JPH0762059A - 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 - Google Patents

樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物

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JPH0762059A
JPH0762059A JP22674693A JP22674693A JPH0762059A JP H0762059 A JPH0762059 A JP H0762059A JP 22674693 A JP22674693 A JP 22674693A JP 22674693 A JP22674693 A JP 22674693A JP H0762059 A JPH0762059 A JP H0762059A
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JP
Japan
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resin
resistance
epoxy
molecule
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JP22674693A
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Minoru Yokoshima
実 横島
Tetsuo Okubo
哲男 大久保
Kazunori Sasahara
数則 笹原
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】硬化物の硬度が大で、耐白化性、耐熱性、耐酸
性、耐アルカリ性、耐溶剤性、耐金メッキ性に優れた特
性を持った樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 【構成】特定のエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂
(A)を含むことを特徴とする樹脂組成物、ソルダーレ
ジスト樹脂組成物及びその硬化物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はエポキシ基含有ポリカル
ボン酸樹脂を含有するプリント配線板用ソルダーレジス
ト樹脂組成物として特に有用な現像性に優れ、その硬化
皮膜が密着性、半田耐熱性、耐薬品性、耐金メッキ性、
電気絶縁性に優れた樹脂組成物及びその硬化物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、省資源、省エネルギー、作業性向
上、生産性向上などの理由により各種分野において紫外
線硬化型樹脂組成物が多用されてきている。プリント配
線基板加工分野においても同様の理由によりソルダーレ
ジストインキ、マーキングインキなど種々のインキが従
来の熱硬化型樹脂組成物から紫外線硬化型樹脂組成物へ
と移行してきている。その中でソルダーレジストインキ
は、いち早く紫外線硬化型樹脂組成物へと移行した。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】プリント配線基板のレ
ジストパターン形成法には、スクリーン印刷法が多く用
いられてきたが、かかるスクリーン印刷法によるときに
は、多くの場合、印刷時のブリード、にじみ、或は、ダ
レといった現象が発生し、これがために最近のプリント
配線基板の高密度化に対応しきれなくなっている。こう
した課題を解決するために、ドライフィルム型のフォト
レジストや、液状の現像可能なレジストインキも提案さ
れ、使用されているが、ドライフィルム型のフォトレジ
ストの場合、熱圧着の際に気泡を生じ易く、耐熱性や密
着性にも不安があり、また高価格であるなどの問題があ
る。一方、液状レジストで現在市販されているものは、
有機溶剤を現像液として使用するものや、希アルカリ水
溶液で現像するものがあるが、有機溶剤を使用するもの
は、大気汚染の問題の他に、溶剤が高価なうえ、硬化物
の耐溶剤性、耐酸性にも問題がある。又、希アルカリ水
溶液で現像出来るものは、レジストの硬化物の水系フラ
ックスでの半田耐熱性試験後の表面の白化、耐金メッキ
性が不十分等の問題がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究した結果、希アルカリ水溶液
で現像が可能であり、その硬化皮膜の密着性、半田耐熱
性、耐薬品性、耐金メッキ性等に優れ、水系フラックス
での半田耐熱性試験後の表面白化のない特にソルダーレ
ジスト樹脂組成物として有用な樹脂組成物及びその硬化
物を提供することに成功した。
【0005】即ち、本発明は、分子中に水酸基を有する
エポキシ樹脂及び/又は分子中に水酸基を有する重合物
(a)と分子中にエポキシ基と1個の無水物基を有する
化合物(b)との反応物であるエポキシ基含有ポリカル
ボン酸樹脂(A)を含むことを特徴とする樹脂組成物、
ソルダーレジスト樹脂組成物及びその硬化物に関するも
のである。
【0006】本発明では、エポキシ基含有ポリカルボン
酸樹脂(A)を使用する。エポキシ基含有ポリカルボン
酸樹脂(A)は、分子中に水酸基を有するエポキシ樹脂
及び/又は分子中に水酸基を有する重合物(a)と分子
中にエポキシ基と1個の無水物基を有する化合物(b)
を反応させることにより得ることができる。
【0007】本発明で使用する分子中に水酸基を有する
エポキシ樹脂及び/または分子中に水酸基を有する重合
物(a)の中に分子中に水酸基を有するエポキシ樹脂の
具体例としては、例えば、ビスフェノールA型のエポキ
シ樹脂(例えば、油化シェルエポキシ(株)製、エピコ
ート1001、エピコート1002、エピコート100
4、等)等を挙げることができる。又、分子中に水酸基
を有する重合物(a)としては具体的には、例えば2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオ
ールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル
ビニルエーテル、1,4−ブタンジオールモノビニルエ
ーテル、シクロヘキサンジメチロールモノビニルエーテ
ル等の水酸基含有エチレン性不飽和化合物の重合物、前
記水酸基含有エチレン性不飽和化合物と前記水酸基含有
エチレン性不飽和化合物以外のエチレン性不飽和化合物
(例えば、メチル(メタ)アリクレート、エチル(メ
タ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ベン
ジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)
アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、(メ
タ)アクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、ブ
チルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェノ
キシエチルビニルエーテル,マレイミド化合物等。)と
の共重合物等を挙げることができる。
【0008】次に分子中にエポキシ基と1個の無水物基
を有する化合物(b)の具体例としては、例えば、次の
式(1)及び式(2)の化合物
【0009】
【化1】
【0010】
【化2】
【0011】等を挙げることができる。成分(a)と成
分(b)の反応は、成分(a)中の水酸基1当量に対し
て、成分(b)の無水物基0.3〜1.0当量を反応さ
せるのが好ましく、反応温度は50〜150℃が好まし
く、特に好ましくは60〜100℃である。反応時攪拌
を容易にするために、不活性の希釈剤、例えばメチルエ
チルケトン、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロ
ソルブアセテート、カルビトールアセテート、ジエチル
グリコールジメチルエーテル、ソルベントナフサ等の溶
剤類、又は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビ
ス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペ
ート、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテ
ル等の反応性単量体類等を使用するのが好ましい。反応
時間は、好ましくは0.5〜24時間である。本発明の
エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂(A)の酸価(mgKO
H/g)は30〜150が好ましく、特に好ましくは50〜
100である。
【0012】本発明の組成物に含まれるエポキシ基含有
ポリカルボン酸樹脂(A)の量は組成物中10〜90重
量%が好ましく、特に20〜80重量%が好ましい。
【0013】本発明の組成物には、更にフェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリス(2,
3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、脂環式エポ
キシ樹脂等のエポキシ化合物及び/又は前記した反応性
単量体類を含有させることができる。
【0014】本発明の組成物を硬化して硬化物を得る方
法としては電子線、紫外線及び熱による硬化法があるが
紫外線で硬化し、更に必要により熱で硬化するのが好ま
しい。紫外線或は電子線で硬化する場合には、光カチオ
ン重合開始剤を使用する。光カチオン重合開始剤として
は、公知のどのような光カチオン重合開始剤でも使用す
ることができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望
ましい。その様な光カチオン重合開始剤としては、例え
ば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−
4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、4,4′−ビス〔ビス(p−2−ヒ
ドロキシエトキシフェニル)スルホニオ〕フェニルスル
フィドビスヘキサフルオロホスフェート、4,4′−ビ
ス〔ビス(p−2−ヒドロキシエトキシフェニル)スル
ホニオ〕フェニルスルフィドビスヘキサフルオロアンチ
モネート、等を挙げることができる。これらは、単独或
は2種以上を組合せて用いることができる。光カチオン
重合開始剤の使用割合は、前記エポキシ基含有ポリカル
ボン酸樹脂(A)100重量部当り0.1〜20重量部
が好ましく、特に好ましくは0.5〜10重量部であ
る。
【0015】本発明の組成物は、更に、無機充填剤例え
ば、タルク、シルカ、アルミナ、硫酸バリウム、酸化マ
グネシウム等や着色顔料として、シアニングリーン、シ
アニンブルー等を添加することができる。又、更に必要
に応じて、ヘキサメトキシメラミン、ヘキサブトキシメ
ラミン等のメラミン樹脂、エポキシ(メタ)アクリレー
ト、エポキシ(メタ)アクリレートと多塩基酸無水物の
反応物ウレタン(メタ)アクリレート、ポリオールポリ
(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合
物、アエロジル等のチキソトロピー剤、シリコーフッ素
ポリマー、アクリル共重合体等のレベリング剤、消泡
剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、重合禁止剤
等を添加することもできる。
【0016】本発明の組成物は、配合成分を好ましくは
前記の割合で配合し、ロールミル等で均一に混合するこ
とにより得られる。本発明の組成物は常法に従い、次の
ようにして硬化することによりその硬化物が得られる。
即ち紫外線で硬化し、更に必要により熱で硬化して硬化
物とすることができる。熱で硬化する場合、加熱温度は
80〜150℃が好ましく、加熱時間は、30分〜2時
間が好ましい。本発明の組成物をソルダーレジスト樹脂
組成物として用いる場合、例えば、次のようにして硬化
し、硬化物を得る。即ち、プリント配線板にスクリーン
印刷法、スプレー法、ロールコート法、静電塗装法、カ
ーテンフローコート法等の方法により10〜100μm
の膜厚で本発明の樹脂組成物を塗布し、塗膜を60〜8
0℃で乾燥させた後、ネガフィルムを塗膜に直接接触さ
せ、次いで紫外線を照射し、さらに希アルカリ水溶液
(例えば、0.5〜2%炭酸ソーダ水溶液、0.5〜1
%苛性ソーダ水溶液等)で塗膜の未照射部分を溶解除去
した後、必要に応じて紫外線を照射し、次いで100〜
150℃で30分〜1時間加熱硬化することにより硬化
皮膜が得られる。
【0017】本発明の組成物は、ソルダーレジスト樹脂
組成物として特に有用であるが、更に、絶縁塗料、印刷
インキ、接着剤、やコーティング剤等として有用であ
る。本発明のエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂を含有
する樹脂組成物は、現像性及び硬化物の硬度、半田耐熱
性、耐酸性、耐アルカリ性、耐金メッキ性等に優れ、水
系フラックスでの半田耐熱性試験後の表面の白化が少な
い。
【0018】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお、合成例中の部は、重量部である。 エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂(A)の合成例
【0019】合成例1 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ
(株)製、エピコート1002、軟化点83、エポキシ
当量650)650部、カルビトールアセテート372
部を仕込み、60℃に加熱し溶解した。次いで前記式
(1)の化合物218.4部を仕込み、90℃に加熱
し、5時間反応し、エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂
(A−1)を得た。生成物の酸価は、84(溶剤を除い
た固型分酸価(mg/KOH/g) で、エポキシ当量は378で
あった。
【0020】合成例2 スチレン1モルと2−ヒドロキシエチルメタクリレート
1モルの共重合物(平均分子量1000、OH価25
4.9)1000部、カルビトールアセテート609部
を仕込み、60℃に加熱し溶解し、次いで前記式(1)
の化合物420部を仕込み、90℃に加熱し、5時間反
応し、エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂(A−2)を
得た。生成物の酸価は、99(溶剤を除いた固型分酸価
(mg/KOH/g)で、エポキシ当量は568であった。
【0021】合成例3 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ
(株)製、エピコート1001、軟化点68℃、エポキ
シ当量475)475部、カルビトールアセテート28
2部を仕込み、60℃に加熱し、溶解した。次いで前記
式(2)の化合物182部を仕込み、90℃に加熱し、
5時間反応し、エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂(A
−3)を得た。生成物の酸価は、85(溶媒を除いた固
型分酸価(mg/KOH/g) )で、エポキシ当量は328であ
った。
【0022】実施例1〜4 表1に示す配合組成(数値は重量部である)に従ってソ
ルダーレジスト樹脂組成物(インキ)を配合し、3本ロ
ールミルで混練した。これをスクリーン印刷法により、
乾燥後の膜厚が15〜25μmになるように、銅スルホ
ールプリント配線基板に全面塗布し、塗膜を80℃、3
0分間予備乾燥した後、同様に後面を塗布し、80℃、
30分間予備乾燥した。次に、ソルダーマスクパターン
フィルムを塗膜面に接触、メタルハライドランプ両面同
時露光装置(オーク社製、HMW680)を用いて50
0mJ/cm2を照射し、次いで1.0wt%の炭酸ソーダ水
溶液で塗膜の未照射部分をスプレー圧2.5kg/cm2、液
温25℃で60秒間現像し、溶解除去した。得られたも
のの現像性について、評価を行った。その後、高圧水銀
灯(160w/cm2)を用いて、2.000mJ/cm2を照射
し、次いで熱風乾燥器で150℃、60分加熱硬化を行
い、得られた硬化膜を有する試験片について、硬化膜硬
度、半田耐熱性、耐白化性、耐酸性、耐アルカリ性、耐
溶剤性、耐金メッキ性及び絶縁抵抗の試験を行った。
【0023】それらの結果を表1に示す。なお、試験方
法及び評価方法は次のとおりである。 (現像性)現像性を拡大鏡にて目視判定した。 ○・・・・完全に現像できたもの △・・・・薄く現像されない部分があるもの ×・・・・現像されない部分がかなりあるもの (硬化膜硬度)硬化膜の硬度をJISK5400に準じ
て測定した。 (半田耐熱性)JISC6481の試験方法に従って、
260℃の半田浴への試験片の10秒浸漬を10回又は
4回行ない、外観の変化を評価した。 (ポストフラックス耐性)10秒浸漬を10回行い、外
観の変化を評価した。 ○・・・・外観変化なし △・・・・硬化膜の変色が認められるもの ×・・・・硬化膜の浮き、剥れ、半田潜りあり 注) 使用したポストフラックス:JS−64P(山栄
化学(株)製) (レベラー用フラックス耐性)10秒浸漬を4回を行
い、外観の変化を評価した。 ○・・・・外観変化なし △・・・・硬化膜の変色が認められるもの ×・・・・硬化膜の浮き、剥れ、半田潜りあり 注) 使用したレベラー用フラックス:SSF−832
(山栄化学(株)製)
【0024】(耐白化性)フラックス(ロンコ CF−
430、YOSHIKAWA:CHEMICAL(株)
製)を硬化膜に塗布し、260℃の半田浴に5秒浸漬
し、次いで100℃の熱水に30分間浸漬し、外観の変
化を評価した。 ○・・・・外観変化なし △・・・・やや白化が認められるもの ×・・・・全面に白化が認められるもの (耐酸性)試験片を10vol%硫酸水溶液に25℃で
15分間浸漬し、硬化膜の外観変化を目視で行った。密
着性は、ソルダーパターン部についてセロハンテープを
用いたピーリング試験を行いレジストの剥離状態を判定
した。 ○・・・・外観変化もなく、硬化膜の剥離も全くない △・・・・外観の変化はないが、硬化膜にわずかに剥れ
があり ×・・・・硬化膜の浮きが見られ、ピリーングテストで
剥れの大きいもの (耐アルカリ性)試験片を10wt%水酸化ナトリウム
水溶液に25℃、15分間浸漬し、耐酸性試験と同様の
試験を行い評価した。
【0025】(耐溶剤性)試験片をジクロロメタンに2
5℃、30分浸漬し、外観変化を観察した。 ○・・・・外観変化が全くないもの △・・・・膨潤、浸透しているもの (耐金メッキ性)セルレックス社製、オートロネクスC
I(メッキ液)を使用して、1A/dm2の電流密度で3
0分間金メッキを行った後セロテープにより塗膜の剥離
テストを行った。判定基準は次の通りである。 ○・・・・全く剥れない △・・・・ごくわすかに剥れあり ×・・・・全面に剥りがみられる (絶縁抵抗)試験片を用いて、初期の絶縁抵抗を測定
し、又、IPC−SM−840Bの試験方法(IPCク
ラスIII)に従い、7日後の吸湿及び電食後の絶縁抵抗を
測定した。
【0026】
【表1】 表1 実 施 例 1 2 3 4 合成例1で得たエポキシ基含有ポリカ ルボン酸樹脂(A−1) 107.7 70 合成例2で得たエポキシ基含有ポリカ ルボン酸樹脂(A−2) 107.7 合成例3で得たエポキシ基含有ポリカ ルボン酸樹脂(A−3) 107.7 37.7 セロキサイド2021 *1 5 10 5 EHPE−3150 *2 10 20 TEPIC−S *3 10 20 20 カルビトールアセテート 10 10 10 10 アデカ オプトマーSP−170*4 7 7 7 7 フタロシアニングリーン(顔料) 2 2 2 2 KS−603(消泡剤) 2 2 2 2 ヘキサメトキシメラミン 10 10 タルク 40 40 40 40 硫酸バリウム 20 20 20 20 現像性 ○ ○ ○ ○ 硬化物硬度 7H 8H 6H 7H 半田耐熱性 ポストフラックス耐性 ○ ○ ○ ○ レベラー用フラックス耐性 ○ ○ ○ ○ 耐白化性 ○ ○ ○ ○ 耐酸性 ○ ○ ○ ○ 耐アルカリ性 ○ ○ ○ ○ 耐溶剤性 ○ ○ ○ ○ 耐金メッキ性 ○ ○ ○ ○ 絶縁抵抗(Ω) 初期値(×1013) 9.5 6.3 5.5 9.7 試験後の値(×1013) 5.5 3.5 1.5 5.6
【0027】注 *1 セロキサイド2021:ダ
イセル化学工業(株)製 脂環式エポキシ樹脂 *2 EHPE−3150:ダイセル化学工業(株)
製 脂環式エポキシ樹脂 *3 TEPIC−S:日産化学(株)製 トリス
(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート *4 アデカオプトマーSP−170:旭電化工業
(株)製 光カチオン重合開始剤、4,4′−ビス〔ビ
ス(P−2−ヒドロキシエトキシエトキシフェニル)ス
ルホニオ〕フェニルスルフィドビスヘキサフルオロアン
チモネート、プロピレンカーボネート50%品
【0028】表1の評価結果から、本発明の樹脂組成物
の硬化物は硬度、耐白化性、耐酸性、耐アルカリ性、耐
溶剤性、耐金メッキ性、絶縁抵抗に優れているのは明ら
かである。
【0029】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、パターンを形成
したフィルムを通した選択的に紫外線により露光した未
露光部分を現像することによるソルダーレジストパター
ンの形成において、露光部の現像液に対する耐性を有
し、得られる硬化物が密着性、電気絶縁性、半田耐熱
性、耐金メッキ性、耐薬品性に優れ、特にソルダーレジ
スト樹脂組成物として適している。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】分子中に水酸基を有するエポキシ樹脂及び
    /又は分子中に水酸基を有する重合物(a)と分子中に
    エポキシ基と1個の無水物基を有する化合物(b)との
    反応物であるエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂(A)
    を含むことを特徴とする樹脂組成物。
  2. 【請求項2】請求項1記載のエポキシ基含有ポリカルボ
    ン酸樹脂(A)を含むことを特徴とするソルダーレジス
    ト樹脂組成物。
  3. 【請求項3】請求項1又は請求項2記載の樹脂組成物の
    硬化物。
JP22674693A 1993-08-20 1993-08-20 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 Pending JPH0762059A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012188526A (ja) * 2011-03-10 2012-10-04 Nippon Zeon Co Ltd エポキシ樹脂組成物、半導体封止材料および半導体装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012188526A (ja) * 2011-03-10 2012-10-04 Nippon Zeon Co Ltd エポキシ樹脂組成物、半導体封止材料および半導体装置

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