JPH081554Y2 - フラットパネルの封着処理炉 - Google Patents
フラットパネルの封着処理炉Info
- Publication number
- JPH081554Y2 JPH081554Y2 JP5536093U JP5536093U JPH081554Y2 JP H081554 Y2 JPH081554 Y2 JP H081554Y2 JP 5536093 U JP5536093 U JP 5536093U JP 5536093 U JP5536093 U JP 5536093U JP H081554 Y2 JPH081554 Y2 JP H081554Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flat panel
- plate
- treatment furnace
- sealing treatment
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、フラットパネルの封着
処理炉に関するものである。
処理炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、画像表示装置として、特開昭５７
−１３５５９０号公報，「日経ビジネス」１９９３年１
月１８日号等に開示される、いわゆるフラットパネルが
ある。このフラットパネルは、凸形状の表ガラスと平板
状の裏ガラスとからなり、両ガラスで形成される内部空
間に電極板を配設したものである。そして、このフラッ
トパネルは、両ガラス間で形成される内部空間に電極板
を配設し、そのリード線を前記両ガラスの外周縁部から
外方に導出させ、両ガラスの外周縁部に塗布した低融点
の封着用ガラスを封着処理炉内で溶融，固化することに
より一体化してフラットパネルとするものである。
−１３５５９０号公報，「日経ビジネス」１９９３年１
月１８日号等に開示される、いわゆるフラットパネルが
ある。このフラットパネルは、凸形状の表ガラスと平板
状の裏ガラスとからなり、両ガラスで形成される内部空
間に電極板を配設したものである。そして、このフラッ
トパネルは、両ガラス間で形成される内部空間に電極板
を配設し、そのリード線を前記両ガラスの外周縁部から
外方に導出させ、両ガラスの外周縁部に塗布した低融点
の封着用ガラスを封着処理炉内で溶融，固化することに
より一体化してフラットパネルとするものである。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】フラットパネルは、前
述のように、表ガラス、裏ガラスおよび電極板をセット
したのち、封着処理することで一体化されるため、良好
な画像を得るには、封着処理の昇温過程において、三者
の温度差を出来るだけ最小にする必要がある。しかしな
がら、従来においては、枠状治具上に略水平に載置され
たフラットパネルに、高温雰囲気ガスを水平に吹き付け
て、対流加熱によりフラットパネルを加熱して封着して
おり、どうしても、フラットパネルの雰囲気ガス吐出側
が過熱され易く、その結果、前記三者を精度よく確実に
一体化できず、画像不良の原因となっていた。したがっ
て、本考案は簡単な構成で、フラットパネルをほぼ均一
に加熱することができるフラットパネルの封着処理炉を
提供することを目的とする。
述のように、表ガラス、裏ガラスおよび電極板をセット
したのち、封着処理することで一体化されるため、良好
な画像を得るには、封着処理の昇温過程において、三者
の温度差を出来るだけ最小にする必要がある。しかしな
がら、従来においては、枠状治具上に略水平に載置され
たフラットパネルに、高温雰囲気ガスを水平に吹き付け
て、対流加熱によりフラットパネルを加熱して封着して
おり、どうしても、フラットパネルの雰囲気ガス吐出側
が過熱され易く、その結果、前記三者を精度よく確実に
一体化できず、画像不良の原因となっていた。したがっ
て、本考案は簡単な構成で、フラットパネルをほぼ均一
に加熱することができるフラットパネルの封着処理炉を
提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本考案は、前記目的を達
成するためになされたもので、請求項１の考案では、フ
ラットパネルの封着処理時における前記三者間の温度差
を軽減するために、フラットパネル上に載置するウエイ
ト板に邪魔板を設け、フラットパネルの一端面に高温雰
囲気ガスが直接当たるのを遮るようにしたものである。
また、請求項２の考案は、前記請求項１のものにおい
て、フラットパネルを載置する枠状治具の開口部と前記
ウエイト板に設けた開口部とに多孔板を設け、かつ、フ
ラットパネルの上方および下方に放射加熱手段を設け、
この放射加熱手段の多孔板を介しての放射加熱により、
対流加熱による温度ムラの発生を防止するようにしたも
のである。
成するためになされたもので、請求項１の考案では、フ
ラットパネルの封着処理時における前記三者間の温度差
を軽減するために、フラットパネル上に載置するウエイ
ト板に邪魔板を設け、フラットパネルの一端面に高温雰
囲気ガスが直接当たるのを遮るようにしたものである。
また、請求項２の考案は、前記請求項１のものにおい
て、フラットパネルを載置する枠状治具の開口部と前記
ウエイト板に設けた開口部とに多孔板を設け、かつ、フ
ラットパネルの上方および下方に放射加熱手段を設け、
この放射加熱手段の多孔板を介しての放射加熱により、
対流加熱による温度ムラの発生を防止するようにしたも
のである。
【０００５】
【実施例】つぎに、本考案の実施例を図面にしたがって
説明する。図１は、第１考案を適用した連続封着処理炉
の加熱室１を示し、この加熱室１内には、トレイ１０の
搬送路を覆うように天井板３，両側板４ａ，４ｂおよび
底板６からなるバッフル２が設けられ、このバッフル２
の外方は雰囲気循環通路Ａとなっている。そして、前記
雰囲気循環路Ａの炉天井部には循環ファン７が、その下
流側にはヒータ８が設けられ、循環ファン７によって加
熱室１内の雰囲気は前記側板４ａに設けたノズル５ａか
ら吸引され、ヒータ８によって所定温度となり、側板４
ｂに設けたノズル５ｂからバッフル２内に水平に噴出す
る水平循環流を形成し、炉内ローラＲにより搬入された
トレイ１０上のフラットパネルＷを対流加熱するように
なっている。
説明する。図１は、第１考案を適用した連続封着処理炉
の加熱室１を示し、この加熱室１内には、トレイ１０の
搬送路を覆うように天井板３，両側板４ａ，４ｂおよび
底板６からなるバッフル２が設けられ、このバッフル２
の外方は雰囲気循環通路Ａとなっている。そして、前記
雰囲気循環路Ａの炉天井部には循環ファン７が、その下
流側にはヒータ８が設けられ、循環ファン７によって加
熱室１内の雰囲気は前記側板４ａに設けたノズル５ａか
ら吸引され、ヒータ８によって所定温度となり、側板４
ｂに設けたノズル５ｂからバッフル２内に水平に噴出す
る水平循環流を形成し、炉内ローラＲにより搬入された
トレイ１０上のフラットパネルＷを対流加熱するように
なっている。
【０００６】前記フラットパネルＷは、トレイ１０上に
設けた、開口部１３を有する略ロ字形の枠状治具１２上
に載置され、かつ、フラットパネルＷの表ガラスＷｂ上
にはウエイト板１４が載置され封着面Ｓを圧着する。そ
して、このウエイト板１４の前記水平循環流の上流側
（ノズル５ｂ）には邪魔板１５が設けられている。な
お、１６は連結片である。
設けた、開口部１３を有する略ロ字形の枠状治具１２上
に載置され、かつ、フラットパネルＷの表ガラスＷｂ上
にはウエイト板１４が載置され封着面Ｓを圧着する。そ
して、このウエイト板１４の前記水平循環流の上流側
（ノズル５ｂ）には邪魔板１５が設けられている。な
お、１６は連結片である。
【０００７】つぎに、前記構成からなる加熱炉でのフラ
ットパネルの封着処理について述べる。まず、トレイ１
０上に設置した枠状治具１２上に裏ガラスＷａを載置す
る。その後、裏ガラスＷａ上にリード線を外方に導出し
た状態で電極板Ｗｃを配設し、表ガラスＷｂを載置する
とともに、表ガラスＷｂ上に前記ウエイト板１４を載置
する。この場合、前記裏ガラスＷａの外周縁部および表
ガラスＷｂの外周縁部の当接する封着面Ｓに、予め、低
融点の封着用ガラスが塗布してある。なお、邪魔板１５
は加熱室１の水平循環流の上流側（ノズル５ｂ）側に位
置させる。
ットパネルの封着処理について述べる。まず、トレイ１
０上に設置した枠状治具１２上に裏ガラスＷａを載置す
る。その後、裏ガラスＷａ上にリード線を外方に導出し
た状態で電極板Ｗｃを配設し、表ガラスＷｂを載置する
とともに、表ガラスＷｂ上に前記ウエイト板１４を載置
する。この場合、前記裏ガラスＷａの外周縁部および表
ガラスＷｂの外周縁部の当接する封着面Ｓに、予め、低
融点の封着用ガラスが塗布してある。なお、邪魔板１５
は加熱室１の水平循環流の上流側（ノズル５ｂ）側に位
置させる。
【０００８】トレイ１０上に、前記のようにしてフラッ
トパネルＷを載置すると、炉内ローラＲによりトレイ１
０は、図示しない装入室から加熱室１に搬送され、所定
位置で停止する。そして、循環ファン７の駆動によりノ
ズル５ｂから高温雰囲気ガスが前記フラットパネルＷに
吹き付けられ、封着用ガラスが溶融して表裏ガラスＷ
ｂ，Ｗａの外周縁部を封着する。この場合、フラットパ
ネルＷに吹き付けられる高温雰囲気ガスは、邪魔板１５
の存在によりフラットパネルＷのノズル５ｂと対向する
端面には直接当たらないため、局部過熱することなく、
フラットパネルＷはほぼ均一に対流加熱されることにな
る。前記のようにして、封着処理が終了すると、炉内ロ
ーラＲの駆動によりトレイ１０は図示しない冷却室に搬
入される。
トパネルＷを載置すると、炉内ローラＲによりトレイ１
０は、図示しない装入室から加熱室１に搬送され、所定
位置で停止する。そして、循環ファン７の駆動によりノ
ズル５ｂから高温雰囲気ガスが前記フラットパネルＷに
吹き付けられ、封着用ガラスが溶融して表裏ガラスＷ
ｂ，Ｗａの外周縁部を封着する。この場合、フラットパ
ネルＷに吹き付けられる高温雰囲気ガスは、邪魔板１５
の存在によりフラットパネルＷのノズル５ｂと対向する
端面には直接当たらないため、局部過熱することなく、
フラットパネルＷはほぼ均一に対流加熱されることにな
る。前記のようにして、封着処理が終了すると、炉内ロ
ーラＲの駆動によりトレイ１０は図示しない冷却室に搬
入される。
【０００９】図４は、第２考案を適用した連続封着炉の
加熱室１を示し、第１考案におけるトレイ１０は架台２
０を備え、このトレイ１０上に設置した枠状治具１２上
に、前記第１考案と同様フラットパネルＷと邪魔板１５
付きウエイト板１４が載置される。本考案においては、
前記治具１２の開口部１３およびウエイト板１４に設け
た開口部２２に、それぞれ多孔板２１が設けられてい
る。また、前記トレイ１０と架台２０とには、放射加熱
手段であるシースヒータ２３が設けられ、前記２段に載
置されたフラットパネルＷはその上下面が、前記対流加
熱に加えてシースヒータ２３により放射加熱されるよう
になっている。その他、図４では、搬送方式がローラＲ
1により移動する台車Ｔとなっている他は図１と同様で
あるため、同一部品に同一符号を付して説明を省略す
る。
加熱室１を示し、第１考案におけるトレイ１０は架台２
０を備え、このトレイ１０上に設置した枠状治具１２上
に、前記第１考案と同様フラットパネルＷと邪魔板１５
付きウエイト板１４が載置される。本考案においては、
前記治具１２の開口部１３およびウエイト板１４に設け
た開口部２２に、それぞれ多孔板２１が設けられてい
る。また、前記トレイ１０と架台２０とには、放射加熱
手段であるシースヒータ２３が設けられ、前記２段に載
置されたフラットパネルＷはその上下面が、前記対流加
熱に加えてシースヒータ２３により放射加熱されるよう
になっている。その他、図４では、搬送方式がローラＲ
1により移動する台車Ｔとなっている他は図１と同様で
あるため、同一部品に同一符号を付して説明を省略す
る。
【００１０】前記構成からなるため、図示しない装入室
から、前述のように枠状治具１２上にフラットパネルＷ
およびウエイト板１４を載置したトレイ１０を台車Ｔ上
に載置し、図示しない装入室から加熱室１に搬送し、前
記循環ファン７の駆動により前述と同様、高温雰囲気ガ
スによりフラットパネルＷを対流加熱する。また、本考
案においては、フラットパネルＷが加熱室１の所定位置
に停止すると、炉床下に設けた給電装置２４が台車Ｔの
集電装置２５と接続して前記シースヒータ２３を加熱
し、フラットパネルＷの表ガラスＷｂおよび裏ガラスＷ
ａは加熱された多孔板２１からの放射熱により前記対流
加熱に加えて放射加熱されることになる。すなわち、前
記対流加熱に放射加熱が加わることでフラットパネルＷ
はより均一に加熱される。
から、前述のように枠状治具１２上にフラットパネルＷ
およびウエイト板１４を載置したトレイ１０を台車Ｔ上
に載置し、図示しない装入室から加熱室１に搬送し、前
記循環ファン７の駆動により前述と同様、高温雰囲気ガ
スによりフラットパネルＷを対流加熱する。また、本考
案においては、フラットパネルＷが加熱室１の所定位置
に停止すると、炉床下に設けた給電装置２４が台車Ｔの
集電装置２５と接続して前記シースヒータ２３を加熱
し、フラットパネルＷの表ガラスＷｂおよび裏ガラスＷ
ａは加熱された多孔板２１からの放射熱により前記対流
加熱に加えて放射加熱されることになる。すなわち、前
記対流加熱に放射加熱が加わることでフラットパネルＷ
はより均一に加熱される。
【００１１】なお、加熱炉は前記各実施例の如き連続炉
に限らずバッチ炉でもよい。また、前記各実施例では、
フラットパネルＷを炉巾方向に１列だけ設けるようにし
たが、複数列でもよく、この場合には、図３に示すよう
に、各列のフラットパネルＷの載置高さを異ならしめ、
かつ、各列の間に適宜風向調整板２４を設けることが好
ましい。
に限らずバッチ炉でもよい。また、前記各実施例では、
フラットパネルＷを炉巾方向に１列だけ設けるようにし
たが、複数列でもよく、この場合には、図３に示すよう
に、各列のフラットパネルＷの載置高さを異ならしめ、
かつ、各列の間に適宜風向調整板２４を設けることが好
ましい。
【００１２】
【考案の効果】以上の説明で明らかなように、請求項１
の考案では、ウエイト板に邪魔板を設けて、高温雰囲気
ガスがフラットパネルの端面に直接当たって局部過熱す
るのを防止しているため、フラットパネルは均一に対流
加熱されることになる。また、請求項２の考案では、請
求項１の効果に加えて、フラットパネルの表，裏ガラス
が放射加熱されるため、フラットパネルはより均一に加
熱される。
の考案では、ウエイト板に邪魔板を設けて、高温雰囲気
ガスがフラットパネルの端面に直接当たって局部過熱す
るのを防止しているため、フラットパネルは均一に対流
加熱されることになる。また、請求項２の考案では、請
求項１の効果に加えて、フラットパネルの表，裏ガラス
が放射加熱されるため、フラットパネルはより均一に加
熱される。
【図１】 第１考案を適用した連続加熱炉の加熱室の断
面図。
面図。
【図２】 図１のフラットパネルとウエイト板との関係
を示す断面図。
を示す断面図。
【図３】 図１の他の実施例を示す部分断面図。
【図４】 第２考案を適用した連続加熱炉の加熱室の断
面図。
面図。
１…加熱室、２…バッフル、５ｂ…ノズル、７…循環フ
ァン、８…ヒータ、１０…トレイ、１２…枠状治具、１
３，２２…開口部、１４…ウエイト板、１５…邪魔板、
２０…架台、２１…多孔板、２３…シースヒータ、Ｓ…
封着面、Ｗａ…裏ガラス、Ｗｂ…表ガラス、Ｗｃ…電極
板。
ァン、８…ヒータ、１０…トレイ、１２…枠状治具、１
３，２２…開口部、１４…ウエイト板、１５…邪魔板、
２０…架台、２１…多孔板、２３…シースヒータ、Ｓ…
封着面、Ｗａ…裏ガラス、Ｗｂ…表ガラス、Ｗｃ…電極
板。
Claims (2)
- 【請求項１】 凸形状の表ガラスと平板状の裏ガラスと
で形成される内部空間に電磁板を配設したフラットパネ
ルを、枠状治具上に載置して、水平循環雰囲気の対流加
熱により前記フラットパネルの外周縁部を封着するフラ
ットパネルの封着処理炉において、前記表ガラス上に載
置するウエイト板の雰囲気上流側にフラットパネルの端
面を覆う邪魔板を設けたことを特徴とするフラットパネ
ルの封着処理炉。 - 【請求項２】 凸形状の表ガラスと平板状の裏ガラスと
で形成される内部空間に電極板を配設したフラットパネ
ルを、枠状治具上に載置して、水平循環雰囲気の対流加
熱により前記フラットパネルの外周縁部を封着するフラ
ットパネルの封着処理炉において、前記表ガラス上に載
置するウエイト板の雰囲気上流側にフラットパネルの端
面を覆う邪魔板を設けるとともに、前記ウエイト板に設
けた中央開口部と前記枠状治具の開口部に多孔板を設
け、かつ、前記フラットパネルの上方および下方に放射
加熱手段を配設したことを特徴とするフラットパネルの
封着処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5536093U JPH081554Y2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | フラットパネルの封着処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5536093U JPH081554Y2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | フラットパネルの封着処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0725555U JPH0725555U (ja) | 1995-05-12 |
| JPH081554Y2 true JPH081554Y2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=12996333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5536093U Expired - Lifetime JPH081554Y2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | フラットパネルの封着処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081554Y2 (ja) |
-
1993
- 1993-10-13 JP JP5536093U patent/JPH081554Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0725555U (ja) | 1995-05-12 |
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