JPH08124146A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 短波長信号において高い特性を有する磁気記
録媒体、即ち、短波長領域でも自己減磁および記録減磁
が小さく、かつノイズ成分が低く良好なＣ／Ｎを得るこ
とができる磁気記録媒体を提供する。 【構成】 非磁性可撓性支持体上に強磁性粉末を結合剤
中に分散してなる磁気記録媒体において、前記磁性層に
板径０．０１μｍ以上０．１μｍ以下の六方晶フェライ
ト磁性体が含まれ、前記磁性層の垂直方向の角型比が
０．７より大きく、前記磁性層の垂直方向の抗磁力が２
０００Ｏｅより大きく４０００Ｏｅ以下であることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は六方晶フェライト磁性体
を含む高密度記録用の磁気記録媒体（以下単に媒体とい
うこともある）に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテ−プ、オ−ディオテー
プ、磁気ディスク等の磁気記録媒体には強磁性酸化鉄、
Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性合金粉末等を
結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したも
のが広く用いられる。しかし、これらの磁性体は一般に
は針状で長手方向に磁化されるため、今日要求されてい
る短波長記録では、自己減磁が大きくなり十分な出力が
得られない。特開昭５５−８６１０３号公報には六方晶
フェライト磁性体を用いた磁気記録媒体が提案されてい
る。六方晶フェライト媒体は垂直磁化成分をもってお
り、自己減磁が小さく短波長記録に優れている。特公平
６−１８０６２号公報では垂直方向の角型を０．７以上
に設計することで、さらに短波長領域における記録再生
特性の向上を達成している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの特許
に使用されている磁性体の抗磁力は２０００Ｏｅ以下で
あり、ヘッドの高飽和磁束密度化が進んだ現在、不十分
であることがわかった。また、特公平６−１８０６２号
公報については使用している磁性体の平均粒子径が０．
１〜０．３μｍと大きく、ノイズの上昇を引き起こして
好ましくない。媒体の高Ｈｃ化については、特開昭５７
−１９５３２８号公報に抗磁力３００〜３０００Ｏｅの
媒体に関する記載があるが、これもまた使用されている
磁性体の平均粒子径は０．２〜２μｍであり粒子性のノ
イズが高くなって好ましくない。さらに、特開平３−２
８０２１５号公報でも長手抗磁力が１０００〜４０００
Ｏｅの記載があるが、該特許は長手配向に関するもので
あり、六方晶フェライトの垂直磁化成分を生かしきれ
ず、十分な短波長出力が得られていない。

【０００４】本発明は、従来の磁気記録媒体の上記不足
点および欠点を克服し、短波長信号において高い特性を
有する磁気記録媒体、即ち、短波長領域でも自己減磁お
よび記録減磁が小さく、かつノイズ成分が低く良好なＣ
／Ｎを得ることができる磁気記録媒体を提供することを
目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、磁気記録
媒体の層構成や含まれる磁性体の物理特性や磁性層の物
理特性について鋭意検討した結果、短波長領域における
電磁変換特性が著しく向上することを見いだし、この知
見に基づいて本発明をなすに至った。本発明は、非磁性
可撓性支持体上に強磁性体を結合剤中に分散してなる磁
性層を設けた磁気記録媒体において、前記磁性層に板径
０．０１μｍ以上０．１μｍ以下の六方晶フェライト磁
性体が含まれ、前記磁性層の垂直方向の角型比が０．７
より大きく、前記磁性層の垂直方向の抗磁力が２０００
Ｏｅより大きく４０００Ｏｅ以下であることを特徴とす
る磁気記録媒体である。

【０００６】本発明の磁気記録媒体での記録が優れた電
磁変換特性を示す理由は次のように考えられる。高密度
記録を達成する上で記録の短波長化が必要である。短波
長記録に伴い自己減磁の影響が大きくなり再生出力が低
下する。一方、記録再生ヘッドの進歩も進んでおり、高
飽和磁束密度、高透磁率を有する狭ギャップヘッドが採
用されてきている。ヘッドの飽和磁束密度が高くなるに
つれて磁気記録媒体の磁性層深くまで記録されるため一
般に再生出力は向上するが、従来の媒体ではその特性を
十分に生かしきれていなかった。理由は磁性層厚み方向
各層での記録磁化パターンの位相にずれが生じ、閉磁路
を形成してしまう（いわゆる記録減磁）からと推定され
る。

【０００７】このような、自己減磁、記録減磁を補うた
めに磁性層の高Ｈｃ化、薄層化が考えられるが、長手磁
化成分が大きい媒体では不十分であり、垂直磁化成分が
大きい六方晶フェライト媒体が有効である。このため、
磁性層の垂直方向の角型比は０．７より大きくことが好
ましく、さらには０．８以上が好ましい。角型比０．７
以下では垂直磁化成分が小さいため、効果が十分発揮さ
れない。ここで記した垂直方向の角型比は反磁界係数を
１として反磁界補正した値である。また、媒体の垂直方
向の抗磁力は２０００Ｏｅより大きく、４０００Ｏｅ以
下であることが好ましい。２０００Ｏｅ以下ではまだ自
己減磁、記録減磁の影響をうける。特に高飽和磁束密度
ヘッドを使用した場合には、その影響は顕著であり、抗
磁力を高く設定する必要がある。４０００Ｏｅより大き
い抗磁力を持った場合は、ヘッドで十分に記録できず好
ましくない。

【０００８】採用される磁性体の板径は０．０１μｍ以
上０．１μｍ以下である必要がある。磁性体の板径はノ
イズ成分と密接な関係があり、０．１μｍより大きい粒
子ではノイズ成分が高く、結果的にＣ／Ｎの低下を引き
起こす。逆に０．０１μｍ未満の粒子では十分に分散で
きず、磁性体が凝集しＣ／Ｎの低下を引き起こす。さら
に、非磁性可撓性支持体上に主として無機質非磁性粉末
を結合剤中に分散させた非磁性層と、その上に本発明の
特徴とする磁性層を設けることにより、短波長領域のＣ
／Ｎを向上させることができる。磁性層厚を１μｍ以下
に設定することで、自己減磁はさらに減少する。磁性層
厚０．５μｍ以下でさらにその効果は大きくなる。ま
た、六方晶フェライト磁性体は分散が困難で平滑な磁性
面を得にくい。下層に平滑な非磁性層を設けることで平
滑な磁性層が得られ、スペーシング損失が小さくなりこ
の点からも短波長出力は向上する。厚み１μｍ以下の六
方晶フェライト磁性層を支持体上に単独で設けた場合、
カレンダ成型性が劣化して表面粗さが大きくなり、スペ
ーシング損失を増大させるため、電磁変換特性の劣化を
引き起こすこともある。

【０００９】以上のことを考慮すると磁性層に板径０．
０１μｍ以上０．１μｍ以下の六方晶フェライト磁性体
が含まれ、該磁性層の垂直方向の角型比が０．７より大
きく、垂直方向のテープ抗磁力が２０００Ｏｅより大き
く４０００Ｏｅ以下に設定されることで短波長領域で良
好なＣ／Ｎを得られることができる。さらには下層に非
磁性層を設け、磁性層厚を１μｍ以下に設定することで
一層高いＣ／Ｎが得られることがわかった。

【００１０】以下に、本発明の磁気記録媒体の磁性層に
使用される六方晶フェライトについて説明する。本発明
の最上層に含まれる六方晶フェライトとしてバリウムフ
ェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、
カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体、六方晶
Ｃｏ粉末等が使用できる。具体的にはマグネットプラン
バイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェ
ライト、更に一部スピネル相を含有したマグネットプラ
ンバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフ
ェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、
Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒ
ｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、
Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎ
ｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔ
ｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ
−Ｚｎ，Ｉｒ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用するこ
とができるが、特に好ましいものはバリウムフェライ
ト、ストロンチウムフェライトの各Ｃｏ置換体である。
最上層の長手方向のＳＦＤは０．３以下にすると抗磁力
の分布が小さくなり好ましい。抗磁力分布を制御するた
めには、板径、板厚を均一にする、六方晶フェライトの
スピネル相の厚みを一定にする、スピネル相の置換元素
の量を一定にする、スピネル相の置換サイトの場所を一
定にする、などの方法がある。

【００１１】本発明に用いられる六方晶フェライトは通
常六角板状の粒子であり、その粒子径は六角板状の粒子
の板の幅を意味し電子顕微鏡を使用して測定する。本発
明では粒子径（板径）は通常、０．０１〜０．１μｍ、
特に好ましくは０．０２〜０．０８μｍの範囲である。
また、該微粒子の平均厚さ（板厚）は通常、０．００１
〜０．２μであるが特に０．００３〜０．０５μｍが好
ましい。更に板状比（粒子径／板厚）は１〜１５であ
り、好ましくは３〜７である。また、これら六方晶フェ
ライト微粉末のＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）は２
５〜１００m²/gで、４０〜７０m²/gが好ましい。２５m²
/g以下ではノイズが高くなり、１００m²/g以上では表面
性が得にくく好ましくない。σsは５０emu/g以上、好ま
しくは６０emu/g以上である。タップ密度は０．５ｇ／
ｃｃ以上が好ましく０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好まし
い。六方晶フェライトの製法としてはガラス結晶化法・
共沈法・水熱反応法等があるが、本発明は製法を選ばな
い。

【００１２】本発明の上層に使用される六方晶フェライ
ト磁性体の好ましい範囲は以下のとおりである。結晶子
サイズは４５０〜５０オングストロ−ムであり、好まし
くは３５０〜１００オングストロ−ムである。該磁性体
の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤
の種類によって該磁性体の含水率は最適化するのが好ま
しい。該磁性体のｐＨは用いる結合剤との組合せにより
最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２である
が、好ましくは６〜１０である。該磁性体は必要に応
じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処
理を施してもかまわない。好ましくはＡｌ₂Ｏ₃またはＳ
ｉＯ₂による表面処理であり、用いるバインダによって
その量と比率を変えることが好ましい。その量は該磁性
体に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸
などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ま
しい。該磁性体には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが５００ｐｐｍ
以下であれば特に特性に影響を与えない。

【００１３】次に下層非磁性層に用いられる非磁性粉末
について説明する。本発明の下層非磁性層に用いられる
非磁性粉末は、例えば金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫
酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機
質化合物から選択することができる。無機化合物として
は例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ−
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグ
ネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化
ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、
硫酸バリウム、２硫化モリブデンなどが単独または組合
せで使用される。特に好ましいのは二酸化チタン、酸化
亜鉛、α−酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましい
のは二酸化チタンである。

【００１４】これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００
５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異
なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末で
も粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。取分け好ましいのは０．０１μｍ〜０．２μｍであ
る。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃｃ、好ましくは
０．２〜１．５g/cc。含水率は０．１〜５％、好ましく
は０．２〜３％。ｐＨは２〜１１であるが、６〜９の間
が特に好ましい。比表面積は１〜１００ｍ²／ｇ、好ま
しくは５〜５０ｍ²/g 、更に好ましくは７〜４０ｍ²/g
である。

【００１５】結晶子サイズは0.01μｍ〜２μｍが好まし
い。DBPを用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好ましく
は10〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100g
である。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形
状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。強
熱減量は２０重量％以下であることが好ましい。本発明
に用いられる上記無機粉体のモース硬度は４以上のものが
好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは
０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいのは０．９〜
１．２である。ステアリン酸（ＳＡ）吸着量は１〜２０
μmol／ｍ² 、更に好ましくは２〜１５μmol/ｍ² であ
る。

【００１６】下層非磁性粉体の２５℃での水への湿潤熱
は２００erg/ｃｍ²〜６００erg/ｃｍ²がの範囲にあるこ
とが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使
用することができる。１００〜４００℃での表面の水分
子の量は１〜１０個/100オングストロームが適当であ
る。水中での等電点のｐＨは３〜６の間にあることが好
ましい。

【００１７】これらの粉体の表面はＡｌ₂Ｏ₃、Ｓｉ
Ｏ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂，ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃，ＺｎＯで
表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいの
はＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、であるが、
更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。
これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いる
こともできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理
層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその
表層をシリカで処理する構造、その逆の構造を取ること
もできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層に
しても構わないが、均質で密である方が一般には好まし
い。

【００１８】本発明に用いられる非磁性粉末の具体的な
例としては、昭和電工製ＵＡ５６００，ＵＡ５６０５，
ナノタイト、住友化学製ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５５，ＨＩＴ−１００，ＺＡ−
Ｇ１、日本化学工業社製Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業
社製ＴＦ−１００，ＴＦ−１２０，ＴＦ−１４０，Ｒ５
１６，ＤＰＮ２５０、石原産業製ＴＴＯ−５１Ｂ，ＴＴ
Ｏ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ−５５Ｃ，ＴＴＯ
−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＦＴ−１０００，ＦＴ−２
０００，ＦＴＬ−１００，ＦＴＬ−２００，Ｍ−１，Ｓ
−１，ＳＮ−１００，Ｒ−８２０、Ｒ−８３０，Ｒ−９
３０，Ｒ−５５０，ＣＲ−５０，ＣＲ−８０，Ｒ−６８
０，ＴＹ−５０、チタン工業製ＥＣＴ−５２，ＳＴＴ−
４Ｄ，ＳＴＴ−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５
Ｃ、三菱マテリアル製Ｔ−１、日本触媒ＮＳ−Ｏ，ＮＳ
−３Ｙ，ＮＳ−８Ｙ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−
１００Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６
００Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５，
ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＢＦ−１Ｌ，ＢＦ
−１０Ｐ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−
Ｒ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成した物等が
挙げられる。

【００１９】特に好ましい非磁性粉体は二酸化チタンで
あるので、二酸化チタンを例に製法を詳しく記す。これ
らの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫
酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆ
ｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して
除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分
解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾
過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを
添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタ
ンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添
加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタ
ンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素
法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。

【００２０】鉱石は高温還元状態で塩素化され、Ｔｉは
ＴｉＣｌ₄ にＦｅはＦｅＣｌ₂ となり、冷却により固体
となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄ と分離される。得ら
れた粗ＴｉＣｌ₄ は精留により精製した後核生成剤を添
加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応さ
せ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した
粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は
硫酸法と同じである。表面処理は上記酸化チタン素材を
乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離に
より粗粒分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表
面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行
なわれる。

【００２１】まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｓｂ，Ｓｎ，Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和
する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物
で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類
はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的
にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄す
る。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンド
ドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェット
ミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなく
酸化チタン粉体にＡｌＣｌ₃，ＳｉＣｌ₄の蒸気を通じそ
の後水蒸気を流入してＡｌ，Ｓｉ表面処理を施すことも
可能である。その他の顔料の製法については”Ｃｈａｒ
ａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｐｏｗｄｅｒ Ｓｕ
ｒｆａｃｅｓ”Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓを参考に
することができる。

【００２２】また、下層にカ−ボンブラックを混合させ
て公知の効果であるＲｓを下げることができる。このた
めにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１
５０〜４００ｍ²/g 、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ
／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ml/100gである。
粒子径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましく１０〜５０ｍμ、
さらに好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／CC、が好ましい。

【００２３】本発明に用いられるカ−ボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００，１３００，１０００，９００，８０
０，８８０，７００，ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱
化成工業社製＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５０Ｂ，
＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，
＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００、コンロンビア
カ−ボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ，ＲＡＶＥＮ
８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，
３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，
１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラック
ＥＣなどがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カ−ボンブラックを塗料に添加する前に
あらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ
ーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を
越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲
で使用できる。これらのカ−ボンブラックは単独、また
は組合せで使用することができる。本発明で使用できる
カ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ
−ボンブラック協会編」を参考にすることができる。

【００２４】本発明に用いられる有機質粉末はアクリル
スチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラ
ミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられる
が、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉
末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポ
リフッ化エチレン樹脂が使用される。その製法は特開昭
６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号
公報に記されているようなものが使用できる。

【００２５】なお、一般の磁気記録媒体において下塗層
を設けることが行われているが、これは支持体と磁性層
等の接着力を向上させるために設けられるものであっ
て、厚さも０．５μｍ以下で本発明の下層とは異なるも
のである。本発明においても下層と支持体との接着性を
向上させるために下塗層を設けることが好ましい。本発
明の磁性層または非磁性層に使用される結合剤としては
従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂や
これらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、
ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が
１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０
００００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。

【００２６】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。

【００２７】また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使
用することも可能である。これらの例とその製造方法に
ついては特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載
されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合
体、中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂
の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合
わせたものがあげられる。

【００２８】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性（磁性体等の）と耐久性を得るためには必要に
応じ、−ＣＯＯＭ，−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ
（ＯＭ）₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは
水素原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、
Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化水素基）エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、な
どから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合
または付加反応で導入したものををもちいることが好ま
しい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇで
あり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００２９】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ，ＶＹ
ＨＨ，ＶＭＣＨ，ＶＡＧＦ，ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ、日信化学工業社
製，ＭＰＲ−ＴＡ，ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ，
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３，１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０５，ＭＲ１１０，ＭＲ１
００，４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッ
ポランＮ２３０１，Ｎ２３０２，Ｎ２３０４、大日本イ
ンキ社製パンデックスＴ−５１０５，Ｔ−Ｒ３０８０，
Ｔ−５２０１，バ−ノックＤ−４００，Ｄ−２１０−８
０，クリスボン６１０９，７２０９、東洋紡社製バイロ
ンＵＲ８２００，ＵＲ８３００，ＵＲ−８６００，ＵＲ
−５５００，ＵＲ−４３００，ＲＶ５３０，ＲＶ２８
０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０，５０２０，
５１００，５３００，９０２０，９０２２，７０２０、
三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０，ＴＩＭ−３００３，ＴＩＭ−３００５、旭
化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０などがあげられる。

【００３０】本発明の磁性層または非磁性層に用いられ
る結合剤は非磁性粉体または磁性体に対し、５〜５０重
量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用い
られる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量
％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、
ポリイソシアネ−トは２〜２０重量％の範囲でこれらを
組み合わせて用いるのが好ましい。本発明において、ポ
リウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１
００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は
０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ2、降伏点は０．０５〜１０
Ｋｇ／ｃｍ2が好ましい。

【００３１】本発明の磁気記録媒体は磁性層と好ましく
は非磁性層とからなる。従って、結合剤量、結合剤中に
占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソ
シアネ−ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形
成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた
樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、磁性層とで
変えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関する
公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を
変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性
層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッド
に対するヘッドタッチを良好にする為には、磁性層か非
磁性層層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせるこ
とにより達成される。

【００３２】本発明にもちいるポリイソシアネ−トとし
ては、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製コロネートＬ，コロネ−トＨＬ，コ
ロネ−ト２０３０，コロネ−ト２０３１，ミリオネ−ト
ＭＲ，ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ，タケネ−トＤ−２
００，タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製デスモ
ジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ，デスモジュ−ルＮ，
デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または硬化
反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで
各層とももちいることができる。

【００３３】本発明の磁性層に使用されるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍ
μ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／CC、が好ましい。本発明に用いら
れるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット
社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１
０００，９００，８００，７００，ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ
−７２、旭カ−ボン社製＃８０，＃６０，＃５５，＃５
０，＃３５、三菱化成工業社製＃２４００Ｂ，＃２３０
０，＃９００，＃１０００，＃３０，＃４０，＃１０
Ｂ、コンロンビアカ−ボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ，ＲＡＶＥＮ １５０，５０，４０，１５などがあげ
られる。

【００３４】カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボン
ブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カ−ボンブラックを使用する場合は磁性体に対する
量の０．１〜３０重量％でもちいることが好ましい。カ
−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮
光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用い
るカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明に使用
されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性層、下層非
磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸
油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目
的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発
明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ
−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編 を参考
にすることができる。

【００３５】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモ−ス６以上の公知の材料が単独または組合せで
使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研
磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよ
い。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素
が含まれる場合もあるが主成分が９０重量％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイ
ズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも
粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１
〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／
ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針
状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一
部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００３６】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製ＡＫＰ−２０ＡＫＰ−３０，ＡＫ
Ｐ−５０，ＨＩＴ−５０，ＨＩＴ−５５，HIT-100、日
本化学工業社製Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製ＴＦ
−１００，ＴＦ−１４０などがあげられる。本発明に用
いられる研磨剤は磁性層および下層非磁性層で種類、量
および組合せを変え、目的に応じて使い分けることはも
ちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤
で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわな
い。本発明の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端
面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ²以上が好まし
く、特に好ましくは５〜１５０個／１００μｍ²であ
る。

【００３７】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。

【００３８】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、オ
レイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。

【００３９】これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物 等の不純分がふくまれ
てもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で使用
されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は非磁性層、磁性層
でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。
例えば、非磁性層、磁性層で融点のことなる脂肪酸を用
い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なる
エステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面
活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、
潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させ
るなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるも
のではない。

【００４０】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。

【００４１】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１
５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４，カチオンＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイミ−ン
Ｌ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２，ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト，ブ
チルラウレ−ト，エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、
竹本油脂社製ＦＡＬ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本
理化社製エヌジェルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サン
ソサイザ−Ｅ４０３０、信越化学社製ＴＡ−３，ＫＦ−
９６，ＫＦ−９６Ｌ，ＫＦ９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４
２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，Ｋ
Ｆ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−
８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ３９３，ＫＦ−
８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８
０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−
２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，
ＫＦ−３９３５、ライオンア−マ−社製ア−マイドＰ，
ア−マイドＣ，ア−モスリップＣＰ、ライオン油脂社製
デュオミンＴＤＯ、日清製油社製ＢＡ−４１Ｇ、三洋化
成社製プロファン２０１２Ｅ，ニュ−ポ−ルＰＥ６１，
イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００，イ
オネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００，イオ
ネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００などが
あげられる。

【００４２】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。

【００４３】本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性
層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量
は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒
（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安
定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が
下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要であ
る。磁性体等の分散性を向上させるためにはある程度極
性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以
上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、
溶解パラメ−タは８〜１１であることが好ましい。

【００４４】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
可撓性支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜２０μ
ｍ。磁性層と非磁性層を合わせた厚みは非磁性可撓性支
持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。ま
た、非磁性可撓性支持体と非磁性層また磁性層の間に密
着性向上のためのの下塗り層、を設けてもかまわない。
本下塗層厚みは０．０１〜２μｍ、このましくは０．０
２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体の磁性層側
と反対側にバックコ−ト層を設けてもかまわない。この
厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍ
である。これらの下塗層、バックコ−ト層は公知のもの
が使用できる。

【００４５】本発明に用いられる非磁性可撓性支持体は
ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレー
ト、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−
ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミ
ド、芳香族ポリアミド、ポロベンゾオキサゾ−ルなどの
公知のフィルムが使用できるが、特に１０μｍ以下の薄
い支持体を用いる場合は、ポリエチレンナフタレ−ト、
ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが好まし
い。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変
えるため特開平３−２２４１２７号公報に示されるよう
な積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの
支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、
易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良
い。

【００４６】本発明の目的を達成するには、非磁性可撓
性支持体として中心線平均表面粗さがカットオフ０．０
８μｍで０．０３μｍ以下、、好ましくは０．０１μｍ
以下、さらに好ましくは０．００５μｍ以下のものを使
用する必要がある。これらの非磁性支持体は単に中心線
平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大
突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要
に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと量によ
り自由にコントロ−ルされるものである。これらのフィ
ラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化
物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげら
れる。支持体の最大高さＳＲｍａｘは１μｍ以下、十点
平均粗さＳＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さはＳＲ
ｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．５μｍ
以下、中心面面積率ＳＳｒは１０％以上、９０％以下、
平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好まし
い。これら支持体の表面突起はフィラ−により０．０１
μｍから１μｍの大きさのものを０．１ｍｍ²あたり０
個から２０００個の範囲でコントロ−ルすることができ
る。

【００４７】本発明に用いられる非磁性支持体のテ−プ
走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍ
ｍ²、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０Ｋ
ｇ／ｍｍ²であり、テ−プ長手方向のＦ−５値がテ−プ
幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅
方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。また、支持体のテ−プ走行方向および幅方向の１０
０℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに
好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は
好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下で
ある。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2、
弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2、が好ましい。

【００４８】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉体、結
合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑
剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中
で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上
の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリ
ウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のた
めの混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的
を達成するためには、従来の公知の製造技術のを一部の
工程としてを用いることができることはもちろんである
が、混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練
力をもつものを使用することが好ましい。連続ニ−ダま
たは加圧ニ−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉体
と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３
０％以上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５
〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理
の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開
昭６４−７９２７４号公報に記載されている。また、非
磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用
いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。

【００４９】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態にのうちに特公平１−４６１８６号公報や特開昭６０
−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報
に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布
装置により上層を塗布する。

【００５０】２，特開昭６３−８８０８０号公報、特開
平２−１７９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公
報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内
蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布
する。 ３，特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバ
ックアップロール付きエクストルージョン塗布装置によ
り上下層をほぼ同時に塗布する。なお、磁性体粒子の凝
集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止す
るため、特開昭６２−９５１７４号公報や特開平１−２
３６９６８号公報に開示されているような方法により塗
布ヘッド内部の塗布液に剪断を付与することが望まし
い。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４
７１号公報に開示されている数値範囲を満足する必要が
ある。

【００５１】本願の磁性層および非磁性層を設けるする
ためには上記方法が好ましく、特にウエットオンウエッ
トによる方法が粒径の小さい磁性体の分散性に優れる点
で好ましい。しかし非磁性層を塗布し乾燥したのち、そ
の上に磁性層を設ける方法を用いることもできる。配向
を行う磁性層の配向装置は公知のものを用いることがで
きるが、３０００Ｇ以上、好ましくは５０００Ｇ以上の
異極対抗コバルト磁石を用い、乾燥風により磁石ゾーン
内で乾燥させ垂直配向させることが好ましい。また、配
向前に適度の予備乾燥を行うことが好ましい。特に上記
磁石ゾーン突入直前における塗布液の溶剤含有率を塗布
液に対して５０ｗｔ％以上、好ましくは７０ｗｔ％以上
となるようにし、上記磁石ゾーンから出た直後の塗布液
の溶剤含有率を１０ｗｔ％以下、好ましくは５ｗｔ％以
下になるように乾燥条件及び塗布液の溶剤組成を設定す
ることで、垂直方向の配向性を高めることができる。更
には、異極対抗コバルト磁石による磁場中には１秒以
上、好ましくは３秒以上、さらに好ましくは５秒以上滞
在させることが必要である。

【００５２】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルを使用する。また、金属ロ−ル同
志で処理することも出来る。処理温度は、好ましくは７
０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上である。線圧力
は好ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ、さらに好ましくは３０
０Ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００５３】磁性層の中心線表面粗さＲａは０．００８
μｍ以下、好ましくは０．００４μｍ以下であるが、Ａ
ＦＭによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMSは２ｎｍ
〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。磁性層の最大
高さＳＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚ
は０．３μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以
下、中心面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積
率ＳＳｒは２０％以上８０％以下、平均波長Ｓλａは５
μｍ以上３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突起
は０．０１μｍから１μｍの大きさのものを０個から２
０００個の範囲である。これらは支持体のフィラ−によ
る表面性のコントロ−ルやカレンダ処理のロ−ル表面形
状などで容易にコントロ−ルすることができる。

【００５４】本発明の磁気記録媒体は磁性層と好ましく
は非磁性層とを有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層
でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推
定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし
走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁
性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良く
するなどである。

【００５５】

【実施例】以下、本発明を実施例にて更に詳細に説明す
るが、本発明は以下の実施例にて何ら限定されるもので
はない。 非磁性塗料 Ａ 非磁性粉体 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０重量部 平均一次粒子径０．０３５μｍ 、ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ2／ｇ ｐＨ ７ ＴｉＯ₂含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｇ／１００ｇ、 表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ ８重量％ カーボンブラック ２０重量部 平均一次粒子径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²/g 揮発分 １．５％ 塩化ビニル系共重合体 １２重量部 −ＳＯ₃ Ｎａ含有量:１×１０^-4eq/g 重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５重量部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有 ブチルステアレート １重量部 ステアリン酸 １重量部 メチルエチルケトン １００重量部 シクロヘキサノン ５０重量部 トルエン ５０重量部 磁性塗料 Ｂ 六方晶バリウムフェライト １００重量部 抗磁力（Ｈｃ）、板径は表１および表２を参照 板状比は全て３ σs:６０emu/g 表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ ５重量％ ＳｉＯ₂ ２重量％ 塩化ビニル系共重合体 ６重量部 −ＳＯ₃ Ｎａ含有量:１×１０^-4eq/g 重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３重量部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ） ２重量部 カ−ボンブラック（粒子サイズ０．０１５μｍ） ５重量部 ブチルステアレート １重量部 ステアリン酸 ２重量部 メチルエチルケトン ９０重量部 シクロヘキサノン ３０重量部 トルエン ６０重量部 磁性塗料 Ｃ 六方晶ストロンチウムフェライト １００重量部 抗磁力（Ｈｃ）、板径は表３および表４を参照 板状比は全て３ σs:６５emu/g 表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ ５重量％ ＳｉＯ₂ ２重量％ 塩化ビニル系共重合体 ６重量部 −ＳＯ₃ Ｎａ含有量:１×１０^-4eq/g 重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３重量部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ） ２重量部 カ−ボンブラック（粒子サイズ０．０１５μｍ） ５重量部 ブチルステアレート １重量部 ステアリン酸 ２重量部 メチルエチルケトン ９０重量部 シクロヘキサノン ３０重量部 トルエン ６０重量部 上記３つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニ−
ダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散させた。
得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布
液には１部、磁性層の塗布液には５部を加え、さらにそ
れぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶
媒４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィルタ-
を用いて濾過し、非磁性層塗料Ａ、磁性層塗料Ｂ，Ｃを
それぞれ調整した。

【００５６】

【表１】

【００５７】

【表２】

【００５８】

【表３】

【００５９】

【表４】

【００６０】〔磁気記録媒体の作成〕 磁性層単独構成の磁気記録媒体の作成 抗磁力、板径の異なる磁性粉を含有する磁性塗料Ｂ，Ｃ
を乾燥後の磁性層の厚さが２．５μｍになるように、厚
さ７μｍで中心線表面粗さが０．００２μｍのポリエチ
レンナフタレ−ト支持体上に塗布速度２００ｍ／分塗布
をおこない、磁場強度の異なる異極対抗コバルト磁石に
より垂直配向させた。その後金属ロ−ルのみから構成さ
れる７段のカレンダで温度９０℃にて処理を行い、８ｍ
ｍの幅にスリットし、８ｍｍビデオテ−プを製造した。
磁性粉の抗磁力、板径、異極対抗コバルト磁石強度の変
更により第１表サンプル１〜２１および第３表サンプル
４９〜６８を作成した。

【００６１】非磁性層上に薄層磁性層を設けた磁気記録
媒体の作成 非磁性塗料Ａを乾燥後の厚さが２．０μｍになるよう
に、さらにその直後に抗磁力、板径の異なる磁性粉を含
有する磁性塗料Ｂ，Ｃをその上に乾燥後の磁性層の厚さ
が第２表および第４表記載の値になるように、厚さ７μ
ｍで中心線表面粗さが０．００２μｍのポリエチレンナ
フタレ−ト支持体上に同時重層塗布をおこなった以外は
サンプル１〜２１およびサンプル４９〜６８と同様にし
て得られたサンプルをそれぞれ第２表のサンプル２２〜
４２および第４表のサンプル６９〜７４とした。 評価方法 （電磁変換特性）交洋製作所製ドラムテスターでＦｅ−
Ｔａ−Ｎヘッド（１．５Ｔ）を搭載し、相対速度７．１
ｍ／ｓで評価。記録周波数２１ＭＨｚ（記録波長０．３
４μｍ）のＣ／Ｎを評価した。リファレンステープは富
士写真フイルム社製Ｍ２テープとした。

【００６２】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、層構成や含ま
れる磁性体の物理特性や磁性層の物理特性を工夫するこ
とにより、短波長領域でも自己減磁および記録減磁が小
さく、かつノイズ成分が低く良好なＣ／Ｎを得ることが
できる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性可撓性支持体上に強磁性粉末を結合
   剤中に分散してなる磁気記録媒体において、前記磁性層
   に板径０．０１μｍ以上０．１μｍ以下の六方晶フェラ
   イト磁性体が含まれ、前記磁性層の垂直方向の角型比が
   ０．７より大きく、前記磁性層の垂直方向の抗磁力が２
   ０００Ｏｅより大きく４０００Ｏｅ以下であることを特
   徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】前記磁性層が、主として無機質非磁性粉末
   を結合剤中に分散させた非磁性層上に設けられているこ
   とを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】前記磁性層の厚みが０．０１μｍ以上１μ
   ｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の磁気記
   録媒体。