JPH0798330A - プローブカード - Google Patents

プローブカード

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JPH0798330A
JPH0798330A JP26314293A JP26314293A JPH0798330A JP H0798330 A JPH0798330 A JP H0798330A JP 26314293 A JP26314293 A JP 26314293A JP 26314293 A JP26314293 A JP 26314293A JP H0798330 A JPH0798330 A JP H0798330A
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Masayuki Anzai
正行 安斎
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Micronics Japan Co Ltd
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NIPPON MAIKURONIKUSU KK
Micronics Japan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板よりも線膨張率の小さい支持板を基板に
固定して、この支持板に針押さえを固定することによ
り、基板が熱変形を生じてもプローブ針の支持部の高さ
位置があまり変動しないようにする。 【構成】 プローブカードは、ガラスエポキシ製の基板
36と、窒化アルミニウム系セラミックス製の支持板4
2と、快削セラミックス製の針押さえ32と、プローブ
針30とからなる。針押さえ32は締結装置40によっ
て支持板42に固定され、支持板42は別の締結装置4
4によって基板36に固定されている。被検体を高温で
検査すると、被検体及びチャックトップからの放射熱
や、プローブ針からの伝導熱によって、基板36は下に
凸になるように変形する。しかし、針押さえ32は線膨
張率の小さい支持板42に固定されているので、針押さ
え32の高さ位置の変動は従来よりも小さくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はプローブカードに関
し、特に、針押さえの支持構造に特徴を有するプローブ
カードに関する。
【0002】
【従来の技術】図2(A)は従来のプローブカードの正
面断面図である。このプローブカードは多数のプローブ
針10を有し、これらのプローブ針10は樹脂によって
針押さえ12に固定されている。この針押さえ12は、
接着剤を用いて基板14に直接固定されている。この基
板14には配線パターンが形成されていて、この配線パ
ターンを介して、プローブ針10と外部の検査装置16
とを電気的に接続することができる。被検体18はチャ
ックトップ20の上に載っている。被検体18は特に制
限されないが、ICパッケージや、半導体チップや、ウ
ェーハなどである。プローブカードを下降させるか、あ
るいはチャックトップ20を上昇させて、プローブ針1
0の先端を被検体の電極に接触させ、所定の検査を行
う。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のプロー
ブカードを用いて被検体を高温で検査すると、次のよう
な問題が生じる。被検体18はチャックトップ20によ
って例えば70〜90℃に加熱されるが、この被検体1
8にプローブカードを近付けると、被検体18及びチャ
ックトップ20からの放射熱によって、また、プローブ
針10からの伝導熱によって、基板14の下側の温度が
上昇する。これにより、基板14の上面と下面の間で温
度差が生じ、基板14は(B)に示すように、下に凸と
なるようにわずかに熱変形する。基板14の外周付近は
なんらかの支持手段で支持されているので、上述の変形
によって、基板14の中央付近は下方に変位することに
なる。その結果、プローブ針10の支持部(針押さえ1
2に固定されている部分)は下方に変位する
【0004】これとは逆に、非常に低い温度で被検体を
検査する場合には、基板は上に凸となるように熱変形
し、プローブ針10の支持部が上方に変位する。
【0005】このようにプローブ針10の支持部の高さ
位置が変動すると、プローブ針と被検体の電極との間の
接触圧力が所望の設定値からずれることになり、検査に
不都合を生じる。
【0006】図3は熱の影響によるプローブ針の支持部
の高さ位置の変動を測定したグラフである。横軸は経過
時間を示し、縦軸はプローブ針の支持部の高さ位置を示
している。曲線22は、100℃に加熱したチャックト
ップをプローブ針の先端に接触させたときに、その接触
時点からの経過時間とプローブ針支持部の高さ位置の変
位との関係を示している。時間の経過と共にプローブ針
の支持部の高さ位置が下がってきており、15分が経過
する間に約45μmだけ下方に変位している。一方、曲
線24は、100℃のチャックトップをプローブ針の先
端から離した時点からの経過時間とプローブ針支持部の
変位との関係を示している。この場合は、逆に、時間の
経過と共にプローブ針の支持部が上昇していく。プロー
ブ針の支持部の高さ位置のこのような変動は、プローブ
カード全体の熱的影響を反映しているものであるが、基
板の熱変形に起因する部分が相当程度あると考えられ
る。
【0007】なお、図3のグラフを得るに当たっては、
プローブ針の支持部の高さ位置の変動は、実際は、プロ
ーブ針を自由状態にしたときのプローブ針の先端の高さ
位置の変動量として測定している。例えば、曲線22を
得る場合に、開始時点のプローブ針の高さ位置を測定す
るには、チャックトップを上昇させていってチャックト
ップがプローブ針の先端に接触した時点でのチャックト
ップの高さ位置を検出している。また、5分後のプロー
ブ針の支持部の高さ位置を測定するには、5分経過した
時点でいったんチャックトップを下げてチャックトップ
をプローブ針から離し、再び、チャックトップを上昇さ
せていってチャックトップとプローブ針の先端が接触し
た時点でのチャックトップの高さ位置を検出している。
このような測定をすることにより、プローブ針の支持部
の高さ位置がどのように変動していくかを求めることが
できる。
【0008】上述のように、被検体及びチャックトップ
が加熱されていると、主として基板の熱変形に起因し
て、プローブ針の支持部の高さ位置は時間とともに変化
する。したがって、被検体を高温にした場合には、プロ
ーブ針と被検体の電極との接触圧力を所望の値に維持す
ることは不可能になる。プローブ針の支持部の高さ位置
の時間的変動がおさまってから、プローブ針の接触圧力
を正しく設定し直して検査する方法も考えられるが、プ
ローブ針の高さ位置の変動がある程度おさまるまでには
非常に時間がかかり、現実的ではない。従来のプローブ
カードでは少なくとも5分程度の時間が必要であった。
【0009】ところで、基板の熱変形を防ぐには、基板
を線膨張率の小さい材質で形成することが考えられる。
この点に関して、特開昭58−165056号公報、特
開昭63−244750号公報、及び特開平2−156
161号公報に開示されたプローブカードにおいては、
基板をセラミックスで形成しており、基板の熱変形は生
じにくいと考えられる。
【0010】しかしながら、基板をセラミックスで形成
すると次のような別の問題が生じる。最近のICは多ピ
ン化が進み、検査のために接触すべき電極の数が非常に
多くなっている。したがって、一つのプローブカードに
非常に多数のプローブ針を備えるようになっている。こ
れに伴って、プローブカードの基板に形成する配線パタ
ーンの数も増加し、多層の配線パターンが必要になって
きている。多層の配線パターンを形成した基板の例とし
ては、表面に配線パターンを形成した薄いガラスエポキ
シ板またはポリイミド板を14層互いに張り合わせるこ
とによってプローブカード基板を構成しているものがあ
る。このような多層配線パターンを有する基板の場合に
は、基板をセラミックスで形成することが極めて困難と
なり、また、形成できたとしても非常に高価なものとな
る。
【0011】この発明の目的は、基板が熱変形を生じて
もプローブ針の支持部の高さ位置があまり変動しないよ
うなプローブカードを提供することにある。この発明の
別の目的は、多層の配線パターンを有する基板を用いて
高温の被検体を検査する場合にプローブ針の支持部の高
さ位置があまり変動しないようなプローブカードを提供
することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段及び作用】第1の発明のプ
ローブカードは、基板よりも線膨張率の小さい支持板を
基板に固定して、この支持板に針押さえを固定するよう
にしたものである。すなわち、複数のプローブ針と、こ
れらのプローブ針の先端位置が被検体の電極配置に対応
するようにプローブ針を固定する針押さえと、プローブ
針と外部の検査装置とを電気的に接続するための配線パ
ターンを形成した基板とを備えるプローブカードにおい
て、前記基板よりも線膨張率の小さい支持板を前記基板
に固定し、この支持板に前記針押さえを固定し、前記基
板と前記支持板との固定位置を、前記支持板と前記針押
さえとの固定位置よりも、基板の外周側に位置させたも
のである。基板の材質としては、ガラスエポキシ基板や
ポイリミド基板を用いることができ、これらの電気絶縁
材料製の基板に配線パターンを形成することになる。ま
た、支持板の材質としては、このような基板よりも線膨
張率の小さい材料を用いる。例えば、支持板の材質とし
て、シリカ系セラミックスや窒化アルミニウム系セラミ
ックスなどのセラミックス材料、あるいは低熱膨張合金
などを利用することができる。
【0013】基板が熱変形した場合、基板と支持板との
固定位置よりも内側の部分における基板の熱変形は、針
押さえの高さ位置に影響を及ぼさない。このことから分
かるように、基板と支持板との固定位置はできるだけ基
板の外周側にもってきた方が好ましい。基板と支持板と
の固定位置よりも内側の領域では、支持板の熱変形が、
針押さえの高さ位置に影響を及ぼすことになる。しか
し、この発明では、支持板の線膨張率を基板のそれより
も小さくしてあるので、従来ほどには針押さえの高さ位
置の変動は生じない。その結果、プローブ針の支持部
(針押さえで固定した部分)の高さ方向の変動は従来よ
りも小さくなる。
【0014】第2の発明は、第1の発明において、支持
板の線膨張率を10×10-6/℃以下にしたものであ
る。なお、この明細書においては、線膨張率の値は20
℃における値を示すものとする。基板材料として一般的
なガラスエポキシ基板は、面内方向の線膨張率が13〜
18×10-6/℃であり、厚さ方向の線膨張率が60〜
90×10-6/℃である。また、基板材料として一般的
なポリイミド基板の線膨張率は約50×10-6/℃であ
る。支持板の線膨張率を10×10-6/℃以下にすれ
ば、基板の線膨脹率よりも小さくなる。好ましくは、支
持板の線膨脹率は5×10-6/℃以下とするのがよい。
線膨張率が10×10-6/℃以下の材質としては、上述
の各種のセラミックスや低熱膨張合金などが挙げられ
る。なお、最も一般的な金属材料としてアルミニウム
(線膨張率が23.1×10-6/℃)やSUS304ス
テンレス鋼(線膨張率が17.3×10-6/℃)がある
が、これらの材質はいずれも線膨張率が大きくて、本発
明における支持板の材質としては使えない。
【0015】第3の発明は、第1の発明において、支持
板の材質をセラミックスにしたものである。例えば、シ
リカ系セラミックス(線膨張率は0.5×10-6/℃)
や、窒化アルミニウム系セラミックス(線膨張率は4.
4×10-6/℃)などを用いることができる。
【0016】第4の発明は、第1の発明において、基板
を基準としてプローブ針の反対側に支持板を配置したも
のである。例えば、基板の下側にプローブ針が配置され
ている場合には、基板の上側に支持板を配置する。これ
とは反対に、基板の上側にプローブ針が配置されている
場合には、基板の下側に支持板を配置する。プローブ針
は、その中間部分を針押さえで固定する必要があり、ま
た、根元部分は基板の配線パターンに固着する必要があ
る。したがって、プローブ針とは反対の側に支持板を配
置するのが好都合である。プローブ針と同じ側に支持板
を配置すると、プローブ針の根元部分を基板の配線パタ
ーンに固着するのが難しくなる。また、支持板をプロー
ブ針の反対側に配置すると、支持板は被検体やチャック
トップからの放射熱を受けることがなくなり、支持板自
体の熱変形はほとんど生じなくなる。
【0017】第5の発明は、第1の発明において、基板
と支持板との固定位置と、支持板と針押さえとの固定位
置とを、20mm以上離すようにしたものである。基板
と支持板との固定位置が、支持板と針押さえとの固定位
置から、外周側に離れていればいるほど、基板の熱変形
に基づく支持板の高さ位置の変動は小さくなる。現実の
プローブカードの寸法を考慮すると、二つの固定位置の
間隔は少なくとも20mm以上とするのがよい。好まし
くは、30〜50mmとする。この固定位置の間隔の上
限の値(50mm)は、使用するプローブカードの外形
寸法によって制限される。
【0018】第6の発明は、第1の発明において、基板
が多層の配線パターンを有するものである。多層の配線
パターンを有する基板は、基板の材質として線膨張率の
小さい材質(例えばセラミックス)を任意に選択しにく
いので、本発明のように基板よりも線膨張率の小さい別
個の支持板を用いることが有効である。
【0019】
【実施例】図1は、この発明の一実施例のプローブカー
ドを示すものであり、(A)は平面図、(B)は(A)
のB−B線断面図、(C)は(A)のC−C線断面図で
ある。プローブカードは、ガラスエポキシ製の基板36
と、窒化アルミニウム系セラミックス製の支持板42
と、快削セラミックス製の針押さえ32と、プローブ針
30とからなる。(C)に示すように、多数(例えば4
00本)のプローブ針30は、その中間部分を樹脂34
によって針押さえ32に固定されている。各プローブ針
30の先端は、被検体の電極配置に対応した位置にセッ
トされている。プローブ針30の根元部分は、ガラスエ
ポキシ製の基板36に形成された配線パターンに半田付
けで固着されている。針押さえ32は、基板36の中央
部分の矩形の貫通孔38から下方に突き出している。針
押さえ32は、(B)に示すように、ネジとナットから
なる4組の締結装置40によって支持板42に固定され
ている。針押さえ32の上面は支持板40の下面に接触
した状態で固定されている。締結装置40のナットは、
バネ座金を介して締め付けられている。
【0020】支持板42は、ネジとナットからなる別の
4組の締結装置44によって基板36に固定されてい
る。支持板42の下面は基板36の上面に接触した状態
で固定されている。この締結装置44のナットも、バネ
座金を介して締め付けられている。
【0021】締結装置42、44において、バネ座金を
介してナットを締め付けているのは、ネジ自体が熱膨張
した場合でも、これをバネ座金で吸収できるようにした
ものである。
【0022】基板36と支持板42とを固定する締結装
置44の位置は、支持板42と針押さえ32とを固定す
る締結装置40の位置よりも、基板36の外周側にあ
り、両者の締結装置40、44の間隔Lは40mmであ
る。
【0023】基板36と支持板42はその外形が円形で
あり、針押さえ32はその外形が矩形である。針押さえ
32を固定するための締結装置40は、針押さえ32の
矩形の四隅の近傍に配置されている。針押さえ32と支
持板42の中央には、(C)に示すように、ほぼ同じ大
きさの矩形の貫通孔46、48が形成されていて、プロ
ーブ針30と被検体の電極との接触状態を上方から顕微
鏡などを用いて観察できるようになっている。
【0024】基板36は、ガラスエポキシ製の薄い板を
14枚張り合わせて形成してあり、各板の表面には配線
パターンが形成されている。すなわち、基板36には1
4層の配線パターンが形成されている。このような多層
の配線パターンにすることにより、多数の電極を有する
被検体に対応して、多数の配線を基板36に形成するこ
とを可能にしている。配線パターンの各配線の一端は、
すべて、基板36の下面側において貫通孔38の近傍に
露出しており、他端は、(A)に示すように、基板36
の上面側において外周縁の近傍に電極50として露出し
ている。電極50は同心状に多数配置されていて、その
数はプローブ針30の数に対応している。なお、(A)
においては、多数の電極50の一部だけを図示してあ
り、実際には、基板36の全周にわたって電極50が配
置されている。
【0025】(B)に示すように、基板36の外周部の
下面はホルダー52に支持される。また、基板36の外
周部の上面に露出している電極50には、検査装置(テ
スター)54のピン56が接触する。
【0026】ところで、針押さえ32と支持板42は一
体に形成することも原理的には可能であるが、以下のよ
うな製造上の理由により、針押さえ32と支持板42は
別個の部材で構成することが必要である。プローブカー
ドを製造する際に最も重要なことは、プローブ針30の
先端の位置を、被検体の電極配置に正確に対応させるこ
とである。プローブ針30を針押さえ32に固定する作
業においては、特殊な治具を用いてプローブ針30の先
端位置を正確に位置決めする。そして、針押さえ32に
形成した溝に、プローブ針30の中間部分を挿入して、
これを樹脂34で覆い、その後、針押さえ32とプロー
ブ針30からなる組み立て体を、炉内で加熱して樹脂3
4を固めている。プローブ針30が固定された針押さえ
32は、締結装置40を用いて支持板42に固定され
る。その後、プローブ針30の根元部分が基板36の配
線パターンに半田付けされる。
【0027】もし、針押さえ32と支持板42とが一体
に形成されていると、支持板42は針押さえ32よりも
かなり大きいので、針押さえ32に対するプローブ針3
0のセッティング作業が非常に不便になる。また、支持
板42を基板36の上側に固定して、一方で、プローブ
針30の根元部分を、基板36の下側に露出している配
線パターンに半田付けする、といった作業がほとんど不
可能になる。
【0028】次に、このプローブカードの使用方法を説
明する。図1において、図示しないチャックトップに被
検体を載せて、これを、プローブカードの下方に配置す
る。そして、チャックトップを上昇させて、被検体の電
極にプローブ針30の先端を接触させる。この接触時点
から所定距離だけチャックトップをさらに上昇させてオ
ーバードライブをかけ、所定の針圧を得る。この状態
で、検査装置54を用いて被検体の検査を行う。
【0029】被検体を高温で検査する場合には、プロー
ブ針に被検体を接触させる前に、チャックトップ側から
被検体を加熱し、被検体を所定の温度にする。その後、
被検体の電極をプローブ針30に接触させる。このと
き、被検体及びチャックトップからの放射熱や、プロー
ブ針からの伝導熱によって、プローブカードの基板36
の下面側の温度が上昇する。これにより、基板36は下
に凸になるようにわずかに変形する。このとき、針押さ
え32の高さ位置の変位量は、締結装置44の位置にお
ける基板36の高さ位置の変動量と、支持板42の変形
量だけに依存する。すなわち、締結装置44の半径方向
内側における基板36の変形は、針押さえ32の高さ位
置には影響を及ぼさない。基板36は外周部においてホ
ルダー52で支持されているので、外周部に近い締結装
置44の位置では、基板36の高さ位置の変動はあまり
大きくない。また、支持板42は窒化アルミニウム系セ
ラミックスでできているので、熱変形が生じにい。さら
に、支持板42は基板36の背後(上面側)にあるの
で、被検体やチャックトップからの放射熱を受けること
もなく、支持板42の上下の温度差はほとんど生じな
い。このことからも、支持板42は熱変形しにくい。
【0030】以上の理由により、基板36が熱変形して
も、針押さえ32の高さ位置の変動は、従来よりも非常
に小さくなる。図3に示すのと同じ実験を、この実施例
のプローブカードに対しても実施したところ、プローブ
針の支持部の変動量は従来よりも約30%減少した。
【0031】上述の実施例では、上方にプローブカー
ド、下方に被検体を配置しているが、これとは逆に、上
方に被検体、下方にプローブカードを配置してもよい。
後者の場合、基板の上側にプローブ針が配置され、基板
の下側に支持板が配置される。
【0032】
【発明の効果】この発明のプローブカードは、基板より
も線膨張率の小さい支持板に針押さえを取り付けたの
で、被検体を高温で検査する場合に基板が熱変形を生じ
ても、針押さえの高さ位置の変動が少なくなり、安定し
た測定が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)はこの発明の一実施例の平面図、(B)
は(A)のB−B線断面図、(C)は(A)のC−C線
断面図である。
【図2】従来のプローブカードの正面断面図である。
【図3】従来のプローブカードにおけるプローブ針の支
持部の高さ位置の変動を示すグラフである。
【符号の説明】
30 プローブ針 32 針押さえ 36 基板 40 締結装置 42 支持板 44 締結装置 50 電極 54 検査装置

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のプローブ針と、これらのプローブ
    針の先端位置が被検体の電極配置に対応するようにプロ
    ーブ針を固定する針押さえと、プローブ針と外部の検査
    装置とを電気的に接続するための配線パターンを形成し
    た基板とを備えるプローブカードにおいて、 前記基板よりも線膨張率の小さい支持板を前記基板に固
    定し、この支持板に前記針押さえを固定し、前記基板と
    前記支持板との固定位置を、前記支持板と前記針押さえ
    との固定位置よりも、基板の外周側に位置させたことを
    特徴とするプローブカード。
  2. 【請求項2】 前記支持板の線膨張率が10×10-6
    ℃以下であることを特徴とする請求項1記載のプローブ
    カード。
  3. 【請求項3】 前記支持板はセラミックスで形成されて
    いることを特徴とする請求項1記載のプローブカード。
  4. 【請求項4】 前記支持板は前記基板を基準として前記
    プローブ針の反対側に位置することを特徴とする請求項
    1記載のプローブカード。
  5. 【請求項5】 前記基板と前記支持板との固定位置と、
    前記支持板と前記針押さえとの固定位置とが、20mm
    以上離れていることを特徴とする請求項1記載のプロー
    ブカード。
  6. 【請求項6】 前記基板は多層の前記配線パターンを有
    することを特徴とする請求項1記載のプローブカード。
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