JPH08148787A - 厚膜ペースト - Google Patents

厚膜ペースト

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JPH08148787A
JPH08148787A JP6286448A JP28644894A JPH08148787A JP H08148787 A JPH08148787 A JP H08148787A JP 6286448 A JP6286448 A JP 6286448A JP 28644894 A JP28644894 A JP 28644894A JP H08148787 A JPH08148787 A JP H08148787A
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Japan
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thick film
film paste
paste
solvent
weight
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JP6286448A
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Inventor
Junzo Fukuda
順三 福田
Akio Harada
昭雄 原田
Susumu Nishigaki
進 西垣
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Daiken Kagaku Kogyo KK
Nippon Steel and Sumikin Electronics Devices Inc
Original Assignee
Daiken Kagaku Kogyo KK
Sumitomo Metal Ceramics Inc
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49866Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 印刷中の粘度変化が少なく、にじみ量が小さ
い等の印刷性に優れたセラミック配線基板用厚膜ペース
トを提供することにある。 【構成】 セラミック配線基板に印刷法にて、導体、抵
抗体、絶縁体、保護体等を形成する際に用いる厚膜ペー
ストにおいて、溶剤として少なくとも2−テトラデカノ
ールを厚膜ペースト中に3重量部以上含有することを特
徴とする厚膜ペースト。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はセラミック配線基板に印
刷法にて、導体、抵抗体、絶縁体、保護体等を形成する
際に用いる印刷性に優れた厚膜ペーストに関する。
【0002】
【従来の技術】セラミックを基板とする配線基板は、焼
成されたセラミック又は未焼成のグリーンシート基板上
に、配線用の導電ペーストをスクリーン印刷し、更に絶
縁層用の絶縁ペーストを重ねて印刷・乾燥し、適宜これ
を繰り返してから焼成する方法等により製造される。こ
れら導電性ペースト、絶縁ペーストの他に、必要に応じ
て抵抗体用のペーストや保護体用のペーストなども用い
られ、主として印刷法に用いられることから厚膜ペース
トと総称されている。一般に厚膜ペーストは、ビヒクル
と呼ばれる有機樹脂及び溶剤の混合物に金属粉などの導
電性粉体、セラミック粉、ガラス粉などの絶縁性粉体、
RuO2系などの電気抵抗成分を加えて調製される。従
来用いられているビヒクルでは、有機樹脂としてエチル
セルロースやアクリル系樹脂などが用いられ、溶剤とし
てブチルカルビトールアセテートやα−テレピネオール
などが用いられている。
【0003】これらビヒクルを用いた従来の厚膜ペース
トの欠点の一つは、印刷中に粘度が変化することによ
り、印刷性が変わることである。その結果、均一な印刷
ができず、極端な場合は導体では断線、絶縁層ではショ
ートなどを引き起こす原因となる。粘度が変化する理由
は、有機溶剤使用のため、印刷及び乾燥中に通気、排気
を配慮しなければならず、溶剤の蒸発により、印刷中の
ペースト粘度が上昇するためである。もう一つの欠点
は、印刷中ににじみが生ずることがあることである。配
線用の導体ペーストににじみが生ずるとファインライン
性が低下する。にじみはAg,Au,Pd,Pt等の導
電性金属粉末に対して溶剤の濡れ性が悪いことが原因で
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、印刷
中の粘度変化が少なく、にじみ量が小さい等の印刷性に
優れたセラミック配線基板用厚膜ペーストを提供するこ
とにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、特定の化合物を有機溶剤として厚膜ペースト中に
含有させることにより上記目的が達成されることを見出
し、本発明に至った。即ち、本発明は下記(1)〜
(3)の構成の厚膜ペーストである。 (1)セラミック配線基板に印刷法にて、導体、抵抗
体、絶縁体、保護体等を形成する際に用いる厚膜ペース
トにおいて、溶剤として少なくとも2−テトラデカノー
ルを厚膜ペースト中に3重量部以上含有することを特徴
とする厚膜ペースト。 (2)上記(1)記載の厚膜ペーストにおいて、有機樹
脂と溶剤からなるビヒクルが、エチルセルロース5〜2
5重量部と溶剤95〜75重量部とからなることを特徴
とする厚膜ペースト。 (3)有機樹脂がエチルセルロース及び/又はポリビニ
ルブチラールからなることを特徴とする(2)記載の厚
膜ペースト。
【0006】本発明の厚膜ペーストにおいて溶剤の全部
又は一部として用いる2−テトラデカノール(イソテト
ラデカノール)は、他の溶剤に較べて表1に示されるよ
うに沸点が高く、蒸発速度も遅く、又、グリーンシート
を溶解や膨潤させることも少ない。なお表1に示された
蒸発速度は、液面面積1cm2の容器中に溶剤を入れ、
試験温度中に所定時間放置し、その蒸発速度を求めた実
測値である。
【0007】
【表1】
【0008】本発明においては、2−テトラデカノール
を厚膜ペースト中に少なくとも3重量部以上含有してい
ることが必要であり、好ましくは5重量部以上含有する
のがよい。含有量が3重量部に満たない時は本発明の目
的、効果が十分達成されない。全溶剤が2−テトラデカ
ノールであってもよく、その場合は残部が所望の導電性
粉体、絶縁性粉体、電気抵抗成分など及び樹脂成分とな
る。2−テトラデカノールとともに併用できる溶剤は従
来より用いられているブチルカルビトールアセテート、
α−テレピオネールなどが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。又、ビヒクルの樹脂成分として
は、従来より用いられているエチルセルロース、ポリビ
ニルブチラール、アクリル系樹脂などが挙げられるがこ
れらに限定されるものではない。さらにこの樹脂成分と
溶剤成分の割合は樹脂成分として5〜25重量部、溶剤
成分として95〜75重量部であることが印刷性の良好
なペーストを得るために好ましい。
【0009】本発明の厚膜ペーストが導体ペーストであ
る場合の導体材料は限定されないが、導体材料がグリー
ンシートと同時焼成される時には、導体材料は基板材料
によって異なり、アルミナや窒化アルミニウムではモリ
ブデンやタングステンのような高融点金属が使われる。
比較的低温で焼成できる基板材料のときは、金、銀、銀
−パラジウム合金、銅、ニッケルなどの金属が用いられ
る。上記セラミック基板に用いられるセラミック材料と
しては特に限定されず、アルミナ(Al23)、窒化ア
ルミニウム(AlN)や炭化ケイ素(SiC)及びこれ
らを主成分とする各種セラミックが挙げられる。又、ア
ルミナセラミックにガラス粉末を混入した低温焼成セラ
ミックも用いることができる。本発明の厚膜ペーストが
印刷されるセラミック配線基板としては、セラミックを
絶縁体として使用するものであれば単層でも多層でもよ
く、多層のセラミック配線基板の場合は厚膜多層印刷法
及び、グリーンシート多層積層法が挙げられる。又、基
板の片面のみの回路基板でも両面回路基板でもよい。
【0010】多層のセラミック配線基板の場合の上記二
つの方法について説明すると、厚膜多層印刷法は、焼成
してつくられたセラミック基板上に導電ペーストと絶縁
ペーストとを交互にスクリーン印刷し、焼成してつくら
れる。必要に応じ抵抗層をスクリーン印刷することもで
きる。導体材料としてはAg系かCu系ペーストが一般
に使用されている。この場合、セラミック焼成基板の代
わりにセラミックグリーンシートを使用することもでき
る。又、グリーンシート多層積層法は、それぞれのグリ
ーンシートに基準穴とスルーホール穴をあけ、導電ペー
ストでスルーホール加工を行い、その上に導体を印刷
し、最後にそれぞれのグリーンシートを重ね合わせ、熱
圧着して一体化し焼成される。
【0011】
【実施例】本発明を実施例及び比較例によって更に詳し
く説明する。 実施例1 CaO−Al23−SiO2−B23系ガラス粉末と、
α−Al23粉末を用意し、アクリル樹脂とトルエン、
エタノール等の有機溶剤とをボールミル内で混合し、ド
クターブレード法にて0.3mmの厚さのセラミックグ
リーンシートを作製した。印刷ペーストとして平均粒径
5μmの偏平状Ag粉100重量部と、エチルセルロー
ス3重量部を2−テトラデカノール17重量部に溶解し
たビヒクルとを用いた。これらを三本ロールにて混合し
ペースト化し、所定の粘度に調製した(ペースト1)。
通常のスクリーン印刷機を用い、所定大きさに切断した
グリーンシート上に導体ペーストを連続1000枚印刷
し、印刷前と後のペースト粘度を測定し、その変化率を
求めた。又、印刷面を調べ、所定の印刷パターン以外、
その周辺へのペーストのニジミ状況を調べた。その結
果、粘度変化率は印刷前の2510ポイズから印刷後の
2660ポイズになり、+6%の上昇を示した。又、印
刷面のにじみの発生はみられなかった。
【0012】実施例2〜5 無機粉体を表2に示されるようにかえ、又ビヒクルの有
機樹脂成分及び有機溶剤を同じく表2に示されるように
してペースト2〜5を調製し、実施例1と同様の実験を
行った。但し、実施例3及び4は焼成された96%Al
23基板上に、ペースト3及び4を各々印刷する方式に
より試験を行った。印刷性評価の結果を表3に示す。 比較例 有機溶剤として2−テトラデカノールにかえて従来のブ
チルカルビトールアセテート25重量部とし、エチルセ
ルロースを3重量部として、実施例1と同様の実験を行
った。印刷性評価の結果を同じく表3に示す。
【0013】
【表2】
【0014】
【表3】
【0015】
【発明の効果】上記のとおり、本発明の厚膜ペースト
は、セラミック配線基板に導体、抵抗体、絶縁体、保護
体等として印刷する際の粘度変化率が小さく、かつ印刷
後のにじみ量が小さいという優れた印刷性を有し、その
結果、高密度配線のセラミック配線基板を効率良く製造
することに貢献する。
フロントページの続き (72)発明者 西垣 進 大阪市城東区放出西2丁目7番19号 大研 化学工業株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミック配線基板に印刷法にて、導
    体、抵抗体、絶縁体、保護体等を形成する際に用いる厚
    膜ペーストにおいて、溶剤として少なくとも2−テトラ
    デカノールを厚膜ペースト中に3重量部以上含有するこ
    とを特徴とする厚膜ペースト。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の厚膜ペーストにおいて、
    有機樹脂と溶剤からなるビヒクルが、有機樹脂5〜25
    重量部と溶剤95〜75重量部とからなることを特徴と
    する厚膜ペースト。
  3. 【請求項3】 有機樹脂がエチルセルロース及び/又は
    ポリビニルブチラールからなることを特徴とする請求項
    2記載の厚膜ペースト。
JP6286448A 1994-11-21 1994-11-21 厚膜ペースト Pending JPH08148787A (ja)

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