JPH08122763A - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示素子及びその製造方法

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JPH08122763A JP6265571A JP26557194A JPH08122763A JP H08122763 A JPH08122763 A JP H08122763A JP 6265571 A JP6265571 A JP 6265571A JP 26557194 A JP26557194 A JP 26557194A JP H08122763 A JPH08122763 A JP H08122763A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】カラーフィルタのブラックマトリクスと着色層
との重なり部の凸部を無くすことで液晶の配向異常を抑
制し配向不良の発生を低減する。 【構成】透明ガラス基板1上にブラックマトリクス2を
所望の形状にパターニングした後、各ブラックマトリク
ス間の隙間を透明樹脂系材料あるいは透明微粒子3を用
いて埋め、その上に着色層R4,G5,B6を設け、更
にその上に透明共通電極7を形成する。これにより、ブ
ラックマトリクス2と着色層R4,G5,B6との重な
り部の凸部を無くし、表面平坦性を向上させ、液晶の配
向異常を抑制する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子およびそ
の製造方法に関し、特にアクティブマトリクス液晶表示
素子で使用されるカラーフィルタの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子は、一方の透明ガラス基板
上にスイッチング素子、透明画素電極、保護膜及び液晶
分子の配向方向を規定する配向膜が順次形成された下部
電極と、もう一方の透明ガラス基板上に、遮光膜、着色
層及び透明共通電極と配向膜が順次形成された上部電極
との間に液晶が挟持された構成をしている。
【0003】図3は従来の液晶表示素子を構成するカラ
ーフィルタ基板の断面図である。まず、透明ガラス基板
1上に黒色インク等から成る遮光膜(ブラックマトリク
ス)2が所望のパターンで形成され、その上に色素材料
を分散させた光硬化性レジスト膜と所望画素パターンが
形成されたマスクとを利用し、3回のフォトリソグラフ
ィー工程を繰り返すことで着色層R4,G5,B6が順
次形成され、更にその上にスパッタリング法等を用いて
透明共通電極7を形成する。しかしながら、ブラックマ
トリクス2と着色層R4,G5,B6との重なりあった
部分の膜厚は凸状に厚くなっている。それを解決する方
法としては、ブラックマトリクスを形成した後に二酸化
珪素(SiO2 )や酸化アルミニウム(Al2 3 )を
全面に蒸着し、その表面に研磨することによって膜表面
の凹凸を無くし、その後着色層を形成する方法(特開昭
63−10105号公報)や、ブラックマトリクスを成
す黒色インクの間にそれぞれR,G,Bの顔料を分散さ
せた樹脂が重なり無くかつ隙間無く埋め込んで、ブラッ
クマトリクス上の顔料をリフトオフで取り除いて平坦化
するもの(特開平4−238323号公報)や、ガラス
基板上にクロムから成るブラックマトリクス及び着色層
画素パターンを形成した後、着色層間の隙間に高分子樹
脂を形成して平坦化を図る場合(特開平4−97202
号公報)及びガラス基板表面に選択的に設けられた凹部
にブラックマトリクスを埋め込んで平坦化するもの(特
開平2−244122号公報)等がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタのブラ
ックマトリクスとして黒色インク等の有機膜を用いる場
合、従来のクロム(Cr)等の金属膜の場合に比べて約
10倍(1〜1.5μm)の膜厚が必要である。カラー
フィルタの着色層はブラックマトリクスの上に一部重な
って設けられるため、着色層とブラックマトリクスの重
なった部分の膜厚は凸状に厚くなっている。基板表面の
平坦性が悪いと、もう一方の基板と重ね合わせた際、両
基板間のギャップが均一に保たれず、液晶の屈折率が局
部的に代わり表示画面上に色ムラとなって表れたり、液
晶配向膜がうまくラビングできず、液晶は配向異常が発
生しやすいという問題点があった。また、ブラックマト
リクスとしてCr膜を用いる場合は平坦性に関しては黒
色有機膜より深刻ではないが、製造方法については生産
性が悪く製造コストが高くなるという欠点があった。
【0005】また、この解決策としての前記特開昭63
−10105号公報の技術は、平坦化膜を形成した後に
その表面を研磨する工程を必要とする欠点がある。前記
特開平4−238323号公報の技術は、リフトオフと
いう工程が必要であり且つ、リフトオフは不完全になる
ケースが多い。前記特開平4−97202号公報の技術
は、着色層間の膜厚に電着法により高分子樹脂を形成し
ているため、膜厚の制御が難しく過剰膜厚になる欠点が
ある。前記特開平2−244122号公報の技術は、ガ
ラス基板表面に設けられた凹部にブラックマトリクスを
埋め込むため、リペア時に凹部に埋まったブラックマト
リクスが除去できないという欠点がある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、光の透過を遮断するための遮光膜のそれぞれの隙間
を透明樹脂または透明微粒子で隙間無く平坦に埋め込ん
だカラーフィルタを有している。
【0007】本発明の液晶表示素子の製造方法は、ガラ
ス基板上に光の透過を遮断するための遮光膜を所望の形
状にパターン形成する工程と、流動性を有する透明樹脂
系材料あるいは透明微粒子等をスピン塗布等の方法で遮
光膜以外の部分に埋め込んで全体を平坦化する工程と、
平坦化された透明層の表面に開口部の位置に対応してR
GBの着色層を順次パターン形成する工程と、更に表面
全体を覆う透明導電膜を形成する工程とを有することを
特徴とする。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を用いて詳細に説明
する。図1は本発明の第1の実施例を示すカラーフィル
タ基板の断面図である。図2は本発明のカラーフィルタ
基板の製造工程図である。まず、図2(a)に示すよう
に、透明ガラス基板1上に黒色の顔料を分散させたアク
リル系の黒レジストを1〜1.5μm膜厚でフォトリソ
グラフィー法を用いて所望パターンのブラックマトリク
ス2を設ける。次に、図2(b)に示すように、ノボラ
ック系アクリレート樹脂あるいはポリイミド系樹脂等の
絶縁性透明樹脂3を基板全面にスピン塗布し、熱処理に
よって硬化させることで各ブラックマトリクス2間の隙
間(凹部)を埋め、表面の平坦性を向上させる。この様
にして基板表面の平坦性を確保させた後、図2(c)に
示すように、RGBの顔料を含む光硬化性着色レジス
ト、例えばアクリル系レジストをフォトリソグラフィー
法を順次3回繰り返すことで着色層R4,G5,B6を
形成する。更に、図2(d)に示すように、その上にI
TOからなる透明共通電極7をスパッタリング法等を用
いて形成する。
【0009】本実施例ではブラックマトリクス2及び着
色層R4,G5,B6の形成にはフォトリソグラフィー
法を用いているが、印刷法等により形成した場合でもよ
く、本実施例に限定されるものではない。また、ブラッ
クマトリクス2及び着色層R4,G5,B6の形状は、
図1及び図2に示したものに限られるものではなく、フ
ォトリソグラフィー法及び印刷法のマスクあるいは原版
のパターンによりフレキシブルに変えられ、例えばスト
ライプパターンやドットパターンやデルタ等種々の形状
に適用することができる。
【0010】次に本発明の第2の実施例について説明す
る。まず透明ガラス基板上全面にITOなどからなる透
明電極(下地電極)を設け、その後ブラックマトリクス
を形成する。その下地電極を(例えば正)に帯電させて
おき、基板の上部からもう一方の極性(例えば負)に帯
電させたSiO2 等の透明微粒子を散布することでブラ
ックマトリクス間の隙間を埋め、上記第1の実施例と同
様の表面平坦性を得るものである。この後は第1の実施
例と同様にしてRGB着色層および透明共通電極を設け
る。
【0011】この様にして製造したカラーフィルタは、
ブラックマトリクスと着色層が一部重なっている部分に
ついても膜厚の均一性が保たれているため、液晶の配向
異常が抑制できる。従来技術と本発明の技術を比較した
結果を表1にまとめる。この表から、本発明の製造方法
を用いると液晶配向異常の表示不良が大幅に減少するこ
とが分かる。
【0012】
【表1】
【0013】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、カラーフ
ィルタを形成する際ブラックマトリクス間の隙間を透明
樹脂系材料あるいは透明微粒子で埋め、表面を平坦化す
ることによって液晶の配向不良発生率が低下し、信頼性
が向上するという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す断面図である。
【図2】(a)〜(d)は図1に示したカラーフィルタ
の製造工程図である。
【図3】従来例の断面図である。
【符号の説明】
1 透明ガラス基板 2 ブラックマトリクス 3 透明樹脂あるいは透明微粒子 4 着色層R 5 着色層G 6 着色層B 7 透明共通電極

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光の透過を遮断するための遮光膜のそれ
    ぞれの隙間を透明樹脂または透明微粒子で隙間無く平坦
    に埋め込んだカラーフィルタを有することを特徴とする
    液晶表示素子。
  2. 【請求項2】 透明ガラス基板上に遮光膜を所望の形状
    にパターン形成する工程と、流動性を有する透明樹脂系
    材料をスピン塗布等の方法で遮光膜以外の部分で埋め込
    んで全体を平坦化する工程と、平坦化された透明層の表
    面に開口部の位置に対応して赤(R)緑(G)青(B)
    の着色層を順次パターン形成する工程と、更に表面全体
    を覆う透明導電膜を形成する工程とを有することを特徴
    とする液晶表示素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 透明ガラス基板上全面に透明電極を設け
    る工程と、この上に遮光膜を所望の形状にパターン形成
    する工程と、前記透明電極を帯電させておき、基板の上
    部から逆極性に帯電させた透明微粒子を散布して遮光膜
    間の隙間を埋め全体を平坦化する工程と、平坦化された
    透明層の表面に開口部の位置に対応してRGBの着色層
    を順次パターン形成する工程と、更に表面全体を覆う透
    明導電膜を形成する工程とを有することを特徴とする液
    晶表示素子の製造方法。
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