JPH0764284A - 溶剤、溶液型キノンジアジド系感光剤、フォトレジスト組成物および洗浄液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】（１）フッ素原子を含む、アルコール類、エス
テル類、エーテル類およびフェノール類から選ばれる少
なくとも一種を主成分とすることを特徴とするキノンジ
アジド系化合物の溶剤。 （２）（１）記載の溶剤にキノンジアジド系化合物を溶
解してなる溶液型キノンジアジド系感光剤。 （３）アルカリ可溶性樹脂、感光剤であるキノンジアジ
ド系化合物および（１）記載の溶剤を含有することを特
徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 （４）（１）記載の溶剤を主成分とする、キノンジアジ
ド系化合物を含有するレジスト液通液ラインの洗浄液。 【効果】（１）キノンジアジド系感光剤の良溶媒であ
り、感光剤を溶液化し得ることで感光剤の安定性・安全
性を高め、工程の管理・制御を容易にする。 （２）従来問題となっていたポジ型レジストの微小異物
の析出を抑制し得る。 （３）感光剤としてキノンジアジド系化合物を用いる各
種装置や設備、例えばスピンコータライン等の洗浄液と
して用いることにより、迅速で信頼性の高い洗浄を行う
ことが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は溶剤およびその用途に関
する。特に、ポジ型フォトレジスト用の特定の化合物を
よく溶かすことのできる溶剤、それを用いた溶液型感光
剤、フォトレジスト組成物および洗浄液に関する。

【０００２】

【従来の技術】集積回路はフォトリソグラフィープロセ
スによって製造される。このプロセスにおいて本質的に
重要な材料の一つはレジスト組成物である。近年、集積
回路の集積度が飛躍的に高まり、それにともなって用い
られるレジスト組成物にも極めて高い性能が要求される
ようになってきた。

【０００３】レジストにはポジ型とネガ型があるが、集
積度を高めるための容易さから、最近はポジ型レジスト
が主流になっている。ポジ型レジスト組成物は、通常ノ
ボラックのようなアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド
系の感光剤、さまざまな機能付与のための微量の添加
物、およびこれらを溶かす溶剤よりなっている。

【０００４】ポジ型レジスト組成物は、例えばスピンコ
ーティング法によりウェハー基板上に塗布され、フォト
リソグラフィー技術によりパターン形成される。１メガ
ビットＤＲＡＭ（ダイナミックランダムアクセスメモリ
ー）のパターンの線幅は１μｍ、１６メガビットの場合
は０．８μｍ程度とされ、したがって高性能レジスト組
成物に対する要求性能の一つはこれらのサイズ以上の微
小異物の徹底管理にある。

【０００５】ところで、従来のレジスト組成物では、調
製時に精密濾過により微小異物を除いておいたにもかか
わらず、保存中や取扱中にレジスト中より異物が発生
し、集積回路の生産の歩留りを大幅に低下させたり、レ
ジストの品質管理に支障をきたす、などの問題がしばし
ば起こることが知られている。

【０００６】この原因は感光剤の析出のためである。キ
ノンジアジド基を含む感光剤、特に結晶性感光剤を溶解
し得る溶媒は、きわめて限定されたものであり、またそ
の溶解度も一般に低い。ポジ型レジスト組成物の溶剤と
して従来用いられているものは、エチレングリコールメ
チルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエ
ーテルアセテート、乳酸エチル、２−ヘプタノン、プロ
ピレングリコールメチルエーテルアセテート等がある
が、結晶性感光剤のこれらの溶剤への溶解度はせいぜい
数％以下である。

【０００７】レジスト組成物としては、この程度の溶解
度では必ずしも十分ではないので、実際上は感光剤を非
晶質化するなど、できるだけ溶解性を高める工夫が採用
されている。このように、溶剤の溶解度が十分でないた
めに、レジスト組成物中で感光剤は実質的に過飽和状態
になっており、容易に結晶化して異物となって析出する
わけである。

【０００８】このようにレジスト組成物の異物発生は、
キノンジアジド系感光剤、特に結晶性感光剤の溶剤に対
する溶解性が十分でないために生ずるのであるが、感光
剤に対する良溶剤が見出されていないことに起因する問
題はこればかりでない。問題点のその２は、感光剤の保
存とその取扱に関するものである。キノンジアジド系感
光剤は当然アジド基を含有するわけであるが、よく知ら
れているようにアジド系化合物は極めて不安定であり、
固体のままでは場合によっては、加熱やショック等によ
り爆発に至る危険性さえ内包する。したがって固体状態
のままの保存とか取扱をできれば避けて、感光剤を溶液
化することにより安定化したいところであるが、従来の
技術では良溶媒が見出されていなかったために、このよ
うなプロセスを採用することができなかった。

【０００９】感光剤が溶液化された場合のメリットは、
安定化ばかりではない。レジスト組成物を生産するに際
して、粉体よりも溶液の方がはるかに取扱が容易であ
り、したがって製造上のエンジニアリングにおいても、
製品の生産性においても感光剤を溶液化することが好ま
しい。

【００１０】問題点のその３は、リソグラフィープロセ
スにおけるラインの洗浄に関するものである。例えば、
レジストを使用するスピンコータラインの洗浄におい
て、感光剤、特に結晶性感光剤が残留しない完全なライ
ン洗浄を簡便に実施するには、結晶性の感光剤にも十分
な溶解度および溶解速度を有する溶解力の高い洗浄剤を
使用することが望ましいが、いままでこの目的を充足す
る十分な溶解力を持つ洗浄剤は知られていなかった。レ
ジストを使用するスピンコータラインが完全に洗浄され
ず、結晶化した感光剤等が残留すると、その後スピンコ
ータラインを通過するレジストで異物増加の可能性があ
り、ラインの完全な洗浄が簡便に実施し得る溶解力の高
い洗浄剤が望まれてきた。また、該感光剤を製造する装
置やレジスト液調製装置の洗浄を簡便に実施し得る洗浄
剤も同様に求められていた。

【００１１】このように、キノンジアジド系感光剤に対
する良好な溶剤が見出されていないため、フォトリソグ
ラフィープロセスにおいていくつかの問題が生ずる。感
光剤の析出に基づく異物の発生を抑制しようとする手法
については、例えば、特開昭６１−２６０２３９号公
報、特開平２−６３０５２号公報、特開平２−１３２４
４２号公報、特開平２−２４７６５３号公報、特開平３
−２００９６６号公報に記載されているが、上記した諸
問題を同時に解決する技術は従来知られていなかった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
した従来技術のいくつかの問題、すなわち、つぎに記す
問題を解決することにある。 （イ）レジスト組成物を保存もしくは取扱中に感光剤に
基づく異物が発生すること、（ロ）感光剤は固体状態で
は不安定であり、保存中もしくは取扱中に変質したり爆
発したりするおそれがあること、（ハ）固体状態の感光
剤は、製造工学上取扱が不便であること、（ニ）スピン
コータライン等感光剤を使用するラインや装置に残留す
る感光剤を効率よく洗浄する洗浄剤が知られていないこ
と、

【００１３】これらの問題の根本原因は、ひとえに感光
剤であるキノンジアジド系化合物を良く溶かす良溶媒が
見出されていないことであり、したがって本発明の第１
の目的は、キノンジアジド系化合物の良溶媒を見出すこ
とにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、つぎの発明か
らなる。 （１）フッ素原子を含む、アルコール類、エステル類、
エーテル類およびフェノール類から選ばれる少なくとも
一種を主成分とすることを特徴とするキノンジアジド系
化合物の溶剤。 （２）（１）記載の溶剤にキノンジアジド系化合物を溶
解してなる溶液型キノンジアジド系感光剤。 （３）アルカリ可溶性樹脂、感光剤であるキノンジアジ
ド系化合物および（１）記載の溶剤を含有することを特
徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 （４）（１）記載の溶剤を主成分とする、キノンジアジ
ド系化合物を含有するレジスト液通液ラインの洗浄液。

【００１５】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明者らは、後述する評価装置を用いてさまざまな溶媒
に対するキノンジアジド系化合物の溶解度テストを行っ
た結果、特定のフッ素系の溶媒が該化合物を特異的によ
く溶かすことを見出し本発明に到った。

【００１６】フッ素原子を含むアルコール類としては、
フッ素原子を有する、室温で液状の脂肪族飽和アルコー
ル類、脂肪族不飽和アルコール類、脂環式アルコール
類、芳香族アルコール類および複素環式アルコール類を
例示することができる。具体的には、例えばトリフルオ
ロエタノール、ヘキサフルオロプロパノール、ヘキサフ
ルオロイソプロパノール、ヘプタフルオロペンタノー
ル、トリフルオロメチルベンジルアルコール等を挙げる
ことができる。

【００１７】フッ素原子を含むエステル類としては、上
記のアルコール類を有機酸、例えばギ酸、酢酸、安息香
酸、フタル酸等のカルボン酸によってエステル化したも
のを挙げることができる。カルボン酸としてはトリフル
オロ酢酸のようなフッ素を含有するカルボン酸を用いる
こともできる。

【００１８】フッ素原子を含むエーテル類としては、フ
ッ素原子を有する、室温で液状の脂肪族飽和エーテル
類、脂肪族不飽和エーテル類および芳香族エーテル類を
例示することができる。具体的には、例えばパーフルオ
ロプロピルビニルエーテル、トリフルオロメトキシベン
ゼン等を挙げることができる。

【００１９】また、フッ素原子を含むフェノール類とし
ては、フッ素原子を有する、室温で液状の一価フェノー
ル類、二価フェノール類および三価フェノール類を例示
することができる。具体的には、例えばペンタフルオロ
フェノール、ヘキサフルオロフェノール、トリフルオロ
メチルフェノール等を挙げることができる。

【００２０】上記した各種の化合物をフォトレジスト組
成物の溶剤またはキノンジアジド系感光剤の溶剤として
用いることは、従来知られていない。これらが何故キノ
ンジアジド系化合物を特異的によく溶かすかについて
は、多分その極性が関係しているだろうと思われるが、
現時点では明らかではない。

【００２１】実際に用いる溶剤としては、上記した化合
物を単独で用いてもよいが、また、目的や必要に応じ
て、二種以上の化合物を混合して用いてもよい。さらに
は、目的とする効果を損なわない限り、他の一般的な溶
剤、例えば、２−ヘプタノン、乳酸エチル、エチレング
リコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート等と混合して用いること
もできる。

【００２２】感光剤として対象となるキノンジアジド系
化合物は、特に限定されないが、例えばｏ−ベンゾキノ
ンジアジド、ｏ−ナフトキノンジアジド、ｏ−アントラ
キノンジアジド等のスルホニルクロライド誘導体と水酸
基またはアミノ基を有する化合物との反応生成物、すな
わちスルホン酸エステル類およびスルホンアミド類を挙
げることができる。

【００２３】ここで、水酸基を有する化合物としては、
ハイドロキノン、フルオログルシン、２，４−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベン
ゾフェノン、２，２’，３−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’，５−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，３’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，
４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４−
トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，５−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、２，４’，５−トリヒドロキシベン
ゾフェノン、２’，３，４−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、３，３’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、
３，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン等のトリ
ヒドロキシベンゾフェノン類、２，３，３’，４−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テ
トラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４−テ
トラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４’−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，５，５’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４’，
５−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，５，
５’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等のテトラヒド
ロキシベンゾフェノン類、２，２’，３，４，４’−ペ
ンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，
５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，
３，３’，４−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，３’，４，５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン
等のペンタヒドロキシベンゾフェノン類、２，３，
３’，４，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，３，３’，４，５’−ヘキサヒドロキシ
ベンゾフェノン等のヘキサヒドロキシベンゾフェノン
類、没食子酸アルキルエステル、特開平２−８４６５０
号公報に一般式（Ｉ）で記載されているオキシフラバン
類、特開平２−２６９３５１号公報に一般式（Ｉ）で記
載されているフェノール化合物、特開平３−１８５４４
７号公報に一般式（Ｉ）で記載されているフェノール化
合物が挙げられる。

【００２４】なかでも、２，３，４，４’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシベンゾフェ
ノン類の１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸エステルが好ましい。上記のキノンジアジド系感光剤
は単独で、または２種以上混合して用いることができ
る。

【００２５】これらのキノンジアジド系感光剤を、前記
した、フッ素原子を含む、アルコール類、エステル類、
エーテル類およびフェノール類から選ばれる少なくとも
一種を主成分とすることを特徴とする溶剤に溶解させ
て、溶液型のキノンジアジド系感光剤として用いること
ができる。組み合わせは特に限定されないが、好ましい
ものとして、例えば、２，３，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシベンゾフェノ
ン類の１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸
エステルであるキノンジアジド系感光剤を、ヘキサフル
オロイソプロパノール、ペンタフルオロフェノール等の
フッ素原子を含むアルコール類、フェノール類に溶解し
て用いることができる。

【００２６】アルカリ可溶性樹脂、感光剤であるキノン
ジアジド系化合物および前記した本発明の溶剤を含有す
ることを特徴とする本発明のポジ型フォトレジスト組成
物においてアルカリ可溶性樹脂は特に限定されないが、
例えば、ポリビニルフェノール、ノボラック樹脂が挙げ
られる。ノボラック樹脂としては、フェノール、ｏ−ク
レゾール、ｐ−クレゾール、ｍ−クレゾール、２，５−
キシレノール、３，５−キシレノール、３，４−キシレ
ノール、２，３，５−トリメチルフェノール、４−ｔ−
ブチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノール、３−ｔ
−ブチルフェノール、３−エチルフェノール、２−エチ
ルフェノール、４−エチルフェノール、３−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール、４−メチル−２−ｔ−ブチル
フェノール、２−ナフトール、１，３−ジヒドロキシナ
フタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，７−
ジヒドロキシナフタレン等のフェノール類を単独で、ま
たは２種以上組み合わせて、アルデヒド類と常法により
縮合させた樹脂が挙げられる。

【００２７】当該ノボラック樹脂に用いるアルデヒド類
としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ベンズアルデ
ヒド、フェニルアルデヒド、α−フェニルプロピルアル
デヒド、β−フェニルプロピルアルデヒド、ｏ−ヒドロ
キシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、グルタルアルデ
ヒド、グリオキサール、ｏ−メチルベンズアルデヒド、
ｐ−メチルベンズアルデヒド等を挙げることができる。
なかでも、特にホルムアルデヒドが好ましい。これらの
アルデヒド類は単独で、または２種以上混合して使用す
ることができる。

【００２８】本発明のポジ型フォトレジスト組成物中に
おけるアルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系感光剤と
の配合の割合は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対
して、通常、キノンジアジド系感光剤５〜１００重量
部、より好ましくは１０〜５０重量部である。またポジ
型フォトレジスト組成物中における溶剤の配合量は、ウ
エハー上に均質で、ピンホールおよび塗りむらの無い塗
布膜ができるような塗布が可能であれば特に制限されな
いが、通常、固形分（すなわち、キノンジアジド系感光
剤、アルカリ可溶性樹脂等）が３〜５０重量％になるよ
うにポジ型レジスト液を調製する。

【００２９】本発明の前記した溶剤は、キノンジアジド
系化合物の洗浄液としても有用である。すなわち、リソ
グラフィープロセスにおけるスピンコータラインの洗浄
やキノンジアジド系感光剤を製造する装置やレジスト液
調製装置の洗浄を簡便に実施し得る洗浄液として用いる
ことができる。

【００３０】

【実施例】以下、本発明を実施例により詳しく説明する
が、本発明はこれらにより何らの制限を受けるものでは
ない。

【００３１】実施例１ 感光剤として、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホニルクロライドとの縮合反応物（反応モル比１：
２．５）を準備した。このものは結晶性粉末で、その中
心粒径は１１μｍであった。この感光剤をスライドグラ
スの上に乗せ、室温で、粉末に対して約２０倍量の溶剤
を滴下して、偏光顕微鏡（フォトマイクロスコープＩＩ
Ｉ、Ｚｅｉｓｓ社）で観察して溶解度の検定を行った。
未溶解の感光剤は複屈折のため輝いて見えるが、溶解
すれば複屈折性がなくなり暗黒になる。溶剤としてヘキ
サフルオロイソプロパノールを滴下したところ、ただち
に溶解が始まり数秒後には完全に溶解が終了した。この
感光剤のヘキサフルオロイソプロパノールの溶解度を別
途目視で調べたところ、１６．５重量％であった。

【００３２】比較例１ ヘキサフルオロイソプロパノールの代わりに、エチレン
グリコールエチルエーテルアセテートを使用する以外は
実施例１と同様にして溶解度の検定を行った。検体を静
置したまま室温で２０分観察を続けたが、ほとんど溶解
が認められなかった。

【００３３】実施例２ ヘキサフルオロイソプロパノールの代わりに、ペンタフ
ルオロフェノールを使用する以外は実施例１と同様にし
て溶解度の検定を行った。温度７２℃での感光剤の溶解
挙動を観察したところ、１８秒で溶解が完了した。

【００３４】実施例３ ヘキサフルオロイソプロパノールの代わりに、ヘキサフ
ルオロイソプロパノールとエチレングリコールエチルエ
ーテルアセテートの混合物（重量比 ６０：４０）を使
用する以外は実施例１と同様にして溶解度の検定を室温
で行った。感光剤は溶剤の滴下後急速に溶け始め、３６
秒後には未溶解の感光剤は認められなくなった。

【００３５】実施例４ ヘキサフルオロイソプロパノール８１０重量部とエチレ
ングリコールエチルエーテルアセテート５４０重量部と
の混合溶媒（重量比６０：４０）にクレゾールノボラッ
ク樹脂（ポリスチレン換算重量平均分子量７２００の樹
脂）４５０重量部および実施例１記載の感光剤１２０重
量部とを加え、攪拌混合し均一溶液とした。得られた混
合液を孔径０．１ミクロンのテフロン製フィルターで濾
過してポジ型フォトレジスト組成物を調製後、２３℃で
３０日保存した。該組成物の保存安定性を調製直後およ
び３０日保存後の０．２５ミクロン以上の粒子数を測定
することにより評価した。測定はリオン（株）社製の自
動微粒子計測器（ＫＬ−２０型）を用いて行った。その
結果、調製直後の２０個／ｍｌに対して、３０日保存後
は２３個／ｍｌと、粒子数の増加は殆ど認められず保存
安定性に優れていることが分かった。

【００３６】実施例５ 実施例１記載の感光剤１２０重量部をヘキサフルオロイ
ソプロパノール８１０重量部に溶解し感光剤を溶液化し
た。（１２．９重量％） 該感光剤溶液は室温で２５日保存後も感光剤の析出はな
く、保存安定性に優れていた。感光剤溶液９３０重量部
にエチレングリコールエチルエーテルアセテート５４０
重量部および実施例４記載のノボラック樹脂４５０重量
部を加え攪拌混合し均一溶液とした。実施例４記載の方
法でポジ型フォトレジスト組成物を調製後、２３℃で３
０日保存した。実施例４記載と同様の方法により、該組
成物の保存安定性を評価したところ、調製直後の２７個
／ｍｌに対して、３０日保存後は３２個／ｍｌと、粒子
数の増加は殆ど認められず保存安定性に優れていること
が分かった。

【００３７】比較例２ エチレングリコールエチルエーテルアセテート１３５０
重量部に実施例４記載のクレゾールノボラック樹脂４５
０重量部および実施例１記載の感光剤１２０重量部とを
加え、攪拌混合し均一溶液とした。得られた混合液を実
施例４記載の方法によりポジ型フォトレジスト組成物と
した。図１に示すスピンコーターライン配管を模擬スピ
ンコータとして使用した。ポンプはイワキ製作所製のベ
ローズ型ポンプＳＢ−２ＳＨ−Ｍ〔３〕を、フィルター
ハウジング部は日本ミリポア（株）社製のウエハガード
ＭＰ−１６〔４〕を、フィルターユニットは日本ミリポ
ア（株）社製のウエハガードＦ−１６（孔径０．２ミク
ロン）を、エアーオペレーションバルブは高砂製作所
（株）社製のＰＤＴ−ＳＣ１ＭＴ〔５〕を各々使用し
た。また、これらの部品を接続するラインおよび吐出用
ノズルはテフロン製チューブ〔２〕を使用した。

【００３８】フィルターハウジング部に上記フィルター
を装着した後、前記のポジ型フォトレジスト組成物３０
０ｍｌをポンプで送液してフィルターハウジング部を該
レジスト組成物液で満たしフィルターを通過させて濾過
した。ポンプを稼働させながら、スピンコーターライン
配管の先端部の吐出用ノズルまで該レジスト組成物液で
満たした。ついで、フィルターハウジング部を解体して
フィルターを取り外し、フィルターハウジングカップを
エチレングリコールエチルエーテルアセテートで充分洗
浄後、フィルターを装着せずに、フィルターハウジング
部をスピンコーターライン配管に装着した。ついでスピ
ンコーターライン洗浄のために、ポンプによりエチレン
グリコールエチルエーテルアセテートを通液させ、２５
０ｍｌ毎に分別サンプリングした廃液を４００ｎｍにお
ける吸光度分析に供した。廃液中の感光剤濃度が０．０
１ｐｐｍ以下になるまでに、合計４２５０ｍｌのエチレ
ングリコールエチルエーテルアセテートを要した。

【００３９】実施例６ スピンコーターライン洗浄のために、エチレングリコー
ルエチルエーテルアセテートの代わりに、ヘキサフルオ
ロイソプロパノールを通液させる以外は比較例２と同様
の操作を行った。廃液中の感光剤濃度が０．０１ｐｐｍ
以下になるまでに、合計１２００ｍｌのヘキサフルオロ
イソプロパノールを要した。

【００４０】

【発明の効果】本発明の提供する溶剤はキノンジアジド
系感光剤の良溶媒であり、感光剤を溶液化し得ることで
感光剤の安定性・安全性を高め、工程の管理・制御を容
易にする。アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド系感光
剤および該溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物
は、従来問題となっていたポジ型レジストの微小異物の
析出を抑制し得る。また、該溶剤をキノンジアジド系感
光剤を用いる各種装置や設備、例えばスピンコータライ
ン等の洗浄液として用いることにより、従来の洗浄液に
比べて少量で、迅速で信頼性の高い洗浄を行うことが可
能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】模擬スピンコータとして使用したスピンコータ
ーラインを示す。

【符号の説明】

１．レジスト組成物液瓶（または洗浄溶剤瓶） ２．テフロン製チューブ ３．ベローズ型ポンプ ４．フィルターハウジング ５．エアーオペレーションバルブ ６．クオート瓶

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｌ (72)発明者 大井 册雄 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】フッ素原子を含む、アルコール類、エステ
   ル類、エーテル類およびフェノール類から選ばれる少な
   くとも一種を主成分とすることを特徴とするキノンジア
   ジド系化合物の溶剤。
2. 【請求項２】請求項１記載の溶剤にキノンジアジド系化
   合物を溶解してなる溶液型キノンジアジド系感光剤。
3. 【請求項３】アルカリ可溶性樹脂、感光剤であるキノン
   ジアジド系化合物および請求項１記載の溶剤を含有する
   ことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
4. 【請求項４】請求項１記載の溶剤を主成分とする、キノ
   ンジアジド系化合物を含有するレジスト液通液ラインの
   洗浄液。