形は対物レンズ３ｂによ
り集光されて記録層に照射するレーザ光の強度分布で、
少し中心より光軸がずれた状態を示している。最下部の
波形はその結果記録層に形成される記録部の溝形状で、
光軸の少しのずれより記録部の溝形状が変化し、安定し
ていない様子が分かる。

【００１９】図５は、ポッケルスセル２ａと偏光ビーム
スプリッタ２ｂ等から構成されるビーム分割手段２を示
したもので、ポッケルスセル２ａは高速（数百ＭＨｚ）
の信号発生器２ｃが印加されていて、高速の円偏光変換
が可能になっている。

【００２０】図６及び図７は、図１を参照して説明した
方法により二つのレーザ光（ＬＢー１、ＬＢー２）が、
光ディスク原盤１１の半径方向に連なって、お互いの一
部が重なるように合成された場合の波形の強度分布を示
した図（共に上側の図）と、光ディスク原盤１１に上記
の合成された二つのレーザ光（ＬＢー１、ＬＢー２）が
照射されて、光ディスク原盤１１の記録層１３に形成さ
れた記録部の溝形状を示している（共に下側の図）。記
録層１３の形状に影響を与えるレーザ光のビームスポッ
ト径をｄとし、二つのレーザ光（ＬＢー１、ＬＢー２）
の距離をｌとすると、図７に示す方は二つのビームスポ
ットが合成されて中心間の部分（図上ｌで示された間）
の露光量（光量和）が均一となって、記録層１３に形成
される溝型状記録部の底部が平坦になるような、ｌとｄ
の関係になっている。このｌとｄの関係を保ってレーザ
光の強度を強くしていくと、記録層１３の溝型状記録部
の底部は図７の一点鎖線で示したように平坦のまま深い
層に移っていく。但し記録層１３の下部の基板１４の厚
さ以下にはならない。図６では、ｌの値の大きさが図７
のｌの値よりも大きくなったときで、この場合は中心間
の部分の記録層１３の溝型状記録部の底部は、露光量が
真中で少なくなって、図のような凸型形状を示す。ま
た、図では示されていないがｌの値の大きさが図７のｌ
の値よりも小さくなったときには、中心間の部分の記録
層１３の溝型状記録部の底部は、露光量が真中で多くな
って、凹型形状になる。

【００２１】従って図７で示されたようなｌとｄの関係
が求まれば、記録層１３に形成される溝型状記録部の底
部を平坦にすることができ、記録層１３の中で交差しな
い何層もの記録部を形成することが可能になる。以下に
望ましいｌとｄの関係を求める。

【００２２】図８は、記録層１３の表面位置Ｔが対物レ
ンズ３ｂの焦点距離ｆ上にある場合を示し、ここで入射
角θの違いを持って対物レンズ３ｂに入射したレーザ光
の対物レンズ３ｂ通過後の二つのビームスポット間距離
ｌは、次式から求めることが出来る。 １／ａ ＋ １／ｂ ＝ １／ｆ ………… ｈ ： ｌ ＝ ｂ ： （ｂ−ｆ） ……… ｔａｎθ ＝ ｈ／ａ ………… 但し、ａだけ離れた距離から軸上入射角θで入射した光
束は、対物レンズ３ｂ上ｈの距離に入光し、通過後は軸
上ｂの位置に収束するものとする。図８に位置関係を示
してある。上記の〜式からａ、ｂを消去すると、
ｌ ＝ ｆ ｔａｎθの関係式を得る。従って、入射角θ
で入射した二つのビームスポット間距離ｌは、 ｌ ＝
ｆ ｔａｎθ だけずれた場所に位置することになる。装
置に組み込まれている対物レンズ３ｂの焦点距離ｆは固
定と扱えるので、図７で示されたような最適なｌが決ま
れば、 θ ＝ ｔａｎ^-1（ｌ／ｆ）から、図１で示され
た二つのレーザ光（ＬＢー１、ＬＢー２）の入射角θが
求められる。

【００２３】図９は、ビームスポット径ｄを持つ二つの
レーザ光ＬＢー１、ＬＢー２が距離ｌだけ離れて重なり
合っている状態を示している。図よりＳ１＝Ｓ２、Ｓ３
＝Ｓ４である。ここで、Ｓ１＝Ｓ３となれば、二つのレ
ーザ光の重なり合っている部分、即ち、距離ｌの部分の
光量和はｕｖｗｚで囲まれた矩形状になり、記録層１３
へ入射する光量を一定にすることが出来る。一般に、レ
ーザ光のビームスポットの強度分布は、ガウス分布にな
り、照射を効率良く行うことが出来るのは強度分布が１
／ｅ² （ｅは自然対数の底）より大きい場合である。従
って、図１０より、ビームスポットの半分の波形ｕｖｗ
の面積Ｓは、ビームスポットの強度分布の最高値（図９
のｕ、ｚ点）を正規化して扱うと、次式で求められる。

【００２４】

【数１】 であり、△Ｘ＝０．１、として１０００ステップ迄の微
小面積を合成すれば求める面積Ｓになる。従って、

【００２５】

【数２】 から、計算して求めると、Ｓ＝０．８３６２２７ とな
る。また、強度分布が１／ｅ² となるｘ軸座標がｄ／２
（図１０参照）である関係から、

【００２６】

【数３】 が成立し、この式を解くと、ｄ＝２√２ となる。とこ
ろで、図９より、 Ｌ・１＝Ｓ１＋Ｓ３＋Ｓ５ ………… また、上記で説明した通り、Ｓ１＝Ｓ３、Ｓ３＝Ｓ４
から Ｓ１＋Ｓ３＋Ｓ５＝Ｓ３＋Ｓ４＋Ｓ５（＝Ｓ）……… 、式より Ｌ＝Ｓ＝０．８３６２２
７ となる。従って、上記で求められた値から、 ｄ／２ ： Ｌ ＝ ｄ／２ ： ｌ／２ ＝ √２ ： ０．８
３６２２７ 故に、ｌ＝０．８３６２２７ｄ／√２＝０．５９１３ｄ
≒０．６ｄ…… となり、図７で示される場合のｌと
ｄの関係が求まった。

【００２７】図１１（Ａ）は、各露光条件における二つ
の合成ビームの光ビームスポット間距離ｌ（単位μｍ）
と記録層１３に形成される溝型状記録部の底部の変動量
α（単位Å）の実験結果を示す。溝型状記録部の底部の
変動量αの定義は図１１（Ｂ）に示されており、αの値
は溝型状記録部の底部の山が下側に向かえばマイナス値
をとる。図１１（Ａ）の直線（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は
光ビーム（ＬＢー１、または、ＬＢー２）の光量の違い
で、直線（ａ）は各々の光ビームが１．０ｍｗ、直線
（ｂ）は１．２ｍｗ、直線（ｃ）は１．４ｍｗの時であ
る。図１１（Ａ）から光量の違いに余り関係なく光ビー
ムスポット間距離ｌの値を０．２〜０．３５μｍ位にし
たとき、変動量αが小さくなって平坦性がよくなること
が分かる。実験時の光ビーム（ＬＢー１、または、ＬＢ
ー２）の径Ｄが２、２ｍｍ、波長λは４５７９Å、対物
レンズの開口数ＮＡは０．９１、焦点距離ｆは１．９５
ｍｍであったので、対物レンズ３ｂを通過したビームス
ポット径ｄを求めると、 ｄ＝（４λｆ）÷（πＤ） ＝（４×４５７．９×１０^-9×１．９５×１０^-3）÷（π×２．２×１０^-3） ＝０．５２（μｍ） ここで、上記で求められた、ｌ＝０．６ｄの関係式に
上記の値を代入して、ｌ＝０．６ｄ＝０．６×０．５２
＝０．３１（μｍ） を得る。即ち、上記の実験結果
（図１１）によく合っていることがわかる。

【００２８】実験結果の図１１から光ビームスポット間
距離ｌの値を０．２〜０．３５μｍにしたとき、特に直
線（ａ）、（ｂ）では変動量αが±０．２Å以内にする
ことができ良好な平坦性をとることが出来る。従って、
逆にｌ＝βｄとして、ｄに上記で求められた０．５２と
し、ｌの値が０．２、０．３５となるβ₁ 、β₂ の範囲
を求めると、β₁ ＝０．２÷０．５２＝０．３８、β₂
＝０．３５÷０．５２＝０．６７となり、ｌとｄの関係
が０．３８ｄ≦ｌ≦０．６７ｄを満足した範囲にあるな
ら変動量αの少ない良好な平坦性をとることが出来る。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明では、光ビームを発生させる光ビーム発生手段と、複
数の光ビームに分割するビーム分割手段と、分割された
複数の光ビームスポットを光ディスク原盤の半径方向に
連ねて、隣どうしの一部が重なるように合成させるビー
ム合成手段を有しているので、重なり具合を調整して合
成ビーム時に重複部分の光量和の形状を矩形化すること
が出来るようになり、照射する光量を均一にさせること
が出来るようになった。また、ビーム分割手段やビーム
合成手段で二つの光ビーム、または、それ以上の光ビー
ムを分割したり、合成したりすることが出来たので、そ
れぞれに応じて重複部分の光量和の形状を矩形化する光
ビームスポット径や光ビームスポット間距離の最適値を
設定出来るようになって、記録層に上記複数の光ビーム
スポットを照射して形成される溝型状記録部の底部を平
坦に出来て、深さの異なる複数の記録部を形成出来るよ
うになった。

【００３０】請求項２記載の発明では、上記１項記載の
光ディスク原盤記録装置で、二つの光ビームスポット径
ｄと光ビームスポット間距離ｌとの関係を、０．３８ｄ
≦ｌ≦０．６７ｄとなるようにさせることが出来るよう
になったので、合成ビーム時の重複部分の光量和の形状
を矩形化出来て、記録層に形成される溝型状記録部の底
部が平坦になって、幅広溝で深さの異なる複数の記録部
を形成出来るようになった。

【００３１】請求項３記載の発明では、上記２項記載の
光ディスク原盤記録装置で、上記ビーム合成手段の一部
に対物レンズを使用したので、光ビームスポット径ｄと
対物レンズに入射する入射角θを調整して、簡単に二つ
の光ビームスポットを光ディスク原盤の記録層に距離ｌ
離して照射させることが出来るようになり、簡単に単一
光ビームスポット径より幅広の記録溝を持つ記録部を形
成出来るようになった。

【００３２】請求項４記載の発明では、上記２項記載の
光ディスク原盤記録装置で、二つの光ビームの内の一つ
を光ディスク原盤の半径方向に入射角θだけずらせて入
射させ、上記の０．３８ｄ≦ｌ≦０．６７ｄの関係式を
得ることが可能になって、深さの異なる複数の記録部を
形成出来るようになった。

【００３３】請求項５記載の発明では、上記２項記載の
光ディスク原盤記録装置で、ビームエクスパンダがビー
ム分割手段の前に設定させたので、一つのビームエクス
パンダを調整すれば済み、分割されたレーザ光は同じビ
ーム形状を得ることが可能になったので、光ビームを合
成して光量和の形状を精度よく矩形化することが出来る
ようになった。

【００３４】請求項６記載の発明では、上記２項の光デ
ィスク原盤記録装置で、ビーム分割手段とビーム合成手
段の一部に、ポッケルスセルと偏光ビームスプリッタを
用いたので、分割や合成時の光損失を防ぐことが出来る
ようになった。また、ポッケルスセルによる高速の変調
が可能になった。

【００３５】請求項６記載の発明では、上記５項記載の
光ディスク原盤記録装置で、可変スリットをビームエク
スパンダとビーム分割手段の間に用いたので、一個の可
変スリットで二つに分割される光ビームの形状を均一に
変えることが出来るようになった。また、ビームエクス
パンダで拡大されたレーザ光を可変スリットで調整する
ので、調整が容易に出来るようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の光ディスク原盤記録装置の
要部のブロック図である。

【図２】図１の光ディスク原盤記録装置の要部の説明図
である。

【図３】レーザ光が対物レンズの有効径以下の場合の要
部の説明図であり、（Ａ）は対物レンズに入射するレー
ザ光の状態説明図であり、（Ｂ）は上記レーザ光の分布
形状や記録層に形成される溝部の形状の要部の説明図で
ある。

【図４】レーザ光が対物レンズの有効径以上の場合の要
部の説明図であり、（Ａ）は対物レンズに入射するレー
ザ光の状態説明図であり、（Ｂ）は上記レーザ光の分布
形状や記録層に形成される溝部の形状の要部の説明図で
ある。

【図５】図１に示したビーム分割手段の要部の説明図で
ある。

【図６】二つのレーザ光を合成させた場合の波形の強度
分布と記録層に形成される溝部の形状の要部を示す説明
図である。

【図７】二つの他のレーザ光を合成させた場合の波形の
強度分布と記録層に形成される溝部の形状の要部を示す
説明図である。

【図８】図１示した対物レンズに入射する二つのレーザ
光の対物レンズ通過後の距離を示す説明図である。

【図９】本発明の実施例を示す二つのレーザ光が最適距
離で重なり合っている波形の状態を示す説明図である。

【図１０】レーザ光の光量を計算するために用いる説明
図である。

【図１１】記録層に形成される溝型底部の変動量を示す
図であり、（Ａ）は各露光条件における合成ビームの光
ビームスポット間距離と記録層に形成される溝型底部の
変動量の関係を示す実験結果のグラフ図であり、（Ｂ）
は記録層に形成される溝型底部の変動量を示す説明図で
ある。

【符号の説明】

１・・・光ビーム発生手段、１ａ・・・Ａｒ+ レーザ発
生光源、２・・・ビーム分割手段、２ａ・・・ポッケル
スセル、２ｂ・・・偏光ビームスプリッタ、２ｃ・・・
交流入力電圧信号器、３・・・ビーム合成手段、３ａ・
・・合成用偏光ビームスプリッタ、３ｂ・・・対物レン
ズ、３ｃ・・・調整用反射ミラー、４・・・ビームエク
スパンダ、５・・・可変スリット、６・・・アナログ変
調器、７・・・デジタル変調器、８・・・ウォブル変調
器、９・・・反射ミラー、１１・・・光ディスク原盤、
１２・・・ターンテーブル、１３・・・記録層、１４・
・・基板。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ディスク原盤の記録層に光ビームスポ
   ットを照射して情報記録させる光ディスク原盤記録装置
   において、一本の光ビームを発生させる光ビーム発生手
   段と、上記光ビーム発生手段からの光ビームを複数の光
   ビームに分割するビーム分割手段と、上記ビーム分割手
   段で分割された複数の光ビームを光ディスク原盤上の半
   径方向に連ねて、隣どうしの一部が重なるように合成さ
   せるビーム合成手段を有し、上記光ディスク原盤の記録
   層に上記複数の光ビームスポットを照射して形成される
   溝型状記録部の底部が平坦になるように、露光部の光量
   を均一にさせて情報記録させることを特徴とする光ディ
   スク原盤記録装置。
2. 【請求項２】 上記光ディスク原盤記録装置において、
   二つの光ビームスポットで溝型状記録部の底部が平坦に
   なるようにさせる場合、光ビームスポットの径をｄ、光
   ビームスポット間の距離をｌとすると、０．３８ｄ≦ｌ
   ≦０．６７ｄとしたことを特徴とする請求項１記載の光
   ディスク原盤記録装置。
3. 【請求項３】 上記光ディスク原盤記録装置において、
   上記ビーム合成手段の一部に対物レンズが用いられ、上
   記形成される溝型状記録部の底部幅は、上記ビーム合成
   手段でつくられる光ビームスポットの径ｄと、上記対物
   レンズの入射角θによって調整されることを特徴とする
   請求項２記載の光ディスク原盤記録装置。
4. 【請求項４】 上記光ディスク原盤記録装置において、
   二つの光ビームの内の一つの光ビームは、上記記録層に
   集光させる対物レンズに入射する時、上記光ディスク原
   盤の半径方向に入射角θずれて入射することを特徴とす
   る請求項２記載の光ディスク原盤記録装置。
5. 【請求項５】 上記光ディスク原盤記録装置において、
   上記光ビーム発生手段と上記ビーム分割手段との間に、
   上記光ビーム発生手段からの光ビームを拡大するビーム
   エクスパンダを設けたことを特徴とする請求項２記載の
   光ディスク原盤記録装置。
6. 【請求項６】 上記光ディスク原盤記録装置において、
   光ビームを分割、合成させる上記ビーム分割手段と上記
   ビーム合成手段の一部に、ポッケルスセルと偏光ビーム
   スプリッタを用いたことを特徴とする請求項２記載の光
   ディスク原盤記録装置。
7. 【請求項７】 上記光ディスク原盤記録装置において、
   上記ビームエクスパンダと上記ビーム分割手段の間に、
   光ビームを光ディスク原盤の半径方向に調整可能なよう
   に可変スリットを設けたことを特徴とする請求項５記載
   の光ディスク原盤記録装置。