JPH0768254B2 - １，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル−１−フエニルジシラン製造法 - Google Patents
１，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル−１−フエニルジシラン製造法Info
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- JPH0768254B2 JPH0768254B2 JP62077319A JP7731987A JPH0768254B2 JP H0768254 B2 JPH0768254 B2 JP H0768254B2 JP 62077319 A JP62077319 A JP 62077319A JP 7731987 A JP7731987 A JP 7731987A JP H0768254 B2 JPH0768254 B2 JP H0768254B2
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- disilane
- dichloro
- phenyldisilane
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、式〔Ｉ〕 で示される1,2−ジクロロ−1,2,2−トリメチル−１−フ
ェニルジシラン（以下、ジシラン〔Ｉ〕と称する）の製
造法に関するものであり、更に詳しくは、クロロトリメ
チルジフェニルジシラン（以下、ジシラン〔II〕と称す
る）と塩化水素とを、ルイス酸触媒の存在下に反応させ
ることからなるジシラン〔Ｉ〕製造法に関する。
ェニルジシラン（以下、ジシラン〔Ｉ〕と称する）の製
造法に関するものであり、更に詳しくは、クロロトリメ
チルジフェニルジシラン（以下、ジシラン〔II〕と称す
る）と塩化水素とを、ルイス酸触媒の存在下に反応させ
ることからなるジシラン〔Ｉ〕製造法に関する。
（従来技術） ジシラン〔Ｉ〕製造法としては、本出願人が先に出願し
た、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリメチルジシラン
（以下、ジシラン〔III〕と称する）とフェニルリチウ
ムとを反応さる方法（特願昭61−32808号）、ジシラン
〔III〕とフェニルマグネシウムハライドとをコバルト
触媒の存在下に反応させる方法（特願昭61−32809号）
のように、ジシラン〔III〕の１−位のクロロ基１個の
みにフェニル基を選択的に導入する方法、1,1−ジクロ
ロ−1,2,2−トリメチル−２−フェニルジシランをルイ
ス酸の存在下に不均化させる方法、およびジシラン〔II
I〕と置換基として２個以上のフェニル基を有するジシ
ランとをルイス酸の存在下に反応させる方法が存する。
た、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリメチルジシラン
（以下、ジシラン〔III〕と称する）とフェニルリチウ
ムとを反応さる方法（特願昭61−32808号）、ジシラン
〔III〕とフェニルマグネシウムハライドとをコバルト
触媒の存在下に反応させる方法（特願昭61−32809号）
のように、ジシラン〔III〕の１−位のクロロ基１個の
みにフェニル基を選択的に導入する方法、1,1−ジクロ
ロ−1,2,2−トリメチル−２−フェニルジシランをルイ
ス酸の存在下に不均化させる方法、およびジシラン〔II
I〕と置換基として２個以上のフェニル基を有するジシ
ランとをルイス酸の存在下に反応させる方法が存する。
（発明が解決すべき問題点） ジシラン〔III〕へ１個のフェニル基を選択的に導入す
る方法は、本出願人が先に出願した特願昭61−32808号
および特願昭61−32809号に示すように、ジシラン〔II
I〕にフェニルリチウムまたはフェニルマグネシウムハ
ライドを反応させるが、これらフェニル化試薬がジシラ
ン〔III〕に対して過剰になると２個以上のフェニル基
が導入され、逐次反応生成物が副生する、あるいはジシ
ラン〔Ｉ〕の異性体である1,1−ジクロロ−1,2,2−トリ
メチル−２−フェニルジシランが副生するため、厳しい
反応条件の制御が要求される。
る方法は、本出願人が先に出願した特願昭61−32808号
および特願昭61−32809号に示すように、ジシラン〔II
I〕にフェニルリチウムまたはフェニルマグネシウムハ
ライドを反応させるが、これらフェニル化試薬がジシラ
ン〔III〕に対して過剰になると２個以上のフェニル基
が導入され、逐次反応生成物が副生する、あるいはジシ
ラン〔Ｉ〕の異性体である1,1−ジクロロ−1,2,2−トリ
メチル−２−フェニルジシランが副生するため、厳しい
反応条件の制御が要求される。
（問題を解決するための手段） 本発明者らは、ジシラン〔II〕を原料としてジシラン
〔Ｉ〕を選択的に製造する方法について検討を重ねた結
果、ジシラン〔II〕と塩化水素とをルイス酸触媒の存在
下に反応させることとにより所期の目的を達成すること
を見い出し、本発明を完成したものである。
〔Ｉ〕を選択的に製造する方法について検討を重ねた結
果、ジシラン〔II〕と塩化水素とをルイス酸触媒の存在
下に反応させることとにより所期の目的を達成すること
を見い出し、本発明を完成したものである。
本発明で用いるジシラン〔II〕は、メチルクロライドと
金属ケイ素とからジクロロジメチルシランを合成するさ
いに副生するジシラン留分より得られるジシラン〔II
I〕に、２倍モルのフエニルマグネシウムハライドを反
応させることで容易に得られるもので、１−クロロ−1,
2,2−トリメチル−1,2−ジフェニルジシラン、１−クロ
ロ−1,1,2−トリメチル−2,2−ジフェニルジシランおよ
びこれらの混合物が使用できる。
金属ケイ素とからジクロロジメチルシランを合成するさ
いに副生するジシラン留分より得られるジシラン〔II
I〕に、２倍モルのフエニルマグネシウムハライドを反
応させることで容易に得られるもので、１−クロロ−1,
2,2−トリメチル−1,2−ジフェニルジシラン、１−クロ
ロ−1,1,2−トリメチル−2,2−ジフェニルジシランおよ
びこれらの混合物が使用できる。
本発明の代表的な反応式を示すと のように１当量のジシラン〔II〕と１当量の塩化水素を
反応させることにより１当量のジシラン〔Ｉ〕を生成す
る。塩化水素の過剰量を用いると更に逐次反応が進行
し、トリクロロトリメチルジシランが副生するので、塩
化水素の過剰量の使用は好ましくない。
反応させることにより１当量のジシラン〔Ｉ〕を生成す
る。塩化水素の過剰量を用いると更に逐次反応が進行
し、トリクロロトリメチルジシランが副生するので、塩
化水素の過剰量の使用は好ましくない。
本発明において触媒として用いるルイス酸としては、非
プロトン性ルイス酸である塩化アルミニウム（AlC
l3）、リチウムクロロアルミネート（LiAlCl4）、三塩
化ホウ素（BCl3）、ナトリウムクロロボレート（NaBC
l4）、三塩化ガリウム（GaCl3）、塩化第二鉄（FeC
l3）、塩化第二スズ（SuCl4）、塩化亜鉛（ZnCl2）、な
どのほか、酸化アルミニウム（Al2O3）、酸化第二鉄（F
e2O3）、酸化亜鉛（ZnO）、酸化ニッケル（NiO）、酸化
コバルト（CoO）、酸化マグネシウム（MgO）、酸化銅
（CuO）、酸化ケイ素（SiO2）などの金属酸化物が例示
されるが、特に塩化アルミニウム、リチウムクロロアル
ミネート、酸化アルミニウムが好適である。
プロトン性ルイス酸である塩化アルミニウム（AlC
l3）、リチウムクロロアルミネート（LiAlCl4）、三塩
化ホウ素（BCl3）、ナトリウムクロロボレート（NaBC
l4）、三塩化ガリウム（GaCl3）、塩化第二鉄（FeC
l3）、塩化第二スズ（SuCl4）、塩化亜鉛（ZnCl2）、な
どのほか、酸化アルミニウム（Al2O3）、酸化第二鉄（F
e2O3）、酸化亜鉛（ZnO）、酸化ニッケル（NiO）、酸化
コバルト（CoO）、酸化マグネシウム（MgO）、酸化銅
（CuO）、酸化ケイ素（SiO2）などの金属酸化物が例示
されるが、特に塩化アルミニウム、リチウムクロロアル
ミネート、酸化アルミニウムが好適である。
本発明のジシラン〔Ｉ〕の製造法は、ジシラン〔II〕と
塩化水素を、ジシラン〔II〕に対して１〜50モル％、好
ましくは５〜30モル％のルイス酸とともに非プロトン性
溶媒たとえばヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、エチル
エーテル、ブチルエーテル、クロロホルム、四塩化炭
素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタンなどの溶媒
中、あるいは溶媒を用いることなく反応させる。
塩化水素を、ジシラン〔II〕に対して１〜50モル％、好
ましくは５〜30モル％のルイス酸とともに非プロトン性
溶媒たとえばヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、エチル
エーテル、ブチルエーテル、クロロホルム、四塩化炭
素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタンなどの溶媒
中、あるいは溶媒を用いることなく反応させる。
反応温度は０〜200℃特に０〜120℃が好適であり、通常
は塩化水素の導入速度にもよるが、１〜５時間で反応は
完結する。反応終了後は常法の精製法により精製して高
純度のジシラン〔Ｉ〕を得る。
は塩化水素の導入速度にもよるが、１〜５時間で反応は
完結する。反応終了後は常法の精製法により精製して高
純度のジシラン〔Ｉ〕を得る。
（効果） 本発明は、ジシラン〔II〕と塩化水素とをルイス酸触媒
の存在下に反応させることにより、電気伝導体、フォト
レジスト、光情報記憶材料等としての機能を有するポリ
シランの中間体として有用な化合物であるジシラン
〔Ｉ〕を得るものである。また原料であるジシラン〔II
I〕は、メチルクロライドと金属ケイ素とからジクロロ
ジメチルシランを合成するさいに10〜20％副生するジシ
ラン留分より得られるもので、現在このジシラン留分は
未利用のまま貯蔵または廃棄されており、本発明はかか
る未利用資源の有効利用をもはかるものである。
の存在下に反応させることにより、電気伝導体、フォト
レジスト、光情報記憶材料等としての機能を有するポリ
シランの中間体として有用な化合物であるジシラン
〔Ｉ〕を得るものである。また原料であるジシラン〔II
I〕は、メチルクロライドと金属ケイ素とからジクロロ
ジメチルシランを合成するさいに10〜20％副生するジシ
ラン留分より得られるもので、現在このジシラン留分は
未利用のまま貯蔵または廃棄されており、本発明はかか
る未利用資源の有効利用をもはかるものである。
（実施例） 以下、実施例により説明する。
実施例１ 冷却管、温度計、撹拌機およびガス導入管を備えた300m
l四つ口フラスコに１−クロロ−1,2,2トリメチル−1,2
−ジフェニルジシラン11.6g（40ミリモル）、トルエン1
00mlおよび無水塩化アルミニウム0.53g（４ミリモル）
を仕込み、30〜35℃で乾燥塩化水素ガス1.5g（41ミリモ
ル）を２時間を要して徐々に導入し反応させた。終了後
アセトン0.3mlを加えて無水塩化アルミニウムを失活さ
せたのち、溶媒を留去し、引続き減圧蒸留により89〜90
℃/3.0mmHgの留分を単離して、1.2−ジクロロ−1,2,2−
トリメチル−１−フェニルジシラン8.0gを得た。収率80
％。
l四つ口フラスコに１−クロロ−1,2,2トリメチル−1,2
−ジフェニルジシラン11.6g（40ミリモル）、トルエン1
00mlおよび無水塩化アルミニウム0.53g（４ミリモル）
を仕込み、30〜35℃で乾燥塩化水素ガス1.5g（41ミリモ
ル）を２時間を要して徐々に導入し反応させた。終了後
アセトン0.3mlを加えて無水塩化アルミニウムを失活さ
せたのち、溶媒を留去し、引続き減圧蒸留により89〜90
℃/3.0mmHgの留分を単離して、1.2−ジクロロ−1,2,2−
トリメチル−１−フェニルジシラン8.0gを得た。収率80
％。
沸 点 89〜90℃/3.0mmHg マススペクトル（GC−MS、EI 70eV） 248（M+,4％）、155（55％）、135（100％）、120（32
％）、105（25％）、91（17％）、63（27％） プロトンNMRスペクトル（60MHz、CCl4）：δppm a:7.1〜7.7（m,5H） b:0.8（s,3H） 0.6（s,3H） 0.5（s,3H） 赤外吸収スペクトル（NaCl）:cm-1 3050,2950,1420,1400,1250,1110 なお、反応生成物の同定のため、反応生成物の少量をリ
チウムアルミニウムハライドで還元し、還元生成物の1H
−NMRスペクトル（C6D6）を測定した結果、下記のよう
にａの水素は確認されたが、ｂの水素は確認されなかっ
た。
％）、105（25％）、91（17％）、63（27％） プロトンNMRスペクトル（60MHz、CCl4）：δppm a:7.1〜7.7（m,5H） b:0.8（s,3H） 0.6（s,3H） 0.5（s,3H） 赤外吸収スペクトル（NaCl）:cm-1 3050,2950,1420,1400,1250,1110 なお、反応生成物の同定のため、反応生成物の少量をリ
チウムアルミニウムハライドで還元し、還元生成物の1H
−NMRスペクトル（C6D6）を測定した結果、下記のよう
にａの水素は確認されたが、ｂの水素は確認されなかっ
た。
a:δppm＝3.6〜4.4（ｍ） b:検出されず 従って、この反応で得られた1,2−ジクロロ−1,2,2−ト
リメチル−１−フェニルジシランであることを確認し
た。
リメチル−１−フェニルジシランであることを確認し
た。
実施例２ 冷却管、温度計、撹拌機およびガス導入管を備えた１
四つ口フラスコに１−クロロ−1,2,2−トリメチル−1,2
−ジフェニルジシランと１−クロロ−1,1,2−トリメチ
ル−2,2−ジフェニルジシランの混合物（95:5）266g
（0.91モル）、クロロホルム600mlおよび、無水塩化ア
ルミニウム6.7g（0.05モル）を仕込み、25〜30℃で乾燥
塩化水素ガスを徐々に導入し反応した。ガスクロ分析に
より反応を追跡し、原料のジシランが消失したところで
塩化水素の導入を止め反応を終了させた。塩化水素の導
入時間は５時間を要し、導入量は34g（0.93モル）であ
った。終了後実施例１と同様の後処理を行い。蒸留によ
り単離することにより1,2−ジクロロ−1,2,2−トリメチ
ル−１−フェニルジシラン197gを得た。収率86％ 沸 点 89〜90℃/3.0mmHg マススペクトル（GC−MS、EI 70eV） 248（M+,4％）、155（55％）、135（100％）120（32
％）、105（25％）、91（17％）、63（27％） プロトンNMRスペクトル（60MHz、CCl4）：δppm a:7.1〜7.7（m,5H） b:0.8（s,3H） 0.6（s,3H） 0.5（s,3H） 赤外吸収スペクトル（NaCl）:cm-1 3050,2950,1420,1400,1250,1110
四つ口フラスコに１−クロロ−1,2,2−トリメチル−1,2
−ジフェニルジシランと１−クロロ−1,1,2−トリメチ
ル−2,2−ジフェニルジシランの混合物（95:5）266g
（0.91モル）、クロロホルム600mlおよび、無水塩化ア
ルミニウム6.7g（0.05モル）を仕込み、25〜30℃で乾燥
塩化水素ガスを徐々に導入し反応した。ガスクロ分析に
より反応を追跡し、原料のジシランが消失したところで
塩化水素の導入を止め反応を終了させた。塩化水素の導
入時間は５時間を要し、導入量は34g（0.93モル）であ
った。終了後実施例１と同様の後処理を行い。蒸留によ
り単離することにより1,2−ジクロロ−1,2,2−トリメチ
ル−１−フェニルジシラン197gを得た。収率86％ 沸 点 89〜90℃/3.0mmHg マススペクトル（GC−MS、EI 70eV） 248（M+,4％）、155（55％）、135（100％）120（32
％）、105（25％）、91（17％）、63（27％） プロトンNMRスペクトル（60MHz、CCl4）：δppm a:7.1〜7.7（m,5H） b:0.8（s,3H） 0.6（s,3H） 0.5（s,3H） 赤外吸収スペクトル（NaCl）:cm-1 3050,2950,1420,1400,1250,1110
Claims (5)
- 【請求項１】クロロトリメチルジフェニルジシランと、
塩化水素とを、ルイス酸触媒の存在下に反応させること
を特徴とする1,2−ジクロロ−1,2,2−トリメチル−１−
フェニルジシランの製造法。 - 【請求項２】クロロトリメチルジフェニルジシラン１当
量に対し、塩化水素１当量を反応させるものである特許
請求の範囲第１項記載の1,2−ジクロロ−1,2,2−トリメ
チル−１−フェニルジシランの製造法。 - 【請求項３】クロロトリメチルジフェニルジシランが１
−クロロ−1,2,2−トリメチル−1,2−ジフェニルジシラ
ンである特許請求の範囲第１項または第２項記載の1,2
−ジクロロ−1,2,2−トリメチル−１−フェニルジシラ
ンの製造法。 - 【請求項４】クロロトリメチルジフェニルジシランが１
−クロロ−1,2,2−トリメチル−2,2−ジフェニルジシラ
ンである特許請求の範囲第１項または第２項記載の1,2
−ジクロロ−1,2,2−トリメチル−１−フェニルジシラ
ンの製造法。 - 【請求項５】クロロトリメチルジフェニルジシランが１
−クロロ−1,2,2−トリメチル−1,2−ジフェニルジシラ
ンと１−クロロ−1,2,2−トリメチル−2,2−ジフェニル
ジシランの混合物である特許請求の範囲第１項または第
２項記載の1,2−ジクロロ−1,2,2−トリメチル−１−フ
ェニルジシランの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62077319A JPH0768254B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | １，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル−１−フエニルジシラン製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62077319A JPH0768254B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | １，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル−１−フエニルジシラン製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63243090A JPS63243090A (ja) | 1988-10-07 |
| JPH0768254B2 true JPH0768254B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=13630615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62077319A Expired - Lifetime JPH0768254B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | １，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル−１−フエニルジシラン製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0768254B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4855471A (en) * | 1988-01-20 | 1989-08-08 | Dow Corning Corporation | Process for the chlorodephenylation of phenyldisilanes |
-
1987
- 1987-03-30 JP JP62077319A patent/JPH0768254B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63243090A (ja) | 1988-10-07 |
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|---|---|---|---|
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