JPH0778032A - 流体の流量を変化させる弁装置 - Google Patents
流体の流量を変化させる弁装置Info
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- JPH0778032A JPH0778032A JP6177025A JP17702594A JPH0778032A JP H0778032 A JPH0778032 A JP H0778032A JP 6177025 A JP6177025 A JP 6177025A JP 17702594 A JP17702594 A JP 17702594A JP H0778032 A JPH0778032 A JP H0778032A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 流量を正確に変化させる新規な弁装置を提供
する。 【構成】 複数のバイナリ制御導管１２〜１８と，１つ
のアナログ制御導管５０と，制御装置５８とを備える弁
装置である。バイナリ制御導管は互いに並列に接続され
ていて，バイナリ弁２４〜３０と所定の流量の流体を共
通の出口に通過させる調節手段４２〜４８とを有してい
る。各バイナリ制御導管の所定の流量は，順次に選択さ
れたバイナリ制御導管が別個にあるいは組み合わして最
大の増分を含む増分で全流体流の流量を順次に増大させ
るように，選ばれている。
する。 【構成】 複数のバイナリ制御導管１２〜１８と，１つ
のアナログ制御導管５０と，制御装置５８とを備える弁
装置である。バイナリ制御導管は互いに並列に接続され
ていて，バイナリ弁２４〜３０と所定の流量の流体を共
通の出口に通過させる調節手段４２〜４８とを有してい
る。各バイナリ制御導管の所定の流量は，順次に選択さ
れたバイナリ制御導管が別個にあるいは組み合わして最
大の増分を含む増分で全流体流の流量を順次に増大させ
るように，選ばれている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，流体の流量を変化させ
る弁装置，特に流体の流量のバイナリ制御（オン・オフ
制御）とアナログ制御とを組み合わせたハイブリッド弁
装置に関する。
る弁装置，特に流体の流量のバイナリ制御（オン・オフ
制御）とアナログ制御とを組み合わせたハイブリッド弁
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】流体の流量を維持し，また変化させるこ
とが必要な場合は多くあり，このために多くの調節装置
が使用されている。例えば，設定されている流体流を短
期間にわたって生ぜしめ，あるいは遮断することが必要
な場合がある。また，流量を正確に選択しなければなら
ないことがある。例えば，原子吸光分光光度計あるいは
ガスクロマトグラフィー若しくは液体クロマトグラフィ
ーにおけるキャリヤガス若しくはキャリヤ液体の流量は
正確に選択しなければならない。コンピュータ化された
電子制御装置を有するこれらの装置においては，流量を
セットし変化させるために流量メータに結合されたモー
タを使用するような従来の方法は，特に正確さが要求さ
れる場合には，容易には適用することができない。
とが必要な場合は多くあり，このために多くの調節装置
が使用されている。例えば，設定されている流体流を短
期間にわたって生ぜしめ，あるいは遮断することが必要
な場合がある。また，流量を正確に選択しなければなら
ないことがある。例えば，原子吸光分光光度計あるいは
ガスクロマトグラフィー若しくは液体クロマトグラフィ
ーにおけるキャリヤガス若しくはキャリヤ液体の流量は
正確に選択しなければならない。コンピュータ化された
電子制御装置を有するこれらの装置においては，流量を
セットし変化させるために流量メータに結合されたモー
タを使用するような従来の方法は，特に正確さが要求さ
れる場合には，容易には適用することができない。
【０００３】最も伝統的な流量メータは作業流量範囲に
わたって無段階に調整可能であって，必要とされる精度
を有していない。別のクラスの流量制御装置はバイナリ
流動制御装置を使用している。この場合多数の流動導管
が並列に配置され，各流動導管はオン・オフ弁とこれに
直列に接続されている精密オリフィスのような固定の流
量絞り機構とを有している。各流動導管あるいは若干の
オリフィスの大きさは異なっており，選択されたオリフ
ィスの組み合わせ及び弁のオン・オフによって，流量を
段階的に選択することができる。このような形式の１つ
の型の弁装置においては，各流動導管はその前の流動導
管の２倍の流量で流体を通過させる（米国特許第 2,99
9,482 号明細書・同第 3,726,296 号明細書・同第 3,74
6,041 号明細書・同第 4,768,544 号明細書）。オリフ
ィスの寸法は例えば米国特許第 4,030,523 号明細書及
び同第 4,628,961 号明細書に記載されているように組
み合わせることができ，これによって最大流量の１０％
の増分（increment）の流量段階を生ぜしめることがで
きる。
わたって無段階に調整可能であって，必要とされる精度
を有していない。別のクラスの流量制御装置はバイナリ
流動制御装置を使用している。この場合多数の流動導管
が並列に配置され，各流動導管はオン・オフ弁とこれに
直列に接続されている精密オリフィスのような固定の流
量絞り機構とを有している。各流動導管あるいは若干の
オリフィスの大きさは異なっており，選択されたオリフ
ィスの組み合わせ及び弁のオン・オフによって，流量を
段階的に選択することができる。このような形式の１つ
の型の弁装置においては，各流動導管はその前の流動導
管の２倍の流量で流体を通過させる（米国特許第 2,99
9,482 号明細書・同第 3,726,296 号明細書・同第 3,74
6,041 号明細書・同第 4,768,544 号明細書）。オリフ
ィスの寸法は例えば米国特許第 4,030,523 号明細書及
び同第 4,628,961 号明細書に記載されているように組
み合わせることができ，これによって最大流量の１０％
の増分（increment）の流量段階を生ぜしめることがで
きる。
【０００４】もっと新しいクラスの流量制御装置はソリ
ッド・ステートの小型半導体チップ及び他の材料内に，
集積回路を形成する技術と類似の技術を使用して，形成
されている。このような装置及び技術は米国特許第 4,8
21,997 号明細書に詳細に記載されている。特別な装置
は，雑誌 Sensor Business Digest, 1, No.5, 9-11（19
92年 2 月号）の記事 ”The Fluistor Microstructure
is Poised for Comme-rcialization”（署名なし）に記
載されているフリュイスタ（Fluistor：登録商標）であ
る。
ッド・ステートの小型半導体チップ及び他の材料内に，
集積回路を形成する技術と類似の技術を使用して，形成
されている。このような装置及び技術は米国特許第 4,8
21,997 号明細書に詳細に記載されている。特別な装置
は，雑誌 Sensor Business Digest, 1, No.5, 9-11（19
92年 2 月号）の記事 ”The Fluistor Microstructure
is Poised for Comme-rcialization”（署名なし）に記
載されているフリュイスタ（Fluistor：登録商標）であ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は，流量
を正確に変化させる新規な弁装置を提供すること，特に
適度のあるいは比較的に大きな流量を正確に変化させる
弁装置を提供することである。
を正確に変化させる新規な弁装置を提供すること，特に
適度のあるいは比較的に大きな流量を正確に変化させる
弁装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この課題は本発明による
ハイブリッド弁装置によって解決された。すなわち，本
発明によるハイブリッド弁装置は，共通の流体入口と，
全流体流を排出する共通の流体出口と，複数のバイナリ
制御導管と，１つのアナログ制御導管と，制御装置とを
備え，該バイナリ制御導管は所定の流量を有していて，
共通の流体入口と共通の流体出口との間で互いに並列に
接続されており，各バイナリ制御導管はバイナリ弁と所
定の流量の流体を共通の出口に通過させる調節手段とを
有しており，各バイナリ制御導管の所定の流量は，順次
に選択されたバイナリ制御導管が別個にあるいは組み合
わして最大の増分を含む増分で全流体流の流量を順次に
増大させるように，選ばれており，該アナログ制御導管
は共通の流体入口と共通の流体出口との間でバイナリ制
御導管に対して並列に接続されていて，少なくとも最大
の増分に等しい最大の流量までの選択された流量を通過
させる無段階に調整可能な流量調節器を有しており，該
制御装置は各バイナリ弁を選択された開放位置又は閉鎖
位置に制御し，かつアナログ制御導管を通して選択され
た流量の流体流が通過するように流量調節器を制御し
て，これらの制御によって無段階に可変の選択可能な流
量の全流体流が生ぜしめられる。
ハイブリッド弁装置によって解決された。すなわち，本
発明によるハイブリッド弁装置は，共通の流体入口と，
全流体流を排出する共通の流体出口と，複数のバイナリ
制御導管と，１つのアナログ制御導管と，制御装置とを
備え，該バイナリ制御導管は所定の流量を有していて，
共通の流体入口と共通の流体出口との間で互いに並列に
接続されており，各バイナリ制御導管はバイナリ弁と所
定の流量の流体を共通の出口に通過させる調節手段とを
有しており，各バイナリ制御導管の所定の流量は，順次
に選択されたバイナリ制御導管が別個にあるいは組み合
わして最大の増分を含む増分で全流体流の流量を順次に
増大させるように，選ばれており，該アナログ制御導管
は共通の流体入口と共通の流体出口との間でバイナリ制
御導管に対して並列に接続されていて，少なくとも最大
の増分に等しい最大の流量までの選択された流量を通過
させる無段階に調整可能な流量調節器を有しており，該
制御装置は各バイナリ弁を選択された開放位置又は閉鎖
位置に制御し，かつアナログ制御導管を通して選択され
た流量の流体流が通過するように流量調節器を制御し
て，これらの制御によって無段階に可変の選択可能な流
量の全流体流が生ぜしめられる。
【０００７】
【発明の効果】本発明の構成によって，流量が正確に変
化せしめられる。調節手段は貫通オリフィスを有する固
形部材として構成することができる。流量調節器は小型
のソリッド・ステート装置として構成すると有利であ
る。
化せしめられる。調節手段は貫通オリフィスを有する固
形部材として構成することができる。流量調節器は小型
のソリッド・ステート装置として構成すると有利であ
る。
【０００８】バイナリ制御導管は１つの１次導管と１つ
又は複数の２次導管とから成っており，有利には連続的
な順序で所定の流量を増大させている。有利な１実施態
様では，各２次導管の所定の流量は，連続的な順序で前
の順序のバイナリ制御導管の所定の流量の２倍であり，
１次導管の流量は所定の流量のうちで最もわずかであ
る。別の実施態様では，１次導管の所定の流量は最少で
あり，各２次導管の所定の流量は連続的な順序で前の順
序のバイナリ制御導管の所定の流量よりも１次導管の所
定の流量の２倍に等しい増分だけ大きい。
又は複数の２次導管とから成っており，有利には連続的
な順序で所定の流量を増大させている。有利な１実施態
様では，各２次導管の所定の流量は，連続的な順序で前
の順序のバイナリ制御導管の所定の流量の２倍であり，
１次導管の流量は所定の流量のうちで最もわずかであ
る。別の実施態様では，１次導管の所定の流量は最少で
あり，各２次導管の所定の流量は連続的な順序で前の順
序のバイナリ制御導管の所定の流量よりも１次導管の所
定の流量の２倍に等しい増分だけ大きい。
【０００９】
【実施例】以下においては図面に示した実施例に基づい
て本発明の構成を具体的に説明する。
て本発明の構成を具体的に説明する。
【００１０】本発明によるハイブリッド弁装置１０は２
つの区分，すなわちバイナリ区分６とアナログ区分８と
から成っている。このようなハイブリッド弁装置は，原
子吸光分光光度計において炎内にサンプル物質を噴射す
るためにキャリヤガスを制御するため，あるいはガスク
ロマトグラフィーのキャリヤガス若しくは液体クロマト
グラフィーのキャリヤ液体を制御するために使用するこ
とができる。
つの区分，すなわちバイナリ区分６とアナログ区分８と
から成っている。このようなハイブリッド弁装置は，原
子吸光分光光度計において炎内にサンプル物質を噴射す
るためにキャリヤガスを制御するため，あるいはガスク
ロマトグラフィーのキャリヤガス若しくは液体クロマト
グラフィーのキャリヤ液体を制御するために使用するこ
とができる。
【００１１】バイナリ区分６内では，バイナリ流動に関
係のある前述の任意の米国特許明細書に記載されている
ような形式で，オン・オフ弁及び絞り機構を有する複数
の導管が使用されている。図示の実施例では，このよう
な４つのバイナリ導管，すなわち第１の導管１２と第２
の導管１４と第３の導管１６と第４の導管１８とが，共
通の流体入口導管２０と共通の流体出口導管２２との間
で，互いに並列に接続されている。流体出口導管２２は
流体，図示の実施例ではガス，を使用箇所（図示せず）
に排出する。各導管はそれを貫通するガス通路を開閉制
御するバイナリ弁を有している。すなわち４つの導管の
ガス通路に第１の弁２４と第２の弁２６と第３の弁２８
と第４の弁３０とが設けられている。これらの弁はソレ
ノイド弁のように電気的に制御されるものである。実際
の構造例は前記の米国特許明細書に記載されている。
係のある前述の任意の米国特許明細書に記載されている
ような形式で，オン・オフ弁及び絞り機構を有する複数
の導管が使用されている。図示の実施例では，このよう
な４つのバイナリ導管，すなわち第１の導管１２と第２
の導管１４と第３の導管１６と第４の導管１８とが，共
通の流体入口導管２０と共通の流体出口導管２２との間
で，互いに並列に接続されている。流体出口導管２２は
流体，図示の実施例ではガス，を使用箇所（図示せず）
に排出する。各導管はそれを貫通するガス通路を開閉制
御するバイナリ弁を有している。すなわち４つの導管の
ガス通路に第１の弁２４と第２の弁２６と第３の弁２８
と第４の弁３０とが設けられている。これらの弁はソレ
ノイド弁のように電気的に制御されるものである。実際
の構造例は前記の米国特許明細書に記載されている。
【００１２】バイナリ区分６は流体入口導管２０を介し
て圧縮ガス源３２に接続されている。流体入口導管２０
は主ガス弁３４及び全流量を測定する流量計３６を有し
ている。なお普通の圧力計３８を設けておくことができ
る。
て圧縮ガス源３２に接続されている。流体入口導管２０
は主ガス弁３４及び全流量を測定する流量計３６を有し
ている。なお普通の圧力計３８を設けておくことができ
る。
【００１３】各バイナリ導管は更にそれぞれガス絞り機
構４２・４４・４６・４８を有している。これらのガス
絞り機構は，バイナリ弁が開いているときに，所定のガ
ス圧力で，それぞれ所定のガス流量を生ぜしめる。この
ガス絞りは調整可能な弁例えばニードル弁（図示せず）
によって行うことができる。しかしながら，これらの弁
は一度調整されると，通常はその調整された状態を維持
する。逆に調整不能の精密オリフィスを有する固形部材
を使用することもでき，その方が有利である。例えばオ
リフィスを有するサファイヤ部材は，コネティカット州
トランブル（T-rumbull）の O’Keefe Controls Co. 社
によって販売されている。 １実施例では，バイナリ導管の流量は２を公比とする等
比数列となっている。第１の，つまり１次の，導管１２
のガス絞り機構４２は，弁２４が開いている場合に，す
べてのガス通路の流量のうち最も少ない流量を生ぜしめ
るように，選択されている。この最も少ない流量は「単
位流量」を規定する。ほかのバイナリ導管，すなわち第
２の導管１４・第３の導管１６及び第４の導管１８（以
下においては２次導管と呼ぶ）の各々はこの順序で順次
に流量を増大させるガス絞り機構を有している。第２の
ガス絞り機構４４は導管１４内に，その前の導管１２の
所定の流量（単位流量）の２倍の所定の流量を生ぜしめ
る。第３のガス絞り機構４６は導管１６内に，その前の
導管１４の所定の流量の２倍の所定の流量を生ぜしめ
る。第４のガス絞り機構４８は導管１８内に，その前の
導管１６の所定の流量の２倍の所定の流量を生ぜしめ
る。付加的に並列に接続されているバイナリ導管（図示
せず）はやはり同じようにしてその前のバイナリ導管の
流量の２倍の所定の流量を有している。このようにし
て，第１の導管１２が「１」の単位流量を有しているも
のとすると，第２の導管は「２」の流量を有しており，
第３の導管は「４」の流量を有しており，第４の導管は
「８」の流量を有している。
構４２・４４・４６・４８を有している。これらのガス
絞り機構は，バイナリ弁が開いているときに，所定のガ
ス圧力で，それぞれ所定のガス流量を生ぜしめる。この
ガス絞りは調整可能な弁例えばニードル弁（図示せず）
によって行うことができる。しかしながら，これらの弁
は一度調整されると，通常はその調整された状態を維持
する。逆に調整不能の精密オリフィスを有する固形部材
を使用することもでき，その方が有利である。例えばオ
リフィスを有するサファイヤ部材は，コネティカット州
トランブル（T-rumbull）の O’Keefe Controls Co. 社
によって販売されている。 １実施例では，バイナリ導管の流量は２を公比とする等
比数列となっている。第１の，つまり１次の，導管１２
のガス絞り機構４２は，弁２４が開いている場合に，す
べてのガス通路の流量のうち最も少ない流量を生ぜしめ
るように，選択されている。この最も少ない流量は「単
位流量」を規定する。ほかのバイナリ導管，すなわち第
２の導管１４・第３の導管１６及び第４の導管１８（以
下においては２次導管と呼ぶ）の各々はこの順序で順次
に流量を増大させるガス絞り機構を有している。第２の
ガス絞り機構４４は導管１４内に，その前の導管１２の
所定の流量（単位流量）の２倍の所定の流量を生ぜしめ
る。第３のガス絞り機構４６は導管１６内に，その前の
導管１４の所定の流量の２倍の所定の流量を生ぜしめ
る。第４のガス絞り機構４８は導管１８内に，その前の
導管１６の所定の流量の２倍の所定の流量を生ぜしめ
る。付加的に並列に接続されているバイナリ導管（図示
せず）はやはり同じようにしてその前のバイナリ導管の
流量の２倍の所定の流量を有している。このようにし
て，第１の導管１２が「１」の単位流量を有しているも
のとすると，第２の導管は「２」の流量を有しており，
第３の導管は「４」の流量を有しており，第４の導管は
「８」の流量を有している。
【００１４】バイナリ区分６は，種々のバイナリ弁を選
択された組み合わせでオン又はオフにして，制御作用を
行う。第１の弁２４だけがオンになっている場合には，
バイナリ区分６の全流量は単位流量である。第２の弁２
６だけがオンになっている場合には，バイナリ区分６の
全流量は２（２単位）である。第１の弁２４及び第２の
弁２６だけがオンになっている場合には，バイナリ区分
６の全流量は３（３単位）である。第３の弁２８だけが
オンになっている場合には，バイナリ区分６の全流量は
４（４単位）である。第１の弁２４及び第３の弁２８だ
けがオンになっている場合には，バイナリ区分６の全流
量は５（５単位）である。このようにして，最大の全流
量は第１の弁２４から第４の弁３０まですべての弁がオ
ンになっている場合の１５（１５単位）である。したが
って，流量の範囲は単位流量を増分として段階的に刻ま
れている。流量段階の数（すべての弁がオフになってい
る場合の流量０の段階も含む）は２n（ただしｎは弁の
数）である。したがって図示の実施例ではｎ＝４である
ので，流量段階の数は１６である。もちろん実際の流量
は共通の流体入口導管２０における流体圧力に関連して
いるので，この流体圧力をコンスタントに維持しておか
なければならない。
択された組み合わせでオン又はオフにして，制御作用を
行う。第１の弁２４だけがオンになっている場合には，
バイナリ区分６の全流量は単位流量である。第２の弁２
６だけがオンになっている場合には，バイナリ区分６の
全流量は２（２単位）である。第１の弁２４及び第２の
弁２６だけがオンになっている場合には，バイナリ区分
６の全流量は３（３単位）である。第３の弁２８だけが
オンになっている場合には，バイナリ区分６の全流量は
４（４単位）である。第１の弁２４及び第３の弁２８だ
けがオンになっている場合には，バイナリ区分６の全流
量は５（５単位）である。このようにして，最大の全流
量は第１の弁２４から第４の弁３０まですべての弁がオ
ンになっている場合の１５（１５単位）である。したが
って，流量の範囲は単位流量を増分として段階的に刻ま
れている。流量段階の数（すべての弁がオフになってい
る場合の流量０の段階も含む）は２n（ただしｎは弁の
数）である。したがって図示の実施例ではｎ＝４である
ので，流量段階の数は１６である。もちろん実際の流量
は共通の流体入口導管２０における流体圧力に関連して
いるので，この流体圧力をコンスタントに維持しておか
なければならない。
【００１５】実地において，バイナリ導管の流量を決定
する調節手段は，すべてのバイナリ導管の流量を正確に
２倍ずつ増大させるように構成することはできない。ま
た後述するように，流量段階の増分を異ならせるような
別の数列を使用することもできる。いずれの場合でも，
最大の増分は把握しておかなければならない。増分が完
全に同じである場合には，「最大の増分」はこれらの同
じ増分の値を意味する。
する調節手段は，すべてのバイナリ導管の流量を正確に
２倍ずつ増大させるように構成することはできない。ま
た後述するように，流量段階の増分を異ならせるような
別の数列を使用することもできる。いずれの場合でも，
最大の増分は把握しておかなければならない。増分が完
全に同じである場合には，「最大の増分」はこれらの同
じ増分の値を意味する。
【００１６】ハイブリッド弁装置１０のアナログ区分８
は，共通の流体入口導管２０と共通の流体出口導管２２
との間で，バイナリ区分６に対して並列に接続されてい
るアナログ制御導管５０を有している。このアナログ制
御導管５０は，ゼロから，少なくともバイナリ区分６の
最大の流量増分に等しい最大流量までの既知の流量を通
過させる無段階に調整可能な流量調節器５２を有してい
る。したがってアナログ区分８はバイナリ区分６の流量
に加えて，無段階に調整された流量を通過させる。バイ
ナリ区分６の調節制御とこの流量調節器５２の調節とに
よって，全流体流の，無段階に変化させることのできる
選択可能な流量が生ぜしめられる。図示の実施例のよう
に流量が２倍ずつ増大している４つのバイナリ導管が設
けられている場合には，アナログ制御導管を含めた全流
体流の最大流量は１６（あるいはそれよりもわずかに多
い）である。アナログ制御導管の最大の流量は，バイナ
リ導管の流量増分よりもほんのわずかだけ（例えば５０
％まで）多くしておくのが有利であり，これによって増
分の誤差を完全に補填して，アナログ流量調節器のほと
んど最大の正確さを維持することができる。
は，共通の流体入口導管２０と共通の流体出口導管２２
との間で，バイナリ区分６に対して並列に接続されてい
るアナログ制御導管５０を有している。このアナログ制
御導管５０は，ゼロから，少なくともバイナリ区分６の
最大の流量増分に等しい最大流量までの既知の流量を通
過させる無段階に調整可能な流量調節器５２を有してい
る。したがってアナログ区分８はバイナリ区分６の流量
に加えて，無段階に調整された流量を通過させる。バイ
ナリ区分６の調節制御とこの流量調節器５２の調節とに
よって，全流体流の，無段階に変化させることのできる
選択可能な流量が生ぜしめられる。図示の実施例のよう
に流量が２倍ずつ増大している４つのバイナリ導管が設
けられている場合には，アナログ制御導管を含めた全流
体流の最大流量は１６（あるいはそれよりもわずかに多
い）である。アナログ制御導管の最大の流量は，バイナ
リ導管の流量増分よりもほんのわずかだけ（例えば５０
％まで）多くしておくのが有利であり，これによって増
分の誤差を完全に補填して，アナログ流量調節器のほと
んど最大の正確さを維持することができる。
【００１７】アナログ流量調節器５２は任意の構造のも
の，例えばモータによって調節される精密ニードル弁を
使用することができる。しかしながら，前記の米国特許
第 4,821,997 号明細書に記載されているような集積電
子回路を形成する技術に類似した技術を使用して，半導
体チップ内に形成した小型のソリッド・ステート装置に
よってアナログ調節弁を構成するのが有利である。例え
ば，これに適した型の装置は，カリフォルニア州メンロ
パーク（Menlo Park）の Redwood Microsyste-ms, Inc.
社の装置フリュイスタ（Fluistor：登録商標）として
前記雑誌の記事で紹介されている。同じような装置とし
て，カリフォルニア州ミルピタス（Mil-pitas）の IC S
ensors 社によって販売されているガスマイクロ弁，モ
デル 4425がある。本明細書中において「ソリッド・ス
テート装置」とは半導体チップ内に形成されたこのよう
な型の小型弁を意味するものとする。
の，例えばモータによって調節される精密ニードル弁を
使用することができる。しかしながら，前記の米国特許
第 4,821,997 号明細書に記載されているような集積電
子回路を形成する技術に類似した技術を使用して，半導
体チップ内に形成した小型のソリッド・ステート装置に
よってアナログ調節弁を構成するのが有利である。例え
ば，これに適した型の装置は，カリフォルニア州メンロ
パーク（Menlo Park）の Redwood Microsyste-ms, Inc.
社の装置フリュイスタ（Fluistor：登録商標）として
前記雑誌の記事で紹介されている。同じような装置とし
て，カリフォルニア州ミルピタス（Mil-pitas）の IC S
ensors 社によって販売されているガスマイクロ弁，モ
デル 4425がある。本明細書中において「ソリッド・ス
テート装置」とは半導体チップ内に形成されたこのよう
な型の小型弁を意味するものとする。
【００１８】前述の Redwood 社のフリュイスタはシリ
コンチップの基体を有し，この基体は囲まれたキャビテ
ィを有しており，このキャビティは，キャビティ内に密
封された膨張可能な液体によって曲げられる単結晶シリ
コン膜によって仕切られている。電気抵抗ヒータが液体
を加熱して膨張させる。パイレックスのウェーハが単結
晶シリコン膜によって動かされ，基体を通る通路内の流
量を電気抵抗中の加熱電流に応じて変化させる。センサ
及び電子素子は有利にはシリコンチップ内に含まれてお
り，ヒータと協働して，流量のフィードバック制御を行
う。
コンチップの基体を有し，この基体は囲まれたキャビテ
ィを有しており，このキャビティは，キャビティ内に密
封された膨張可能な液体によって曲げられる単結晶シリ
コン膜によって仕切られている。電気抵抗ヒータが液体
を加熱して膨張させる。パイレックスのウェーハが単結
晶シリコン膜によって動かされ，基体を通る通路内の流
量を電気抵抗中の加熱電流に応じて変化させる。センサ
及び電子素子は有利にはシリコンチップ内に含まれてお
り，ヒータと協働して，流量のフィードバック制御を行
う。
【００１９】制御装置５８がハイブリッド弁装置１０内
に設けられていて，電気導線６０を介してバイナリ区分
６の弁２４・２６・２８・３０を開閉制御し，電気導線
６１を介して流量調節器５２を制御して，アナログ制御
導管５０内に選択された流量を生ぜしめ，これら両方の
制御によって，ハイブリッド弁装置１０を通る全流体流
の流量範囲全体にわたって，無段階に変化させることの
できる選択された流量が生ぜしめられる。この制御装置
は簡単には１セットの手動ノブを有していてもよいが，
本発明によるハイブリッド弁装置には，コンピュータ化
した制御装置が特に適している。このようなコンピュー
タ化した制御装置は，本発明によるハイブリッド弁装置
を使用する既に述べたような装置のコンピュータ内に組
み込んでおくことができる。
に設けられていて，電気導線６０を介してバイナリ区分
６の弁２４・２６・２８・３０を開閉制御し，電気導線
６１を介して流量調節器５２を制御して，アナログ制御
導管５０内に選択された流量を生ぜしめ，これら両方の
制御によって，ハイブリッド弁装置１０を通る全流体流
の流量範囲全体にわたって，無段階に変化させることの
できる選択された流量が生ぜしめられる。この制御装置
は簡単には１セットの手動ノブを有していてもよいが，
本発明によるハイブリッド弁装置には，コンピュータ化
した制御装置が特に適している。このようなコンピュー
タ化した制御装置は，本発明によるハイブリッド弁装置
を使用する既に述べたような装置のコンピュータ内に組
み込んでおくことができる。
【００２０】コンピュータのプログラミングは選択され
た流量値を電気導線６０・６１内の信号に翻訳し，開か
れるバイナリ弁はキーボード６２による入力によって，
あるいはあらかじめ入れられて貯蔵されている値によっ
て，あるいは弁装置を使用する装置のマスタプログラム
によって計算された値によって，決定される。流量並び
に装置の運転データその他の情報はモニタ６４に表示す
ることができる。弁装置を調節制御するプログラミング
手段は「Ｃ言語」のような普通のコンピュータ言語によ
って簡単に得られる。総合的なプログラムは例えば Dig
ital EquipmentCorporation 社のモデル＋316 のコンピ
ュータで作成することができる。ソリッド・ステート装
置への電気信号の性質（例えばデジタル又はアナログ）
は弁装置のメーカーの指示によって決定される。
た流量値を電気導線６０・６１内の信号に翻訳し，開か
れるバイナリ弁はキーボード６２による入力によって，
あるいはあらかじめ入れられて貯蔵されている値によっ
て，あるいは弁装置を使用する装置のマスタプログラム
によって計算された値によって，決定される。流量並び
に装置の運転データその他の情報はモニタ６４に表示す
ることができる。弁装置を調節制御するプログラミング
手段は「Ｃ言語」のような普通のコンピュータ言語によ
って簡単に得られる。総合的なプログラムは例えば Dig
ital EquipmentCorporation 社のモデル＋316 のコンピ
ュータで作成することができる。ソリッド・ステート装
置への電気信号の性質（例えばデジタル又はアナログ）
は弁装置のメーカーの指示によって決定される。
【００２１】以上の説明は，等比数列の４つのバイナリ
導管及びアナログ区分について行ったものであり，この
場合最大の流量は１６単位（あるいはそれよりもわずか
に多い）である。しかしながら，別の数のバイナリ導管
をアナログ区分と組み合わせて，バイナリ区分の流量増
分に適合した適当な最大流量を有するアナログ流量調節
器を使用することによって，所望の最大流量範囲及び正
確さを生ぜしめることもできる。
導管及びアナログ区分について行ったものであり，この
場合最大の流量は１６単位（あるいはそれよりもわずか
に多い）である。しかしながら，別の数のバイナリ導管
をアナログ区分と組み合わせて，バイナリ区分の流量増
分に適合した適当な最大流量を有するアナログ流量調節
器を使用することによって，所望の最大流量範囲及び正
確さを生ぜしめることもできる。
【００２２】また以上の説明は，２を公比とする等比数
列の流量を有するバイナリ導管についてのものであっ
て，最小の数，特に４よりも大きい数のバイナリ導管を
効果的に使用することができるものである。しかしなが
ら別の数列，例えば前記の米国特許第 4,030,523 号明
細書に記載されているような数列を使用することもでき
る。この米国特許明細書に記載されている４つのバイナ
リ導管の数列は１・２・２・５であって，１０の段階で
１０％の増分を生ぜしめることができる。
列の流量を有するバイナリ導管についてのものであっ
て，最小の数，特に４よりも大きい数のバイナリ導管を
効果的に使用することができるものである。しかしなが
ら別の数列，例えば前記の米国特許第 4,030,523 号明
細書に記載されているような数列を使用することもでき
る。この米国特許明細書に記載されている４つのバイナ
リ導管の数列は１・２・２・５であって，１０の段階で
１０％の増分を生ぜしめることができる。
【００２３】本発明の別の実施例では，１次導管の所定
の流量は最小であり，各２次導管の所定の流量はその前
のバイナリ導管の所定の流量よりも，１次導管の所定の
流量の２倍だけ大きい。この場合，バイナリ導管が４つ
設けられていると，流量の数列は１・３・５・７とな
る。これによって，１（例えば全流量３と全流量４との
差）又は２（例えば全流量１と全流量３との差）の流量
の増分を生ぜしめることができる。したがって，バイナ
リ区分の最大の流量変化の増分は２であり，アナログ制
御導管は０から２までの流量を生ぜしめるように選択さ
れる。このハイブリッド弁装置の最大の流量は１８（１
８単位）である。
の流量は最小であり，各２次導管の所定の流量はその前
のバイナリ導管の所定の流量よりも，１次導管の所定の
流量の２倍だけ大きい。この場合，バイナリ導管が４つ
設けられていると，流量の数列は１・３・５・７とな
る。これによって，１（例えば全流量３と全流量４との
差）又は２（例えば全流量１と全流量３との差）の流量
の増分を生ぜしめることができる。したがって，バイナ
リ区分の最大の流量変化の増分は２であり，アナログ制
御導管は０から２までの流量を生ぜしめるように選択さ
れる。このハイブリッド弁装置の最大の流量は１８（１
８単位）である。
【００２４】流動オリフィスの寸法及びこれに相応する
流量は正確な比で選択する必要はない。したがって本発
明によれば，バイナリ導管は，最大の流量変化の増分を
含む所定の増分（これは同一である必要はない）で全流
量を増大させる。アナログ制御導管は，少なくとも最大
の流量変化の増分に等しい最大の流量までの流量を通過
させるこいとのできる調整可能な流量を有している。ま
た，バイナリ区分内の１次導管が有している１次流量は
どの２次導管の所定の流量よりも少なく，あるいは少な
くとも多くない。
流量は正確な比で選択する必要はない。したがって本発
明によれば，バイナリ導管は，最大の流量変化の増分を
含む所定の増分（これは同一である必要はない）で全流
量を増大させる。アナログ制御導管は，少なくとも最大
の流量変化の増分に等しい最大の流量までの流量を通過
させるこいとのできる調整可能な流量を有している。ま
た，バイナリ区分内の１次導管が有している１次流量は
どの２次導管の所定の流量よりも少なく，あるいは少な
くとも多くない。
【００２５】下の表は，２．１ｋｇ／ｃｍ2の入口圧力
で公称毎秒０．１標準リットル（ＳＬＰＭ）の増分の空
気流量増大を順次に生ぜしめる７つのオリフィスのセッ
トの例を示したものである。これらのバイナリ導管は，
バイナリ区分における最大の増分よりも多い約０．１５
ＳＬＰＭの最大流量を有する前述のフリュイスタ（F-lu
istor：登録商標）型のソリッド・ステートの流量調節
器に対して並列に配置されている。
で公称毎秒０．１標準リットル（ＳＬＰＭ）の増分の空
気流量増大を順次に生ぜしめる７つのオリフィスのセッ
トの例を示したものである。これらのバイナリ導管は，
バイナリ区分における最大の増分よりも多い約０．１５
ＳＬＰＭの最大流量を有する前述のフリュイスタ（F-lu
istor：登録商標）型のソリッド・ステートの流量調節
器に対して並列に配置されている。
【００２６】 表 公称流量 実際流量 オリフィス寸法 （ＳＬＰＭ） （ＳＬＰＭ） （ｍｍ） ０．１ ０．０９２ ０．０６１ ０．２ ０．２１２ ０．０８９ ０．４ ０．４０１ ０．１１９ ０．８ ０．７７５ ０．１６０ １．６ １．６５ ０．２３９ ３．２ ３．１２ ０．４７５ ６．４ ６．１４ ０．６６０ 本発明の更に別の実施例は図２に示されており，図２に
おいては図１のすべての素子が同じ数字を付けて示され
ている。これらの素子についての説明はここでは繰り返
さない。しかしながら図２に示したハイブリッド弁装置
１００においては，バイナリ区分６及びアナログ区分８
は，付加的な流れを生ぜしめる付加的な導管１０２を並
列に接続されている。この付加的な流れのためには，導
管１０２が，バイナリ区分及びアナログ区分のどの導管
の流量よりも著しく多い流量，例えばこれらの区分の最
大の流量の１００倍の流量を有しているのが特に有利で
ある。
おいては図１のすべての素子が同じ数字を付けて示され
ている。これらの素子についての説明はここでは繰り返
さない。しかしながら図２に示したハイブリッド弁装置
１００においては，バイナリ区分６及びアナログ区分８
は，付加的な流れを生ぜしめる付加的な導管１０２を並
列に接続されている。この付加的な流れのためには，導
管１０２が，バイナリ区分及びアナログ区分のどの導管
の流量よりも著しく多い流量，例えばこれらの区分の最
大の流量の１００倍の流量を有しているのが特に有利で
ある。
【００２７】図２に示すように，付加的な導管１０２は
所定の流量を生ぜしめるために，精密オリフィス１０４
あるいはほかの絞り手段を有している。この導管１０２
は通常は開いているものであって，オン・オフ弁を必要
としないが，有していてもよい。このハイブリッド装置
１００は所定の最低流量を生ぜしめるものであって，必
要とされる出力流量が通常極めて多いが，バイナリ区分
及びアナログ区分内でわずかな流量範囲を調整しなけれ
ばならないような場合に有利に使用される。主ガス弁３
４が開かれると，流れは，付加的なオリフィス並びにプ
リセットされているバイナリ導管及びアナログ導管によ
って決定されている最大流に迅速に達する。あるいはバ
イナリ導管及びアナログ導管は，付加的な導管１０２に
よって最初の流れが達成された後に，初めて開くことも
できる。
所定の流量を生ぜしめるために，精密オリフィス１０４
あるいはほかの絞り手段を有している。この導管１０２
は通常は開いているものであって，オン・オフ弁を必要
としないが，有していてもよい。このハイブリッド装置
１００は所定の最低流量を生ぜしめるものであって，必
要とされる出力流量が通常極めて多いが，バイナリ区分
及びアナログ区分内でわずかな流量範囲を調整しなけれ
ばならないような場合に有利に使用される。主ガス弁３
４が開かれると，流れは，付加的なオリフィス並びにプ
リセットされているバイナリ導管及びアナログ導管によ
って決定されている最大流に迅速に達する。あるいはバ
イナリ導管及びアナログ導管は，付加的な導管１０２に
よって最初の流れが達成された後に，初めて開くことも
できる。
【００２８】本明細書で述べたようなソリッド・ステー
ト装置は本発明によるバイナリ導管に使用するのに特に
適している。それはバイナリ区分の流量範囲を極めて正
確に変化させることができるからである。ソリッド・ス
テート装置は大きな精度を有しているが，広い調節範囲
を生ぜしめることはできない。精密オリフィスあるいは
ニードル弁などを有するバイナリ導管は調節範囲を広
げ，しかもソリッド・ステート装置の正確さを維持す
る。等比数列のバイナリ導管は最小の数で適当に広い調
節範囲を生ぜしめる。
ト装置は本発明によるバイナリ導管に使用するのに特に
適している。それはバイナリ区分の流量範囲を極めて正
確に変化させることができるからである。ソリッド・ス
テート装置は大きな精度を有しているが，広い調節範囲
を生ぜしめることはできない。精密オリフィスあるいは
ニードル弁などを有するバイナリ導管は調節範囲を広
げ，しかもソリッド・ステート装置の正確さを維持す
る。等比数列のバイナリ導管は最小の数で適当に広い調
節範囲を生ぜしめる。
【図１】本発明による弁装置の概略図である。
【図２】図１の弁装置に付加的な導管を設けた弁装置の
概略図である。
概略図である。
６ バイナリ区分， ８ アナログ区分， １０ ハイ
ブリッド弁装置， １２・１４・１６・１８ 導管，
２０ 流体入口導管， ２２ 流体出口導管，２４・２
６・２８・３０ 弁， ３２ 圧縮ガス源， ３４ 主
ガス弁， ３６ 流量計， ３８ 圧力計， ４２・４
４・４６・４８ ガス絞り機構， ５０ アナログ制御
導管， ５２ 流量調節器， ５８ 制御装置， ６０
及び６１ 電気導線， ６２ キーボード， ６４ モ
ニタ， １００ ハイブリッド弁装置， １０２ 導
管， １０４ 精密オリフィス
ブリッド弁装置， １２・１４・１６・１８ 導管，
２０ 流体入口導管， ２２ 流体出口導管，２４・２
６・２８・３０ 弁， ３２ 圧縮ガス源， ３４ 主
ガス弁， ３６ 流量計， ３８ 圧力計， ４２・４
４・４６・４８ ガス絞り機構， ５０ アナログ制御
導管， ５２ 流量調節器， ５８ 制御装置， ６０
及び６１ 電気導線， ６２ キーボード， ６４ モ
ニタ， １００ ハイブリッド弁装置， １０２ 導
管， １０４ 精密オリフィス
Claims (7)
- 【請求項１】 共通の流体入口と，全流体流を排出する
共通の流体出口と，複数のバイナリ制御導管と，１つの
アナログ制御導管と，制御装置とを備え，該バイナリ制
御導管は所定の流量を有していて，共通の流体入口と共
通の流体出口との間で互いに並列に接続されており，各
バイナリ制御導管はバイナリ弁と所定の流量の流体を共
通の出口に通過させる調節手段とを有しており，各バイ
ナリ制御導管の所定の流量は，順次に選択されたバイナ
リ制御導管が別個にあるいは組み合わして最大の増分を
含む増分で全流体流の流量を順次に増大させるように，
選ばれており，該アナログ制御導管は共通の流体入口と
共通の流体出口との間でバイナリ制御導管に対して並列
に接続されていて，少なくとも最大の増分に等しい最大
の流量までの選択された流量を通過させる無段階に調整
可能な流量調節器を有しており，該制御装置は各バイナ
リ弁を選択された開放位置又は閉鎖位置に制御し，かつ
アナログ制御導管を通して選択された流量の流体流が通
過するように流量調節器を制御して，これらの制御によ
って無段階に可変の選択可能な流量の全流体流が生ぜし
められることを特徴とする，流体の流量を変化させる弁
装置。 - 【請求項２】 バイナリ制御導管が１つの１次導管と１
つ又は複数の２次導管とから成っており，１次導管は，
２次導管の所定の流量よりも小さい１次流量を有してい
ることを特徴とする，請求項１記載の弁装置。 - 【請求項３】 バイナリ制御導管が連続的な順序で所定
の流量を増大させており，各２次導管の所定の流量は，
連続的な順序で前の順序のバイナリ制御導管の所定の流
量の２倍であり，１次流量は所定の流量のうちで最もわ
ずかであることを特徴とする，請求項２記載の弁装置。 - 【請求項４】 バイナリ制御導管が１つの１次導管と１
つ又は複数の２次導管とから成っていて，連続的な順序
で所定の流量を増大させており，１次導管は１次流量を
有しており，各２次導管の所定の流量は連続的な順序で
前の順序のバイナリ制御導管の所定の流量よりも１次流
量の２倍に等しい増分だけ大きいことを特徴とする，請
求項１記載の弁装置。 - 【請求項５】 流量調節器が半導体チップ内に形成され
た小型弁であるソリッド・ステート装置であることを特
徴とする，請求項１記載の弁装置。 - 【請求項６】 調節手段が貫通オリフィスを有する固形
部材であることを特徴とする，請求項５記載の弁装置。 - 【請求項７】 付加的な流体導管が共通の流体入口と共
通の流体出口との間でバイナリ制御導管及びアナログ制
御導管に対して並列に接続されていて，付加的な所定の
流量の流体を共通の流体出口に通過させる付加的な調節
手段を有しており，この付加的な流体導管は通常は開い
ていて，付加的な所定の流量で最少の流れを共通の出口
に通過させることを特徴とする，請求項１記載の弁装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/100,596 US5329965A (en) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | Hybrid valving system for varying fluid flow rate |
| US08/100596 | 1993-07-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0778032A true JPH0778032A (ja) | 1995-03-20 |
| JP3556276B2 JP3556276B2 (ja) | 2004-08-18 |
Family
ID=22280558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17702594A Expired - Lifetime JP3556276B2 (ja) | 1993-07-30 | 1994-07-28 | 流体の流量を変化させる弁装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5329965A (ja) |
| EP (1) | EP0636959B1 (ja) |
| JP (1) | JP3556276B2 (ja) |
| AU (1) | AU692773B2 (ja) |
| CA (1) | CA2126496C (ja) |
| DE (1) | DE69422098T2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000035822A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Horiba Ltd | 希釈用ガス流量制御装置 |
| JP2003053548A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-26 | Koike Sanso Kogyo Co Ltd | 流量調整装置及び加工装置 |
| JP2006268426A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Ebara Corp | 流量制御装置及び方法 |
| JP2009265859A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Ckd Corp | 流量制御装置 |
| JP2013525780A (ja) * | 2010-04-19 | 2013-06-20 | エルエヌアイ シュミドリン ソシエテ アノニム | ガス流希釈装置を較正するための方法及び装置 |
| JP2015506298A (ja) * | 2011-12-21 | 2015-03-02 | ヴアブコ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングＷＡＢＣＯ ＧｍｂＨ | 自動車の空気ばね設備及びその制御方法 |
| JP2017505912A (ja) * | 2014-02-12 | 2017-02-23 | アイデックス ヘルス アンド サイエンス エルエルシー | 多次元液体分析システムにおける体積フローの調整 |
| WO2024053250A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | 株式会社日本サーモエナー | ボイラシステム |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE9407288U1 (de) * | 1994-05-02 | 1994-08-04 | Trumpf Gmbh & Co, 71254 Ditzingen | Laserschneidmaschine mit Fokuslageneinstellung |
| US5443112A (en) * | 1994-06-21 | 1995-08-22 | Scheideman; Floyd P. | Water flow and heat exchange control system and method between heat source and water reservoir |
| NL9402237A (nl) * | 1994-12-29 | 1996-08-01 | Adrianus Martinus M Wildenberg | Debietregelklep. |
| US5640995A (en) * | 1995-03-14 | 1997-06-24 | Baxter International Inc. | Electrofluidic standard module and custom circuit board assembly |
| US6068010A (en) * | 1995-06-09 | 2000-05-30 | Marotta Scientific Controls, Inc. | Microvalve and microthruster for satellites and methods of making and using the same |
| CA2183478C (en) * | 1995-08-17 | 2004-02-24 | Stephen A. Carter | Digital gas metering system using tri-stable and bi-stable solenoids |
| EP0885659A1 (en) | 1997-06-19 | 1998-12-23 | Emes N.V. | Continuous dispensing system for liquids |
| US6010032A (en) * | 1997-06-19 | 2000-01-04 | Emes N.V. | Continuous dispensing system for liquids |
| US6269831B1 (en) * | 1998-03-31 | 2001-08-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Precision volumetric measuring and mixing apparatus |
| DE19853739A1 (de) * | 1998-11-21 | 2000-05-25 | Mannesmann Rexroth Ag | Verfahren zur Ansteuerung von elektrisch betätigten Schaltventilen |
| EP1081570A1 (en) | 1999-08-30 | 2001-03-07 | TeeJet Technologies | Fluid flow regulator and control method |
| US6508272B1 (en) * | 2000-11-20 | 2003-01-21 | Arichell Technologies, Inc. | Device and method for operating at least two valves |
| CA2469182C (en) | 2001-12-04 | 2014-06-03 | Arichell Technologies, Inc. | Electronic faucets for long-term operation |
| ES2219592T3 (es) * | 2002-02-19 | 2004-12-01 | FESTO AG & CO | Valvula de estrangulamiento. |
| AU2003245692A1 (en) | 2002-06-24 | 2004-01-23 | Arichell Technologies, Inc. | Automated water delivery systems with feedback control |
| US7169231B2 (en) * | 2002-12-13 | 2007-01-30 | Lam Research Corporation | Gas distribution system with tuning gas |
| US6997202B2 (en) * | 2002-12-17 | 2006-02-14 | Advanced Technology Materials, Inc. | Gas storage and dispensing system for variable conductance dispensing of gas at constant flow rate |
| US7673645B2 (en) * | 2005-04-21 | 2010-03-09 | Mks Instruments, Inc. | Gas delivery method and system including a flow ratio controller using a multiple antisymmetric optimal control arrangement |
| US7621290B2 (en) * | 2005-04-21 | 2009-11-24 | Mks Instruments, Inc. | Gas delivery method and system including a flow ratio controller using antisymmetric optimal control |
| US9921089B2 (en) | 2005-06-27 | 2018-03-20 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| JP4856905B2 (ja) * | 2005-06-27 | 2012-01-18 | 国立大学法人東北大学 | 流量レンジ可変型流量制御装置 |
| US9383758B2 (en) | 2005-06-27 | 2016-07-05 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| JP4690827B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2011-06-01 | 株式会社フジキン | ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置 |
| US20070060044A1 (en) * | 2005-09-14 | 2007-03-15 | Michael Lamb | Portable music system |
| JP4814706B2 (ja) * | 2006-06-27 | 2011-11-16 | 株式会社フジキン | 流量比可変型流体供給装置 |
| US7909052B2 (en) * | 2006-12-21 | 2011-03-22 | Packaging Technologies, Inc. | Apparatus and method for controlling gas flow |
| US8091575B2 (en) * | 2007-05-10 | 2012-01-10 | Gammon Technical Products, Inc. | Valve system |
| CN102037423B (zh) * | 2008-05-21 | 2014-02-05 | 株式会社富士金 | 使用压力流量控制装置的流体非连续式流量切换控制方法 |
| US8128060B2 (en) * | 2009-03-25 | 2012-03-06 | Valve Tech, Inc. | Non-sliding solenoid valve |
| DE102009052285B4 (de) * | 2009-11-09 | 2020-10-15 | Robert Bosch Gmbh | Digital-Hydraulik-Ventil |
| US20110265883A1 (en) * | 2010-04-30 | 2011-11-03 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for reducing flow splitting errors using orifice ratio conductance control |
| JP5562712B2 (ja) * | 2010-04-30 | 2014-07-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置用のガス供給装置 |
| US20120085434A1 (en) * | 2010-10-11 | 2012-04-12 | William Powanda | Method and apparatus for flow device |
| JP5646956B2 (ja) * | 2010-11-04 | 2014-12-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 液体流量制御装置、液体流量制御方法および記憶媒体 |
| CN105804166B (zh) | 2011-03-15 | 2019-03-26 | 仕龙阀门公司 | 自动水龙头 |
| US9695579B2 (en) | 2011-03-15 | 2017-07-04 | Sloan Valve Company | Automatic faucets |
| DE102011083069A1 (de) * | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Metso Paper, Inc. | Fluidsystem für eine Maschine zur Herstellung einer Faserstoffbahn |
| US9694336B2 (en) | 2012-06-14 | 2017-07-04 | Basell Polyolefine Gmbh | Method for cooling a gas-phase reactor for the polymerization of olefins |
| EP2674213A1 (en) * | 2012-06-14 | 2013-12-18 | Basell Polyolefine GmbH | Method for cooling a gas-phase reactor for the polymerization of olefins |
| DE102012017207A1 (de) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Ansteuern einer hydraulischen Ventilanordnung und hydraulische Ventilanordnung |
| US9146007B2 (en) * | 2012-11-27 | 2015-09-29 | Lam Research Ag | Apparatus for liquid treatment of work pieces and flow control system for use in same |
| US10036568B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-07-31 | Trane International, Inc. | Fluid flow measurement and control |
| JP6193679B2 (ja) * | 2013-08-30 | 2017-09-06 | 株式会社フジキン | ガス分流供給装置及びガス分流供給方法 |
| US10658222B2 (en) | 2015-01-16 | 2020-05-19 | Lam Research Corporation | Moveable edge coupling ring for edge process control during semiconductor wafer processing |
| US10957561B2 (en) * | 2015-07-30 | 2021-03-23 | Lam Research Corporation | Gas delivery system |
| US10192751B2 (en) | 2015-10-15 | 2019-01-29 | Lam Research Corporation | Systems and methods for ultrahigh selective nitride etch |
| US10825659B2 (en) | 2016-01-07 | 2020-11-03 | Lam Research Corporation | Substrate processing chamber including multiple gas injection points and dual injector |
| US10699878B2 (en) | 2016-02-12 | 2020-06-30 | Lam Research Corporation | Chamber member of a plasma source and pedestal with radially outward positioned lift pins for translation of a substrate c-ring |
| US10651015B2 (en) | 2016-02-12 | 2020-05-12 | Lam Research Corporation | Variable depth edge ring for etch uniformity control |
| US10147588B2 (en) | 2016-02-12 | 2018-12-04 | Lam Research Corporation | System and method for increasing electron density levels in a plasma of a substrate processing system |
| US10438833B2 (en) | 2016-02-16 | 2019-10-08 | Lam Research Corporation | Wafer lift ring system for wafer transfer |
| US10410832B2 (en) | 2016-08-19 | 2019-09-10 | Lam Research Corporation | Control of on-wafer CD uniformity with movable edge ring and gas injection adjustment |
| FR3064621B1 (fr) | 2017-04-03 | 2022-02-18 | Fluigent | Dispositif microfluidique |
| JP7068062B2 (ja) * | 2018-06-18 | 2022-05-16 | 株式会社堀場製作所 | 流体制御装置、及び、流量比率制御装置 |
| DE202019103892U1 (de) * | 2019-07-15 | 2020-10-16 | Neoperl Gmbh | Mengenreglereinheit und korrespondierende Verwendung |
| DE102019134613B3 (de) | 2019-12-16 | 2021-03-18 | Aventics Gmbh | Ventilanordnung und Verfahren zur Druckregelung eines Fluids |
| US20210373584A1 (en) * | 2020-05-27 | 2021-12-02 | William C. Patton, Jr. | Computer-controlled valve array |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55152901A (en) * | 1979-05-16 | 1980-11-28 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Hydraulic control circuit |
| JPS59167702A (ja) * | 1983-03-14 | 1984-09-21 | Komatsu Ltd | 流量制御回路 |
| JPH01213523A (ja) * | 1988-02-21 | 1989-08-28 | Res Dev Corp Of Japan | マイクロバルブ・マスフローコントローラ |
| JPH05109632A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-04-30 | Canon Inc | ガス流量制御装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2999482A (en) * | 1957-04-15 | 1961-09-12 | North American Aviation Inc | Digital fluid control system |
| US3038449A (en) * | 1959-06-03 | 1962-06-12 | Gen Dynamics Corp | Hydraulic control system |
| US3937248A (en) * | 1968-02-06 | 1976-02-10 | Process Systems, Inc. | Fluid flow control system employing a plurality of digital valve elements |
| US3746041A (en) * | 1971-02-02 | 1973-07-17 | Process Systems | Fluid flow control system |
| US3726296A (en) * | 1971-08-09 | 1973-04-10 | Process Systems | Fluidic control system and method for calibrating same |
| US4030523A (en) * | 1976-04-19 | 1977-06-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Digital flow control system |
| DE2751743C2 (de) * | 1977-11-19 | 1985-04-18 | Pierburg Luftfahrtgeräte Union GmbH, 4040 Neuss | Verfahren und Regeleinrichtung zum Zumessen strömender Medien |
| US4628961A (en) * | 1985-09-19 | 1986-12-16 | Lew Hyok S | Multiple orifice stepper control valve |
| US4821997A (en) * | 1986-09-24 | 1989-04-18 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Integrated, microminiature electric-to-fluidic valve and pressure/flow regulator |
| US4768544A (en) * | 1987-05-26 | 1988-09-06 | Beam Engineering, Inc. | Digital valve flow control system |
| US4858636A (en) * | 1988-05-11 | 1989-08-22 | Adkins Donald E | Preset microscopic flow valve apparatus and method |
-
1993
- 1993-07-30 US US08/100,596 patent/US5329965A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-06-22 CA CA002126496A patent/CA2126496C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-27 DE DE69422098T patent/DE69422098T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-27 EP EP94109891A patent/EP0636959B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-28 AU AU68795/94A patent/AU692773B2/en not_active Ceased
- 1994-07-28 JP JP17702594A patent/JP3556276B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55152901A (en) * | 1979-05-16 | 1980-11-28 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Hydraulic control circuit |
| JPS59167702A (ja) * | 1983-03-14 | 1984-09-21 | Komatsu Ltd | 流量制御回路 |
| JPH01213523A (ja) * | 1988-02-21 | 1989-08-28 | Res Dev Corp Of Japan | マイクロバルブ・マスフローコントローラ |
| JPH05109632A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-04-30 | Canon Inc | ガス流量制御装置 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000035822A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Horiba Ltd | 希釈用ガス流量制御装置 |
| JP2003053548A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-26 | Koike Sanso Kogyo Co Ltd | 流量調整装置及び加工装置 |
| JP2006268426A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Ebara Corp | 流量制御装置及び方法 |
| JP2009265859A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Ckd Corp | 流量制御装置 |
| JP2013525780A (ja) * | 2010-04-19 | 2013-06-20 | エルエヌアイ シュミドリン ソシエテ アノニム | ガス流希釈装置を較正するための方法及び装置 |
| US9229456B2 (en) | 2010-04-19 | 2016-01-05 | Lni Schmidlin Sa (Lni Schmidlin Ag) (Lni Schmidlin Ltd) | Method of and system for calibrating gas flow dilutors |
| JP2015506298A (ja) * | 2011-12-21 | 2015-03-02 | ヴアブコ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングＷＡＢＣＯ ＧｍｂＨ | 自動車の空気ばね設備及びその制御方法 |
| JP2017505912A (ja) * | 2014-02-12 | 2017-02-23 | アイデックス ヘルス アンド サイエンス エルエルシー | 多次元液体分析システムにおける体積フローの調整 |
| WO2024053250A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | 株式会社日本サーモエナー | ボイラシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0636959B1 (en) | 1999-12-15 |
| EP0636959A2 (en) | 1995-02-01 |
| EP0636959A3 (en) | 1995-04-12 |
| CA2126496A1 (en) | 1995-01-31 |
| US5329965A (en) | 1994-07-19 |
| AU6879594A (en) | 1995-02-09 |
| CA2126496C (en) | 2000-08-15 |
| AU692773B2 (en) | 1998-06-18 |
| JP3556276B2 (ja) | 2004-08-18 |
| DE69422098T2 (de) | 2000-04-27 |
| DE69422098D1 (de) | 2000-01-20 |
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Legal Events
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| A602 | Written permission of extension of time |
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|
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090521 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100521 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110521 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120521 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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