JPH08115994A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JPH08115994A
JPH08115994A JP6249430A JP24943094A JPH08115994A JP H08115994 A JPH08115994 A JP H08115994A JP 6249430 A JP6249430 A JP 6249430A JP 24943094 A JP24943094 A JP 24943094A JP H08115994 A JPH08115994 A JP H08115994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
substrate
semiconductor chip
semiconductor device
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP6249430A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takuya Kazama
拓也 風間
Yoshihiro Kubota
義浩 久保田
Michio Hayakawa
美智雄 早川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority to JP6249430A priority Critical patent/JPH08115994A/en
Publication of JPH08115994A publication Critical patent/JPH08115994A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]

Abstract

PURPOSE: To provide a noise-resistant package structure which realizes lower cost and easy arrangement of wiring by providing a wiring board and a high degree of freedom with respect to wiring layout by connecting a wire in the package with low inductance and high capacitance, and can be adapted to a high-speed semiconductor device. CONSTITUTION: A semiconductor device has a semiconductor chip 18 having an electrode, a substrate 17 on which the semiconductor chip 18 is mounted and which has a first wiring film 13a, lead terminals 12a, 12b electrically connected with the semiconductor chip 18, and a wire 14 for connecting the lead terminals 12a, 12b with the electrode, The semiconductor device also has a cap 16 for hermetically sealing the semiconductor chip 18 in cooperation with the substrate 17, and a wiring board 61 having wiring films 13b, 13c and provided between the substrate 17 and the cap 16. For instance, the first wiring film 13a on the surface of the substrate 17 is connected in predetermined portions with the second wiring films 13b, 13c on the lower and upper sides of the wiring board 16 by means of a conductive pin 20 and a through-hole 20a.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置に係り、特
にサークワッドタイプのパッケージを用いた半導体装置
に関する。半導体チップのパッケージングには様々な要
求があり、強度、耐熱性、耐吸湿性への高い信頼性はも
ちろん、リード端子に半導体チップの電極を低いインダ
クタンスと高い容量で接続すること、パッケージのコス
トが安価であることも重要な問題である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device using a squad type package. There are various requirements for packaging semiconductor chips, and in addition to high reliability in strength, heat resistance, and moisture absorption resistance, connecting the semiconductor chip electrodes to lead terminals with low inductance and high capacitance, package cost Is also an important issue.

【0002】強度的な点についての信頼性は、パッケー
ジをセラミック製とすることで解決できる。更に、年々
高集積化する半導体チップの電極数と、これに見合うリ
ード端子数は年々増加する傾向にあり、配線の引回しも
複雑化していることから、接続配線の引回しの自由度を
大きくするパッケージ構造も、その必要性を高めてい
る。
Reliability in terms of strength can be solved by making the package ceramic. Furthermore, the number of electrodes in semiconductor chips, which are becoming more highly integrated year by year, and the number of corresponding lead terminals tend to increase year by year, and the wiring layout is becoming more complicated. The packaging structure that does this also increases the need.

【0003】パッケージがセラミック製で、配線の引回
しの自由度が大きく、なおかつ半導体チップの接続が低
インダクタンス、高容量で行なえる半導体装置に多層セ
ラミックパッケージがある。多層セラミックパッケージ
は、セラミック基板を多層にして、その一枚一枚に配線
膜を設けたことにより、配線膜を設ける領域が充分に確
保できるという利点がある反面、セラミックを多層化す
る工程や、リード端子のロウ付けの工程が煩雑である
上、リード端子の表面処理に金を使用することによって
パッケージコストが高いという欠点も持っている。
There is a multilayer ceramic package as a semiconductor device in which the package is made of ceramic, the degree of freedom of wiring is large, and the semiconductor chip can be connected with low inductance and high capacity. The multilayer ceramic package has an advantage that a wiring film can be sufficiently secured by providing a wiring film on each one of the ceramic substrates in a multi-layered manner. In addition to the complicated brazing process of the lead terminals, the use of gold for the surface treatment of the lead terminals has a drawback that the package cost is high.

【0004】[0004]

【従来の技術】多層セラミックパッケージのコストが高
いという問題点を解決すべく開発されたのがサークワッ
ドタイプのパッケージである。しかしサークワッドタイ
プのパッケージではパッケージコストが高いという点は
解決できたものの、配線の引回しの自由度は小さくな
る。
2. Description of the Related Art A squad type package has been developed to solve the problem that the cost of a multilayer ceramic package is high. However, although the problem of high package cost was solved with the sirquad type package, the degree of freedom in routing the wiring is reduced.

【0005】そこで、セラミック製パッケージを用い
て、かつ安価であり、配線の引回しも比較的自由なパッ
ケージ構造として、いわゆる2層サークワッドタイプの
パッケージが開発された。図7に2層サークワッドタイ
プのパッケージを側面から見た概略構成を示す。図中、
1は2層サークワッドタイプのパッケージを示してい
る。2層サークワッドタイプのパッケージ1は、セラミ
ック製の基板7上に半導体チップ8を接着剤9で固定
し、ガラス材5(例えば低融点ガラス)によりリード端
子2a、2bを挟着し、更にその上よりキャップ6を被
せて半導体チップ8を封止する構成となっている。
Therefore, a so-called two-layer quad-type package has been developed as a package structure which uses a ceramic package, is inexpensive, and has relatively free wiring. FIG. 7 shows a schematic structure of a two-layer quad-type package viewed from the side. In the figure,
Reference numeral 1 indicates a two-layer quad-type package. In the two-layer quad-type package 1, a semiconductor chip 8 is fixed on a ceramic substrate 7 with an adhesive 9, and lead terminals 2a and 2b are sandwiched by a glass material 5 (for example, low melting point glass). The semiconductor chip 8 is sealed by covering the cap 6 from above.

【0006】図中のリード端子は2a、2bの2種類あ
る。このうちリード端子2aは半導体チップ8に形成さ
れているグランド電極や電源用の電極とワイヤー4を介
して接続されるもので、リード端子2bに比べて幅が広
く、長さが短い構成となっている。一方リード端子2b
は、半導体チップ8に形成された信号電極8aとワイヤ
ー4を介して接続されることにより、信号線として機能
するものであって、個々の電極と一対一に対応してい
る。
There are two types of lead terminals 2a and 2b in the figure. Of these, the lead terminal 2a is connected to the ground electrode or the power supply electrode formed on the semiconductor chip 8 through the wire 4, and has a wider width and a shorter length than the lead terminal 2b. ing. On the other hand, the lead terminal 2b
Is a signal line that is connected to the signal electrode 8a formed on the semiconductor chip 8 via the wire 4, and has a one-to-one correspondence with each electrode.

【0007】リード2a、2bと電極との接続方法を図
7中破線で示したB−B’に沿う矢視図である図8によ
って説明する。図8中に示すリード端子2bは、その先
端がガラス材5の位置まで電極8aに接近するように配
設されており、ワイヤー4によって直接電極8aと接続
されている。これに対してリード端子2aは上記したよ
うに、リード端子2bに比して幅が広く複数のワイヤー
(図8中では3本)を同時に接続して基板7の外周部近
傍で配線膜3と接続している。また、配線膜3は半導体
チップ8aに近い位置においてワイヤー4を用いて電極
8aと再び接続されている。
A method of connecting the leads 2a, 2b to the electrodes will be described with reference to FIG. 8, which is a view taken along the line BB 'shown by the broken line in FIG. The lead terminal 2b shown in FIG. 8 is arranged so that its tip approaches the electrode 8a up to the position of the glass material 5, and is directly connected to the electrode 8a by the wire 4. On the other hand, as described above, the lead terminal 2a is wider than the lead terminal 2b, and a plurality of wires (three wires in FIG. 8) are simultaneously connected to connect the wiring film 3 to the wiring film 3 in the vicinity of the outer peripheral portion of the substrate 7. Connected. Further, the wiring film 3 is connected again to the electrode 8a using the wire 4 at a position close to the semiconductor chip 8a.

【0008】2層サークワッドタイプのパッケージ1で
配線の引回しが比較的自由となるのは以下の理由によ
る。即ち、リード端子2aに接続されるワイヤー4が、
基板7上に設けられた配線用の配線膜3を介在してリー
ド端子2aと半導体チップ8の電極8aを接続してい
る。つまり、配線膜3とは、基板7上に成膜、パターニ
ングされた金属膜で、ワイヤー4は必要に応じて半導体
チップ8のリード端子2aと電極8aを直接接続せず、
一旦配線用配線膜3に接続した後、配線膜からワイヤー
4を延ばしリード端子2aに接続することができるため
配線の引回し方法における選択肢が増えるのである。
The reason why wiring is relatively free in the two-layer quad-type package 1 is as follows. That is, the wire 4 connected to the lead terminal 2a is
The lead terminal 2a and the electrode 8a of the semiconductor chip 8 are connected via the wiring film 3 for wiring provided on the substrate 7. That is, the wiring film 3 is a metal film formed and patterned on the substrate 7, and the wire 4 does not directly connect the lead terminal 2a of the semiconductor chip 8 and the electrode 8a, if necessary.
After the wire 4 is once connected to the wiring film 3 for wiring, the wire 4 can be extended from the wiring film and connected to the lead terminal 2a, so that there are more choices in the wiring routing method.

【0009】上記構成のメリットは、ワイヤー配線長を
短くすると共に、配線の面積を大きくすることが可能で
ある点にある。従って、2層サークワッドタイプのパッ
ケージは、配線のレイアウトが簡易である、またグラン
ド電極や、電源電極用の電極8aをワイヤー4を介して
配線膜3に接続し、配線膜3から複数本のワイヤー4を
介してリード端子2aに接続しているため、信号電極用
の8aとリード端子2bを直接ワイヤー4で接続してい
る信号線と比べてグランド線、電源線がインダクタンス
やキャパシタンスに優れ、グランド及び電源の安定化が
図れるという点で有利である。
The merit of the above construction is that the wire length can be shortened and the wiring area can be increased. Therefore, in the two-layer quad-type package, the wiring layout is simple, and the ground electrode and the electrode 8a for the power supply electrode are connected to the wiring film 3 via the wire 4, and a plurality of wiring films 3 are formed from the wiring film 3. Since it is connected to the lead terminal 2a via the wire 4, the ground line and the power supply line are superior in inductance and capacitance as compared with the signal line in which the signal electrode 8a and the lead terminal 2b are directly connected by the wire 4. This is advantageous in that the ground and the power supply can be stabilized.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、2層サークワ
ッドタイプのパッケージは、製造コストの低価格化とい
う問題が解決された反面、将来的に、半導体装置に搭載
される半導体チップの更なる高密度化、高速化に伴う端
子数の増大、及び配線の高密度化には対処できないもの
と思われる。
However, the two-layer sir quad type package solves the problem of lowering the manufacturing cost, but on the other hand, in the future, the semiconductor chip mounted in the semiconductor device will be further improved. It seems that it is impossible to deal with the increase in the number of terminals due to higher density and higher speed, and higher density of wiring.

【0011】即ち、リード端子数の増大及び配線の高密
度化に伴って、従来の2層サークワッドタイプでは線の
引回しが複雑となるために高速で動作する半導体装置に
対しての適用が難しくなる。また、配線膜を設ける面積
が基板面上に限られているため、個々のパターンが細分
化され抵抗が大きくなること、配線基板を平面分割して
配線膜を設けているために配線間の容量が多層基板に比
べて約1/4〜1/40と低くなることによってノイズ
に対して半導体装置が誤動作する確率が高くなるという
問題もある。
In other words, with the increase in the number of lead terminals and the increase in wiring density, the conventional two-layer quad type becomes complicated in the wiring of the wire, and therefore is applicable to a semiconductor device operating at high speed. It gets harder. In addition, since the area where the wiring film is provided is limited to the surface of the substrate, each pattern is subdivided to increase the resistance, and the wiring film is provided by dividing the wiring board into planes. However, there is also a problem in that the semiconductor device has a higher probability of malfunctioning due to noise due to a decrease of about 1/4 to 1/40 as compared with the multilayer substrate.

【0012】本発明は、以上の点を鑑み、低コストで、
かつ配線の引回しが簡易であり、かつパッケージ内での
ワイヤーが低インダクタンス、高容量で接続されること
により配線レイアウト上の自由度が大きく、高速半導体
素子のパッケージングに適応でき、ノイズに対して強い
パッケージ構造を提供することを目的とするものであ
る。
In view of the above points, the present invention is low cost,
In addition, the wiring can be easily routed, and since the wires in the package are connected with low inductance and high capacitance, there is a large degree of freedom in wiring layout, which makes it suitable for packaging high-speed semiconductor elements The purpose is to provide a strong package structure.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
め、本発明では下記の通り構成した。請求項1の発明の
半導体装置は、電極を有する半導体チップと、半導体チ
ップを固定すると共に第1の配線膜を設けてなる基板
と、半導体チップに電気的に接続されるリード端子とリ
ード端子と該電極とを接続するワイヤーと、基板と協働
して該半導体チップを気密封止するキャップとよりな
り、基板と該キャップの間に配線膜を有する配線基板を
配設することを特徴とするものである。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration. A semiconductor device according to a first aspect of the present invention includes a semiconductor chip having electrodes, a substrate on which the semiconductor chip is fixed and a first wiring film is provided, lead terminals electrically connected to the semiconductor chip, and lead terminals. A wiring substrate having a wiring film is provided between the substrate and a wire for connecting the electrode and a cap that cooperates with the substrate to hermetically seal the semiconductor chip. It is a thing.

【0014】請求項2の発明の半導体装置は、電極を有
する半導体チップと、半導体チップを固定すると共に第
1の配線膜を設けてなる基板と、半導体チップに電気的
に接続されるリード端子と、リード端子と該電極とを接
続するワイヤーと、基板と協働して半導体チップを気密
封止するキャップとよりなり、キャップの内面に第2の
配線膜を形成し、配線基板として使用することを特徴と
するものである。
According to another aspect of the semiconductor device of the present invention, a semiconductor chip having electrodes, a substrate on which the semiconductor chip is fixed and a first wiring film is provided, and lead terminals electrically connected to the semiconductor chip. A wire for connecting the lead terminal and the electrode and a cap that cooperates with the substrate to hermetically seal the semiconductor chip, form a second wiring film on the inner surface of the cap, and use it as a wiring substrate It is characterized by.

【0015】請求項3の発明の半導体装置は、基板と、
配線基板を電気的に接続する接続部を設けることを特徴
とするものである。請求項4の発明の半導体装置は、上
記ワイヤーを配線基板に接触させて、リード端子及び半
導体チップを配線基板に接続する接続部としたことを特
徴とするものである。
A semiconductor device according to a third aspect of the present invention comprises a substrate,
It is characterized in that a connecting portion for electrically connecting the wiring board is provided. A semiconductor device according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that the wire is brought into contact with a wiring board to form a connecting portion for connecting the lead terminal and the semiconductor chip to the wiring board.

【0016】請求項5の発明の半導体装置は、接続部
を、基板と配線基板を接続する導電性ピンとすることを
特徴とするものである。請求項6の発明の半導体装置
は、導電性ピンを該配線基板に形成された接続孔に挿着
してなる構成としたことを特徴とするものである。
A semiconductor device according to a fifth aspect of the present invention is characterized in that the connecting portion is a conductive pin that connects the substrate and the wiring substrate. A sixth aspect of the semiconductor device according to the present invention is characterized in that the conductive pin is inserted into a connection hole formed in the wiring board.

【0017】請求項7の発明の半導体装置は、導電性ピ
ンを配線基板上面に突出させて、導電性ピンの突出部分
を変形させることにより基板に接続する構成としたこと
を特徴とするものである。請求項8の発明の半導体装置
は、第1の基板上に導電性ピンの位置合わせ凹部を設け
ることを特徴とするものである。
A semiconductor device according to a seventh aspect of the present invention is characterized in that the conductive pins are projected onto the upper surface of the wiring board, and the protruding portions of the conductive pins are deformed to connect to the board. is there. The semiconductor device according to the invention of claim 8 is characterized in that a positioning recess for aligning the conductive pin is provided on the first substrate.

【0018】[0018]

【作用】請求項1の発明によれば、基板の上面に配線膜
を形成することにより、配線膜を設ける面積が拡張され
る。更に配線基板を設けることにより配線膜を形成する
領域が拡張される。配線膜を形成する領域が広くなるこ
とによって個々の配線膜の面積が大きくなって接続抵抗
が小さくなり、配線の低インダクタンス化がなされる。
According to the first aspect of the invention, by forming the wiring film on the upper surface of the substrate, the area where the wiring film is provided is expanded. Further, by providing the wiring board, the area where the wiring film is formed is expanded. By widening the region where the wiring film is formed, the area of each wiring film is increased, the connection resistance is reduced, and the inductance of the wiring is reduced.

【0019】また、ワイヤーをリード端子に近い配線膜
に接続して、配線膜を介して電極と接続することによっ
て、ワイヤーの配線の引回しが単純になり、配線レイア
ウトの自由度も大きくなり、配線の設計が簡易になる。
請求項2の発明によれば、キャップの内面に配線膜を形
成して、配線基板として使用することにより、新たに配
線基板を設ける必要が無い、よってパッケージの設計の
変更が不要なので発明の実施が簡易である。また半導体
装置の電子部品点数が削減されるために組み立て作業が
容易になる。
Further, by connecting the wire to the wiring film close to the lead terminal and connecting it to the electrode through the wiring film, the wiring of the wire is simplified and the degree of freedom of the wiring layout is increased, Wiring design is simplified.
According to the invention of claim 2, by forming a wiring film on the inner surface of the cap and using it as a wiring board, there is no need to newly provide a wiring board, and therefore, there is no need to change the design of the package. Is simple. Further, since the number of electronic parts of the semiconductor device is reduced, the assembling work becomes easy.

【0020】請求項3の発明によれば、接続部によって
基板と配線基板間の任意の位置で電気的な接続が得られ
る。請求項4の発明によれば、すでに半導体装置内に在
るワイヤーを接続部材として使用することにより、新た
に別の接続分を設けるスペースを基板、或いは配線基板
に確保する必要が無い。よって配線基板上の配線膜用ス
ペースに余裕ができる。
According to the invention of claim 3, an electrical connection can be obtained at an arbitrary position between the substrate and the wiring substrate by the connecting portion. According to the invention of claim 4, by using the wire already existing in the semiconductor device as the connecting member, it is not necessary to secure a space for newly providing another connecting portion in the substrate or the wiring substrate. Therefore, a space for the wiring film on the wiring board can be provided.

【0021】請求項5の発明の半導体装置は、接続部を
導電性ピンとすると、形状が単純なので導電性に優れた
所望の材料を選ぶことが可能であり、また設置に要する
面積が小さいので、基板と配線基板間の任意の位置に設
けられる。請求項6の発明によれば、接続孔を形成して
導電性ピンを挿着することは、導電性ピンと配線基板の
接触面積を大きくすることによって、導電性ピンと配線
基板の接続を低抵抗化すると共に固定の強度を高める。
In the semiconductor device of the fifth aspect of the present invention, when the connecting portion is a conductive pin, the shape is simple, so that a desired material having excellent conductivity can be selected and the area required for installation is small. It is provided at an arbitrary position between the board and the wiring board. According to the invention of claim 6, forming the connection hole and inserting the conductive pin increases the contact area between the conductive pin and the wiring board, thereby reducing the resistance of the connection between the conductive pin and the wiring board. And increase the strength of fixation.

【0022】請求項7の発明の半導体装置は、導電性ピ
ンの突出部分を変形することによって導電性ピンと配線
基板の接触面積が大きくなり、導電性ピンと配線基板の
接続を低抵抗化すると共に固定の強度を高める。請求項
8の発明の半導体装置は、基板上の位置合わせ凹部によ
って導電性ピンの位置合わせ精度を向上させる。
In the semiconductor device according to the invention of claim 7, the contact area between the conductive pin and the wiring board is increased by deforming the protruding portion of the conductive pin, so that the connection between the conductive pin and the wiring board is reduced in resistance and fixed. Increase the strength of. According to the semiconductor device of the invention of claim 8, the positioning recess of the substrate improves the positioning accuracy of the conductive pin.

【0023】[0023]

【実施例】本発明の一実施例である第1実施例に係る半
導体装置の構造について説明する。図1は、本実施例の
半導体装置を示す概略構成図である。本実施例の半導体
装置は、2層サークワッドタイプのパッケージと同様の
構成部品である、半導体チップ18と、第1の配線膜1
3aが形成され、半導体チップを固定する基板17と、
半導体チップに電気的に接続されるリード端子12a及
び12bと、基板と協働して該半導体チップを気密封止
するキャップ16とよりなる本体部分と、第2の配線膜
13b及び13cを設けるための配線基板61と、両者
を接続するための接続部としての導電性ピン20から構
成される。
EXAMPLE A structure of a semiconductor device according to a first example which is an example of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a semiconductor device of this embodiment. The semiconductor device according to the present embodiment is the same component parts as the two-layer quad-type package, that is, the semiconductor chip 18 and the first wiring film 1.
A substrate 17 on which a semiconductor chip is fixed, and 3a is formed;
In order to provide lead terminals 12a and 12b electrically connected to the semiconductor chip, a main body portion including a cap 16 that cooperates with the substrate to hermetically seal the semiconductor chip, and second wiring films 13b and 13c The wiring board 61 and the conductive pin 20 as a connecting portion for connecting both.

【0024】先ず本体となる2層サークワッドタイプパ
ッケージの構成であるが、セラミック製の基板17上に
配線膜第1の13aがパターニング形成されている。基
板17の中央に半導体チップを接着剤19によって固定
し、ガラス材として低融点ガラス15によってリード端
子12a及び12bを挟着しキャップ16を被せて半導
体チップ18を封止するよう構成されている。本体とな
る2層サークワッドタイプに配設される配線基板61
は、ウインドフレームと呼ばれるセラミック製の枠状の
基板である。外周は基板17と略等しく、中央を基板1
7に搭載されるに搭載される半導体チップ18より少し
大きめの大きさに切欠いた構成となっている。
First, regarding the structure of a two-layer quad-quad package serving as a main body, a wiring film first 13a is patterned and formed on a ceramic substrate 17. A semiconductor chip is fixed to the center of the substrate 17 with an adhesive 19, lead terminals 12a and 12b are sandwiched by a low melting point glass 15 as a glass material, and a cap 16 is covered to seal the semiconductor chip 18. Wiring board 61 arranged in a two-layer squard type serving as a main body
Is a ceramic frame-shaped substrate called a wind frame. The outer periphery is substantially the same as the substrate 17, and the center is the substrate 1.
The semiconductor chip 18 to be mounted on the board 7 is cut out to a size slightly larger than the semiconductor chip 18.

【0025】ここで、図2を用いてウインドフレームの
構成を説明する。図2は、図1中破線A−A’に沿う矢
視図である。配線基板61は、2層サークワッドタイプ
パッケージ1における配線膜を設けるためのスペースを
拡張する目的で設けられたものである。従って、その両
面は第2の配線膜13b(図2においては図示されな
い)、13cでコーテイングされ、更にその配線膜は配
線の引回しが簡易になるようにパターニングされてい
る。本実施例では、配線膜13a、13b、13cの材
質にアルミを用いた。また、導電性ピン20は配線基板
61の下面に配設されるので図2には図示されないため
破線で配設位置を示す。導電性ピン20の配設位置はス
ルーホール20a(図2においては図示されない)を設
ける位置に等しい。
The structure of the wind frame will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a view taken along the broken line AA ′ in FIG. The wiring board 61 is provided for the purpose of expanding the space for providing the wiring film in the two-layer quad-type package 1. Therefore, both surfaces thereof are coated with second wiring films 13b (not shown in FIG. 2) and 13c, and the wiring film is patterned so that wiring can be easily routed. In this embodiment, aluminum is used as the material for the wiring films 13a, 13b, 13c. Further, the conductive pin 20 is disposed on the lower surface of the wiring board 61 and is not shown in FIG. The position where the conductive pin 20 is provided is equal to the position where the through hole 20a (not shown in FIG. 2) is provided.

【0026】本実施例においては図示するように配線基
板61の上面に配線膜13cを配設、更に断面図に示し
たように配線基板61の下面の第2の配線膜13bをリ
ード端子12a、12bと相対する面にも配し、配線膜
を設ける面を基板17(図2においては図示されない)
の面と併せて3面設けた構成となっている。本実施例の
構成図中においては、配線基板61はリード端子12
a、12bとキャップ16の間に配設され、配線基板6
1と、リード端子12、キャップ16とはガラス材であ
る低融点ガラス15によってそれぞれ絶縁されている。
また、配線基板61にはスルーホール20aが開孔され
ており、導電性ピン20が挿着されている。
In the present embodiment, the wiring film 13c is provided on the upper surface of the wiring board 61 as shown in the drawing, and the second wiring film 13b on the lower surface of the wiring board 61 is connected to the lead terminals 12a as shown in the sectional view. The substrate 17 (not shown in FIG. 2) is also provided on the surface opposite to 12b and the surface on which the wiring film is provided is provided.
In addition to the three surfaces, the three surfaces are provided. In the configuration diagram of the present embodiment, the wiring substrate 61 is the lead terminal 12
The wiring board 6 is disposed between the caps 16a, 12b and the cap 16.
1, the lead terminal 12 and the cap 16 are insulated from each other by a low melting point glass 15 which is a glass material.
Further, the wiring board 61 is provided with a through hole 20a, and the conductive pin 20 is inserted therein.

【0027】導電性ピン20は、基板17の面上の第1
の配線膜13aと、配線基板61の下面の第2の配線膜
13bと、配線基板61の上面の配線膜13cとを電気
的に接続する必要がある箇所の接続を行なうものであ
る。スルーホール20aの内部には導電性ペースト(例
えばAg−ガラス等)を充填し、更に導電性ピン20
と、基板17上の第1の配線膜13a及び配線基板61
下面の第2の配線膜13bの接続部分にも導電性ペース
トを塗布して導通を一層確実なものにする。上記構成に
よって、第2の配線膜13b、13cを設ける領域が広
がったため配線の引回しの設計の自由度が大きくなり、
配線長も短くすることができる。また、配線膜13a、
13b、13c個々のパターンのが充分大きく確保でき
ることで、ワイヤー14の接続を低インダクタンス化で
きる。また、配線基板61に第2の配線膜13b、13
cを層状に配設したことによって容量が大きくなった。
これにより高速半導体素子に対応が可能となり、かつノ
イズに対して強いパッケージを実現することができた。
The conductive pin 20 is a first pin on the surface of the substrate 17.
The wiring film 13a, the second wiring film 13b on the lower surface of the wiring board 61, and the wiring film 13c on the upper surface of the wiring board 61 are electrically connected to each other at locations where they need to be electrically connected. The inside of the through hole 20a is filled with a conductive paste (for example, Ag-glass or the like), and the conductive pin 20 is further filled.
And the first wiring film 13a on the board 17 and the wiring board 61.
A conductive paste is also applied to the connection portion of the second wiring film 13b on the lower surface to further ensure conduction. With the above configuration, since the area where the second wiring films 13b and 13c are provided is widened, the degree of freedom in designing the wiring is increased,
The wiring length can also be shortened. In addition, the wiring film 13a,
By ensuring that the individual patterns 13b and 13c are sufficiently large, the connection of the wire 14 can be made low in inductance. In addition, the second wiring films 13 b, 13 are formed on the wiring board 61.
The capacity was increased by arranging c in layers.
As a result, high-speed semiconductor devices can be supported, and a package resistant to noise can be realized.

【0028】加えて、本実施例では、従来の多層セラミ
ック基板がプロセス上、コストの高い金を配線用の金属
としなければならなっかたのに対して、より安価で、よ
りセラミックと接合相性の良いアルミを用いることがで
きるため、信頼性が高く、低コストのパッケージを提供
することが可能となる。続いて、第2実施例について述
べる。
In addition, in the present embodiment, the conventional multilayer ceramic substrate had to be made of gold, which is expensive in the process, as the metal for wiring, but it is cheaper and more compatible with the ceramic. Since high-quality aluminum can be used, it is possible to provide a highly reliable and low-cost package. Next, the second embodiment will be described.

【0029】本実施例は第1実施例のパッケージにおけ
る配線基板にパッケージのキャップを利用した構成とす
るものである。図3は第2実施例の概略構成図である。
図中、第1実施例と同様の構成とした基板27上に半導
体チップ28を接着剤29で接着固定し、第1実施例同
様リード端子22a、22bを低融点ガラス25によっ
て挟着し、ワイヤー24で半導体チップ28の電極28
aとリード端子22aを接続する。
In this embodiment, the cap of the package is used for the wiring board in the package of the first embodiment. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the second embodiment.
In the figure, a semiconductor chip 28 is adhered and fixed on a substrate 27 having the same structure as that of the first embodiment with an adhesive 29, and lead terminals 22a and 22b are sandwiched by a low melting point glass 25 as in the first embodiment, and a wire is used. Electrode 28 of semiconductor chip 28 at 24
a and the lead terminal 22a are connected.

【0030】ここで、キャップ26を被せて半導体チッ
プ28を封止するのであるが、本実施例ではキャップ2
6の下面に配線用配線膜23bを設けて、第1実施例に
おける配線基板61と同じ用途で使用している点が特徴
となる。本実施例においても基板の第1の配線膜23a
とキャップ26の下面に設けられる第2の配線膜23b
との電気的な導通をとるべき位置には第1実施例に述べ
たように導電性ピン30を設けておく。
Here, the cap 26 is covered to seal the semiconductor chip 28. In this embodiment, the cap 2 is used.
The wiring film 23b for wiring is provided on the lower surface of 6 and is used for the same purpose as the wiring board 61 in the first embodiment. Also in this embodiment, the first wiring film 23a of the substrate
And the second wiring film 23b provided on the lower surface of the cap 26
As described in the first embodiment, the conductive pin 30 is provided at a position where electrical conduction with the above should be established.

【0031】尚、本実施例ではキャップ26の下面に配
線膜を設けた構成としたが、キャップ26をメタルキャ
ップにして多数の電極で共通に使えるパターン(例えば
グランド等)として使用することも可能である。この場
合には、キャップ26の全面が配線膜となるのでインダ
クタンスを充分低くすることにおいて有利である。次
に、第3実施例について図4を用いて説明する。
Although the wiring film is provided on the lower surface of the cap 26 in this embodiment, the cap 26 may be used as a metal cap and used as a pattern that can be commonly used by many electrodes (eg, ground). Is. In this case, the entire surface of the cap 26 serves as a wiring film, which is advantageous in sufficiently reducing the inductance. Next, a third embodiment will be described with reference to FIG.

【0032】本実施例は第1実施例の半導体装置11の
接続部として、導電性ピン20に代えてワイヤー14を
使用し、基板上の第1の配線膜13aと配線基板の下面
に設けた第2の配線膜13bを接続する点に特徴を有す
る構成となる。よって、第1実施例のパッケージ11と
同一構成については、同一符号を付すものとする。先ず
ワイヤー14をループ状に加工する。基板17上の第1
の配線膜13aと、配線基板61下面に設けられた第2
の配線膜13bの導通をとりたい位置に、このループ形
状を有したワイヤー14を接触させることにより、半導
体チップ18の電極18aとリード端子12を接続し、
かつ配線基板の第2の配線膜13bに低抵抗で接続する
ものである。
In this embodiment, as the connecting portion of the semiconductor device 11 of the first embodiment, the wire 14 is used in place of the conductive pin 20, and is provided on the first wiring film 13a on the substrate and the lower surface of the wiring substrate. The configuration is characterized in that the second wiring film 13b is connected. Therefore, the same components as those of the package 11 of the first embodiment are designated by the same reference numerals. First, the wire 14 is processed into a loop shape. First on board 17
Wiring film 13a and the second wiring film provided on the lower surface of the wiring board 61.
The wire 18 having the loop shape is brought into contact with the wiring film 13b at a position where conduction is desired to connect the electrode 18a of the semiconductor chip 18 and the lead terminal 12,
In addition, it is connected to the second wiring film 13b of the wiring board with low resistance.

【0033】電極18aと繋がったワイヤー14はリー
ド端子12と接続した後に配線基板61の第2の配線膜
13bと接触されるが、第2の配線膜13bとワイヤー
14の接触する部分も導電性ペースト14bが塗布され
て第2の配線膜13bと、ワイヤー14の固定強度を上
げると共に接触面積を拡張して抵抗を小さくしている。
The wire 14 connected to the electrode 18a is brought into contact with the second wiring film 13b of the wiring board 61 after being connected to the lead terminal 12, and the contact portion between the second wiring film 13b and the wire 14 is also conductive. The paste 14b is applied to increase the fixing strength of the second wiring film 13b and the wire 14 and expand the contact area to reduce the resistance.

【0034】ワイヤー14は、リード端子12を介して
更に基板の第1の配線膜13aに接続されるので、電極
18a、第2の配線膜13b、リード端子12、第1の
配線膜13aは互いに電気的に接続される。本実施例で
は接続部の設置が不要であるので、接続部と基板の位置
合わせが不要になるという特有の効果を有することがで
きる。
Since the wire 14 is further connected to the first wiring film 13a of the substrate via the lead terminal 12, the electrode 18a, the second wiring film 13b, the lead terminal 12 and the first wiring film 13a are mutually connected. It is electrically connected. In this embodiment, since it is not necessary to install the connecting portion, it is possible to have a unique effect that the alignment between the connecting portion and the substrate becomes unnecessary.

【0035】尚、本実施例の構成図においては、ワイヤ
ーを接続部として使用する発明を第1実施例の半導体装
置に対して用いたが、第2実施例の半導体装置において
使用することも可能である。次に第4実施例について述
べる。図5は第4実施例の特徴となる導電性ピン40の
概略構成図である。
Although the invention using the wire as the connecting portion is used for the semiconductor device of the first embodiment in the configuration diagram of this embodiment, it can be used for the semiconductor device of the second embodiment. Is. Next, a fourth embodiment will be described. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conductive pin 40 that is a feature of the fourth embodiment.

【0036】本実施例発明による半導体装置のパッケー
ジ構造は第1実施例のパッケージの導電性ピンを導電性
ピン40に置き換えた構成のものであるから、第1実施
例と同一構成については、同一符号を付して全体図を略
す。導電性ピン40を配線基板に設けられた接続孔とな
るスルーホール40aに挿着した際、配線基板61の上
面に突出する部分がある。この部分を潰して、スルーホ
ール40aの径以上の大きさに変形することで、導電性
ピン40の配線基板61に対する固定強度が一層強くな
る。
Since the package structure of the semiconductor device according to the present invention has a structure in which the conductive pins of the package of the first embodiment are replaced with the conductive pins 40, the same structure as that of the first embodiment is the same. The reference numerals are attached to omit the overall view. When the conductive pin 40 is inserted into the through hole 40a, which serves as a connection hole provided in the wiring board, there is a portion protruding on the upper surface of the wiring board 61. By crushing this portion and transforming it into a size equal to or larger than the diameter of the through hole 40a, the fixing strength of the conductive pin 40 to the wiring board 61 becomes stronger.

【0037】第1実施例同様、本実施例においてもスル
ーホール40aの内部、及び基板、配線基板61と導電
性ピン40の接続部には導電性ペースト40bを塗布し
て接続の抵抗が小さくなるよう構成した。次に請求項7
に対応する第5実施例について述べる。図6は第5実施
例の特徴となる導電性ピン50の概略構成図である。本
実施例においても第1実施例の半導体装置11の構成
に、導電性ピン50を基板の第1の配線膜13aに接続
する接続方法に特徴を持たせたものであるので、先の第
3実施例同様に、全体図を略すものとする。
Similar to the first embodiment, in this embodiment as well, the conductive paste 40b is applied to the inside of the through hole 40a and the connecting portion between the substrate, the wiring board 61 and the conductive pin 40 to reduce the connection resistance. Configured as Next, claim 7
A fifth embodiment corresponding to will be described. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a conductive pin 50 that is a feature of the fifth embodiment. In the present embodiment as well, the semiconductor device 11 of the first embodiment is characterized by the connecting method for connecting the conductive pin 50 to the first wiring film 13a of the substrate. Similar to the embodiment, the overall view is omitted.

【0038】基板の第1の配線膜13a上に位置合わせ
用凹部50aを設け、導電性ペースト50bを塗布して
導電性ピン50を設けたものである。この構成によって
導電性ピン50の接続位置の位置合わせ精度を向上させ
ることが可能である。また、導電性ペースト50bはゲ
ル状であり、凹部50aに溜まりやすいので、導電性ピ
ン50の接続位置に充分塗布されて、導電性ピン50と
基板の抵抗を小さくすることに寄与する。
A positioning recess 50a is provided on the first wiring film 13a of the substrate, and a conductive paste 50b is applied to provide the conductive pin 50. With this configuration, it is possible to improve the alignment accuracy of the connection position of the conductive pin 50. Further, since the conductive paste 50b is gel and easily collects in the recess 50a, the conductive paste 50b is sufficiently applied to the connection position of the conductive pin 50 and contributes to reduce the resistance between the conductive pin 50 and the substrate.

【0039】尚、本実施例の構成図中においては、凹部
は基板面上にのみ設けたが、配線基板の下面に設けるこ
とも、配線基板に対する導電性ピンの位置合わせ精度を
向上させる効果を有する。
In the configuration diagram of this embodiment, the concave portion is provided only on the surface of the substrate, but it may be provided on the lower surface of the wiring substrate to improve the alignment accuracy of the conductive pin with respect to the wiring substrate. Have.

【0040】[0040]

【発明の効果】上述したように請求項1の発明によれ
ば、基板の上面を配線基板として使用することにより、
配線膜個々の面積を大きくすることができる。更に別個
に配線基板を設けたことによってワイヤー長を短くする
ことができる。また、ワイヤー長を一旦面積の大きい金
属に接続することによってワイヤーに発生するインダク
タンスを低減し、高周波で切り替わる信号電流を半導体
チップの実装を可能にする。
As described above, according to the invention of claim 1, by using the upper surface of the substrate as a wiring substrate,
The area of each wiring film can be increased. Further, the wiring length can be shortened by providing the wiring board separately. Further, once the wire length is connected to a metal having a large area, the inductance generated in the wire can be reduced, and the signal current switched at high frequency can be mounted on the semiconductor chip.

【0041】また、配線基板に配線膜を層を成すように
設けたことにより、半導体装置の容量が大きくなる。よ
って外部からのノイズに対する半導体装置の体制を強化
することができる。けたことによりを可能にし配線のイ
ンダクタンスを下げて、高周波で切り替わる信号電流を
使用する半導体チップをパッケージングすることを可能
にする。
Further, since the wiring film is provided on the wiring substrate so as to form a layer, the capacity of the semiconductor device is increased. Therefore, the structure of the semiconductor device against noise from the outside can be strengthened. This makes it possible to reduce the inductance of the wiring and package a semiconductor chip using a signal current switching at high frequency.

【0042】請求項2の発明によれば、パッケージを製
造する従来の技術により近い構成で配線基板を設けるこ
とができる。従って、パッケージを製造するプロセスの
変更を簡易に実施することができる。請求項3の発明に
よれば、基板と、配線基板間において所望の位置にのみ
を電気的に接続することが可能となった。
According to the second aspect of the invention, the wiring board can be provided with a structure similar to that of the conventional technique for manufacturing a package. Therefore, the process of manufacturing the package can be easily changed. According to the invention of claim 3, it becomes possible to electrically connect only the desired position between the substrate and the wiring substrate.

【0043】請求項4の発明によれば、導電性ピンの配
設に伴う位置合わせ等の処理を省き、パッケージの製造
工程をより簡易にすることができた。請求項5の発明に
よれば、接続部の形状が単純であることにより構成部材
の選択肢が大きい。また、配設に要する面積が小さいた
めに配線基板上の配線膜を設ける面積を広くとることが
可能である。
According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to omit the process such as the positioning for accommodating the conductive pins and to simplify the manufacturing process of the package. According to the invention of claim 5, since the shape of the connecting portion is simple, the choice of constituent members is large. Further, since the area required for the arrangement is small, it is possible to increase the area for providing the wiring film on the wiring board.

【0044】請求項6の発明によれば、導電性ピンの配
線基板への固定強度を高めることにより、パッケージの
強度及び信頼性を高めることができる。請求項7の発明
によれば、導電性ピンの配線基板への固定強度を高める
ことにより、パッケージの強度及び信頼性を高めること
ができる。
According to the sixth aspect of the present invention, the strength and reliability of the package can be increased by increasing the fixing strength of the conductive pin to the wiring board. According to the invention of claim 7, the strength and reliability of the package can be improved by increasing the fixing strength of the conductive pin to the wiring board.

【0045】請求項8の発明によれば、導電性ピンの位
置合わせ精度を高めると共に基板への接続抵抗を小さく
したことでパッケージの信頼性を高めることができる。
According to the invention of claim 8, the reliability of the package can be improved by improving the positioning accuracy of the conductive pins and reducing the connection resistance to the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例の半導体装置構造の断面を
示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a cross section of a semiconductor device structure of a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体装置の破線A−A’に沿った矢視
図である。
FIG. 2 is a view of the semiconductor device of FIG. 1 taken along the broken line AA ′.

【図3】本発明の第2実施例の半導体装置構造の断面を
示す概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a cross section of a semiconductor device structure according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3実施例の半導体装置の断面を示す
概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a cross section of a semiconductor device of a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4実施例の要部である導電性ピンの
概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conductive pin which is a main part of a fourth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第5実施例の要部である位置合わせ凹
部の概略構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an alignment recess, which is a main part of a fifth embodiment of the present invention.

【図7】従来例の2層サークワッドタイプのパッケージ
構造の概略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a conventional two-layer quad-type package structure.

【図8】図7の半導体装置の破線B−B’に沿った矢視
図である。
8 is a view of the semiconductor device of FIG. 7 taken along the broken line BB ′.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11、21 半導体装置 2a、12a、22a リード端子 2b、12b、22b リード端子 3、13a、23a 第1の配線膜 13b、13c、、23b 第2の配線膜、 4、14、24 ワイヤー 5、15、25 ガラス材 6、16、26 キャップ 7、17、27 基板 8、18、28 半導体チップ 8a、18a、28a 半導体チップの電極 61 配線基板 20、30、40、50 導電性ピン 20a、40a 接続孔 50a 位置合わせ凹部 1, 11 and 21 Semiconductor device 2a, 12a, 22a Lead terminal 2b, 12b, 22b Lead terminal 3, 13a, 23a First wiring film 13b, 13c, 23b Second wiring film 4, 14, 24 Wire 5 , 15, 25 Glass material 6, 16, 26 Cap 7, 17, 27 Substrate 8, 18, 28 Semiconductor chip 8a, 18a, 28a Semiconductor chip electrode 61 Wiring substrate 20, 30, 40, 50 Conductive pin 20a, 40a Connection hole 50a Positioning recess

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 早川 美智雄 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Michio Hayakawa 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Fujitsu Limited

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電極を有する半導体チップと、 該半導体チップを固定すると共に第1の配線膜を設けて
なる基板と、 該半導体チップに電気的に接続されるリード端子と、 該リード端子と該電極とを接続するワイヤーと、 該基板と協働して該半導体チップを気密封止するキャッ
プとよりなり、 該基板と該キャップの間に配線膜を有する配線基板を配
設することを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor chip having an electrode, a substrate on which the semiconductor chip is fixed and a first wiring film is provided, lead terminals electrically connected to the semiconductor chip, the lead terminals, and A wiring board connecting an electrode and a cap that cooperates with the substrate to hermetically seal the semiconductor chip, and a wiring board having a wiring film is arranged between the substrate and the cap. Semiconductor device.
【請求項2】 電極を有する半導体チップと、 該半導体チップを固定すると共に第1の配線膜を設けて
なる基板と、 該半導体チップに電気的に接続されるリード端子と、 該リード端子と該電極とを接続するワイヤーと、 該基板と協働して該半導体チップを気密封止するキャッ
プとよりなり、 該キャップの内面に第2の配線膜を形成し、配線基板と
して使用することを特徴とする半導体装置。
2. A semiconductor chip having an electrode, a substrate on which the semiconductor chip is fixed and a first wiring film is provided, lead terminals electrically connected to the semiconductor chip, the lead terminals, and A wire for connecting to an electrode, and a cap that cooperates with the substrate to hermetically seal the semiconductor chip, and a second wiring film is formed on the inner surface of the cap to be used as a wiring substrate. Semiconductor device.
【請求項3】 該基板と、該配線基板を電気的に接続す
る接続部を設けることを特徴とする請求項1または2に
記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a connecting portion for electrically connecting the substrate and the wiring substrate.
【請求項4】 上記ワイヤーを該配線基板に接触させ
て、該リード端子及び該半導体チップを該配線基板に接
続する該接続部としたことを特徴とする請求項3記載の
半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the wire is brought into contact with the wiring board to form the connecting portion for connecting the lead terminal and the semiconductor chip to the wiring board.
【請求項5】 該接続部を、該基板と該配線基板を接続
する導電性ピンとすることを特徴とする請求項3記載の
半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 3, wherein the connecting portion is a conductive pin that connects the substrate and the wiring substrate.
【請求項6】 該導電性ピンを該配線基板に形成された
接続孔に挿着してなる構成としたことを特徴とする請求
項5記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein the conductive pin is inserted into a connection hole formed in the wiring board.
【請求項7】 該導電性ピンを該配線基板上面に突出さ
せて、該導電性ピンの突出部分を変形させることにより
基板に接続する構成としたことを特徴とする請求項5記
載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 5, wherein the conductive pin is connected to the substrate by projecting the conductive pin on the upper surface of the wiring substrate and deforming the projecting portion of the conductive pin. .
【請求項8】 該第1の基板上に導電性ピンの位置合わ
せ凹部を設けることを特徴とする請求項5乃至請求項7
のいずれかに記載の半導体装置。
8. The alignment recess of a conductive pin is provided on the first substrate, as claimed in claim 5.
The semiconductor device according to any one of 1.
JP6249430A 1994-10-14 1994-10-14 Semiconductor device Withdrawn JPH08115994A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6249430A JPH08115994A (en) 1994-10-14 1994-10-14 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6249430A JPH08115994A (en) 1994-10-14 1994-10-14 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08115994A true JPH08115994A (en) 1996-05-07

Family

ID=17192859

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6249430A Withdrawn JPH08115994A (en) 1994-10-14 1994-10-14 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08115994A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008515189A (en) * 2004-09-28 2008-05-08 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド Method for forming semiconductor package and package structure

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008515189A (en) * 2004-09-28 2008-05-08 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド Method for forming semiconductor package and package structure

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100277308B1 (en) Semiconductor device
US5606199A (en) Resin-molded type semiconductor device with tape carrier connection between chip electrodes and inner leads of lead frame
US5397918A (en) Ceramic package for housing a semiconductor device
JPH08115994A (en) Semiconductor device
JP2002164658A (en) Module board
JPH0472750A (en) Glass sealed type semiconductor device
KR100243376B1 (en) Semiconductor package &manufacturing method thereof
JPH02343A (en) Substrate for mounting electronic parts
JPH04216652A (en) Package structure of semiconductor device
JP2982182B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2001148457A (en) High-frequency semiconductor device
JPH09266266A (en) Semiconductor device, manufacturing method thereof and cap of the semiconductor device
JPH08111495A (en) Semiconductor device and its production
JPH0487361A (en) Hybrid integrated circuit device
KR100241199B1 (en) Semiconductor device, method of the same, and tape carrier package for the same
JPS62169461A (en) Semiconductor device
JPH0794630A (en) Semiconductor device
JPS635253Y2 (en)
JPH01234296A (en) Ic card
JPH07106503A (en) Semiconductor device package and semiconductor device
JPH11289043A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2924853B2 (en) Semiconductor device package and semiconductor device
JPH09252076A (en) Ic and lead frame therefor
JPH04303939A (en) Lead frame, and semiconductor device using said lead frame
JPH04111460A (en) Hybrid integrated circuit device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20020115