JP2924853B2 - Semiconductor device package and semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device package and semiconductor device

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JP2924853B2
JP2924853B2 JP9129224A JP12922497A JP2924853B2 JP 2924853 B2 JP2924853 B2 JP 2924853B2 JP 9129224 A JP9129224 A JP 9129224A JP 12922497 A JP12922497 A JP 12922497A JP 2924853 B2 JP2924853 B2 JP 2924853B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置用パッケ
ージ及び半導体装置に関し、特に、メタル基材からなる
ボール・グリッド・アレー(BGA)パッケージ及び半
導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device package and a semiconductor device, and more particularly to a ball grid array (BGA) package made of a metal substrate and a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子の高集積化に伴い、半導体素
子を搭載するパッケージの多ピン化が急速に進んでい
る。多ピン化に対応する集積回路用パッケージとして、
外部端子となる半田ボールを格子状に配列したボール・
グリッド・アレー(BGA)パッケージが知られてい
る。
2. Description of the Related Art With the increase in the degree of integration of semiconductor devices, the number of pins of packages on which semiconductor devices are mounted has rapidly increased. As an integrated circuit package that supports multiple pins,
Balls in which solder balls that serve as external terminals are arranged in a grid
Grid array (BGA) packages are known.

【0003】図7は第1の従来技術のBGAパッケージ
の構造を示す平面図、図8(A)は図7のDーD’線断
面図、図8(B)は図7のC−C’線断面図である。図
7及び図8に示すように、従来のパッケージは、銅等の
金属で作られた平板状のメタルベース部21と、そのメ
タルベース部21上に形成されたポリイミド22と、ポ
リイミド22上に形成された配線23とを有する。
FIG. 7 is a plan view showing the structure of a first prior art BGA package, FIG. 8A is a sectional view taken along the line DD ′ of FIG. 7, and FIG. FIG. As shown in FIGS. 7 and 8, a conventional package includes a flat metal base 21 made of a metal such as copper, a polyimide 22 formed on the metal base 21, and a polyimide 22 formed on the metal 22. And a wiring 23 formed.

【0004】メタルベース部21は略平板状に形成され
た本体21aと、本体21aの一部を窪ませてLSIを
搭載するためのダイアタッチ部21bとを有する。ダイ
アタッチ部21bの周囲には格子状に配列された端子2
1cが設けられる。この端子21cは、図8(B)に示
すように、周囲の隙間21dによってメタルべース部2
1の本体21aと電気的に絶縁される。
The metal base 21 has a main body 21a formed in a substantially flat plate shape, and a die attach part 21b for mounting an LSI by recessing a part of the main body 21a. Terminals 2 arranged in a grid around the die attach portion 21b
1c is provided. As shown in FIG. 8 (B), the terminal 21c is separated from the metal base portion 2 by a peripheral gap 21d.
1 is electrically insulated from the main body 21a.

【0005】ポリイミド22は、メタルベース部21の
ダイアタッチ部21bの外側に配置される。また、ダイ
アタッチ部21bの近傍のポリイミド22上には複数の
ボンディングステッチ23aが設けられる。
[0005] The polyimide 22 is disposed outside the die attach portion 21b of the metal base portion 21. A plurality of bonding stitches 23a are provided on the polyimide 22 near the die attach portion 21b.

【0006】配線23は、ボンディングステッチ23a
と図示していないランド部(端子の直上)とを相互に接
続している。配線23によって接続されていないポンデ
ィングステッチ23aは、図8(A)に示すように、そ
の近傍に形成されたビアホール24を介してメタルベー
ス部21と電気的に接続される。ランド部は、その近傍
に形成されたビアホール25を介して引出線26によ
り、メタルベース部21と電気的に接続される。図8
(B)に示すようにランドの直上は、外部と電気的に接
続するための半田ボール27が設けられる。
The wiring 23 is formed by a bonding stitch 23a.
And a land (not shown) (directly above the terminals). As shown in FIG. 8A, the bonding stitch 23a not connected by the wiring 23 is electrically connected to the metal base 21 via a via hole 24 formed near the bonding stitch 23a. The land portion is electrically connected to the metal base portion 21 by a lead 26 via a via hole 25 formed near the land portion. FIG.
As shown in (B), a solder ball 27 for electrical connection to the outside is provided directly above the land.

【0007】この第1の従来技術のBGAパッケージで
は、メタルベース部21の電位をGNDに固定すると、
ビアホール24、25を介してメタルベース部21に接
続されているボンディングステッチ23a並びにランド
部(半田ボール27)は、いずれもGND電位となる。
従ってGNDとなる半田ボール27及びボンディングス
テッチ23aは、予め決定されていることになる。
In the first prior art BGA package, when the potential of the metal base 21 is fixed to GND,
The bonding stitch 23a and the land (solder ball 27) connected to the metal base 21 through the via holes 24 and 25 all have the GND potential.
Therefore, the solder ball 27 and the bonding stitch 23a serving as GND are determined in advance.

【0008】メタルベースBGAパッケージ以外のパッ
ケージでは、例えば特開昭63ー246851号公報や
米国特許第5250844号明細書等に、リードフレー
ムを用いたパッケージが開示されている。
As packages other than the metal-based BGA package, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-246851 and US Pat. No. 5,250,844 disclose packages using a lead frame.

【0009】図9は、第2の従来技術の複合リードフレ
ームを示す分解斜視図、図10は図9の複合リードフレ
ームの構造を示し、(A)は斜視図、(B)は断面図で
ある。
FIG. 9 is an exploded perspective view showing a second prior art composite lead frame, FIG. 10 shows the structure of the composite lead frame of FIG. 9, (A) is a perspective view, and (B) is a sectional view. is there.

【0010】第2の従来技術の複合リードフレームは、
図9に示すように、リードフレーム30と、そのリード
フレーム30の下部に接続される組立体40とからな
る。リードフレーム30は、複数のリード31と、その
リード31の先端部31a側に形成される開口部32
と、リード31の周縁に形成された外枠部33と、リー
ド31間を結合するタイバー34とを有する。
A second prior art composite lead frame is:
As shown in FIG. 9, a lead frame 30 and an assembly 40 connected to a lower portion of the lead frame 30 are provided. The lead frame 30 includes a plurality of leads 31 and an opening 32 formed on the tip 31 a side of the lead 31.
And an outer frame portion 33 formed on the periphery of the lead 31 and a tie bar 34 connecting the leads 31 to each other.

【0011】組立体40は、絶縁用のポリイミドフィル
ム41、内側金属板42、絶縁用のポリイミドフィルム
43、外側金属板44から構成される。内側金属板42
の側部にはタブ42aが設けられ、外側金属板44には
タブ44aが設けられる。図10に示すように、内側金
属板42及び外側金属板44にそれぞれ設けられたタブ
42a、44aは、リードータブ接続部50によって、
所定のリード31と電気的に接続される。
The assembly 40 includes a polyimide film 41 for insulation, an inner metal plate 42, a polyimide film 43 for insulation, and an outer metal plate 44. Inner metal plate 42
Are provided with tabs 42a on the sides thereof, and tabs 44a are provided on the outer metal plate 44. As shown in FIG. 10, tabs 42 a and 44 a provided on the inner metal plate 42 and the outer metal plate 44, respectively, are connected by a lead-tab connecting portion 50.
It is electrically connected to a predetermined lead 31.

【0012】この第2の従来技術の複合リードフレーム
では、内側金属板42を電源電位に、また外側金属板4
4をGND電位に固定すると、それぞれのタブ42a,
44aが接続されている所定のリード31が、それぞれ
の電位となる。
In the second prior art composite lead frame, the inner metal plate 42 is set at the power supply potential and the outer metal plate 4 is set at the power supply potential.
4 is fixed to the GND potential, the respective tabs 42a,
Predetermined leads 31 to which 44a is connected have respective potentials.

【0013】図11は、第2の従来技術の複合リードフ
レームの組立工程を示す説明図であり、(A)は複合リ
ードフレームを組み立てた状態を示し、(B)は、LS
I51をAgペースト52で複合リードフレーム上にマ
ウントした状態を示し、(C)は、ワイヤボンディング
を行った状態を示す。
FIGS. 11A and 11B are explanatory views showing a process of assembling a composite lead frame according to the second prior art, wherein FIG. 11A shows a state in which the composite lead frame is assembled, and FIG.
A state where I51 is mounted on the composite lead frame with the Ag paste 52 is shown, and (C) shows a state where wire bonding is performed.

【0014】図11(C)に示すように、外側金属板4
4にボンディングするワイヤ53aはGND電位とな
り、内側金属板42にポンディングするワイヤ53bは
電源電位となり、リード31にボンディングするワイヤ
53cは信号となるように接続される。
As shown in FIG. 11C, the outer metal plate 4
The wire 53a bonded to the lead 4 has a GND potential, the wire 53b bonded to the inner metal plate 42 has a power supply potential, and the wire 53c bonded to the lead 31 has a signal.

【0015】図12は、第3の従来技術の複合リードフ
レームを示す分解斜視図である。
FIG. 12 is an exploded perspective view showing a third prior art composite lead frame.

【0016】図12に示すように、第3の従来技術の複
合リードフレームでは、リードフレーム30の上部に第
1のフィルム60が接続され、リードフレーム30の下
部に第2のフィルム70が接続される。なお、図12
中、36は吊りピンである。
As shown in FIG. 12, in the third prior art composite lead frame, a first film 60 is connected to an upper portion of the lead frame 30, and a second film 70 is connected to a lower portion of the lead frame 30. You. FIG.
Reference numeral 36 denotes a hanging pin.

【0017】第1のフィルム60は、リードフレーム3
0側に設けられた絶縁板60aと、リードフレーム30
側とは反対側に設けられた導体板60bとを有し、中央
部に開口部60cが形成されている。第2のフィルム7
0は、リードフレーム30側に設けられた絶縁板70a
と、リードフレーム30側とは反対側に設けられた導体
板70bとを有する。絶縁板70aは、中央の島状の部
位とその外側のリング状の部位の2部分から構成されて
いる。
The first film 60 is made of a lead frame 3
The insulating plate 60a provided on the 0 side and the lead frame 30
And a conductor plate 60b provided on the side opposite to the side, and an opening 60c is formed in the center. Second film 7
0 is an insulating plate 70a provided on the lead frame 30 side.
And a conductor plate 70b provided on the side opposite to the lead frame 30 side. The insulating plate 70a is composed of two parts, a central island-like part and a ring-like part outside the central part.

【0018】図13は、図12の複合リードフレームの
構造を示し、(A)は斜視図、(B)は断面図である。
図13(B)に示すように、複合リードフレームの中央
部分に、島状のダイアタッチ部80と堀状の開口部81
が形成される。
FIG. 13 shows the structure of the composite lead frame of FIG. 12, wherein (A) is a perspective view and (B) is a sectional view.
As shown in FIG. 13B, an island-shaped die attach portion 80 and a moat-shaped opening 81 are provided at the center of the composite lead frame.
Is formed.

【0019】図14は、第3の従来技術の複合リードフ
レームの組立工程を示す説明図であり、(A)は複合リ
ードフレームを組み立てた状態を示し、(B)は、LS
I51をAgペースト52で複合リードフレーム上にマ
ウントした状態を示し、(C)は、ワイヤボンディング
を行った状態を示す。この従来技術の例では、上下の導
体板60b、70bをGND電位としている。
FIGS. 14A and 14B are explanatory views showing a process of assembling a composite lead frame according to a third prior art. FIG. 14A shows a state in which the composite lead frame is assembled, and FIG.
A state where I51 is mounted on the composite lead frame with the Ag paste 52 is shown, and (C) shows a state where wire bonding is performed. In this example of the prior art, the upper and lower conductor plates 60b and 70b are set to the GND potential.

【0020】図15(A)(B)(C)は、第3の従来
技術の複合リードフレームにおける接地電位(GND)
の取り方を詳細に示す説明図である。信号先の場合、L
SI51の電極パッド51aからワイヤ90aを介して
リード31に電気的に接続する(図15(A)及び図1
5(C)参照)。
FIGS. 15A, 15B and 15C show the ground potential (GND) in the third prior art composite lead frame.
It is an explanatory view showing how to take in detail. L for signal destination
The electrode pad 51a of the SI 51 is electrically connected to the lead 31 via the wire 90a (FIG. 15A and FIG.
5 (C)).

【0021】ー方、GND電位の場合、まず、導体板7
0bとリード31をワイヤ90bで接続する。次いで、
接地電位の電極パッド51bとリード31とをワイヤ9
0cで接続する。最後にリード31と導体板60bとを
ワイヤ90dで接続する(図15(A)及び図15
(B)参照)。この構造により任意のリードをGND電
位とすることが可能となる。
In the case of the GND potential, first, the conductor plate 7
0b and the lead 31 are connected by a wire 90b. Then
Connect the ground electrode pad 51b and the lead 31 to the wire 9
Connect at 0c. Finally, the lead 31 and the conductor plate 60b are connected by a wire 90d (FIG. 15A and FIG.
(B)). With this structure, any lead can be set to the GND potential.

【0022】その他、特開昭61ー13687号公報に
は、金属板の半導体素子を搭載する部分以外の部分に設
けられた貫通孔と、この貫通孔及び半導体素子を搭載す
る部分を除く金属板の表面及び側面に形成された絶縁層
と、表面の絶縁層上に形成された電気回路と、貫通孔に
形成された絶縁層に形成され、金属板と絶縁され電気回
路と導通する導電層と、金属板と導通し、電気回路と絶
縁される導電層と、それぞれの導電層と接して挿入固着
された接続ピンと、を有する半導体素子搭載用配線板が
開示されている。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-13687 discloses a through hole provided in a portion of a metal plate other than a portion on which a semiconductor element is mounted, and a metal plate excluding the through hole and a portion on which the semiconductor element is mounted. An insulating layer formed on the surface and side surfaces of the electric circuit formed on the insulating layer on the surface, and a conductive layer formed on the insulating layer formed in the through hole and insulated from the metal plate and conducting with the electric circuit. There is disclosed a wiring board for mounting a semiconductor element, comprising: a conductive layer that is electrically connected to a metal plate and is insulated from an electric circuit; and connection pins that are inserted and fixed in contact with the respective conductive layers.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】第1の従来技術では、
ボンディングステッチ近傍及びランド部(半田ボール)
近傍でビアホールを介してメタルベースと電気的に接続
している。そのため、異なった品種のLSIで電源ーG
NDのピン配置や電極パッド配置を決めておかないかぎ
り、LSI品種毎にパッケージを用意しなければならな
い。その結果、パッケージの在庫管理が煩雑になり、工
数やコストが嵩むばかりでなく、新規のLSIの場合は
新たにパッケージの開発とそれに伴う製作期間、開発・
製造費用を見込まなければならない等、数々の不都合が
生じることになる。
In the first prior art,
Near the bonding stitch and land (solder ball)
In the vicinity, it is electrically connected to the metal base via a via hole. Therefore, different types of LSI
Unless the ND pin arrangement and the electrode pad arrangement are determined, a package must be prepared for each LSI type. As a result, package inventory management becomes complicated, which increases not only the man-hour and cost, but also in the case of a new LSI, the development of a new package and the accompanying
Numerous inconveniences arise, such as the need to anticipate manufacturing costs.

【0024】第2の従来技術においても、第1の従来技
術と同様に、任意のボンディングステッチ(リード)、
任意の半田ボール(外部リード)をGND電位あるいは
電源電位とすることができず、予め特定の位置に限定さ
れてしまうという不都合がある。
In the second prior art, as in the first prior art, any bonding stitch (lead),
There is a disadvantage that an arbitrary solder ball (external lead) cannot be set to the GND potential or the power supply potential, and is limited to a specific position in advance.

【0025】第3の従来技術では、ワイヤでリード及び
上下の導体間を接続しているので、上記の不都合な点は
解消されるが、接続用のワイヤが細いため、ボンディン
グステッチーGND間の自己インダクタンスが高くな
り、均一なGND電位を得ることが困難である。また、
自己インダクタンスを下げるには、かなりの本数のワイ
ヤをボンディングする必要がある。
In the third prior art, since the lead and the upper and lower conductors are connected by a wire, the above disadvantages are solved. However, since the connecting wire is thin, the distance between the bonding stitch GND is small. The self-inductance becomes high, and it is difficult to obtain a uniform GND potential. Also,
To reduce self-inductance, a significant number of wires need to be bonded.

【0026】さらに、LSIチップ側のみでの接続であ
るので、問題の解決はより難しくなる。またこれを防ぐ
目的で、外部リード側においてもワイヤでリードへ導体
板間をボンディングする構造も考えられるが、その場合
はその部分のワイヤを何らかの手段で保護する必要が生
じる。場合によっては封止樹脂が占める領域を外側まで
拡張しなければならず、従来のパッケージサイズよりも
大きくなってしまう。
Further, since the connection is made only on the LSI chip side, it is more difficult to solve the problem. In order to prevent this, a structure in which the conductor plate is bonded to the lead with a wire on the external lead side is also considered. In some cases, the area occupied by the sealing resin must be extended to the outside, which is larger than the conventional package size.

【0027】特開昭61ー13687号公報には、金属
板の半導体素子を搭載する部分以外の部分に貫通孔が設
けられ、その貫通孔に導電層が形成される点が開示され
ているが、メタルベースのBGAパッケージの構造や品
種に応じて後から任意のピンを電源・GNDに割り当て
られる点等について何ら開示されておらず、それを示唆
する記載もない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-13687 discloses that a through hole is provided in a portion of a metal plate other than a portion on which a semiconductor element is mounted, and a conductive layer is formed in the through hole. There is no disclosure or suggestion about assigning any pin to the power supply / GND later according to the structure or type of the metal-based BGA package.

【0028】前述したように、LSIの品種によって
は、必要とする電源・GNDピン数、信号ピン数が異な
り、パッケージの信号・電源・GNDピン数及びその配
置が適合しない場合、従来技術では、パッケージを再設
計(マイナーチェンジ)しなければならないという欠点
があった。これによって設計工数の発生、納期の長期
化、コストアップ、さらに多くの資材を管理する手間が
発生するという問題が生じる。
As described above, the required number of power supply / GND pins and the number of signal pins are different depending on the type of LSI. There was a disadvantage that the package had to be redesigned (minor change). As a result, there arises a problem that design man-hours are increased, a delivery time is lengthened, costs are increased, and labor for managing more materials is generated.

【0029】これらの原因は、パッケージ上における信
号・電源・GNDピンの割り当てを決定してしまい、そ
れに合わせてLSIの設計を行うためである。
The reason for this is that the assignment of signals, power supplies, and GND pins on the package is determined, and the LSI is designed accordingly.

【0030】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、ピン(配線)が全て信号ピン兼電源・
GNDピン共用とし、品種に応じて後から任意のピンを
電源・GNDに割り当てることができる半導体装置用パ
ッケージ及び半導体装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and all the pins (wirings) are signal pins and power supplies.
An object of the present invention is to provide a semiconductor device package and a semiconductor device in which a GND pin is shared and an arbitrary pin can be assigned to a power supply / GND later depending on a product type.

【0031】[0031]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置用パ
ッケージは、半導体素子を搭載する搭載部を備えたメタ
ルベース部と、そのメタルベース部上に形成され外部と
電気的に接続する複数の外部接続部を備えた絶縁部と、
搭載部に搭載された半導体素子と各外部接続部とをそれ
ぞれ電気的に接続する配線と、その各配線の側部に形成
され絶縁部からメタルベース部まで開口した開口窓部
と、その開口窓部のうち所定の開口窓部に導電体を充填
して配線とメタルベース部とを電気的に接続する導電部
と、を有することを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a semiconductor device package comprising a metal base having a mounting portion for mounting a semiconductor element, and a plurality of metal bases formed on the metal base and electrically connected to the outside. An insulating section having an external connection section,
A wiring for electrically connecting the semiconductor element mounted on the mounting portion to each external connection portion, an opening window formed on a side portion of each wiring and opening from an insulating portion to a metal base portion, and an opening window thereof And a conductive portion that fills a predetermined opening window portion with a conductive material and electrically connects the wiring and the metal base portion.

【0032】本発明の半導体装置用パッケージによれ
ば、例えば、メタルベース部をGND電位に固定する
と、メタルベース部の搭載部に搭載されるLSI等の半
導体素子の電極パッドのうち、GND電位のものと対応
する配線に対する開口窓部に半田等の導電体を充填して
導電部を設ける。
According to the semiconductor device package of the present invention, for example, when the metal base portion is fixed at the GND potential, of the electrode pads of the semiconductor element such as an LSI mounted on the mounting portion of the metal base portion, the GND potential is reduced. A conductive portion such as a solder is filled in an opening window for a wiring corresponding to the conductive portion to provide a conductive portion.

【0033】メタルベース部の搭載部に半導体素子を搭
載し、ワイヤボンディングを行うと、半導体素子のGN
D電位に対応する電極パッドは、先の開口窓部に設けら
れる導電部を介して、メタルベ一ス部と電気的に接続さ
れる。同様に、外部接続部もGND電位に固定される。
この場合、開口窓部を大きく取ることによって、LSI
ーGND間の自己インダクタンスを極小に抑えることが
可能となる。
When a semiconductor device is mounted on the mounting portion of the metal base portion and wire bonding is performed, the GN of the semiconductor device is reduced.
The electrode pad corresponding to the D potential is electrically connected to the metal base via a conductive portion provided at the opening window. Similarly, the external connection portion is also fixed at the GND potential.
In this case, the size of the LSI is increased by increasing the size of the opening window.
It is possible to minimize the self-inductance between -GND.

【0034】本発明の他の形態の半導体装置用パッケー
ジは、メタルベース部と絶縁部との間に、絶縁層を間に
挟んで形成された導電層を有し、開口窓部は、絶縁部か
ら導電層まで開口した第1開口窓部と、絶縁部からメタ
ルベース部まで開口し導電層が側壁に露出しない位置に
形成された第2開口窓部とを有し、導電部は、所定の第
1開口窓部に導電体を充填して配線と導電層とを電気的
に接続する第1導電部と、所定の第2開口窓部に導電体
を充填して配線とメタルベース部とを電気的に接続する
第2導電部とを有する、ことを特徴とするものである。
A semiconductor device package according to another aspect of the present invention has a conductive layer formed between a metal base portion and an insulating portion with an insulating layer interposed therebetween. A first opening window opening from the insulating layer to the conductive layer; and a second opening window opening from the insulating portion to the metal base portion and formed at a position where the conductive layer is not exposed to the side wall. A first conductive portion for electrically connecting the wiring and the conductive layer by filling the first opening window with a conductor, and a wiring and a metal base portion for filling the second opening window with a conductive material. And a second conductive portion that is electrically connected.

【0035】1つの配線に対応して複数の開口窓部が形
成されてもよい。また、開口窓部は、配線の長手方向に
沿って形成されてもよい。
A plurality of opening windows may be formed corresponding to one wiring. The opening window may be formed along the longitudinal direction of the wiring.

【0036】導電部は、例えば、開口窓部を埋設する半
田であり、又、加熱後に固化するペースト状の金属で作
られてもよい。
The conductive portion is, for example, solder for burying the opening window, or may be made of a paste-like metal which solidifies after heating.

【0037】本発明の半導体装置は、上記半導体装置用
パッケージと、その半導体装置用パッケージに搭載され
た半導体素子と、その半導体素子と半導体装置用パッケ
ージとを電気的に接続するワイヤと、半導体素子を被覆
する樹脂とを有することを特徴とするものである。
The semiconductor device according to the present invention includes a package for the semiconductor device, a semiconductor element mounted on the package for the semiconductor device, a wire for electrically connecting the semiconductor element and the package for the semiconductor device, And a resin for coating the resin.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。図1は、本発明の第1の実施
の形態のパッケージを示す一部破断斜視図、図2は、図
1のAーA’線断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing a package according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG.

【0039】図1及び図2に示すように、本発明の第1
の実施の形態のパッケージは、メタルベース部1と、そ
のメタルベース部1上に形成されたポリイミド2と、ポ
リイミド2上に形成された複数の配線3とを有する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the first embodiment of the present invention
The package according to the embodiment has a metal base portion 1, a polyimide 2 formed on the metal base portion 1, and a plurality of wirings 3 formed on the polyimide 2.

【0040】メタルベース部1は、例えば、銅等の金属
や銅とニッケルの合金で金メッキした物質等で作られ、
略平板状に形成された本体1aと、本体1aの一部を窪
ませてLSIを搭載するためのダイアタッチ部1bとを
有する。ダイアタッチ部1bの周囲には格子状に配列さ
れた端子1cが設けられている。この端子1cは、図1
に示すように、周囲の隙間1dによってメタルべース部
の本体1aと電気的に絶縁される。
The metal base 1 is made of, for example, a metal such as copper or a material plated with gold using an alloy of copper and nickel.
It has a main body 1a formed in a substantially flat plate shape, and a die attach part 1b for mounting an LSI by depressing a part of the main body 1a. Terminals 1c arranged in a lattice are provided around the die attach portion 1b. This terminal 1c is
As shown in the figure, the peripheral gap 1d electrically insulates the main body 1a of the metal base.

【0041】ポリイミド2は、メタルベース部1のダイ
アタッチ部1bの外側に配置される。また、ダイアタッ
チ部1bの近傍のポリイミド2上には複数のボンディン
グステッチ3aが設けられる。
The polyimide 2 is arranged outside the die attach portion 1b of the metal base portion 1. A plurality of bonding stitches 3a are provided on the polyimide 2 near the die attach portion 1b.

【0042】配線3は、銅等の金属や銅とニッケルの合
金で金メッキした物質等で作られる。全ての配線3は、
ボンディングステッチ3aと半田ボール6の直下のラン
ド部3bとをー対一で相互に接続している。配線3の側
部に位置するポリイミド2にはメタルベース部1まで至
る開口窓部5が開口している。この開口窓部5は全ての
配線3に対して形成され、しかも配線3の1本あたり2
ケ所(ランド部3bに近い部分とボンディングステッチ
3aに近い部分の2ケ所)形成されている。
The wiring 3 is made of a metal such as copper or a material plated with gold using an alloy of copper and nickel. All wiring 3
The bonding stitch 3a and the land 3b immediately below the solder ball 6 are connected to each other on a one-to-one basis. An opening window 5 extending to the metal base 1 is opened in the polyimide 2 located on the side of the wiring 3. The open window 5 is formed for all the wirings 3, and moreover, 2
There are two locations (a location near the land 3b and a location near the bonding stitch 3a).

【0043】パッケージの表面層を保護するために、ソ
ルダーレジスト4が被覆されている。開口窓部5上に位
置するソルダーレジスト4の部分は、開口窓部5及び隣
接している配線3の部分を跨ぐように孔が形成されてい
る(図2(A)参照)。
To protect the surface layer of the package, a solder resist 4 is coated. In the portion of the solder resist 4 located on the opening window 5, a hole is formed so as to straddle the opening window 5 and the portion of the adjacent wiring 3 (see FIG. 2A).

【0044】第1の実施の形態のパッケージにおいて、
メタルベース部1をGND電位に固定したとする。その
場合、GNDに落としたい配線3では、ランド部3bに
近い部分及びボンディングステッチ3aに近い部分両方
の開口窓部5を、例えばPbーSn系の半田7で充填す
る(図2(B)参照)。これによって、任意の配線3を
GNDに割り当てることができるとともに、ボンディン
グステッチ3a近傍、半田ボール(ランド部3b)近傍
でメタルベース部1と接続しているため、GND接続で
発生する自己インダクタンスを極小に抑えることが可能
となる。
In the package according to the first embodiment,
It is assumed that the metal base 1 is fixed at the GND potential. In this case, in the wiring 3 to be dropped to GND, the opening windows 5 both at the portion near the land portion 3b and at the portion near the bonding stitch 3a are filled with, for example, Pb-Sn based solder 7 (see FIG. 2B). ). As a result, an arbitrary wiring 3 can be allocated to GND, and since it is connected to the metal base 1 near the bonding stitch 3a and near the solder ball (land 3b), the self-inductance generated by the GND connection is minimized. It becomes possible to suppress to.

【0045】図3は、本発明の第1の実施の形態のパッ
ケージを用いて半導体装置を組み立てる工程を説明する
ための説明図である。まず、予めGNDに固定したい配
線3の開口窓部5の2ケ所ずつに半田7を充填する。そ
の後LSI9を搭載し、更にワイヤ10でLSI9ーパ
ッケージ間を接続する(図3(A)参照)。
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a process of assembling a semiconductor device using the package according to the first embodiment of the present invention. First, the solder 7 is filled in each of the two opening windows 5 of the wiring 3 to be fixed to GND in advance. Thereafter, the LSI 9 is mounted, and further, the LSI 9 and the package are connected by the wire 10 (see FIG. 3A).

【0046】次いで、LSI9を保護するために、LS
I9上の周辺部に樹脂12をポッティング等で被覆する
(図3(B)参照)。
Next, in order to protect the LSI 9, LS
The peripheral portion on I9 is covered with resin 12 by potting or the like (see FIG. 3B).

【0047】図4は、第2の実施の形態のパッケージを
示す平面図、図5は、図4のBーB’線断面図である。
なお、図面の簡単化のために、ソルダーレジスト4は省
略されている。
FIG. 4 is a plan view showing a package according to the second embodiment, and FIG. 5 is a sectional view taken along the line BB 'of FIG.
Note that the solder resist 4 is omitted for simplification of the drawing.

【0048】第2の実施の形態のパッケージは、第1の
実施の形態のパッケージの変形例であり、配線3の1本
あたりに対して形成される開口窓部13を1つとし、配
線3の長手方向に沿って拡張して形成されている点を特
徴とする。
The package according to the second embodiment is a modification of the package according to the first embodiment, and has one open window 13 formed per one of the wirings 3. Is characterized by being formed so as to extend along the longitudinal direction.

【0049】第2の実施の形態のパッケージによれば、
GNDまでの自己インダクタンスは第1の実施の形態と
同様に極小に保持しながら、半田7での接続回数を約1
/2に減少させることが可能であるので、工程の簡略化
を図ることができる。
According to the package of the second embodiment,
The self-inductance up to GND is kept to a minimum as in the first embodiment, and the number of connections with the solder 7 is reduced by about 1
/ 2, so that the process can be simplified.

【0050】図6は、第3の実施の形態のパッケージを
示す断面図である。第3の実施の形態のパッケージは、
メタルベース部1、ポリイミド14、導電層15、ポリ
イミド2、配線3の5層で形成されている点を特徴とす
る。また、開口窓部は、ポリイミド2から導電層15ま
で開口した第1開口窓部16と、ポリイミド2からメタ
ルベース部1まで開口し導電層15が側壁に露出しない
位置に形成された第2開口窓部17とを有する。そし
て、第1開口窓部16は半田18によって充填され(図
6(A)参照)、第2開口窓部17は半田19によって
充填される(図6(B)参照)。
FIG. 6 is a sectional view showing a package according to the third embodiment. The package of the third embodiment is
It is characterized in that it is formed of five layers of a metal base portion 1, a polyimide 14, a conductive layer 15, a polyimide 2, and a wiring 3. Further, the opening window portion includes a first opening window portion 16 that opens from the polyimide 2 to the conductive layer 15 and a second opening portion that opens from the polyimide 2 to the metal base portion 1 and is formed at a position where the conductive layer 15 is not exposed on the side wall. It has a window 17. Then, the first open window 16 is filled with solder 18 (see FIG. 6A), and the second open window 17 is filled with solder 19 (see FIG. 6B).

【0051】なお、本発明のパッケージは、5層以上の
層数の内部構造を有してもよく、1つの配線3に対して
3以上の開口窓部を有してもよい。
The package of the present invention may have an internal structure of five or more layers, and may have three or more open windows for one wiring 3.

【0052】本発明は、上記実施の形態に限定されるこ
とはなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範
囲内において、種々の変更が可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made within the technical scope described in the claims.

【0053】例えば、第1の実施の形態及び第2の実施
の形態では、共にメタルベース部1、ポリイミド2、配
線3の3層構造として説明し、いずれの場合もメタルベ
ース部1をGND電位として説明したが、電源電位とし
てもよい。またメタルベース部1を平面的に分割し、そ
の中で電源・GNDと分けることにより、3層構造のま
まで、GND・電源両電位をパッケージ内部に組み込む
ことが可能となる。
For example, in the first embodiment and the second embodiment, the three-layer structure of the metal base 1, the polyimide 2, and the wiring 3 will be described. In any case, the metal base 1 is connected to the GND potential. However, the power supply potential may be used. Further, by dividing the metal base portion 1 in a plane and dividing the metal base portion 1 into the power supply and the GND, it is possible to incorporate both the GND and the power supply in the package without changing the three-layer structure.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明によれば、配線の側部に開口窓部
が形成されているので、信号配線はそのままで、電源
(GND)は開口窓部に導電体を充填することによっ
て、全ての配線を信号もしくは電源・GNDに後から容
易に割り当てて決定できる。従って、信号ピン数、電源
・GNDピン数の異なる半導体素子を、同一のパッケー
ジに搭載することが可能となり(ただし、トータルのピ
ン数は同じ)、パッケージの性能を低下させることな
く、パッケージの共用化を図ることができる。
According to the present invention, since the opening window is formed on the side of the wiring, the signal wiring is kept as it is, and the power supply (GND) fills the opening window with a conductor, so that all the windows are filled. Can easily be assigned later to a signal or a power source / GND. Therefore, it is possible to mount semiconductor elements having different numbers of signal pins and power supply / GND pins in the same package (however, the total number of pins is the same), and to share the package without deteriorating the performance of the package. Can be achieved.

【0055】また、パッケージの共用化により、パッケ
ージを再設計することが少なくなり、それに伴い新しい
パッケージの製造期間がなくなり、パッケージ資材の種
類が少なくなるので、在庫管理等が容易になり、トータ
ルコストの低減を図ることができ、設計工期が不要にな
る。
Further, the sharing of the package reduces the need for redesigning the package, thereby eliminating the period for manufacturing a new package and reducing the number of types of package materials. Can be reduced, and the design period is not required.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態のパッケージを示す
一部破断斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing a package according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のAーA’線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line A-A 'of FIG.

【図3】本発明の第1の実施の形態のパッケージを用い
て半導体装置を組み立てる工程を説明するための説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a step of assembling the semiconductor device using the package according to the first embodiment of the present invention;

【図4】第2の実施の形態のパッケージを示す平面図で
ある。
FIG. 4 is a plan view showing a package according to a second embodiment.

【図5】図4のBーB’線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line B-B ′ of FIG. 4;

【図6】第3の実施の形態のパッケージを示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a package according to a third embodiment.

【図7】第1の従来技術のBGAパッケージの構造を示
す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing the structure of a first prior art BGA package.

【図8】(A)は図7のDーD線断面図、(B)は図7
のC−C線断面図である。
8A is a sectional view taken along line DD of FIG. 7, and FIG.
It is CC sectional view taken on the line of FIG.

【図9】第2の従来技術の複合リードフレームを示す分
解斜視図である。
FIG. 9 is an exploded perspective view showing a second prior art composite lead frame.

【図10】図9の複合リードフレームの構造を示し、
(A)は斜視図、(B)は断面図である。
FIG. 10 shows the structure of the composite lead frame of FIG. 9,
(A) is a perspective view, (B) is a sectional view.

【図11】第2の従来技術の複合リードフレームの組立
工程を示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory view showing an assembling process of a composite lead frame according to a second prior art.

【図12】第3の従来技術の複合リードフレームを示す
分解斜視図である。
FIG. 12 is an exploded perspective view showing a third prior art composite lead frame.

【図13】図12の複合リードフレームの構造を示し、
(A)は斜視図、(B)は断面図である。
FIG. 13 shows the structure of the composite lead frame of FIG. 12,
(A) is a perspective view, (B) is a sectional view.

【図14】第3の従来技術の複合リードフレームの組立
工程を示す説明図である。
FIG. 14 is an explanatory view showing an assembling process of a composite lead frame according to a third prior art.

【図15】第3の従来技術の複合リードフレームにおけ
る接地電位(GND)の取り方を詳細に示す説明図であ
る。
FIG. 15 is an explanatory diagram showing in detail how to take a ground potential (GND) in the composite lead frame of the third prior art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:メタルベース部 1a:本体 1b:ダイアタッチ部 1c:端子 2:ポリイミド(絶縁部) 3:配線 3a:ボンディングステッチ 3b:ランド部 4:ソルダーレジスト 5:開口窓部 6:半田ボール 7:半田 9:LSI 10:ワイヤ 12:樹脂 1: Metal base part 1a: Main body 1b: Die attach part 1c: Terminal 2: Polyimide (insulating part) 3: Wiring 3a: Bonding stitch 3b: Land part 4: Solder resist 5: Opening window part 6: Solder ball 7: Solder 9: LSI 10: Wire 12: Resin

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体素子を搭載する搭載部を備えたメタ
ルベース部と、そのメタルベース部上に形成され外部と
電気的に接続する複数の外部接続部を備えた絶縁部と、
前記搭載部に搭載された半導体素子と各外部接続部とを
それぞれ電気的に接続する配線と、その各配線の側部に
形成され前記絶縁部からメタルベース部まで開口した開
口窓部と、その開口窓部のうち所定の開口窓部に導電体
を充填して前記配線とメタルベース部とを電気的に接続
する導電部と、を有することを特徴とする半導体装置用
パッケージ。
A metal base portion having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted; an insulating portion formed on the metal base portion and having a plurality of external connection portions electrically connected to the outside;
Wiring for electrically connecting the semiconductor element mounted on the mounting portion and each external connection portion, and an open window formed on the side of each wiring and open from the insulating portion to the metal base portion, A semiconductor device package, comprising: a conductive portion that fills a predetermined opening window portion of the opening windows with a conductor to electrically connect the wiring and the metal base portion.
【請求項2】前記メタルベース部と絶縁部との間に、絶
縁層を間に挟んで形成された導電層を有し、 前記開口窓部は、前記絶縁部から前記導電層まで開口し
た第1開口窓部と、前記絶縁部からメタルベース部まで
開口し前記導電層が側壁に露出しない位置に形成された
第2開口窓部とを有し、 前記導電部は、所定の前記第1開口窓部に導電体を充填
して前記配線と導電層とを電気的に接続する第1導電部
と、所定の前記第2開口窓部に導電体を充填して前記配
線とメタルベース部とを電気的に接続する第2導電部と
を有する、 ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置用パッケ
ージ。
A conductive layer formed between said metal base portion and said insulating portion with an insulating layer interposed therebetween; and said open window portion having a first opening extending from said insulating portion to said conductive layer. A first opening window portion, a second opening window portion formed from the insulating portion to the metal base portion and formed at a position where the conductive layer is not exposed to a side wall, wherein the conductive portion has a predetermined first opening A first conductive portion for electrically connecting the wiring and the conductive layer by filling a window with a conductive material; and a wiring and a metal base portion for filling the predetermined second opening window with a conductive material. The semiconductor device package according to claim 1, further comprising: a second conductive portion that is electrically connected.
【請求項3】1つの配線に対応して複数の開口窓部が形
成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導
体装置用パッケージ。
3. The semiconductor device package according to claim 1, wherein a plurality of opening windows are formed corresponding to one wiring.
【請求項4】前記開口窓部は、前記配線の長手方向に沿
って形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいず
れか1つの項に記載の半導体装置用パッケージ。
4. The semiconductor device package according to claim 1, wherein said opening window is formed along a longitudinal direction of said wiring.
【請求項5】前記導電部は、前記開口窓部を埋設する半
田であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1
つの項に記載の半導体装置用パッケージ。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the conductive portion is a solder for burying the opening window.
4. The semiconductor device package according to any one of the above items.
【請求項6】前記導電部は、加熱後に固化するペースト
状の金属で作られることを特徴とする請求項1乃至5の
いずれか1つの項に記載の半導体装置用パッケージ。
6. The semiconductor device package according to claim 1, wherein said conductive portion is made of a paste-like metal which solidifies after heating.
【請求項7】請求項1乃至6のいずれか1つの項に記載
の半導体装置用パッケージと、その半導体装置用パッケ
ージに搭載された半導体素子と、その半導体素子と半導
体装置用パッケージとを電気的に接続するワイヤと、前
記半導体素子を被覆する樹脂とを有することを特徴とす
る半導体装置。
7. A semiconductor device package according to claim 1, wherein the semiconductor device mounted on the semiconductor device package, and the semiconductor device and the semiconductor device package are electrically connected to each other. A semiconductor device comprising: a wire connected to the semiconductor device; and a resin covering the semiconductor element.
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