JPH0774517A - マイクロ波半導体装置 - Google Patents

マイクロ波半導体装置

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JPH0774517A
JPH0774517A JP21939793A JP21939793A JPH0774517A JP H0774517 A JPH0774517 A JP H0774517A JP 21939793 A JP21939793 A JP 21939793A JP 21939793 A JP21939793 A JP 21939793A JP H0774517 A JPH0774517 A JP H0774517A
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JP
Japan
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dielectric substrate
metal
semiconductor chip
microwave
input side
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JP21939793A
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English (en)
Inventor
Yutaka Ishihara
裕 石原
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 マイクロ波特性の優れたマイクロ波半導体装
置を提供することを目的とする。 【構成】 マイクロ波半導体チップ2の入力側あるいは
出力側の少なくとも一方の側に、第1の誘電体基板3を
配置する。また、第1の誘電体基板3の一部に低く形成
された段差部分を形成する。そして、第2の誘電体基板
10の両面に金属電極11、12を形成してキャパシタ
を構成し、第2の誘電体基板10を第1の誘電体基板3
の段差部分に配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波通信機器な
どに用いられるマイクロ波半導体装置、例えば電力増幅
用のマイクロ波半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のマイクロ波半導体装置について、
図2を参照して説明する。なお、図2(a)は上面図
で、同図(b)は(a)図のA−Aで断面した図であ
る。
【0003】21は金属プレートで、金属プレート21
のほぼ中央に、例えば電力増幅用電界効果トランジスタ
の半導体チップ22が2個、金系半田(図示せず)で固
着されている。そして、半導体チップ22の左側には入
力側誘電体基板23が、また右側には出力側誘電体基板
24が、それぞれ金系半田(図示せず)で金属プレート
21に固着される。
【0004】また、入力側誘電体基板23と半導体チッ
プ22の間に、チップキャパシタ25が金属プレート2
1上に配置される。なお、入力側誘電体基板23上には
金属線路26が形成され、分布定数回路を構成してい
る。また、半導体チップ22とチップキャパシタ25、
そして、チップキャパシタ25と金属線路26は、それ
ぞれ複数の金属細線28、29で接続されている。な
お、上記した金属線路26やチップキャパシタ25、金
属細線28、29は入力側インピーダンス整合回路を構
成している。
【0005】また、出力側誘電体基板24上には金属線
路30が形成され、分布定数回路を構成している。そし
て、半導体チップ22と金属線路30は、複数の金属細
線32で接続される。なお、半導体チップ22の出力側
に位置する金属線路30や金属細線32は、出力側イン
ピーダンス整合回路を構成している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記したマイクロ波半
導体装置では、入力側誘電体基板23やチップキャパシ
タ25、半導体チップ22は、それぞれ金系半田で金属
プレート21に固着される。したがって、入力側誘電体
基板23などを固着する場合に、例えば入力側誘電体基
板23とチップキャパシタ25の位置関係がずれ両者の
間隔が一様でなくなると、入力側誘電体基板23上の金
属線路26とチップキャパシタ25を接続する金属細線
29の長さが不均一になり回路特性にばらつきが発生す
る。
【0007】各金属細線29の長さが不均一になると、
それぞれの金属細線29が持つインダクタンスの値が相
違し、入力側インピーダンス整合回路などの特性のばら
つきになって現れる。
【0008】入力側インピーダンス整合回路の特性にば
らつきがあると、例えば、1つの金属プレート21上に
複数(図2の場合は2個)の半導体チップを配置し、各
半導体チップの出力を合成する際に、悪い影響を与えマ
イクロ波特性が劣化する。特に、8GHz以上のマイク
ロ波帯になると、特性の劣化が顕著になる。
【0009】本発明は、上記した欠点を解決し、マイク
ロ波特性の優れたマイクロ波半導体装置を提供すること
を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、金属プレート
上に配置されるマイクロ波半導体チップと、このマイク
ロ波半導体チップの入力側あるいは出力側の少なくとも
一方の側で、前記金属プレート上に配置される第1の誘
電体基板と、この第1の誘電体基板上に形成される金属
線路と、この金属線路と前記マイクロ波半導体チップと
の間に接続され、一方の電極が接地されるキャパシタと
を具備したマイクロ波半導体装置において、前記キャパ
シタを、金属電極が両面に形成された第2の誘電体基板
で構成し、この第2の誘電体基板を、前記第1の誘電体
基板の一部に低く形成された段差部分に配置している。
【0011】
【作用】上記の構成によれば、第1の誘電体基板の半導
体チップ側の一部に段差を設け、そして、その段差部分
に、チップキャパシタを構成する第2の誘電体基板を固
着している。このため、チップキャパシタと第1の誘電
体基板との位置関係を正確に設定でき、また、位置関係
のずれも防げる。したがって、第1の誘電体基板上に形
成された金属線路とキャパシタを接続する金属細線の長
さ、あるいは、キャパシタと半導体チップとを接続する
金属細線の長さを、それぞれ均一なものにでき特性が安
定化する。
【0012】また、金属細線の長さが均一にできるた
め、各半導体チップに対するインピーダンス整合回路の
回路特性を均一にできる。したがって、1つのマイクロ
波半導体装置を複数の半導体チップで構成し、各半導体
チップの出力を合成する際のマイクロ波特性が改善され
る。
【0013】
【実施例】本発明の一実施例について図1を参照して説
明する。
【0014】図1(a)は上面図で、同図(b)は
(a)図をA−Aで断面した図、そして同図(c)は
(a)図をB−Bで断面した図である。
【0015】1は金属プレートで、金属プレート1のほ
ぼ中央に、電界効果トランジスタなどの電力増幅用の半
導体チップ2が2個、金系半田(図示せず)で固着され
る。そして、半導体チップ2の入力側例えば左側には入
力側誘電体基板3が、また、出力側例えば右側には出力
側誘電体基板4が、それぞれ金属プレート1上に金系半
田(図示せず)で固着される。また、入力側誘電体基板
3や出力側誘電体基板4には、斜線で示した形状に金属
線路6、7が形成され、分布定数回路を構成している。
【0016】また、入力側誘電体基板3の半導体チップ
2側には、段差が形成され表面の一部が低くくなってい
る。そして、その段差部分を補うような形状の高誘電体
基板10が段差部分に固着される。高誘電体基板10
は、その表面に金属電極11が形成され、また、裏面は
全体に金属膜12が形成され、キャパシタを構成してい
る。また、高誘電体基板10裏面の金属膜12は、入力
側誘電体基板3の段差部分に設けられたスルーホール1
3によって金属プレート1と電気的に接続され接地され
る。
【0017】また、高誘電体基板10上の金属電極11
と半導体チップ2、金属電極11と金属線路6は、それ
ぞれ複数の金属細線14、15で接続される。なお、高
誘電体基板10で構成されたキャパシタや金属線路6、
そして、それらを接続する金属細線14、15は入力側
インピーダンス整合回路を形成している。
【0018】また、半導体チップ2と金属線路7は複数
の金属細線16で接続され、半導体チップ2の出力側に
接続される金属線路7や金属細線16は、出力側インピ
ーダンス整合回路を形成している。
【0019】ところで、高誘電体基板10は、入力側誘
電体基板3の段差部分の壁に例えば接するように配置さ
れる。したがって、入力側誘電体基板3と高誘電体基板
10は図の矢印A−B方向に精度よく配置できる。ま
た、入力側誘電体基板3と高誘電体基板10の幅(図1
aのl)を等しく形成し、両者が丁度重なるように幅方
向を一致させれば、図の矢印C−D方向も精度よく配置
できる。
【0020】このため、入力側誘電体基板3の高誘電体
基板10側の端面に沿って形成されている例えば金属線
路部分6aと高誘電体基板10上の金属電極11は、幅
方向に同一間隔になり、金属線路6と金属電極11を接
続する金属細線15は、その長さが均一になる。
【0021】なお、上記した実施例では、高誘電体基板
10裏面の金属膜12と金属プレート1の電気的接続
を、スルーホール13を通して行っている。しかし、段
差の形成で高さが低くなっている入力側誘電体基板3の
側面に導体膜(図示せず)を形成し、この導体膜を利用
して金属プレート1と接続してもよい。
【0022】また、入力側誘電体基板3に段差を形成す
る例で説明しているが、半導体チップの特性によっては
出力側誘電体基板4に段差を形成し、その部分にキャパ
シタなどを形成した誘電体基板を配置する構成にしても
よい。
【0023】上記した構成によれば、入力側誘電体基板
3の一部に段差を形成し、その段差部分に高誘電体基板
10を配置しているので、入力側誘電体基板3と高誘電
体基板10の位置関係の精度がよくなり、両者の表面に
形成される金属線路6や金属電極11の間隔が均一にな
る。このため、両者を接続する複数の金属細線15の長
さを均一にでき、インピーダンス整合回路の特性のばら
つきが少なくなる。この結果、マイクロ波半導体装置の
特性が向上し、また、回路特性も均一化する。したがっ
て、歩留まりも向上し、低価格にできる。
【0024】また、キャパシタを構成する高誘電体基板
10を、入力側誘電体基板3の段差部分に合わせて配置
しているので、位置決めの作業が容易になる。なお、入
力側誘電体基板3や高誘電体基板10に形成される金属
線路6と金属電極11を同じ高さにすれば、両者を結ぶ
金属細線15の長さを短くでき、また、長さの均一化も
図れる。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、半導体チップに対する
インピーダンス整合回路の特性のばらつきが小さいマイ
クロ波半導体装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す図である。
【図2】従来例を説明する図である。
【符号の説明】
1…金属プレート 2…半導体チップ 3…入力側誘電体基板 4…出力側誘電体基板 6、7…金属線路 10…高誘電体基板 11…金属電極 12…金属膜 13…スルーホール 14、15、16…金属細線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属プレート上に配置されるマイクロ波
    半導体チップと、このマイクロ波半導体チップの入力側
    あるいは出力側の少なくとも一方の側で、前記金属プレ
    ート上に配置される第1の誘電体基板と、この第1の誘
    電体基板上に形成される金属線路と、この金属線路と前
    記マイクロ波半導体チップとの間に接続され、一方の電
    極が接地されるキャパシタとを具備したマイクロ波半導
    体装置において、前記キャパシタを、金属電極が両面に
    形成された第2の誘電体基板で構成し、この第2の誘電
    体基板を、前記第1の誘電体基板の一部に低く形成され
    た段差部分に配置したことを特徴とするマイクロ波半導
    体装置。
JP21939793A 1993-09-03 1993-09-03 マイクロ波半導体装置 Pending JPH0774517A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014155974A1 (ja) * 2013-03-27 2014-10-02 パナソニック株式会社 半導体デバイス

Cited By (3)

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WO2014155974A1 (ja) * 2013-03-27 2014-10-02 パナソニック株式会社 半導体デバイス
JPWO2014155974A1 (ja) * 2013-03-27 2017-02-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 半導体デバイス
US9668338B2 (en) 2013-03-27 2017-05-30 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Semiconductor device

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