JPH08148338A - 積層チップインダクタとその製造方法 - Google Patents

積層チップインダクタとその製造方法

Info

Publication number
JPH08148338A
JPH08148338A JP6309529A JP30952994A JPH08148338A JP H08148338 A JPH08148338 A JP H08148338A JP 6309529 A JP6309529 A JP 6309529A JP 30952994 A JP30952994 A JP 30952994A JP H08148338 A JPH08148338 A JP H08148338A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ferrite
chip inductor
raw material
multilayer chip
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6309529A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoichi Sekiguchi
象一 関口
Shunichi Ono
俊一 大野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Yuden Co Ltd filed Critical Taiyo Yuden Co Ltd
Priority to JP6309529A priority Critical patent/JPH08148338A/ja
Publication of JPH08148338A publication Critical patent/JPH08148338A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Soft Magnetic Materials (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 インダクタンス値(L値)の大きな、特性バ
ラツキの少ない積層チップインダクタとその製造方法を
提供することを目的とする。 【構成】 フェライト素体の内部に導体パターンからな
るコイルが形成されている積層チップインダクタにおい
て、前記フェライト素体に軟化点温度が600℃以下の
ガラスを含有させた。ガラスとしてはホウケイ酸ガラス
が好ましい。ガラスの含有量は0.01〜0.5wt%
が好ましい。この積層チップインダクタはフェライト原
料中に軟化点温度が600℃以下のガラス粉末を含有さ
せることにより得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は積層連結された導体パ
ターンからなるコイルがフェライト素体の内部に形成さ
れている積層チップインダクタとその製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】積層チップインダクタは、一般に、フェ
ライトと導体パターンとを順次積層して、積層連結され
た導体パターンからなるコイルがフェライト素体の内部
に形成された積層体を形成し、焼成した後、該積層体に
外部端子を各々形成して製造されている。
【0003】ここで、フェライトとしては、最近、Ni
−Zn−Cu系の磁性体材料が広く使用されてきてい
る。これは、800〜900℃という低温で焼成でき
る、すなわちAg系の導電性ペーストを内部導体の材料
として使用できるという理由、そして、フェライト素体
の抵抗率が高くなり、積層チップインダクタの電気的特
性が良好になるという理由からである。
【0004】なお、フェライトと導体パターンの積層
は、導体パターンを形成したフェライトグリンシートを
積層していくグリーンシート法か、フェライトのスラリ
ーと導電性ペーストのパターンとを順次印刷するスラリ
ービルト法のいずれかにより行なわれている。外部端子
は、形成された積層体のコイル露出面に導電性ペースト
を塗布して焼付け、Niメッキ、Sn/Pbメッキを施
して形成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におけ
る電子機器の小型化、高性能化、高信頼性化、多機能化
の流れは、電子部品の小型化及び諸特性の更なる向上を
求めており、積層チップインダクタについてはインダク
タンス値(L値)の大きな、特性バラツキの少ないもの
が求められている。
【0006】この発明は、インダクタンス値(L値)の
大きな、特性バラツキの少ない積層チップインダクタと
その製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
上記課題を解決するために、フェライト素体の内部に導
体パターンからなるコイルが形成されている積層チップ
インダクタにおいて、軟化点温度が600℃以下のガラ
スを含有するフェライトで前記フェライト素体を構成し
た。
【0008】ここで、前記フェライト素体は、請求項2
に記載するように、Ni−Zn−Cu系のフェライトで
構成するのが好ましい。また、前記フェライト中に含有
させるガラスとしては、請求項3に記載するように、6
00℃以下の軟化点温度を有するホウケイ酸ガラスが好
ましい。軟化点温度が600℃を超えると、フェライト
素体の焼結性が劣化し、所望する温度で焼結を行うこと
が困難になるからである。また、前記フェライト中に含
有させるホウケイ酸ガラスの含有量は、請求項4に記載
するように、0.01〜0.5wt%が好ましい。ホウ
ケイ酸ガラスの含有量がこの範囲を外れると、積層チッ
プインダクタのインダクタンス(L)が所望の値より小
さくなるからである。
【0009】また、請求項5記載の発明は、上記課題を
解決するために、フェライト原料と導体パターンとを交
互に積層して、導体パターンからなるコイルが前記フェ
ライト原料の内部に形成された積層体を形成し、焼成し
た後、該積層体に外部端子を各々形成してなる積層チッ
プインダクタの製造方法において、前記フェライト原料
中に軟化点温度が600℃以下のガラス粉末を含有させ
た。
【0010】ここで、前記フェライト素体は、請求項6
に記載するように、Ni−Zn−Cu系のフェライトで
構成するのが好ましい。また、前記フェライト中に含有
させるガラスとしては、請求項7に記載するように、6
00℃以下のホウケイ酸ガラスが好ましい。また、前記
フェライト原料中に含有しているホウケイ酸ガラスの含
有量は、請求項8に記載するように、0.01〜0.5
wt%が好ましい。ホウケイ酸ガラスの含有量がこの範
囲を外れると、積層チップインダクタのインダクタンス
(L)が所望の値より小さくなるからである。
【0011】また、請求項9に記載するように、フェラ
イトの原料となる原料酸化物を仮焼した後に解砕してフ
ェライト粉末を作成し、該フェライト粉末と有機バイン
ダーとを混練してペースト状のフェライト原料を作成す
ることができる。この場合、請求項10に記載するよう
に、フェライトの原料となる原料酸化物中に前記ホウケ
イ酸ガラスを添加混合してもよいし、請求項11に記載
するように、仮焼した原料酸化物を解砕する際に前記ホ
ウケイ酸ガラスを添加混合してもよいし、請求項12に
記載するように、前記フェライト粉末と前記有機バイン
ダーとを混練する際に前記ホウケイ酸ガラスを添加混合
してもよい。
【0012】
【作用】この発明においては、3個以上のフェライト結
晶粒子に囲まれた部分(多重粒子接合点)にガラスが集
合し、内部導体からフェライト中に拡散・析出したAg
やフェライトから析出した余剰の金属(Cu,CuO)
等が前記ガラス中に吸収され、この析出金属Ag,Cu
等によってフェライト結晶粒子が受けていた内部応力が
減少する。
【0013】
【実施例】
実験例1 まず、下記の表1に示す組成比で、Fe23 ,Ni
O,ZnO,CuO及びガラスの粉末を秤量し、これに
水を加え、ボールミルで15時間撹拌した後、スプレー
式乾燥機により乾燥し、混合粉末を得た。
【0014】
【表1】
【0015】次に、この混合粉末を800℃で2時間仮
焼し、得られた仮焼物をボールミルに入れ、水を加えて
15時間解砕した。そして、得られたスラリーをスプレ
ー乾燥機により乾燥して仮焼物の粉末を得た。
【0016】次に、この仮焼物の粉末に有機バインダ
ー、有機溶剤及び分散剤等を加えて混練し、得られたス
ラリーを用い、ドクターブレード法によって厚さ75μ
mのフェライトグリーンシートを作成した。
【0017】次に、上記のようにして作成したフェライ
トグリーンシートの所定の位置に複数のスルーホールを
形成し、一方の主面上に、導電性ペースト(Ag,Ag
−Pd,Ag−Au等)により、積層してスルーホール
接続することによってらせん状のコイルが構成される導
体パターンを形成した。
【0018】次に、このフェライトグリーンシートを所
定の順序で積層し、フェライト素体の内部に巻数が6の
コイルが複数個埋設された積層体を得た。得られた積層
体は所定のチップ寸法に裁断し、900℃の温度で焼成
した。
【0019】次に、積層体のコイル末端部の導出面に銀
ペーストを塗布し、これを600℃の温度で焼き付け、
Niメッキ、Sn/Pbメッキを施して外部電極を形成
した。
【0020】以上のようにして多数の積層チップインダ
クタを作成し、その中から無作為に100個を選出し、
市販のインピーダンスアナライザーによりインダクタン
ス値(L値)を測定し、その平均を求めたところ、表1
の右欄に示す通りとなった。
【0021】また、この積層チップインダクタ100個
のL値のCV(%)を求めたところ、表1の右欄に示す
通りとなった。なお、このCV(%)は、L値のバラツ
キを示す指標であり、(σ/x)×100(σは標準偏
差、xは平均値)を内容とするものである。
【0022】実験例2 原料の酸化物の組成を表2に示す通りとし、原料の酸化
物を仮焼して得られた仮焼物にガラス粉末を加えて解砕
混合した他は実験例1と同じ条件で積層インダクタを作
成し、L値を求めたところ、表2の右欄に示す通りとな
った。また、この積層チップインダクタ100個のL値
のCV(%)を求めたところ、表2の右欄に示す通りと
なった。
【0023】
【表2】
【0024】実験例3 原料の酸化物の組成を表3に示す通りとし、フェライト
グリーンシートを形成する前のスラリーにガラス粉末を
配合した他は実験例1と同じ条件で積層インダクタを作
成し、L値を求めたところ、表3の右欄に示す通りとな
った。また、この積層チップインダクタ100個のL値
のCV(%)を求めたところ、表3の右欄に示す通りと
なった。
【0025】
【表3】
【0026】次に、実施例1〜3の積層チップインダク
タのフェライト素体中の金属Agを結晶粒子と多重粒子
結合点について調べたところ、金属Agのほとんどが多
重粒子結合点のガラス中に集積していた。なお、図1は
フェライト素体の結晶粒子を拡大して示した説明図であ
り、同図において、2は結晶粒、4は多重粒子結合点で
ある。
【0027】
【発明の効果】この発明によれば、フェライトの結晶粒
子が、内部導体から拡散して析出したAg等から受けて
いた内部応力が減少するので、フェライトの透磁率μが
高くなり、インダクタンス(L)の大きい積層チップイ
ンダクタンスが得られるという効果がある。
【0028】また、この発明によれば、インダクタンス
(L)について特性バラツキの少ない積層チップインダ
クタが得られるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はフェライト素体の結晶粒子を拡大して示
した説明図である。
【符号の説明】
2 結晶粒子 4 多重粒子結合点

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フェライト素体の内部に導体パターンか
    らなるコイルが形成されている積層チップインダクタに
    おいて、前記フェライト素体が、軟化点温度が600℃
    以下のガラスを含有するフェライトからなることを特徴
    とする積層チップインダクタ。
  2. 【請求項2】 前記フェライト素体がNi−Zn−Cu
    系のフェライトからなることを特徴とする請求項1記載
    の積層チップインダクタ。
  3. 【請求項3】 前記ガラスがホウケイ酸ガラスであるこ
    とを特徴とする請求項1又は2記載の積層チップインダ
    クタ。
  4. 【請求項4】 前記ガラスの含有量が0.01〜0.5
    wt%であることを特徴とする請求項1〜3記載の積層
    チップインダクタ。
  5. 【請求項5】 フェライト原料と導体パターンとを交互
    に積層して、前記フェライト原料の内部に導体パターン
    からなるコイルが形成された積層体を形成し、焼成した
    後、該積層体に外部端子を各々形成してなる積層チップ
    インダクタの製造方法において、前記フェライト原料中
    に軟化点温度が600℃以下のガラス粉末を含有させた
    ことを特徴とする積層チップインダクタの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記フェライト素体がNi−Zn−Cu
    系のフェライトからなることを特徴とする請求項5記載
    の積層チップインダクタの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記ガラスがホウケイ酸ガラスであるこ
    とを特徴とする請求項5又は6記載の積層チップインダ
    クタ。
  8. 【請求項8】 前記フェライト原料中に含有しているガ
    ラスの含有量が0.01〜0.5wt%であることを特
    徴とする請求項5〜7記載の積層チップインダクタの製
    造方法。
  9. 【請求項9】 フェライトの原料となる原料酸化物を仮
    焼した後に解砕してフェライト粉末を作成し、該フェラ
    イト粉末と有機バインダーとを混練してペースト状のフ
    ェライト原料としたことを特徴とする請求項5〜8記載
    の積層チップインダクタの製造方法。
  10. 【請求項10】 フェライトの原料となる原料酸化物中
    に前記ホウケイ酸ガラスを添加混合したことを特徴とす
    る請求項9記載の積層チップインダクタの製造方法。
  11. 【請求項11】 仮焼した原料酸化物を解砕する際に前
    記ホウケイ酸ガラスを添加混合したことを特徴とする請
    求項9記載の積層チップインダクタの製造方法。
  12. 【請求項12】 前記フェライト粉末と前記有機バイン
    ダーとを混練する際に前記ホウケイ酸ガラスを添加混合
    したことを特徴とする請求項9記載の積層チップインダ
    クタの製造方法。
JP6309529A 1994-11-18 1994-11-18 積層チップインダクタとその製造方法 Pending JPH08148338A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6309529A JPH08148338A (ja) 1994-11-18 1994-11-18 積層チップインダクタとその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6309529A JPH08148338A (ja) 1994-11-18 1994-11-18 積層チップインダクタとその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08148338A true JPH08148338A (ja) 1996-06-07

Family

ID=17994116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6309529A Pending JPH08148338A (ja) 1994-11-18 1994-11-18 積層チップインダクタとその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08148338A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002260912A (ja) * 2001-03-01 2002-09-13 Tdk Corp 磁性酸化物焼結体およびこれを用いた高周波回路部品
JP2002260914A (ja) * 2001-03-01 2002-09-13 Tdk Corp 磁性酸化物焼結体およびこれを用いた高周波回路部品
US6623878B1 (en) 1999-10-04 2003-09-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Sintered ferrite body and laminated ferrite component including same
CN109851339A (zh) * 2017-11-29 2019-06-07 株式会社村田制作所 玻璃-陶瓷-铁氧体组合物和电子部件

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6623878B1 (en) 1999-10-04 2003-09-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Sintered ferrite body and laminated ferrite component including same
JP2002260912A (ja) * 2001-03-01 2002-09-13 Tdk Corp 磁性酸化物焼結体およびこれを用いた高周波回路部品
JP2002260914A (ja) * 2001-03-01 2002-09-13 Tdk Corp 磁性酸化物焼結体およびこれを用いた高周波回路部品
CN109851339A (zh) * 2017-11-29 2019-06-07 株式会社村田制作所 玻璃-陶瓷-铁氧体组合物和电子部件
CN109851339B (zh) * 2017-11-29 2021-07-02 株式会社村田制作所 玻璃-陶瓷-铁氧体组合物和电子部件

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3465649B2 (ja) セラミックインダクタ部品及び複合部品
JP7260015B2 (ja) 積層型コイル部品及びバイアスティー回路
JPH01315903A (ja) 導電性ペーストおよびチップ部品
JP7111060B2 (ja) 積層型コイル部品
JP2691715B2 (ja) フェライト焼結体、チップインダクタおよびlc複合部品
CN212461291U (zh) 层叠型线圈部件
JPH10241942A (ja) 積層電子部品とその特性調整方法
JP7517509B2 (ja) 積層型コイル部品
WO2005005341A1 (ja) 磁性フェライトおよびそれを用いた磁性素子
JPH08148338A (ja) 積層チップインダクタとその製造方法
JPH0963826A (ja) 磁性セラミクスおよび積層型電子部品
JPH0210606A (ja) 導電性ペーストおよびそれを用いた厚膜部品
JP4074440B2 (ja) 磁性酸化物焼結体およびこれを用いた高周波回路部品
JP3337713B2 (ja) ノイズサブレッサ
JP3320096B2 (ja) 積層型インダクタおよびその製造方法
JP4074438B2 (ja) 磁性酸化物焼結体およびこれを用いた高周波回路部品
JP2002100509A (ja) 複合型磁性体磁器材料及びその製造方法
JPH05326242A (ja) フェライト焼結体、チップインダクタ部品、複合積層部品および磁心
JP2725227B2 (ja) 積層インダクタおよび該積層インダクタの製造方法
JPH02109202A (ja) セラミックインダクタ部品およびセラミックlc部品
JP2921594B2 (ja) 積層チップ・インダクタの製造方法
JP7306541B2 (ja) バイアスティー回路
JPH0210607A (ja) 導電性ペーストおよびそれを用いた厚膜部品
JP3035479B2 (ja) 積層型インダクタンス素子
JPH09129432A (ja) 積層インダクタ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20030819