JPH08119604A - ハロゲンガスの精製方法 - Google Patents

ハロゲンガスの精製方法

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JPH08119604A
JPH08119604A JP6278576A JP27857694A JPH08119604A JP H08119604 A JPH08119604 A JP H08119604A JP 6278576 A JP6278576 A JP 6278576A JP 27857694 A JP27857694 A JP 27857694A JP H08119604 A JPH08119604 A JP H08119604A
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健二 大塚
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Chitsu Arakawa
秩 荒川
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 塩素、フッ素などハロゲンガス中に含まれる
ハロゲン化水素、水分などの不純物を除去し、半導体製
造工程におけるシリコン膜やアルミ合金膜のエッチング
ガスなどに安心して使用できる高純度の精製塩素ガスを
得る。 【構成】 塩化水素などのハロゲン化水素および水分な
どの不純物を含有するハロゲンガスを四三酸化鉄、酸化
鉄(II)などの酸化鉄を主成分とする組成物の成型体
からなる精製剤と接触させる。また、ガス中の水分含有
量が多いような場合には必要に応じて合成ゼオライトな
どの脱湿剤を組み合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲンガスの精製方法
に関し、さらに詳細には、ハロゲンガス中に不純物とし
て含まれる塩化水素、臭化水素およびフッ化水素などの
ハロゲン化水素ならびに水分を極低濃度まで除去し、ハ
ロゲンまたはハロゲン含有高純度ガスを得るためのハロ
ゲンガスの精製方法に関する。
【0002】塩素、フッ素などのハロゲンガスは半導体
製造プロセスにおける単結晶シリコン膜、アルミまたは
アルミ合金膜のエッチングなどに比較的多量に使用され
ているが、昨今の半導体製造技術の著しい進歩に伴い、
これらのハロゲンガスについても不純物の極めて少ない
ものが要求されている。
【0003】
【従来の技術】半導体製造プロセスなどで使用されるハ
ロゲンガスは、一般的にはガスボンベなどの容器に充填
された形態で供給されるが、これらの原料ハロゲンガス
には通常、5ppm程度またはそれ以上のハロゲン化水
素および水分などが不純物として含有されている場合が
多く、ガス供給配管など製造装置の腐食によるトラブル
や半導体薄膜の食刻などによる不良製品発生の原因とも
なっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近で
は、半導体製造の主原料であるシラン、アルシン、ホス
フィンなどの水素化物ガスについてはその不純物である
酸素を0.01ppm以下まで除去することが可能とな
っている(特開平3−12303号公報など)。このた
め同様の環境下で使用されるハロゲンガスについても上
記の腐食や不良品発生防止の目的と合わせて不純物であ
る塩化水素および水分を同様な低濃度になるまで除去す
ることが望まれている。
【0005】また、これらの原料ガスには半導体装置へ
の供給過程において、ボンベの交換時や配管の切替え時
などにも空気中の水分などの不純物が混入する場合も考
えられるため、製造装置に入る直前で不純物を最終的に
除去することが望ましいとされている。しかしながら、
塩素、フッ素などのハロゲンガス中に含まれる不純物で
あるハロゲン化水素および水分を同時に、効率よく除去
する方法についての技術はほとんど知られていなかっ
た。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
問題点を解決するべく鋭意研究を続けた結果、酸化鉄を
有効成分とする組成物を用いることにより、ハロゲンガ
ス中に含まれるハロゲン化水素および水分が効率よく除
去されることを見い出し、本発明を完成した。すなわち
本発明は、ハロゲンガスを酸化鉄を主成分とする組成物
を成型してなる精製剤と接触させて、該ハロゲンガス中
に含まれる不純物であるハロゲン化水素および水分を除
去することを特徴とするハロゲンガスの精製方法であ
る。
【0007】本発明は塩素、フッ素、臭素などハロゲン
ガス単独、あるいは、これらのガスが窒素、アルゴン、
ヘリウムなどの不活性ガスで希釈されたハロゲンガス
(以下総称して単にハロゲンガスと記す)中に含有され
る不純物である塩化水素、臭化水素、フッ化水素のよう
なハロゲン化水素および水分を同時に効率よく除去する
ためのハロゲンガスの精製に適用される。
【0008】本発明における酸化鉄としては、四三酸化
鉄「酸化鉄(III)鉄(II)」〔Fe3 4 〕、酸
化鉄(II)〔FeO〕、その1水化物である水酸化鉄
(II)〔FeO・H2 O〕、酸化鉄(III)〔Fe
2 3 〕、水酸化鉄(III)〔FeO(OH)〕など
が挙げられる。
【0009】上記の酸化鉄は、例えば、下記のようにし
て得ることができる。四三酸化鉄は、硫酸鉄(II)に
アンモニアを吹き込むことによって生じた水酸化鉄(I
I)を苛性ソーダと硝酸で酸化することによって製造す
ることができるが、純度95%以上のものが鉄黒として
市販されているので、通常はこれらの市販品を用いるこ
とができる。また、酸化鉄(II)は、例えば酸化鉄
(III)の水素還元、鉄の低酸素分圧下での加熱、し
ゅう酸鉄(II)を空気を絶って加熱、あるいは水酸化
鉄(II)を不活性ガス雰囲気下で加熱乾燥することに
よって得ることができる。水酸化鉄(II)は、例えば
硫酸鉄(II)あるいは塩化鉄(II)と水酸化ナトリ
ウムと反応などによって得ることができ、また、酸化鉄
(III)、水酸化鉄(III)などは市販品が使用で
きる。中でも酸化鉄(II)および水酸化鉄(II)
は、一般的に不安定な化合物であり、純度の高いものを
得るのは困難であるが必ずしもその必要はなく、その他
の酸化鉄が混ざっていても特に支障はない。そして、通
常は空気との接触を極力避けて保存され、また、取扱に
際してはグローブボックスなどを用いて不活性ガス雰囲
気下でおこなうことが好ましい。
【0010】これらの酸化鉄は、それぞれ単独で用いて
もよく、また、2種以上が混合された状態で用いてもよ
いが、一般的には、四三酸化鉄、酸化鉄(II)、水酸
化鉄(II)の含有量の多いものが望ましく、中でも四
三酸化鉄を60重量%以上含むものが好ましく、さらに
は、80重量%以上含むものが特に好ましい。
【0011】精製剤を得るには酸化鉄からなる組成物を
そのまま成型してもよく、また、酸化鉄にアルミナ、シ
リカ、シリカアルミナ、アルミノシリケート、けいそう
土などの担体物質を加えた組成物を成型してしてもよ
く、あるいは、あらかじめ成型体とされた担体物質上に
酸化鉄を担持させて精製剤としてもよい。これらのうち
でも酸化鉄からなる組成物をそのまま、または、担体物
質と混合してから押し出し成型、打錠成型などによって
成型体としたものが好ましく、中でも酸化鉄の割合が多
いもの程好ましい。
【0012】成型に際しては、成型性および成型強度を
高めるなどの目的で精製剤の組成物に、粘結剤としてポ
リビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールおよびメチルセルロースの1種また
は2種以上を添加することが好ましく、中でもポリビニ
ルアルコールが特に好ましい。粘結剤の添加量は組成物
の成分の割合、成型条件などによって定められるが、精
製剤用の組成物100重量部に対し、通常は0.1〜2
0重量部、好ましくは0.5〜10重量部である。
【0013】精製剤を調製するには種々な方法がある
が、例えば酸化鉄またはこれに担体物質などを混合し
たものに粘結剤を溶解した水溶液を加えてかき混ぜて得
られたスラリーまたはケーキを押し出し成型し、適当な
長さに切断して得られたペレットを乾燥機中で80〜1
50℃程度で加熱しながら乾燥して精製剤とする方法、
または、上記のようなスラリーまたはケーキを加熱乾
燥した後粉砕し、打錠成型して精製剤とする方法、ある
いは、スラリーまたはケーキを造粒機などを用いて粒
状に成型した後、加熱しながら乾燥させて精製剤とする
方法などがある。これらのうち加工性および形状、大き
さの選択の容易さなどから押し出し成型によりペレット
状とし、加熱乾燥によって精製剤とするの方法が一般
的に好ましい。
【0014】成型体の大きさおよび形状には特に制限は
ないが、球形、円柱状、円筒形および粒状などが代表例
として挙げられる。その大きさは球状であれば直径0.
5〜10mm、ペレット、タブレットなど円柱状であれ
ば直径0.5〜10mm、高さ2〜20mm程度であ
り、粒状など不定形のものであれば、ふるいの目の開き
で0.84〜5.66mm程度のものである。精製剤を
浄化筒に充填した場合の充填密度は通常は0.6〜1.
5g/ml、程度のものである。
【0015】本発明において精製剤は、通常は固定床と
して用いられる。精製剤は精製筒内に充填され、原料ハ
ロゲンガスをこの精製筒内に流し、精製剤と接触させる
ことにより不純物であるハロゲン化水素および水分が除
去される。精製筒に充填される精製剤の充填長は、実用
上通常は、50〜1500mmとされる。充填長が50
mmよりも短くなると精製能力が低下する恐れがあり、
また、1500mmよりも長くなると圧力損失が大きく
なり過ぎる恐れがある。精製時のハロゲンガスの空筒線
速度(LV)は、供給されるハロゲンガス中に含まれる
不純物の濃度および各操作条件などによって異なり一概
に特定はできないが、通常は、100cm/sec以
下、好ましくは30cm/sec以下とされる。
【0016】ハロゲンガスと精製剤との接触温度は一般
的には200℃以下であるが、通常は常温でよく、特に
加熱や冷却は必要としない。圧力にも特に制限はなく常
圧、減圧、加圧のいずれでも処理が可能であるが、通常
は20kg/cm2 abs以下、好ましくは0.1〜1
0kg/cm2 absである。
【0017】本発明において、不純物であるハロゲン化
水素、水分の含有量が比較的多いハロゲンガスを精製す
るような場合には、精製剤によるハロゲン化水素および
水分の除去工程に、さらに、脱湿剤による水分の除去工
程を適宜組み合わせることが好ましい。脱湿剤を組み合
わせる方法としては、精製筒内の前段に精製剤、後段に
脱湿剤を充填する方法、精製剤と脱湿剤とを混合した状
態で精製筒内に充填し、精製、脱湿を同時におこなう方
法、あるいは、精製剤のみが充填された精製筒の出口側
に別途に脱湿剤を充填した脱湿筒を直列に接続する方法
などが用いられる。
【0018】脱湿剤はハロゲンガスの純度などに悪影響
を与える恐れがなく、ガス中に含まれる水分を効率よく
除去しうるものであればその種類には特に制限はない
が、一般的には合成ゼオライトなどが好ましく、例え
ば、モレキュラーシーブ3Aおよび5Aなどが好適であ
る。このように脱湿剤を組み合わせることによってハロ
ゲンガス中の水分は確実に除去され、極めて高純度の精
製ガスを得ることができる。
【0019】
【実施例】
実施例1 (精製剤の調製)四三酸化鉄(関東化学(株)製、鹿1
級、純度95%以上)108gにポリビニルアルコール
(PVA、信越化学(株)製、PA−05)4gを24
gの水に溶かした溶液を加えてかき混ぜた。得られたケ
ーキを押し出し成型機(フジパウダル社製)によって
1.6mmφのノズル板より押し出した成型物を切断し
て長さ3〜5mm程度のペレットとし、乾燥機中120
℃で加熱しながら約12時間乾燥することによって10
4gの精製剤Aを得た。このものの充填密度は0.72
g/mlであった。結果を表1に示す。
【0020】(塩素ガスの精製)内径16.4mmφ、
長さ400mmのステンレス製の精製筒に、精製剤Aを
63.1ml(充填長300mm)充填した。この精製
筒に市販の塩素ガスボンベの塩素ガスを0.633L/
min(LV=5cm/sec)で流しながら精製をお
こなった。
【0021】(腐食試験)ハロゲンガス中に含まれる比
較的微量のハロゲン化水素および水分を測定する方法は
未だ確率されていないため、精製ハロゲンガスの評価は
次のようにしておこなった。精製筒から出る精製塩素ガ
スを内面が電解研磨された3/8インチのSUS316
L−EP(長さ400mm)配管に16時間連続的に流
した後、この配管を縦割りに切断し、その内面を走査電
子顕微鏡(島津製作所)によって観察した。その結果、
腐食は全く認められなかった。結果を表2に示す。
【0022】実施例2〜6 (各精製剤の調製) 精製剤B 粘結剤としてポリビニルアルコール(PVA)を用いる
代わりにポリエチレングリコール(PEG、関東化学
(株)製)4gを24gの水に溶かしたものを用いた他
は、実施例1におけると同様にして調製し、精製剤Bを
得た。その収量は98gで、充填密度は0.68g/m
lであった。
【0023】精製剤C アルゴン雰囲気としたグローブボックス内で市販の硫酸
鉄(II)7水塩(関東化学(株)製)1Kg(3.6
モル)を10Lの水に溶解し、これに化学量論量の水酸
化ナトリウム20%水溶液を加えて攪拌し、水酸化鉄
(II)を沈澱させた。上澄み液をデカンテーションに
よって除き、残った沈澱物を水洗した後、アルゴン雰囲
気とした乾燥機中120℃で5時間加熱乾燥して約23
2gの酸化鉄(II)を得た。アルゴン雰囲気としたグ
ローブボックス内で上記の酸化鉄(II)100gにポ
リビニルアルコール4gを24g水に溶かしたものを用
いた他は、実施例1における精製剤Aと同様にして調製
し、精製剤Cを得た。収量は90gで、充填密度は0.
68g/mlであった。
【0024】精製剤D 四三酸化鉄60gと酸化鉄(III)(関東化学(株)
製、鹿1級、純度95%以上)40gにポリビニルアル
コール4gを24gの水に溶かした溶液を加えてかき混
ぜた。得られたケーキを押し出し成型機(フジパウダル
社製)によって1.6mmφのノズル板より押し出した
成型物を切断して長さ3〜5mm程度のペレットとし、
乾燥機中120℃で加熱しながら約12時間乾燥するこ
とによって86gの精製剤Dを調製した。このものの充
填密度は0.71g/mlであった。
【0025】精製剤E 四三酸化鉄108gにシリカゾル(アエロジル130)
10gと水20gを加えてかき混ぜた。得られたケーキ
を押し出し成型機(フジパウダル社製)によって1.6
mmφのノズル板より押し出した成型物を切断して長さ
3〜5mm程度のペレットとし、乾燥機中120℃で加
熱しながら約12時間乾燥することによって106gの
精製剤Eを調製した。このものの充填密度は0.73g
/mlであった。精製剤B〜Eの成分などを表1に示
す。
【0026】実施例2〜5 精製剤B〜Eのそれぞれについて、実施例1におけると
同様にして塩素ガスの精製および配管の腐食性試験をお
こなった。 (塩素ガスの精製)内径16.4mmφ、長さ400m
mのステンレス製の精製筒に、精製剤B、C、Dまたは
Eを63.1ml(充填長300mm)充填した。この
精製筒に市販の塩素ガスボンベの塩素ガスを0.633
L/min(LV=5cm/sec)で流しながら精製
をおこなった。
【0027】(腐食試験)各精製筒から出る精製塩素ガ
スのそれぞれについて、実施例1におけると同様にして
配管の腐食試験をおこなった。すなわち、各精製筒から
出る精製塩素ガスのそれぞれについて、内面が電解研磨
された3/8インチのSUS316L−EP(長さ40
0mm)配管に16時間連続的に流した後、それぞれの
配管を縦割りに切断し、その内面を走査電子顕微鏡によ
って観察した。その結果、いずれの場合にも腐食は全く
認められなかった。これらの結果を表2に示す。
【0028】実施例6 (フッ素ガスの精製)内径16.4mmφ、長さ400
mmのステンレス製の精製筒に実施例1で調製した精製
剤Aを63.1ml(充填長300mm)充填した。こ
の精製筒に市販のフッ素ガスボンベのフッ素ガスを、
0.633L/min(LV=5cm/sec)で流し
ながら精製をおこなった。
【0029】(腐食試験)精製筒から出る精製フッ素ガ
スを内面が電解研磨された3/8インチのSUS316
L−EP(長さ400mm)配管に16時間連続的に流
した後、この配管を縦割りに切断し、その内面を走査電
子顕微鏡観察した。その結果、腐食は全く認められなか
った。結果を表2に示す。
【0030】比較例1 ボンベからの塩素ガスを精製筒を通さずに、直接に3/
8インチのSUS316L−EP(長さ400mm)配
管に0.633L/min(LV=5cm/sec)で
16時間連続的に流した後、この配管を縦割りに切断
し、その内面を走査電子顕微鏡によって観察した。その
結果、僅かではあるが明らかな腐食の発生が認められ
た。
【0031】
【表1】 表1 各精製剤 精製剤 酸化鉄の種類 担粘結剤 水 充填密度 種類 (g) (g) (g)(g/ml) A Fe3 4 108 PVA 4 24 0.72 B Fe3 4 108 PEG 4 24 0.68 C FeO 100 PVA 4 24 0.68 D Fe3 4 +Fe2 3 60g 40g PVA 4 24 0.71 E Fe3 4 +シリカ 108g 10g − − 20 0.73
【0032】
【表2】 表2 精製ガスの腐食性試験 精製剤 ハロゲンガス の種類 の種類 配管腐食状態 実施例1 A 塩素ガス な し 実施例2 B 〃 〃 実施例3 C 〃 〃 実施例4 D 〃 〃 実施例5 E 〃 〃 実施例6 A フッ素ガス 〃 比較例1 − 塩素ガス あ り
【0033】実施例7 (塩素ガスの精製)内径16.4mmφ、長さ600m
mのステンレス製の精製筒の前段に、精製剤Aを63.
1ml(充填長300mm)、後段にモレキュラーシー
ブ3Aを31.6ml(充填長150mm)充填した。
この精製筒に、ボンベからの塩素ガスに対し、不純物と
して塩化水素が50ppm、水分が200ppmづつ増
加するようにそれぞれをマスフローコントローラーを用
いて添加した塩素ガスを、0.633L/min(LV
=5cm/sec)で流しながら精製をおこなった。
【0034】(腐食試験)精製筒から出る精製塩素ガス
について実施例1におけると同様にして配管の腐食試験
をおこなった。すなわち、精製塩素ガスを内面が電解研
磨された3/8インチのSUS316L−EP(長さ4
00mm)配管に16時間連続的に流した後、その配管
を縦割りに切断し、その内面を走査電子顕微鏡によって
観察した。その結果、腐食は全く認められなかった。そ
の結果を表3に示す。
【0035】実施例8〜11 内径16.4mmφ、長さ600mmのステンレス製の
各精製筒の前段に精製剤B、C、DまたはEを63.1
ml(充填長300mm)、それぞれの後段にモレキュ
ラーシーブ3Aを31.6ml(充填長150mm)充
填した。 (塩素ガスの精製)それぞれの精製筒に、ボンベからの
塩素ガスにに対し、不純物として塩化水素が50pp
m、水分が200ppmづつ増加するようにそれぞれマ
スフローコントローラーを用いて添加した塩素ガスを
0.633L/min(LV=5cm/sec)で流し
ながら精製をおこなった。
【0036】(腐食試験)各精製筒から出る精製塩素ガ
スのそれぞれについて、実施例7におけると同様にして
配管の腐食試験をおこなった。すなわち、各精製筒から
出る精製塩素ガスのそれぞれについて、内面が電解研磨
された3/8インチのSUS316L−EP(長さ40
0mm)配管に16時間連続的に流した後、それぞれの
配管を縦割りに切断し、その内面を走査電子顕微鏡によ
って観察した。その結果、いずれの場合にも腐食は全く
認められなかった。これらの結果を表3に示す。
【0037】実施例12 (フッ素ガスの精製)内径16.4mmφ、長さが60
0mmのステンレス製の精製筒の前段に精製剤Aを6
3.1ml(充填長300mm)、後段にモレキュラー
シーブ3Aを31.6ml(充填長150mm)充填し
た。この精製筒に、ボンベからのフッ素ガスにに対し、
不純物としてフッ化水素が50ppm、水分が200p
pmづつ増加するようにそれぞれをマスフローコントロ
ーラーを用いて添加したフッ素ガスを0.633L/m
in(LV=5cm/sec)で流しながら精製をおこ
なった。
【0038】(腐食試験)精製筒から出る精製フッ素ガ
スについて実施例7におけると同様にして配管の腐食試
験をおこなった結果、腐食は全く認められなかった。結
果を表3に示す。
【0039】比較例2 実施例7におけると同様にボンベからの塩素ガスにマス
フローコントローラーを用い、不純物として塩化水素が
50ppm、水分が200ppmづつ増加するように添
加した塩素ガスを、精製筒を通さずに、直接に3/8イ
ンチのSUS316L−EP(長さ400mm)配管に
0.633L/min(LV=5cm/sec)で16
時間連続的に流した後、この配管を縦割りに切断し、そ
の内面を観察した。その結果、顕微鏡で見るまでもな
く、肉眼でも著しい腐食が生じていることが認められ
た。
【0040】
【表3】 表3 精製ガスの腐食性試験 精製剤 ハロゲン の種類 ガスの種類 添加不純物 配管腐食状態 実施例7 A 塩素ガス 塩化水素 水 分 な し 実施例8 B 〃 〃 〃 〃 実施例9 C 〃 〃 〃 〃 実施例10 D 〃 〃 〃 〃 実施例11 E 〃 〃 〃 〃 実施例12 A フッ素ガス フッ化水素 〃 〃 比較例2 − 塩素ガス 塩化水素 〃 あり 大
【0041】
【発明の効果】本発明は、四三酸化鉄などの酸化鉄を主
成分とする精製剤を用いることによって従来除去が困難
であったハロゲンガス中に含まれる不純物であるハロゲ
ン化水素および水分などを効率よく除去することがで
き、高純度の精製ガスを得ることができる。また、水分
など不純物の含有量が多いような場合には、精製剤に合
成ゼオライトなどの脱湿剤を組み合わせることにより、
さらに完全に精製することが可能となった。従って、半
導体製造装置のガス供給配管などの腐食によるトラブル
やドライエッチングによるアフターコロージョン、アル
ミニウムラインパターンの食刻などによる不良品の発生
を確実に防止することができるようになった。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハロゲンガスを酸化鉄を主成分とする組
    成物を成型してなる精製剤と接触させて、該ハロゲンガ
    ス中に含まれる不純物であるハロゲン化水素および水分
    を除去することを特徴とするハロゲンガスの精製方法。
  2. 【請求項2】 ハロゲンガスが塩素、フッ素、臭素、ま
    たは、これらが不活性ガスで希釈されたガスである請求
    項1に記載の精製方法。
  3. 【請求項3】 ハロゲン化水素が塩化水素、ふっ化水素
    および臭化水素の少なくとも1種である請求項1に記載
    の精製方法。
  4. 【請求項4】 酸化鉄が四三酸化鉄、酸化鉄(II)、
    水酸化鉄(II)、酸化鉄(III)および水酸化鉄
    (III)から選ばれる1種または2種以上である請求
    項1に記載の精製方法。
  5. 【請求項5】 酸化鉄中の四三酸化鉄の含有量が60重
    量%以上である請求項4に記載の精製方法。
  6. 【請求項6】 組成物の成型に際し、粘結剤としてポリ
    ビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロ
    ピレングリコールおよびメチルセルロースから選ばれる
    1種または2種以上が添加される請求項1に記載の精製
    方法。
  7. 【請求項7】 ハロゲンガスと精製剤との接触工程に、
    脱湿剤との接触工程が組み合わせられた請求項1に記載
    の精製方法。
  8. 【請求項8】 脱湿剤が合成ゼオライトである請求項7
    に記載の精製方法。
JP27857694A 1994-10-19 1994-10-19 ハロゲンガスの精製方法 Expired - Fee Related JP3566996B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006508799A (ja) * 2002-12-06 2006-03-16 エムケーエス インストルメンツ, インコーポレイテッド フッ素発生およびフッ素再循環のための方法および装置
JP2010042990A (ja) * 2001-11-26 2010-02-25 Fluorine On Call Ltd 製造設備内の分子フッ素の生成、分配、および使用
WO2010035673A1 (ja) * 2008-09-24 2010-04-01 東亞合成株式会社 高純度塩素の製造方法
JPWO2014129488A1 (ja) * 2013-02-21 2017-02-02 日本ゼオン株式会社 高純度1h−ヘプタフルオロシクロペンテン

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010042990A (ja) * 2001-11-26 2010-02-25 Fluorine On Call Ltd 製造設備内の分子フッ素の生成、分配、および使用
JP2006508799A (ja) * 2002-12-06 2006-03-16 エムケーエス インストルメンツ, インコーポレイテッド フッ素発生およびフッ素再循環のための方法および装置
WO2010035673A1 (ja) * 2008-09-24 2010-04-01 東亞合成株式会社 高純度塩素の製造方法
JP2010076953A (ja) * 2008-09-24 2010-04-08 Toagosei Co Ltd 高純度塩素の製造方法
JPWO2014129488A1 (ja) * 2013-02-21 2017-02-02 日本ゼオン株式会社 高純度1h−ヘプタフルオロシクロペンテン
JP2018093233A (ja) * 2013-02-21 2018-06-14 日本ゼオン株式会社 ドライエッチング方法

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