JPH08134117A - スチレン系樹脂の製造方法 - Google Patents
スチレン系樹脂の製造方法Info
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- JPH08134117A JPH08134117A JP6269807A JP26980794A JPH08134117A JP H08134117 A JPH08134117 A JP H08134117A JP 6269807 A JP6269807 A JP 6269807A JP 26980794 A JP26980794 A JP 26980794A JP H08134117 A JPH08134117 A JP H08134117A
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- JP
- Japan
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- styrene
- polymerization
- polysiloxane
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 工業的に容易に、ラジカル重合により、ポリ
シロキサン系ブロックを導入した、撥水性、離型性、表
面滑性など表面特性に優れたスチレン系樹脂を製造する
方法を提供する。 【構成】 スチレン系単量体を重合させるにあたり、下
記一般式（Ａ）で示されるポリシロキサン系ブロックを
含むアゾ系開始剤をスチレン系単量体に対し０．１〜１
０ｗｔ％の割合で添加し、重合温度８０以上１６０℃未
満の温度範囲で重合するスチレン系樹脂の製造方法。 【化１】
シロキサン系ブロックを導入した、撥水性、離型性、表
面滑性など表面特性に優れたスチレン系樹脂を製造する
方法を提供する。 【構成】 スチレン系単量体を重合させるにあたり、下
記一般式（Ａ）で示されるポリシロキサン系ブロックを
含むアゾ系開始剤をスチレン系単量体に対し０．１〜１
０ｗｔ％の割合で添加し、重合温度８０以上１６０℃未
満の温度範囲で重合するスチレン系樹脂の製造方法。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スチレン系樹脂の製造
方法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、ポ
リシロキサン系ブロックを含むアゾ系開始剤を用いた、
表面特性を有する透明なスチレン系樹脂の製造方法に関
するものである。
方法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、ポ
リシロキサン系ブロックを含むアゾ系開始剤を用いた、
表面特性を有する透明なスチレン系樹脂の製造方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】スチレ
ン系樹脂は安価で、透明性、成形性、剛性に優れた樹脂
であることから、家庭用品、電気製品、包材等の成形材
料として広く用いられてきた。利用分野が拡大するに従
い、共重合体や種々のポリマーとのブレンド、添加剤に
より、スチレン系樹脂の物性を更に向上させたり、また
新しい機能を付与する方法が開発されてきた。
ン系樹脂は安価で、透明性、成形性、剛性に優れた樹脂
であることから、家庭用品、電気製品、包材等の成形材
料として広く用いられてきた。利用分野が拡大するに従
い、共重合体や種々のポリマーとのブレンド、添加剤に
より、スチレン系樹脂の物性を更に向上させたり、また
新しい機能を付与する方法が開発されてきた。
【０００３】例えば、スチレン系樹脂に溌水性、摺動性
を付与するため、ポリシロキサン系樹脂を用いた、いく
つかの方法が試みられてきた。それには、成型品にシリ
コーンオイルなどを塗布する方法や特開平５−１４０３
９２号公報に示されるようにスチレン系樹脂とポリシロ
キサン系樹脂をブレンドする方法がある。しかし塗布す
る方法では、工程が１つ多く必要であり、また得られる
成形体は拭き取りによりその表面特性が減少する。ブレ
ンド物は、ポリシロキサン系樹脂とスチレン系樹脂の相
溶性が悪いため、透明で均一なものが得られない。また
ブリーアウト、強度の低下等の問題点もある。相溶性を
改善するためには、高価な相溶化剤を用いて押し出し混
練しなければならない。このような作業は樹脂に大きな
シェアがかかり、物性を低下させることにもなる。
を付与するため、ポリシロキサン系樹脂を用いた、いく
つかの方法が試みられてきた。それには、成型品にシリ
コーンオイルなどを塗布する方法や特開平５−１４０３
９２号公報に示されるようにスチレン系樹脂とポリシロ
キサン系樹脂をブレンドする方法がある。しかし塗布す
る方法では、工程が１つ多く必要であり、また得られる
成形体は拭き取りによりその表面特性が減少する。ブレ
ンド物は、ポリシロキサン系樹脂とスチレン系樹脂の相
溶性が悪いため、透明で均一なものが得られない。また
ブリーアウト、強度の低下等の問題点もある。相溶性を
改善するためには、高価な相溶化剤を用いて押し出し混
練しなければならない。このような作業は樹脂に大きな
シェアがかかり、物性を低下させることにもなる。
【０００４】またスチレン系重合体とシロキサン系重合
体のグラフト共重合体を得る方法も提案されている。特
開平２−１１７９２２号公報では、無水マレイン酸単位
を含有するスチレン系重合体に対して、反応性ポリシロ
キサンを反応させる方法が示されている。これらの製造
方は、多段の反応工程を必要とし、工業的に容易とはい
えない。
体のグラフト共重合体を得る方法も提案されている。特
開平２−１１７９２２号公報では、無水マレイン酸単位
を含有するスチレン系重合体に対して、反応性ポリシロ
キサンを反応させる方法が示されている。これらの製造
方は、多段の反応工程を必要とし、工業的に容易とはい
えない。
【０００５】ブロック共重合体の製造方法としては、ア
ニオン重合（特開昭４６−４６４６号公報）、カップリ
ング反応（特開昭５３−７２１００号公報）が挙げられ
る。しかしこれらは反応工程が多段になったり、反応条
件が工業的に利用するには困難であったりする。以上の
ようにスチレン系樹脂にポリシロキサン系ブロックを導
入する方法は、スチレン系樹脂の特性を損ない、また製
造工程は末端基の変性などを含む、複雑なものであっ
た。本発明の目的は、これらの問題点を解決し、ポリシ
ロキサン系ブロックを導入したスチレン系樹脂の、ラジ
カル重合による容易な製造方法を提供することにある。
ニオン重合（特開昭４６−４６４６号公報）、カップリ
ング反応（特開昭５３−７２１００号公報）が挙げられ
る。しかしこれらは反応工程が多段になったり、反応条
件が工業的に利用するには困難であったりする。以上の
ようにスチレン系樹脂にポリシロキサン系ブロックを導
入する方法は、スチレン系樹脂の特性を損ない、また製
造工程は末端基の変性などを含む、複雑なものであっ
た。本発明の目的は、これらの問題点を解決し、ポリシ
ロキサン系ブロックを導入したスチレン系樹脂の、ラジ
カル重合による容易な製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる現
状を鑑み、鋭意検討を重ねた結果、ポリシロキサン系ブ
ロックを含むアゾ系開始剤を用いることにより、ポリシ
ロキサン系ブロックを導入した透明なスチレン系樹脂が
容易に得られることを見いだし、本発明に到達した。即
ち、本発明は、スチレン系単量体を重合させるにあた
り、一般式（Ａ）
状を鑑み、鋭意検討を重ねた結果、ポリシロキサン系ブ
ロックを含むアゾ系開始剤を用いることにより、ポリシ
ロキサン系ブロックを導入した透明なスチレン系樹脂が
容易に得られることを見いだし、本発明に到達した。即
ち、本発明は、スチレン系単量体を重合させるにあた
り、一般式（Ａ）
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ9及びＲ10はそれぞ
れ独立して水素原子、低級アルキル基またはシアノ基を
表し、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立して水素原
子または低級アルキル基を表し、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ
独立して水素原子、アルキル基、ハロアルキル基または
フェニル基を表し、ｌ及びｐはそれぞれ独立して１〜６
の整数を表し、ｍ及びｏはそれぞれ独立して０または１
〜６の整数を表し、ｎは０または１〜２００の整数を表
し、ｑは２〜２０の整数を表す）で示されるポリシロキ
サン系ブロックを含むアゾ系開始剤をスチレン系単量体
当り０．１〜１０重量％の割合で添加し、重合温度８０
以上１６０℃未満の温度範囲で重合することを特徴とす
るスチレン系樹脂の製造方法、である。
れ独立して水素原子、低級アルキル基またはシアノ基を
表し、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立して水素原
子または低級アルキル基を表し、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ
独立して水素原子、アルキル基、ハロアルキル基または
フェニル基を表し、ｌ及びｐはそれぞれ独立して１〜６
の整数を表し、ｍ及びｏはそれぞれ独立して０または１
〜６の整数を表し、ｎは０または１〜２００の整数を表
し、ｑは２〜２０の整数を表す）で示されるポリシロキ
サン系ブロックを含むアゾ系開始剤をスチレン系単量体
当り０．１〜１０重量％の割合で添加し、重合温度８０
以上１６０℃未満の温度範囲で重合することを特徴とす
るスチレン系樹脂の製造方法、である。
【０００９】以下本発明を詳細に説明する。本発明の製
造方法で用いるスチレン系単量体は、スチレン単独、ま
たはスチレンとスチレン誘導体の混合物である。スチレ
ン誘導体の代表的なものとしては、αーメチルスチレ
ン、ｐーメチルスチレン、ｐーｔーブチルスチレン等を
挙げることができる。またスチレンを主体とし、スチレ
ンと共重合可能なアクリロニトリル、アクリル酸エステ
ル等との混合物でもよい。
造方法で用いるスチレン系単量体は、スチレン単独、ま
たはスチレンとスチレン誘導体の混合物である。スチレ
ン誘導体の代表的なものとしては、αーメチルスチレ
ン、ｐーメチルスチレン、ｐーｔーブチルスチレン等を
挙げることができる。またスチレンを主体とし、スチレ
ンと共重合可能なアクリロニトリル、アクリル酸エステ
ル等との混合物でもよい。
【００１０】本発明の製造方法は、分子量調整、および
／または重合溶液の粘度調整のために、適当量の溶媒を
使用することも可能である。溶媒としては、トルエン、
エチルベンゼン、キシレン等が使用できる。溶媒の使用
量は特に限定されるものではないが、１５重量％を超え
ない範囲での使用が好ましい。本発明においては、スチ
レン系単量体をポリシロキサン系ブロックを含むアゾ系
開始剤の存在下で重合することが必要である。この開始
剤は前記の一般式（Ａ）で示され、その繰り返し単位ｎ
は、通常１〜２００、より好ましくは１０〜１５０の範
囲である。
／または重合溶液の粘度調整のために、適当量の溶媒を
使用することも可能である。溶媒としては、トルエン、
エチルベンゼン、キシレン等が使用できる。溶媒の使用
量は特に限定されるものではないが、１５重量％を超え
ない範囲での使用が好ましい。本発明においては、スチ
レン系単量体をポリシロキサン系ブロックを含むアゾ系
開始剤の存在下で重合することが必要である。この開始
剤は前記の一般式（Ａ）で示され、その繰り返し単位ｎ
は、通常１〜２００、より好ましくは１０〜１５０の範
囲である。
【００１１】本発明において用いる開始剤の１０時間半
減期温度は、６５〜８５℃の温度範囲にあることが望ま
しい。６５℃未満のものでは短時間で分解反応が生じ、
局部的にラジカル濃度が高くなり低分子量重合体を生成
し、好ましくない。また８５℃を超えるものは重合に長
時間を要し、生産性の低下をもたらし好ましくない。ま
たこの開始剤は、通常の有機溶媒に溶解する。このよう
な開始剤としては、例えば、次に示す構造のものが挙げ
られる。
減期温度は、６５〜８５℃の温度範囲にあることが望ま
しい。６５℃未満のものでは短時間で分解反応が生じ、
局部的にラジカル濃度が高くなり低分子量重合体を生成
し、好ましくない。また８５℃を超えるものは重合に長
時間を要し、生産性の低下をもたらし好ましくない。ま
たこの開始剤は、通常の有機溶媒に溶解する。このよう
な開始剤としては、例えば、次に示す構造のものが挙げ
られる。
【００１２】
【化３】
【００１３】
【化４】
【００１４】
【化５】
【００１５】あるいは、上記構造式の構造単位を２つ以
上ランダムに有していてもよい。本発明で使用する一般
式（Ａ）で示されるアゾ系開始剤は単独あるいは２種以
上を混合して用いることも可能である。また、スチレン
系重合体の製法で一般的に用いられる開始剤を併用する
こともできる。本発明においては、一般式（Ａ）で示さ
れる開始剤の使用量はスチレン系単量体に対し０．１〜
１０重量％、より好ましくは１〜５重量％の範囲であ
る。１重量％以下では、重合速度及び分子量制御の観点
から、他の開始剤を併用することが望ましい。開始剤の
スチレン系単量体に対する量が０．１重量％未満では得
られる樹脂にポリシロキサン系ブロックの効果が発現し
にくい。また１０重量％を越えると初期の反応速度が著
しく増加し、得られる重合体の分子量もかなり低下する
ので、重合反応の制御からも、物性上からも好ましくな
い。
上ランダムに有していてもよい。本発明で使用する一般
式（Ａ）で示されるアゾ系開始剤は単独あるいは２種以
上を混合して用いることも可能である。また、スチレン
系重合体の製法で一般的に用いられる開始剤を併用する
こともできる。本発明においては、一般式（Ａ）で示さ
れる開始剤の使用量はスチレン系単量体に対し０．１〜
１０重量％、より好ましくは１〜５重量％の範囲であ
る。１重量％以下では、重合速度及び分子量制御の観点
から、他の開始剤を併用することが望ましい。開始剤の
スチレン系単量体に対する量が０．１重量％未満では得
られる樹脂にポリシロキサン系ブロックの効果が発現し
にくい。また１０重量％を越えると初期の反応速度が著
しく増加し、得られる重合体の分子量もかなり低下する
ので、重合反応の制御からも、物性上からも好ましくな
い。
【００１６】また、本発明のラジカル重合方法として
は、通常のスチレン系重合体の製造に用いられる塊状重
合、溶液重合、懸濁重合等に従い、原料スチレン系単量
体に開始剤及び所望に応じ溶媒その他必要な添加剤を加
えた混合物を、反応容器に導入し、必要に応じ加圧しな
がら加熱することによって行うことができる。反応温度
としては、８０〜１６０℃、より好ましくは１００〜１
５０℃の範囲である。反応温度が８０℃より低いと生産
性が低下し、工業的に不適当である。定温重合を行う場
合は、８０℃〜１１０℃の範囲で行うことが望ましい。
また昇温重合を行う場合は、初段の温度を８０〜１１０
℃の範囲で設定し、スチレン系単量体の転化率が２０％
以上になるまで重合することが望ましい。いずれの場合
も、１６０℃より高温では低分子量重合体が多量に生成
して好ましくない。目標分子量が重合温度のみで調整で
きない場合は、開始剤量、溶媒量等で制御すればよい。
は、通常のスチレン系重合体の製造に用いられる塊状重
合、溶液重合、懸濁重合等に従い、原料スチレン系単量
体に開始剤及び所望に応じ溶媒その他必要な添加剤を加
えた混合物を、反応容器に導入し、必要に応じ加圧しな
がら加熱することによって行うことができる。反応温度
としては、８０〜１６０℃、より好ましくは１００〜１
５０℃の範囲である。反応温度が８０℃より低いと生産
性が低下し、工業的に不適当である。定温重合を行う場
合は、８０℃〜１１０℃の範囲で行うことが望ましい。
また昇温重合を行う場合は、初段の温度を８０〜１１０
℃の範囲で設定し、スチレン系単量体の転化率が２０％
以上になるまで重合することが望ましい。いずれの場合
も、１６０℃より高温では低分子量重合体が多量に生成
して好ましくない。目標分子量が重合温度のみで調整で
きない場合は、開始剤量、溶媒量等で制御すればよい。
【００１７】反応時間は一般に０．５〜２０時間が好ま
しく、より好ましくは２〜１０時間である。反応時間が
０．５時間より短いと反応が充分に進行しない。スチレ
ン系単量体の転化率については、特に限定されるもので
はないが、工業的な見地から、５０％以上であることが
望ましい。このようにして得られた重合溶液は、ついで
未反応単量体や溶媒を除去することにより、目的とする
スチレン系樹脂を分離することができる。また、未反応
単量体及び／または溶媒を回収する前または後の任意の
段階で、スチレン系単量体に慣用されている添加剤、例
えば酸化防止剤、滑剤、可塑剤、着色剤等を添加でき
る。
しく、より好ましくは２〜１０時間である。反応時間が
０．５時間より短いと反応が充分に進行しない。スチレ
ン系単量体の転化率については、特に限定されるもので
はないが、工業的な見地から、５０％以上であることが
望ましい。このようにして得られた重合溶液は、ついで
未反応単量体や溶媒を除去することにより、目的とする
スチレン系樹脂を分離することができる。また、未反応
単量体及び／または溶媒を回収する前または後の任意の
段階で、スチレン系単量体に慣用されている添加剤、例
えば酸化防止剤、滑剤、可塑剤、着色剤等を添加でき
る。
【００１８】本発明のスチレン系重合体の平均分子量
は、特に限定されるものではないが、重量平均（Ｍｗ）
で１５万〜６０万が好ましく、より好ましくは２５万〜
４５万とする。Ｍｗが６０万を越える場合は、溶融体の
粘度が高くなり、成形、加工性等が極端に低下し、生産
性が悪化し、実用的でない。また１５万未満の場合は、
成形体の強度が低下する。ここでいうＭｗとは、３８
℃、テトラヒドロフランを溶媒としてゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィーにより測定される。通常行われ
ている様に、単分散ポリスチレンの溶出曲線より各溶出
時間における分子量を算出し、Ｍｗを算出すればよい。
は、特に限定されるものではないが、重量平均（Ｍｗ）
で１５万〜６０万が好ましく、より好ましくは２５万〜
４５万とする。Ｍｗが６０万を越える場合は、溶融体の
粘度が高くなり、成形、加工性等が極端に低下し、生産
性が悪化し、実用的でない。また１５万未満の場合は、
成形体の強度が低下する。ここでいうＭｗとは、３８
℃、テトラヒドロフランを溶媒としてゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィーにより測定される。通常行われ
ている様に、単分散ポリスチレンの溶出曲線より各溶出
時間における分子量を算出し、Ｍｗを算出すればよい。
【００１９】以上述べたように、本発明のスチレン系樹
脂の製造方法は、ラジカル重合反応で、ポリシロキサン
系ブロックを含み、溌水性、離型性、表面滑性、摺動
性、防汚性等の表面特性を有する透明なスチレン樹脂を
容易に得ることができる。また、このスチレン系樹脂
は、一般のスチレン系樹脂とポリシロキサン系樹脂との
相溶化剤として用いることもできる。
脂の製造方法は、ラジカル重合反応で、ポリシロキサン
系ブロックを含み、溌水性、離型性、表面滑性、摺動
性、防汚性等の表面特性を有する透明なスチレン樹脂を
容易に得ることができる。また、このスチレン系樹脂
は、一般のスチレン系樹脂とポリシロキサン系樹脂との
相溶化剤として用いることもできる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。なお、物
性評価法を以下に記す。 対水接触角（θ） 協和界面化学（株）製、ＦＡＣＥ接触角計、商品名ＣＡ
−Ｄ型を用いた。 メルトフローレート（ＭＦＲ） ＩＳＯ Ｒ１１３に準ずる。 ビカット軟化点（ＶＩＣＡＴ） ＡＳＴＭ Ｄ１５２５に準ずる。 Ｉｚｏｄ衝撃強度（ノッチなし） ＡＳＴＭ Ｄ ２５６−５６に準ずる。 曇価 ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準ずる。
性評価法を以下に記す。 対水接触角（θ） 協和界面化学（株）製、ＦＡＣＥ接触角計、商品名ＣＡ
−Ｄ型を用いた。 メルトフローレート（ＭＦＲ） ＩＳＯ Ｒ１１３に準ずる。 ビカット軟化点（ＶＩＣＡＴ） ＡＳＴＭ Ｄ１５２５に準ずる。 Ｉｚｏｄ衝撃強度（ノッチなし） ＡＳＴＭ Ｄ ２５６−５６に準ずる。 曇価 ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準ずる。
【００２１】
【実施例１】撹拌機を備えた２００ｍｌの反応容器にス
チレン８５重量部とエチルベンゼン１５重量部の混合溶
液１００重量部に対して、下式で示されるアゾ系開始剤
０．６重量部とt-ブチルパーオキシ3,5,5-トリメチルヘ
キサノエート０．０１重量部を添加してなる重合液を加
え、これを１１０℃から１４０℃まで６時間昇温重合さ
せた。得られた生成物を加熱脱気し、未反応モノマーを
除去した後、１０ｃｍ角、厚さ０．５ｍｍの平板に圧縮
成形し、対水接触角（θ）を測定した。ポリシロキサン
（ＰＳｉ）含有量（重量％）と重合結果を表１に示す。
チレン８５重量部とエチルベンゼン１５重量部の混合溶
液１００重量部に対して、下式で示されるアゾ系開始剤
０．６重量部とt-ブチルパーオキシ3,5,5-トリメチルヘ
キサノエート０．０１重量部を添加してなる重合液を加
え、これを１１０℃から１４０℃まで６時間昇温重合さ
せた。得られた生成物を加熱脱気し、未反応モノマーを
除去した後、１０ｃｍ角、厚さ０．５ｍｍの平板に圧縮
成形し、対水接触角（θ）を測定した。ポリシロキサン
（ＰＳｉ）含有量（重量％）と重合結果を表１に示す。
【００２２】
【化６】
【００２３】
【実施例２】開始剤を実施例１で用いたアゾ系開始剤の
量を３．１重量部とした以外は、実施例１と同様に重合
を行った。ポリシロキサン含有量と重合結果を表１に示
す。
量を３．１重量部とした以外は、実施例１と同様に重合
を行った。ポリシロキサン含有量と重合結果を表１に示
す。
【００２４】
【比較例１】開始剤を2,2-アゾビス（2-メチルブチルニ
トリル）０．０５４重量部のみとした以外は、実施例１
と同様に重合させた。重合結果を表１に示す。
トリル）０．０５４重量部のみとした以外は、実施例１
と同様に重合させた。重合結果を表１に示す。
【００２５】
【実施例３】スチレン８５重量部、エチルベンゼン１５
重量部の混合溶液１００重量部に対し、実施例１で用い
たアゾ系開始剤０．７重量部とt-ブチルパーオキシ3,5,
5-トリメチルヘキサノエート０．０１重量部を添加して
なる重合液を４．３ｌの３槽の管型反応器に０．６５ｌ
／ｈで連続的に供給する。３槽の管型反応器の温度をそ
れぞれ１１０℃／１３０℃／１６０℃に調節する。
重量部の混合溶液１００重量部に対し、実施例１で用い
たアゾ系開始剤０．７重量部とt-ブチルパーオキシ3,5,
5-トリメチルヘキサノエート０．０１重量部を添加して
なる重合液を４．３ｌの３槽の管型反応器に０．６５ｌ
／ｈで連続的に供給する。３槽の管型反応器の温度をそ
れぞれ１１０℃／１３０℃／１６０℃に調節する。
【００２６】反応器より連続せて排出される重合体溶液
を、脱気装置を備えた押出機に導入し、ペレットとし
た。これを１０ｃｍ角、厚さ０．５ｍｍのフィルムに圧
縮成形し、対水接触角（θ）を測定した。また射出成形
にて試験片を作成し、物性を測定した。曇価は１０ｃｍ
角厚さ２ｍｍの試験片を射出成形にて作り、測定した。
結果を表２、３に示す。
を、脱気装置を備えた押出機に導入し、ペレットとし
た。これを１０ｃｍ角、厚さ０．５ｍｍのフィルムに圧
縮成形し、対水接触角（θ）を測定した。また射出成形
にて試験片を作成し、物性を測定した。曇価は１０ｃｍ
角厚さ２ｍｍの試験片を射出成形にて作り、測定した。
結果を表２、３に示す。
【００２７】
【比較例２】スチレン８５重量部とエチルベンゼン１５
重量部の混合溶液１００重量部に対して、t-ブチルパー
オキシ3,5,5-トリメチルヘキサノエート０．０３重量部
を添加してなる重合液を供給した以外は、、実施例２と
同様に重合させた。このスチレン系樹脂の曇価を測定し
た結果を表３に示す。
重量部の混合溶液１００重量部に対して、t-ブチルパー
オキシ3,5,5-トリメチルヘキサノエート０．０３重量部
を添加してなる重合液を供給した以外は、、実施例２と
同様に重合させた。このスチレン系樹脂の曇価を測定し
た結果を表３に示す。
【００２８】
【比較例３】ポリスチレン（商品名６８０ 旭化成工業
（株）製）１００重量部に対してポリジメチルシロキサ
ン（商品名ＴＳＦ４５１ 東芝シリコーン（株）製）１
重量部を加え、２軸押出機により２２０℃で混練押し出
しし、ペレットとした。これを射出成形し、曇価を測定
した結果を表３に示す。結果を表２、３に示す。
（株）製）１００重量部に対してポリジメチルシロキサ
ン（商品名ＴＳＦ４５１ 東芝シリコーン（株）製）１
重量部を加え、２軸押出機により２２０℃で混練押し出
しし、ペレットとした。これを射出成形し、曇価を測定
した結果を表３に示す。結果を表２、３に示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】
【表３】
【００３２】
【発明の効果】本発明のスチレン系樹脂の製造方法は、
スチレン系単量体の重合に、ポリシロキサン系ブロック
を含むアゾ系開始剤を用いることにより、工業的に容易
に、ポリシロキサン系ブロックを含むスチレン樹脂を得
ることができる。更に、得られる樹脂は、溌水性、離型
性、表面滑性、摺動性、防汚性等のポリシロキサン系樹
脂の有する特性が付与され、食品用トレーおよび食品包
装用フィルムなどとして使用することができる。
スチレン系単量体の重合に、ポリシロキサン系ブロック
を含むアゾ系開始剤を用いることにより、工業的に容易
に、ポリシロキサン系ブロックを含むスチレン樹脂を得
ることができる。更に、得られる樹脂は、溌水性、離型
性、表面滑性、摺動性、防汚性等のポリシロキサン系樹
脂の有する特性が付与され、食品用トレーおよび食品包
装用フィルムなどとして使用することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】スチレン系単量体を重合させるにあたり、
一般式（Ａ） 【化１】 で示されるポリシロキサン系ブロックを含むアゾ系開始
剤をスチレン系単量体に対し０．１〜１０重量％の割合
で添加し、重合温度８０以上１６０℃未満の温度範囲で
重合することを特徴とするスチレン系樹脂の製造方法。
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ9及びＲ10はそれぞれ独立して水
素原子、低級アルキル基またはシアノ基を表し、Ｒ3，
Ｒ4，Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立して水素原子または低
級アルキル基を表し、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水
素原子、アルキル基、ハロアルキル基またはフェニル基
を表し、ｌ及びｐはそれぞれ独立して１〜６の整数を表
し、ｍ及びｏはそれぞれ独立して０または１〜６の整数
を表し、ｎは０または１〜２００の整数を表し、ｑは２
〜２０の整数を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6269807A JPH08134117A (ja) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | スチレン系樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6269807A JPH08134117A (ja) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | スチレン系樹脂の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08134117A true JPH08134117A (ja) | 1996-05-28 |
Family
ID=17477454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6269807A Withdrawn JPH08134117A (ja) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | スチレン系樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08134117A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997042243A1 (fr) * | 1996-05-09 | 1997-11-13 | Takiron Co., Ltd. | Copolymere sequence fonctionnel et procede de preparation correspondant |
| EP0870774A3 (en) * | 1997-04-07 | 1999-02-10 | Dow Corning Corporation | Method of making silicone-organic block copolymers |
| EP0967238A1 (en) * | 1998-06-24 | 1999-12-29 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Macroazo compounds comprising silicone and polyether structures |
-
1994
- 1994-11-02 JP JP6269807A patent/JPH08134117A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997042243A1 (fr) * | 1996-05-09 | 1997-11-13 | Takiron Co., Ltd. | Copolymere sequence fonctionnel et procede de preparation correspondant |
| US6359081B1 (en) | 1996-05-09 | 2002-03-19 | Takiron Co., Ltd. | Block copolymer with condensation or vinyl polymer, functions imparting, and lower cohesive E segments |
| EP0870774A3 (en) * | 1997-04-07 | 1999-02-10 | Dow Corning Corporation | Method of making silicone-organic block copolymers |
| EP0967238A1 (en) * | 1998-06-24 | 1999-12-29 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Macroazo compounds comprising silicone and polyether structures |
| US6172171B1 (en) | 1998-06-24 | 2001-01-09 | Wako Pure Chemical Industries Ltd. | Macroazo compounds |
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|---|---|---|---|
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