JPH0759553B2 - ３−アミノ−２−アゼチジノン誘導体の製造方法 - Google Patents
３−アミノ−２−アゼチジノン誘導体の製造方法Info
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- JPH0759553B2 JPH0759553B2 JP6093847A JP9384794A JPH0759553B2 JP H0759553 B2 JPH0759553 B2 JP H0759553B2 JP 6093847 A JP6093847 A JP 6093847A JP 9384794 A JP9384794 A JP 9384794A JP H0759553 B2 JPH0759553 B2 JP H0759553B2
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/085—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a nitrogen atom directly attached in position 3
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
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- Catalysts (AREA)
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Description
【０００１】本発明は、光学活性な２−アゼチジノンか
らβ−ラクタム型抗生物質である相当する３−アミノ−
２−アゼチジノン誘導体を製造する方法に関する。
らβ−ラクタム型抗生物質である相当する３−アミノ−
２−アゼチジノン誘導体を製造する方法に関する。
【０００２】しかして、本発明の主題は、次式VII
【化１０】 （ここでＲは１〜４個の炭素原子を有するアルキル基を
表わし、Ｒ’ｄは水素原子又は保護されていてもよいヒ
ドロキシル基を表わし、Ｒ3 は水素原子又はＲ’ 3
（Ｒ’3 はアミノ基の保護基を表わす）を表わす）を有
する化合物を製造するにあたり、次式Ｉｄ
表わし、Ｒ’ｄは水素原子又は保護されていてもよいヒ
ドロキシル基を表わし、Ｒ3 は水素原子又はＲ’ 3
（Ｒ’3 はアミノ基の保護基を表わす）を表わす）を有
する化合物を製造するにあたり、次式Ｉｄ
【化１１】 （ここでＲは先に示した意味を有し、Ｒ’2 はヒドロキ
シル基の保護基を表わし、Ｒｄは水素原子又は保護され
たヒドロキシル基を表わす）の化合物に選択的脱保護反
応を行って次式VIII
シル基の保護基を表わし、Ｒｄは水素原子又は保護され
たヒドロキシル基を表わす）の化合物に選択的脱保護反
応を行って次式VIII
【化１２】 （ここでＲ及びＲｄは前記の意味を有する）の化合物を
得、この化合物に次式 Ｒ4 −ＯＨ （ここでＲ4 はスルホン酸残基を表わす）のスルホン酸
誘導体を作用させて次式IX
得、この化合物に次式 Ｒ4 −ＯＨ （ここでＲ4 はスルホン酸残基を表わす）のスルホン酸
誘導体を作用させて次式IX
【化１３】 （ここでＲ、Ｒｄ及びＲ4 は前記の意味を有する）の化
合物を得、式IXの化合物にアルカリ金属アジドを作用さ
せて次式Ｘ
合物を得、式IXの化合物にアルカリ金属アジドを作用さ
せて次式Ｘ
【化１４】 （ここでＲ及びＲｄは前記の意味を有する）の化合物を
得、式Ｘの化合物に水素化剤を作用させて次式 VIIａ
得、式Ｘの化合物に水素化剤を作用させて次式 VIIａ
【化１５】 （ここでＲ及びＲ’ｄは前記の意味を有する）の化合物
を得、必要ならば、式 VIIａの化合物を得、必要なら
ば、式 VIIａの化合物にアミノ基の保護基の導入剤を作
用させて次式 VIIｂ
を得、必要ならば、式 VIIａの化合物を得、必要なら
ば、式 VIIａの化合物にアミノ基の保護基の導入剤を作
用させて次式 VIIｂ
【化１６】 （ここでＲ、Ｒ’ｄ及びＲ’3 は前記の意味を有する）
の化合物を得、式 VIIａ及び VIIｂの化合物のＲ′ｄが
保護されたヒドロキシル基を表わすときは、所望により
これらの化合物に選択的脱保護反応を行って次式VIIｃ
の化合物を得、式 VIIａ及び VIIｂの化合物のＲ′ｄが
保護されたヒドロキシル基を表わすときは、所望により
これらの化合物に選択的脱保護反応を行って次式VIIｃ
【化１７】 （ここでＲ及びＲ3 は前記の意味を有する）の化合物を
得、所望ならばこの化合物に還元剤を作用させて次式 V
IIｄ
得、所望ならばこの化合物に還元剤を作用させて次式 V
IIｄ
【化１８】 （ここでＲ及びＲ3 は前記の意味を有する）の化合物を
得ることを特徴とする、式VII の化合物の製造方法にあ
る。
得ることを特徴とする、式VII の化合物の製造方法にあ
る。
【０００３】基Ｒの意味としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル又はｔ−ブチル基があげ
られる。基Ｒｄ及びＲ’ｄが含むことができ又基はＲ’
2 が表わすことができるヒドロキシル基の保護基は、通
常の知られた基、特にセファロスポリン及びβ−ラクタ
ムの化学において知られた基のうちから選ばれる。特
に、アセチル、ベンジル、トリチル、ベンズヒドリル、
４−メトキシベンジル、テトラヒドロピラニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、β，β，β−トリクロルエトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル基などがあげられる。
ロピル、イソプロピル、ブチル又はｔ−ブチル基があげ
られる。基Ｒｄ及びＲ’ｄが含むことができ又基はＲ’
2 が表わすことができるヒドロキシル基の保護基は、通
常の知られた基、特にセファロスポリン及びβ−ラクタ
ムの化学において知られた基のうちから選ばれる。特
に、アセチル、ベンジル、トリチル、ベンズヒドリル、
４−メトキシベンジル、テトラヒドロピラニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、β，β，β−トリクロルエトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル基などがあげられる。
【０００４】本発明の主題は、特に、Ｒｄが保護された
ヒドロキシル基、そして特にアシルオキシ基を表わす式
Ｉｄの化合物を開始時に用いることを特徴とする前記の
使用方法にある。
ヒドロキシル基、そして特にアシルオキシ基を表わす式
Ｉｄの化合物を開始時に用いることを特徴とする前記の
使用方法にある。
【０００５】本発明に従う使用方法を実施するのに好ま
しい方法においては、 a) 式Ｉｄの化合物に作用させる選択的脱ブロッキング
反応は、通常の方法に従って行われる。ヒドロキシル基
の保護基がベンジル基のような水添分解によって解裂で
きるときは、この解裂はパラジウム炭のような触媒の存
在下に水素によって行われる。 b) 用いられる式Ｒ4 −ＯＨのスルホン酸誘導体として
は、Ｒ4 がメチルスルホニル基ＣＨ3 ＳＯ2 、ｐ−トル
エンスルホニル基Ｈ3 Ｃ−Ｐｈ−ＳＯ2 又はトリフルオ
ルメチルスルホニル基Ｆ3 Ｃ−ＳＯ2 を表わすものがあ
げられる。式VIIIの化合物に反応させるスルホン酸誘導
体は、好ましくはトリフルオルメチルスルホン酸誘導体
である。酸無水物又は酸クロリドが用いられ、特に無水
物が用いられる。この場合に、反応操作は塩化メチレン
のような有機溶媒中でピリジンのようなアミノ塩基の存
在下に行われる。 c) アルカリ金属アジドは好ましくはナトリウムアジド
であり、そして反応はベンゼンのような有機溶媒中で行
われる。 d) 式Ｘのアジドからアミノ誘導体への還元は通常の方
法、例えば接触水素化によって行われる。 e) 場合により行われるアミノ基の保護は、ペプチドや
β−ラクタムの化学で知られた薬剤によって行われる。
このような置換基のリストは、例えばフランス国特許第
２，４９５，６１３号にみられる。好ましくはカルボベ
ンジルオキシ基が用いられる。この基を導入できる薬剤
は、例えば、炭酸水素ナトリウムのような塩基の存在下
でのクロルぎ酸ベンジルである。 f) 式 VIIａ及び VIIｂの化合物より出発する式 VIIｃ
及び VIIｄの化合物の製造は、式Ｉａの化合物から出発
する式Ｉｂ及びＩｃの化合物の製造について示した操作
方法と同じ操作方法に従って行われる。
しい方法においては、 a) 式Ｉｄの化合物に作用させる選択的脱ブロッキング
反応は、通常の方法に従って行われる。ヒドロキシル基
の保護基がベンジル基のような水添分解によって解裂で
きるときは、この解裂はパラジウム炭のような触媒の存
在下に水素によって行われる。 b) 用いられる式Ｒ4 −ＯＨのスルホン酸誘導体として
は、Ｒ4 がメチルスルホニル基ＣＨ3 ＳＯ2 、ｐ−トル
エンスルホニル基Ｈ3 Ｃ−Ｐｈ−ＳＯ2 又はトリフルオ
ルメチルスルホニル基Ｆ3 Ｃ−ＳＯ2 を表わすものがあ
げられる。式VIIIの化合物に反応させるスルホン酸誘導
体は、好ましくはトリフルオルメチルスルホン酸誘導体
である。酸無水物又は酸クロリドが用いられ、特に無水
物が用いられる。この場合に、反応操作は塩化メチレン
のような有機溶媒中でピリジンのようなアミノ塩基の存
在下に行われる。 c) アルカリ金属アジドは好ましくはナトリウムアジド
であり、そして反応はベンゼンのような有機溶媒中で行
われる。 d) 式Ｘのアジドからアミノ誘導体への還元は通常の方
法、例えば接触水素化によって行われる。 e) 場合により行われるアミノ基の保護は、ペプチドや
β−ラクタムの化学で知られた薬剤によって行われる。
このような置換基のリストは、例えばフランス国特許第
２，４９５，６１３号にみられる。好ましくはカルボベ
ンジルオキシ基が用いられる。この基を導入できる薬剤
は、例えば、炭酸水素ナトリウムのような塩基の存在下
でのクロルぎ酸ベンジルである。 f) 式 VIIａ及び VIIｂの化合物より出発する式 VIIｃ
及び VIIｄの化合物の製造は、式Ｉａの化合物から出発
する式Ｉｂ及びＩｃの化合物の製造について示した操作
方法と同じ操作方法に従って行われる。
【０００６】本発明の方法で使用される式Ｉｄの化合物
は、次式II
は、次式II
【化１９】 （ここでＲは１〜４個の炭素原子を有するアルキル基を
表わし、Ｒ2 は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基
又はヒドロキシ基の保護基を表わす）を有する化合物を
一けん化剤で処理して次式III
表わし、Ｒ2 は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基
又はヒドロキシ基の保護基を表わす）を有する化合物を
一けん化剤で処理して次式III
【化２０】 を有する化合物を得、この化合物を次式 Ｒ’1 −Ｏ−ＮＨ2 （ここでＲ’1 はヒドロキシル基の保護基又はＣＨ2 −
ＣＯ2 −Ｒ’基（Ｒ’は水素原子又は１〜４個の炭素原
子を有するアルキル基を表わす）を表わす）のヒドロキ
シルアミン誘導体で処理して次式IV
ＣＯ2 −Ｒ’基（Ｒ’は水素原子又は１〜４個の炭素原
子を有するアルキル基を表わす）を表わす）のヒドロキ
シルアミン誘導体で処理して次式IV
【化２１】 を有する化合物を得、この化合物を環化剤で処理して次
式Ｉａ
式Ｉａ
【化２２】 （ここでＲ’1 、Ｒ及びＲ2 は前記の意味を有する）を
有する化合物（これは、Ｒ1 が保護されたヒドロキシル
基又はＯＣＨ2 −ＣＯ2 −Ｒ’基を表わす化合物に相当
する）を得、この化合物のＲ’1 が保護基を表わすとき
は、所望によりこの化合物に選択脱保護反応を行って次
式Ｉｂ
有する化合物（これは、Ｒ1 が保護されたヒドロキシル
基又はＯＣＨ2 −ＣＯ2 −Ｒ’基を表わす化合物に相当
する）を得、この化合物のＲ’1 が保護基を表わすとき
は、所望によりこの化合物に選択脱保護反応を行って次
式Ｉｂ
【化２３】 （ここでＲ及びＲ2 は前記の意味を有する）を有する化
合物（これは、Ｒ1 が保護されていないヒドロキシル基
を表わす化合物に相当する）を得、所望ならばこの化合
物に還元剤を作用させて次式Ｉｃ
合物（これは、Ｒ1 が保護されていないヒドロキシル基
を表わす化合物に相当する）を得、所望ならばこの化合
物に還元剤を作用させて次式Ｉｃ
【化２４】 （ここでＲ及びＲ2 は前記の意味を有する）を有する化
合物（これは、Ｒ1 が水素原子を表わす化合物に相当す
る）を得ることを特徴とする方法によって製造すること
ができる。
合物（これは、Ｒ1 が水素原子を表わす化合物に相当す
る）を得ることを特徴とする方法によって製造すること
ができる。
【０００７】Ｒ、Ｒ2 及びＲ’の意味としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル又はｔ−
ブチル基があげられる。基Ｒ1 が含むことができ又は基
Ｒ2 が表わすことができるヒドロキシル基の保護基は、
通常の知られた基、特にセファロスポリンの化学におい
て知られた基のうちから選ばれる。特に、アセチル、ベ
ンジル、トリチル、ベンズヒドリル、４−メトキシベン
ジル、テトラヒドロピラニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル、β，β，β−トリクロルエトキシカルボニル、ベン
ジルオキシカルボニル、エトキシカルボニル基などがあ
げられる。Ｒ及びＲ’の意味のうちでメチル及びエチル
基が好ましい。Ｒ1 は好ましくはベンジルオキシ基を表
わし、Ｒ2 は好ましくはベンジル又はメチル基を表わ
す。
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル又はｔ−
ブチル基があげられる。基Ｒ1 が含むことができ又は基
Ｒ2 が表わすことができるヒドロキシル基の保護基は、
通常の知られた基、特にセファロスポリンの化学におい
て知られた基のうちから選ばれる。特に、アセチル、ベ
ンジル、トリチル、ベンズヒドリル、４−メトキシベン
ジル、テトラヒドロピラニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル、β，β，β−トリクロルエトキシカルボニル、ベン
ジルオキシカルボニル、エトキシカルボニル基などがあ
げられる。Ｒ及びＲ’の意味のうちでメチル及びエチル
基が好ましい。Ｒ1 は好ましくはベンジルオキシ基を表
わし、Ｒ2 は好ましくはベンジル又はメチル基を表わ
す。
【０００８】好ましくは式IIの化合物に反応させる一け
ん化剤は、炭酸アルカリ金属のような無機塩基であって
よい。好ましくは炭酸カリウムが用いられる。反応は、
好ましくは、過剰量の無機塩基の存在下に、アルコール
−水混合物又はジオキサン−水混合物のような含水有機
溶液中で行われる。また、植物又は動物起源のエステラ
ーゼも用いることができる。例えば、豚の肝臓のエステ
ラーゼを用いることができる。その場合、反応は緩衝媒
質中で、例えばりん酸塩緩衝液中で行われる。
ん化剤は、炭酸アルカリ金属のような無機塩基であって
よい。好ましくは炭酸カリウムが用いられる。反応は、
好ましくは、過剰量の無機塩基の存在下に、アルコール
−水混合物又はジオキサン−水混合物のような含水有機
溶液中で行われる。また、植物又は動物起源のエステラ
ーゼも用いることができる。例えば、豚の肝臓のエステ
ラーゼを用いることができる。その場合、反応は緩衝媒
質中で、例えばりん酸塩緩衝液中で行われる。
【０００９】式III の化合物に対する式Ｒ’1 ＯＮＨ2
のヒドロキシルアミン誘導体の作用は、周囲温度で行う
ことができる。ヒドロキシルアミン誘導体の塩、例えば
塩酸塩を用いることができる。この場合、反応は水中で
又は水−有機溶媒混合物中で行うことができる。反応操
作は、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミドのよう
なカルボジイミドの存在下に、又は水性媒体中で行う場
合には１−エチル−３，３−ジメチルアミノプロピルカ
ルボジイミド塩酸塩のような可溶性カルボジイミドの存
在下に行われる。この操作を行う際の溶媒は例えばテト
ラヒドロフランである。
のヒドロキシルアミン誘導体の作用は、周囲温度で行う
ことができる。ヒドロキシルアミン誘導体の塩、例えば
塩酸塩を用いることができる。この場合、反応は水中で
又は水−有機溶媒混合物中で行うことができる。反応操
作は、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミドのよう
なカルボジイミドの存在下に、又は水性媒体中で行う場
合には１−エチル−３，３−ジメチルアミノプロピルカ
ルボジイミド塩酸塩のような可溶性カルボジイミドの存
在下に行われる。この操作を行う際の溶媒は例えばテト
ラヒドロフランである。
【００１０】式IVの化合物から式Ｉａの化合物への環化
は、ヒドロキシル基のスルホン酸誘導体を介して行うこ
とができる。この場合には、環化は塩化ｐ−トルエンス
ルホニル又は塩化メチルスルホニルのようなスルホン酸
ハロゲン化物によって行うことができる。この反応操作
は、アミノ塩基のような塩酸捕捉剤の存在下に行われ
る。また、操作は、ピリジンのような溶媒、又はピリジ
ンと塩化メチレンのような有機溶媒との混合物中で行う
ことができる。このようにして得られたスルホニル誘導
体は、炭酸アルカリ金属、例えば炭酸カリウムのような
塩基で処理して式Ｉａの所期化合物を得ることができ
る。環化反応自体はアセトンのような有機溶媒中で行う
ことができる。また、式IVの化合物の環化は、トリフェ
ニルホスフィン及びアゾジカルボン酸ジエチルの存在下
に行うこともできる。この場合に反応操作はテトラヒド
ロフランのような有機溶媒中で行われる。
は、ヒドロキシル基のスルホン酸誘導体を介して行うこ
とができる。この場合には、環化は塩化ｐ−トルエンス
ルホニル又は塩化メチルスルホニルのようなスルホン酸
ハロゲン化物によって行うことができる。この反応操作
は、アミノ塩基のような塩酸捕捉剤の存在下に行われ
る。また、操作は、ピリジンのような溶媒、又はピリジ
ンと塩化メチレンのような有機溶媒との混合物中で行う
ことができる。このようにして得られたスルホニル誘導
体は、炭酸アルカリ金属、例えば炭酸カリウムのような
塩基で処理して式Ｉａの所期化合物を得ることができ
る。環化反応自体はアセトンのような有機溶媒中で行う
ことができる。また、式IVの化合物の環化は、トリフェ
ニルホスフィン及びアゾジカルボン酸ジエチルの存在下
に行うこともできる。この場合に反応操作はテトラヒド
ロフランのような有機溶媒中で行われる。
【００１１】式Ｉａの化合物において基Ｒ’1 がヒドロ
キシル基の保護基を表わすときは、このＲ’1 基の選択
的解裂は、知られた方法に従って行われる。この基はベ
ンジル基のような水添分解によって解裂できる基である
ときは、この解裂はパラジウム炭のような触媒の存在下
に水素によって行われる。場合により式Ｉｂの化合物に
作用させる還元剤は、通常の薬剤から選ばれる。例えば
塩化チタンを用いることができる。
キシル基の保護基を表わすときは、このＲ’1 基の選択
的解裂は、知られた方法に従って行われる。この基はベ
ンジル基のような水添分解によって解裂できる基である
ときは、この解裂はパラジウム炭のような触媒の存在下
に水素によって行われる。場合により式Ｉｂの化合物に
作用させる還元剤は、通常の薬剤から選ばれる。例えば
塩化チタンを用いることができる。
【００１２】また、上記したような方法の反応のいくつ
かは副生成物を形成させることに留意しなければならな
いが、これらは一般的には既知の精製方法、特にクロマ
トグラフィーによって除去することができる。このよう
な方法は実験の部でさらに説明する。特に、式Ｒ’1 −
ＯＮＨ2 のヒドロキシルアミン誘導体を式III の化合物
に作用させると、式 IV の所期化合物と同様に、次式 I
V ’及び IV ”の副生物をも生じさせる。
かは副生成物を形成させることに留意しなければならな
いが、これらは一般的には既知の精製方法、特にクロマ
トグラフィーによって除去することができる。このよう
な方法は実験の部でさらに説明する。特に、式Ｒ’1 −
ＯＮＨ2 のヒドロキシルアミン誘導体を式III の化合物
に作用させると、式 IV の所期化合物と同様に、次式 I
V ’及び IV ”の副生物をも生じさせる。
【化２５】
【化２６】 式IV”の副生物は一般に沈殿によって容易に除去するこ
とができる。式IV’の化合物は環化の後続工程の間に通
常の方法によって容易に除去することができる。
とができる。式IV’の化合物は環化の後続工程の間に通
常の方法によって容易に除去することができる。
【００１３】さらに特定すれば、基Ｒ2 がベンジル又は
メチル基を表わす式IIの化合物より出発し、そして式II
I の化合物に反応させるヒドロキシルアミン誘導体Ｒ’
1 ＯＮＨ2 がＯ−ベンジルヒドロキシルアミンであるこ
とを特徴とする方法が好ましい。
メチル基を表わす式IIの化合物より出発し、そして式II
I の化合物に反応させるヒドロキシルアミン誘導体Ｒ’
1 ＯＮＨ2 がＯ−ベンジルヒドロキシルアミンであるこ
とを特徴とする方法が好ましい。
【００１４】上記の方法を実施するのに好ましい方法に
よれば、 a) 式IIの化合物に作用させる一けん化剤は炭酸カリウ
ム又は動物起源のエステラーゼであり、 b) 式IVの化合物を処理する環化剤がスルホン酸誘導体
であり、これにより次式IVａ
よれば、 a) 式IIの化合物に作用させる一けん化剤は炭酸カリウ
ム又は動物起源のエステラーゼであり、 b) 式IVの化合物を処理する環化剤がスルホン酸誘導体
であり、これにより次式IVａ
【化２７】 （ここでＸはトシル基Ｈ3 Ｃ−φ−ＳＯ2 又はメシル基
ＣＨ3 −ＳＯ2 を表わす）の化合物となし、この化合物
を塩基の存在下に環化して式Ｉａの化合物が形成され、 c) 式IVの化合物を処理する環化剤がトリフェニルホス
フィンとアゾジカルボン酸ジアルキルとの混合物であ
る。
ＣＨ3 −ＳＯ2 を表わす）の化合物となし、この化合物
を塩基の存在下に環化して式Ｉａの化合物が形成され、 c) 式IVの化合物を処理する環化剤がトリフェニルホス
フィンとアゾジカルボン酸ジアルキルとの混合物であ
る。
【００１５】また、Ｒ2 がアルキル基を表わす式IIの化
合物は、次式Ｖ
合物は、次式Ｖ
【化２８】 （ここでＲは先に記載した意味を有する）の化合物を塩
化すずの存在下にジアゾアルカンで処理することによっ
て製造することができる。また、Ｒ2 がヒドロキシル基
を表わす式IIの化合物は、式Ｖの酒石酸ジエステルをナ
トリウムヘキサメチルジシラジドの存在下に保護基の反
応性誘導体で処理することによって製造することができ
る。
化すずの存在下にジアゾアルカンで処理することによっ
て製造することができる。また、Ｒ2 がヒドロキシル基
を表わす式IIの化合物は、式Ｖの酒石酸ジエステルをナ
トリウムヘキサメチルジシラジドの存在下に保護基の反
応性誘導体で処理することによって製造することができ
る。
【００１６】また、Ｒ2 がベンジル基を表わす式IIの化
合物は、次式VI
合物は、次式VI
【化２９】 の化合物に還元剤を作用させることによって製造するこ
とができる。
とができる。
【００１７】
【実施例】下記の実施例は本発明を例示するもので、こ
れを何ら制限しない。
れを何ら制限しない。
【００１８】例１：（２Ｓ−trans ）−１−フェニルメ
トキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸メチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸メチル ２３５mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−メトキシブタンジ酸ジメチルと３３６mgのＫ2 ＣＯ
3 （２．４４ｍＭ）を６mlの１／１ジオキサン／Ｈ2 Ｏ
混合物に溶解し、周囲温度で５時間かきまぜる。反応混
合物をアンバーライトＩＲＮ７７（Ｈ+ ）で処理し、濾
過し、蒸発乾固する。得られた粗生成物（１９０mg）と
Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩（１８２mg、
１．１当量）を１０mlの水に溶解し、次いで５mlの水に
溶解したエチル−１−ジメチルアミノプロピル−３，３
−カルボジイミド（３４５mg、１．５当量）を添加する
とともに１Ｎ ＨＣl を添加することによりｐＨを４．
５に保つ。半時間後に、３５mg（１０％）の〔２Ｒ−
（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−
Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニルメトキシ）ブタンジアミド沈
殿を濾過して単離する。水性相をＣＨ2 Ｃl2で抽出する
ことにより３００mgの生成物を得、これをシリカゲル調
製板でクロマトグラフィー（溶離剤：ＡＣＯＥｔ／ヘキ
サン ８／２）によって精製する。このようにして、２
００mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸メチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−２−メトキシ−４−オキソ−３−ヒドロキシ−
４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸メチルと
の約６．５／３．５の比（ＮＭＲ 1 Ｈにより測定）の
混合物を得た。得られた生成物のＮＭＲ 1 Ｈは次の通
り。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） ３．３ppm ３．４（ｓ、３Ｈ、６．５／３．５）；
３．６及び３．８（ｓ、３Ｈ）、４．１５（ｓ広い、１
Ｈ）；４．３−４．５（ｍ、２Ｈ）；４．８（ｓ広い、
２Ｈ）；７．２（ｓ、５Ｈ）；９．３１（ｍ、１Ｈ）。
トキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸メチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸メチル ２３５mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−メトキシブタンジ酸ジメチルと３３６mgのＫ2 ＣＯ
3 （２．４４ｍＭ）を６mlの１／１ジオキサン／Ｈ2 Ｏ
混合物に溶解し、周囲温度で５時間かきまぜる。反応混
合物をアンバーライトＩＲＮ７７（Ｈ+ ）で処理し、濾
過し、蒸発乾固する。得られた粗生成物（１９０mg）と
Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩（１８２mg、
１．１当量）を１０mlの水に溶解し、次いで５mlの水に
溶解したエチル−１−ジメチルアミノプロピル−３，３
−カルボジイミド（３４５mg、１．５当量）を添加する
とともに１Ｎ ＨＣl を添加することによりｐＨを４．
５に保つ。半時間後に、３５mg（１０％）の〔２Ｒ−
（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−
Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニルメトキシ）ブタンジアミド沈
殿を濾過して単離する。水性相をＣＨ2 Ｃl2で抽出する
ことにより３００mgの生成物を得、これをシリカゲル調
製板でクロマトグラフィー（溶離剤：ＡＣＯＥｔ／ヘキ
サン ８／２）によって精製する。このようにして、２
００mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸メチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−２−メトキシ−４−オキソ−３−ヒドロキシ−
４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸メチルと
の約６．５／３．５の比（ＮＭＲ 1 Ｈにより測定）の
混合物を得た。得られた生成物のＮＭＲ 1 Ｈは次の通
り。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） ３．３ppm ３．４（ｓ、３Ｈ、６．５／３．５）；
３．６及び３．８（ｓ、３Ｈ）、４．１５（ｓ広い、１
Ｈ）；４．３−４．５（ｍ、２Ｈ）；４．８（ｓ広い、
２Ｈ）；７．２（ｓ、５Ｈ）；９．３１（ｍ、１Ｈ）。
【００１９】工程Ｂ：（２Ｓ−trans ）−１−フェニル
メトキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジン
カルボン酸メチル 工程Ａで得た混合物を−１０℃で５ccの１／１ピリジン
／ＣＨ2 Ｃl2混合物に溶解し、０．１mlの塩化メシルを
加え、反応混合物を４時間かきまぜる。ＣＨ2Ｃl2で抽
出した後、粗生成物をアセトンに溶解し、２００mg
（１．５当量）のＫ2 ＣＯ3 のアセトン懸濁液に６０℃
で加える。１時間かきまぜ、濾過し、クロマトグラフィ
ー（溶離剤：ＡＣＯＥｔ／ヘキサン１／１）した後、４
０mgの所期生成物を単離した（収率＝２２％）。 〔α〕D 25 ＝＋３７°（ｃ＝０．５４、ＣＨＣl3）。分析 ：Ｃ13Ｈ15Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％５８．８５ Ｈ％５．７０ Ｎ％５．２８ 実測： ５８．８３ ５．７４ ５．５３ＮＭＲ 1 Ｈ（２００ＭＨz ） ３．４３ppm （ｓ、３Ｈ）； ３．７６（ｓ、３Ｈ）；
４．０４（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．４０
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；５．０８（ｑ、２
Ｈ）；７．３４（ｓ、５Ｈ）。
メトキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジン
カルボン酸メチル 工程Ａで得た混合物を−１０℃で５ccの１／１ピリジン
／ＣＨ2 Ｃl2混合物に溶解し、０．１mlの塩化メシルを
加え、反応混合物を４時間かきまぜる。ＣＨ2Ｃl2で抽
出した後、粗生成物をアセトンに溶解し、２００mg
（１．５当量）のＫ2 ＣＯ3 のアセトン懸濁液に６０℃
で加える。１時間かきまぜ、濾過し、クロマトグラフィ
ー（溶離剤：ＡＣＯＥｔ／ヘキサン１／１）した後、４
０mgの所期生成物を単離した（収率＝２２％）。 〔α〕D 25 ＝＋３７°（ｃ＝０．５４、ＣＨＣl3）。分析 ：Ｃ13Ｈ15Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％５８．８５ Ｈ％５．７０ Ｎ％５．２８ 実測： ５８．８３ ５．７４ ５．５３ＮＭＲ 1 Ｈ（２００ＭＨz ） ３．４３ppm （ｓ、３Ｈ）； ３．７６（ｓ、３Ｈ）；
４．０４（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．４０
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；５．０８（ｑ、２
Ｈ）；７．３４（ｓ、５Ｈ）。
【００２０】例２：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス
（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸メチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸メチル ４７０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチルを例１の工程
Ａに記載のように処理する（６００mgの炭酸カリウ
ム）。粗製残留物を８４０mgのＯ−ベンジルヒドロキシ
ルアミン塩酸塩及び１ｇのエチル−１−ジメチルアミノ
プロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩で直接処理す
る。シリカゲルでクロマトグラフィー（溶離剤：ＡＣＯ
Ｅｔ／ヘキサン ８：２）した後、５０mgの〔２Ｒ−
（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ’−３−ト
リス（フェニルメトキシ）ブタンジアミド及び４００mg
の〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オ
キソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸メチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−３−ヒドロキシ−４−オキソ−２−フェニルメ
トキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸
メチルとの約６／１の比（ＮＭＲによる）の混合物を単
離した。得られた生成物の物理−化学的データは次の通
り。分析 ：Ｃ19Ｈ21Ｏ6 Ｎ 計算：Ｃ％６３．４９ Ｈ％５．８９ Ｎ％３．８９ 実測： ６３．２３ ６．０５ ３．９１ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） ３．５８ppm （ｓ、３Ｈ）；３．７−４．６（強い、５
Ｈ）；４．８５（ｓ）；７．１（ｍ、１０Ｈ）。 ８．９８及び９．７８（ｓ広い、１Ｈ％ ６／１）。ＩＲ ：νＣＯ2 Ｒ＝１７３０、 νＣＯＮＨＯＲ＝１６７０。
（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸メチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸メチル ４７０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチルを例１の工程
Ａに記載のように処理する（６００mgの炭酸カリウ
ム）。粗製残留物を８４０mgのＯ−ベンジルヒドロキシ
ルアミン塩酸塩及び１ｇのエチル−１−ジメチルアミノ
プロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩で直接処理す
る。シリカゲルでクロマトグラフィー（溶離剤：ＡＣＯ
Ｅｔ／ヘキサン ８：２）した後、５０mgの〔２Ｒ−
（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ’−３−ト
リス（フェニルメトキシ）ブタンジアミド及び４００mg
の〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オ
キソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸メチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−３−ヒドロキシ−４−オキソ−２−フェニルメ
トキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸
メチルとの約６／１の比（ＮＭＲによる）の混合物を単
離した。得られた生成物の物理−化学的データは次の通
り。分析 ：Ｃ19Ｈ21Ｏ6 Ｎ 計算：Ｃ％６３．４９ Ｈ％５．８９ Ｎ％３．８９ 実測： ６３．２３ ６．０５ ３．９１ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） ３．５８ppm （ｓ、３Ｈ）；３．７−４．６（強い、５
Ｈ）；４．８５（ｓ）；７．１（ｍ、１０Ｈ）。 ８．９８及び９．７８（ｓ広い、１Ｈ％ ６／１）。ＩＲ ：νＣＯ2 Ｒ＝１７３０、 νＣＯＮＨＯＲ＝１６７０。
【００２１】工程Ｂ1 ：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビ
ス（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジノ
カルボン酸メチル １５０mgの工程Ａで得た混合物をピリジン／塩化メチレ
ン混合物（１／１）中で塩化メチル（２当量０．６ml）
により−１０℃で２時間処理する。抽出し、蒸発させた
後、残留物をアセトンに直接溶解し、１．５当量（８３
mg）のＫ2 ＣＯ3 のアセトン懸濁液に６０℃で加える。
２０分たってから濾過し、溶媒を蒸発させた後、粗生成
物をシリカゲルでクロマトグラフィーする（溶離剤：Ａ
ＣＯＥｔ／ヘキサン１／１）。 ２７mgの所期生成物を単離した（収率＝２０％）。 〔α〕D 25 ＝＋５１°（ｃ＝０．６９、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ19Ｈ19Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％６６．８４ Ｈ％５．６１ Ｎ％４．１０ 実測： ６６．８２ ５．７２ ３．９６ＩＲ ：νＣＯ2 Ｍｅ＝１７４０、ラクタム＝１７９０ＮＭＲ 1 Ｈ（４００ＭＨz 、ＣＤＣl3） ３．７５ppm （ｓ、３Ｈ）；４．０４（ｄ、１Ｈ、Ｊ
3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．５４（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝
１．５Ｈｚ）；４．６７（ｑ、２Ｈ）；５．０７（ｑ、
２Ｈ）；７．３８（ｍ、１０Ｈ）工程Ｂ2 ：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス（フェニル
メトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジノカルボン酸メ
チル ３００mgの工程Ａで得た混合物と４３５mgのトリフェニ
ルホスフィンをアルゴン雰囲気下に５mlのテトラヒドロ
フランに溶解する。０．２６ml（２当量）のアゾジカル
ボン酸ジエチルを注射器で加える。２時間後に溶液を蒸
発させ、残留物をクロマトグラフィーする（溶離剤：Ａ
ＣＯＥｔ／ヘキサン１／１）。このようにして、５０mg
の出発物質のヒドロキサメート（１７％）及び９６mgの
所期生成物（工程Ｂ1 で得たものと同一）を単離した。
ス（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジノ
カルボン酸メチル １５０mgの工程Ａで得た混合物をピリジン／塩化メチレ
ン混合物（１／１）中で塩化メチル（２当量０．６ml）
により−１０℃で２時間処理する。抽出し、蒸発させた
後、残留物をアセトンに直接溶解し、１．５当量（８３
mg）のＫ2 ＣＯ3 のアセトン懸濁液に６０℃で加える。
２０分たってから濾過し、溶媒を蒸発させた後、粗生成
物をシリカゲルでクロマトグラフィーする（溶離剤：Ａ
ＣＯＥｔ／ヘキサン１／１）。 ２７mgの所期生成物を単離した（収率＝２０％）。 〔α〕D 25 ＝＋５１°（ｃ＝０．６９、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ19Ｈ19Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％６６．８４ Ｈ％５．６１ Ｎ％４．１０ 実測： ６６．８２ ５．７２ ３．９６ＩＲ ：νＣＯ2 Ｍｅ＝１７４０、ラクタム＝１７９０ＮＭＲ 1 Ｈ（４００ＭＨz 、ＣＤＣl3） ３．７５ppm （ｓ、３Ｈ）；４．０４（ｄ、１Ｈ、Ｊ
3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．５４（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝
１．５Ｈｚ）；４．６７（ｑ、２Ｈ）；５．０７（ｑ、
２Ｈ）；７．３８（ｍ、１０Ｈ）工程Ｂ2 ：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス（フェニル
メトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジノカルボン酸メ
チル ３００mgの工程Ａで得た混合物と４３５mgのトリフェニ
ルホスフィンをアルゴン雰囲気下に５mlのテトラヒドロ
フランに溶解する。０．２６ml（２当量）のアゾジカル
ボン酸ジエチルを注射器で加える。２時間後に溶液を蒸
発させ、残留物をクロマトグラフィーする（溶離剤：Ａ
ＣＯＥｔ／ヘキサン１／１）。このようにして、５０mg
の出発物質のヒドロキサメート（１７％）及び９６mgの
所期生成物（工程Ｂ1 で得たものと同一）を単離した。
【００２２】工程Ｂ’3 ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−
２−〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４
−オキソ−３−（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニ
ルメトキシ）アミノ〕ブタン酸メチル ４４０mgの工程Ａで得た混合物を３ccのピリジンと２cc
のＣＨ2 Ｃl2に−１０℃で溶解する。２．５当量の塩化
トシル（５８０mg）を加え、全体をかきまぜながら−１
０℃で２日間放置する。抽出し、クロマトグラフィー
（ＡＣＯＥｔ／ヘキサン２／８）した後、９０mgの出発
物質、４２０mgの所期生成物及び〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−３−〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキ
シ〕−４−オキソ−２−（フェニルメトキシ）−４−
〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸メチルを単離
した。所期生成物のＮＭＲは次の通り。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） ２．３ppm （ｓ、２Ｈ）；３．５５（ｓ、３Ｈ）；４．
３（ｓ、２Ｈ）；４．４（ｄ、１Ｈ、Ｊ2.3 ＝２Ｈ
ｚ）；４．６（ｓ、２Ｈ）；５．２５（ｄ、１Ｈ、Ｊ
2.2 ＝２Ｈｚ）；７−７．２５（７Ｈ）；７．６（ｄ、
２Ｈ）；８．７（ｍ、１Ｈ）工程Ｂ”3 ：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス（フェニ
ルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジノカルボン酸
メチル ５７mgの工程Ｂ’3 で得た生成物を３ccのアセトンに溶
解し、４６mgの炭酸カリウムのアセトン懸濁液に６０℃
で加える。１時間かきまぜた後、反応混合物を濾過し、
蒸発させる。上で得た生成物と同一のβ−ラクタム２８
mgを定量的に得た。
２−〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４
−オキソ−３−（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニ
ルメトキシ）アミノ〕ブタン酸メチル ４４０mgの工程Ａで得た混合物を３ccのピリジンと２cc
のＣＨ2 Ｃl2に−１０℃で溶解する。２．５当量の塩化
トシル（５８０mg）を加え、全体をかきまぜながら−１
０℃で２日間放置する。抽出し、クロマトグラフィー
（ＡＣＯＥｔ／ヘキサン２／８）した後、９０mgの出発
物質、４２０mgの所期生成物及び〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−３−〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキ
シ〕−４−オキソ−２−（フェニルメトキシ）−４−
〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸メチルを単離
した。所期生成物のＮＭＲは次の通り。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） ２．３ppm （ｓ、２Ｈ）；３．５５（ｓ、３Ｈ）；４．
３（ｓ、２Ｈ）；４．４（ｄ、１Ｈ、Ｊ2.3 ＝２Ｈ
ｚ）；４．６（ｓ、２Ｈ）；５．２５（ｄ、１Ｈ、Ｊ
2.2 ＝２Ｈｚ）；７−７．２５（７Ｈ）；７．６（ｄ、
２Ｈ）；８．７（ｍ、１Ｈ）工程Ｂ”3 ：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス（フェニ
ルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジノカルボン酸
メチル ５７mgの工程Ｂ’3 で得た生成物を３ccのアセトンに溶
解し、４６mgの炭酸カリウムのアセトン懸濁液に６０℃
で加える。１時間かきまぜた後、反応混合物を濾過し、
蒸発させる。上で得た生成物と同一のβ−ラクタム２８
mgを定量的に得た。
【００２３】例３：（２Ｓ−trans ）−１−フェニルメ
トキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸エチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸エチル ６１０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−メトキシブタンジ酸ジエチルを例１の工程Ａに記載
の条件下に９３０mgの炭酸カリウムで処理する。得られ
た粗生成物を１．３４ｇのＯ−ベンジルヒドロキシルア
ミン塩酸塩及び１．６ｇのエチル−１−ジメチルアミノ
プロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩で処理する。
半時間反応させてから抽出し、クロマトグラフィー（溶
離剤：酢酸エチル−ヘキサン８：２）した後、４０mgの
〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−３−メト
キシ−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニルメトキシ）ブタンジア
ミド沈殿、そして４６０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕
−２−ヒドロキシ−４−オキソ−３−メトキシ−４−
〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸エチルと〔２
Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−メトキシ−４−オキソ−３
−ヒドロキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブ
タン酸エチルとの混合物（７：１の比）を得た。分析 ：Ｃ14Ｈ19Ｏ6 Ｎ 計算：Ｃ％５６．５５ Ｈ％６．４４ Ｎ％４．７１ 実測： ５６．４５ ６．３２ ４．５１ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．２５ppm （ｔ、３Ｈ）；２．８（ｓ、１Ｈ）；３．
２２（ｓ）及び３．３５（ｓ、３Ｈ）；４−４．８５
（６Ｈ）；７．１８（ｓ、５Ｈ）；８．７５及び９．２
５（７／１＝１Ｈ）
トキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸エチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸エチル ６１０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−メトキシブタンジ酸ジエチルを例１の工程Ａに記載
の条件下に９３０mgの炭酸カリウムで処理する。得られ
た粗生成物を１．３４ｇのＯ−ベンジルヒドロキシルア
ミン塩酸塩及び１．６ｇのエチル−１−ジメチルアミノ
プロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩で処理する。
半時間反応させてから抽出し、クロマトグラフィー（溶
離剤：酢酸エチル−ヘキサン８：２）した後、４０mgの
〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−３−メト
キシ−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニルメトキシ）ブタンジア
ミド沈殿、そして４６０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕
−２−ヒドロキシ−４−オキソ−３−メトキシ−４−
〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸エチルと〔２
Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−メトキシ−４−オキソ−３
−ヒドロキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブ
タン酸エチルとの混合物（７：１の比）を得た。分析 ：Ｃ14Ｈ19Ｏ6 Ｎ 計算：Ｃ％５６．５５ Ｈ％６．４４ Ｎ％４．７１ 実測： ５６．４５ ６．３２ ４．５１ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．２５ppm （ｔ、３Ｈ）；２．８（ｓ、１Ｈ）；３．
２２（ｓ）及び３．３５（ｓ、３Ｈ）；４−４．８５
（６Ｈ）；７．１８（ｓ、５Ｈ）；８．７５及び９．２
５（７／１＝１Ｈ）
【００２４】工程Ｂ’：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２
−〔４−（メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−
オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）ア
ミノ〕ブタン酸エチル 〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オキ
ソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミ
ノ〕ブタン酸エチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−
メトキシ−４−オキソ−３−ヒドロキシ−４−〔（フェ
ニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸エチルとの生成物混合
物４７５mgを５ccのピリジンと２ccの塩化メチレンに溶
解する。−１０℃で４５７mgの塩化トシルを加える。−
１０℃で１夜放置した後、混合物を５．２ccの濃塩酸を
含有する冷水上に注ぐ、塩化メチレンで抽出し、シリカ
でクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル／ヘキサン
１：１）した後、１１０mgの出発物質、４３０mgの所期
生成物及び９０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−３−
〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−オ
キソ−２−メトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミ
ノ〕ブタン酸エチルを回収した。所期生成物を塩化メチ
レン−ヘキサン混合物（８−２）より結晶化する。 ｍ．ｐ．＝１０１−１０２℃。 〔α〕D 25 ＝＋１２°（ｃ＝１．０３、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ21Ｈ25Ｏ8 ＮＳ 計算：Ｃ％５５．８６ Ｈ％５．５８ Ｎ％３．１０ Ｓ％７．１ 実測： ５５．６２ ５．４９ ３．１３ ６．８ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．２５ppm （ｔ、３Ｈ）；２．３４（ｓ、３Ｈ）；
３．３（ｓ、３Ｈ）；４．２（ｑ、２Ｈ）；４．３０
（ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ、１Ｈ）；４．６８（ｄ、２Ｈ）；
５．３５（ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ、１Ｈ）；７．１−７．３
（７Ｈ）；７．７（ｄ、２Ｈ）；８．８（１Ｈ）
−〔４−（メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−
オキソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）ア
ミノ〕ブタン酸エチル 〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オキ
ソ−３−メトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミ
ノ〕ブタン酸エチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−
メトキシ−４−オキソ−３−ヒドロキシ−４−〔（フェ
ニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸エチルとの生成物混合
物４７５mgを５ccのピリジンと２ccの塩化メチレンに溶
解する。−１０℃で４５７mgの塩化トシルを加える。−
１０℃で１夜放置した後、混合物を５．２ccの濃塩酸を
含有する冷水上に注ぐ、塩化メチレンで抽出し、シリカ
でクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル／ヘキサン
１：１）した後、１１０mgの出発物質、４３０mgの所期
生成物及び９０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−３−
〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−オ
キソ−２−メトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミ
ノ〕ブタン酸エチルを回収した。所期生成物を塩化メチ
レン−ヘキサン混合物（８−２）より結晶化する。 ｍ．ｐ．＝１０１−１０２℃。 〔α〕D 25 ＝＋１２°（ｃ＝１．０３、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ21Ｈ25Ｏ8 ＮＳ 計算：Ｃ％５５．８６ Ｈ％５．５８ Ｎ％３．１０ Ｓ％７．１ 実測： ５５．６２ ５．４９ ３．１３ ６．８ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．２５ppm （ｔ、３Ｈ）；２．３４（ｓ、３Ｈ）；
３．３（ｓ、３Ｈ）；４．２（ｑ、２Ｈ）；４．３０
（ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ、１Ｈ）；４．６８（ｄ、２Ｈ）；
５．３５（ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ、１Ｈ）；７．１−７．３
（７Ｈ）；７．７（ｄ、２Ｈ）；８．８（１Ｈ）
【００２５】工程Ｂ”：（２Ｓ−trans ）−１−フェニ
ルメトキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジ
ンカルボン酸エチル 工程Ｂ’で得た生成物（２４５mg）を３ccのアセトン溶
液に溶解してなる溶液を２２３mgの炭酸カリウムのアセ
トン懸濁液に６０℃で加える。１時間後に反応混合物を
濾過し、蒸発乾固させ、所期生成物を定量的に得た。 〔α〕D 25 ＝＋３７°（ｃ＝１．６、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ14Ｈ17Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％６０．２０ Ｈ％６．１３ Ｎ％５．０１ 実測： ６０．０５ ６．２１ ５．０５ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．３ppm （ｔ、３Ｈ）；３．４（ｓ、３Ｈ）；４
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．２（ｑ、２
Ｈ）；４．３（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．
９８（ｓ、２Ｈ）；７．２５（ｓ、５Ｈ）
ルメトキシ−３−メトキシ−４−オキソ−２−アゼチジ
ンカルボン酸エチル 工程Ｂ’で得た生成物（２４５mg）を３ccのアセトン溶
液に溶解してなる溶液を２２３mgの炭酸カリウムのアセ
トン懸濁液に６０℃で加える。１時間後に反応混合物を
濾過し、蒸発乾固させ、所期生成物を定量的に得た。 〔α〕D 25 ＝＋３７°（ｃ＝１．６、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ14Ｈ17Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％６０．２０ Ｈ％６．１３ Ｎ％５．０１ 実測： ６０．０５ ６．２１ ５．０５ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．３ppm （ｔ、３Ｈ）；３．４（ｓ、３Ｈ）；４
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．２（ｑ、２
Ｈ）；４．３（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．
９８（ｓ、２Ｈ）；７．２５（ｓ、５Ｈ）
【００２６】例４：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス
（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸エチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸エチル ３８０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸ジエチルを例１の工程
Ａに記載のように４３０mgの炭酸カリウムで処理する。
得られた粗生成物を６２４mgのＯ−ベンジルヒドロキシ
ルアミン塩酸塩及び７５０mgのエチル−１−ジメチルア
ミノプロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩と半時間
反応させる。抽出し、クロマトグラフィーした後、１８
０mgの出発物質、７０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−
２−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ’−３−トリス（フェニルメト
キシ）ブタンジアミド、そして２９０mgの〔２Ｒ−（Ｒ
*，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オキソ−３−フェ
ニルメトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブ
タン酸エチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−３−ヒドロ
キシ−４−オキソ−２−フェニルメトキシ−４−〔（フ
ェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸エチルとの混合物を
単離した。所期生成物の物理化学的分析は次の通り。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．２ppm （２ｔ、３Ｈ）；３．７５−３．８５（強
い、９Ｈ）；７．１８（１０Ｈ）；９．１３及び９．３
３（１Ｈ、７／３）
（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸エチル工程Ａ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸エチル ３８０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸ジエチルを例１の工程
Ａに記載のように４３０mgの炭酸カリウムで処理する。
得られた粗生成物を６２４mgのＯ−ベンジルヒドロキシ
ルアミン塩酸塩及び７５０mgのエチル−１−ジメチルア
ミノプロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩と半時間
反応させる。抽出し、クロマトグラフィーした後、１８
０mgの出発物質、７０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−
２−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ’−３−トリス（フェニルメト
キシ）ブタンジアミド、そして２９０mgの〔２Ｒ−（Ｒ
*，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オキソ−３−フェ
ニルメトキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブ
タン酸エチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−３−ヒドロ
キシ−４−オキソ−２−フェニルメトキシ−４−〔（フ
ェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸エチルとの混合物を
単離した。所期生成物の物理化学的分析は次の通り。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．２ppm （２ｔ、３Ｈ）；３．７５−３．８５（強
い、９Ｈ）；７．１８（１０Ｈ）；９．１３及び９．３
３（１Ｈ、７／３）
【００２７】工程Ｂ’：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２
−〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−
オキソ−３−（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸エチル 〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オキ
ソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸エチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−３−ヒドロキシ−４−オキソ−２−フェニルメ
トキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸
エチルとの混合物を３ccのピリジンと２ccの塩化メチレ
ンに−１０℃で溶解する。７１０mgの塩化トシルを加
え、混合物を−１０℃で３日間放置し、次いで３．１cc
の１２Ｎ塩酸を含有する氷水上に注ぐ。抽出し、クロマ
トグラフィー（溶離剤：酢酸エチル−ヘキサン１：１）
した後、１００mgの出発物質、３９０mgの所期生成物及
び１０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−３−〔（４−メ
チルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−オキソ−２−
（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニルメトキシ）ア
ミノ〕ブタン酸エチルを単離した。所期生成物を塩化メ
チレン−ヘキサン混合物（７／３）より結晶化する。 ｍ．ｐ．＝８３−８４℃。 〔α〕D 25 ＝＋２０°（ｃ＝０．８７、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ27Ｈ29Ｏ8 ＮＳ 計算：Ｃ％６１．４６ Ｈ％５．５４ Ｎ％２．６５ Ｓ％６．１ 実測： ６１．２４ ５．３８ ２．６２ ５．８ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．１５ppm （ｔ、３Ｈ）；２．３（ｓ、３Ｈ）；４
（ｑｄ、２Ｈ）；４．３５（ｓ、２Ｈ）；４．４（ｄ、
１Ｈ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）；４．５８（ｓ、２Ｈ）；５．
２５（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）；７．０５−７．２
５（１２Ｈ）；７．６（ｄ、２Ｈ）；８．７７（ｓ広
い、１Ｈ）
−〔（４−メチルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−
オキソ−３−（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸エチル 〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−４−オキ
ソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニルメトキ
シ）アミノ〕ブタン酸エチルと〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ
* ）〕−３−ヒドロキシ−４−オキソ−２−フェニルメ
トキシ−４−〔（フェニルメトキシ）アミノ〕ブタン酸
エチルとの混合物を３ccのピリジンと２ccの塩化メチレ
ンに−１０℃で溶解する。７１０mgの塩化トシルを加
え、混合物を−１０℃で３日間放置し、次いで３．１cc
の１２Ｎ塩酸を含有する氷水上に注ぐ。抽出し、クロマ
トグラフィー（溶離剤：酢酸エチル−ヘキサン１：１）
した後、１００mgの出発物質、３９０mgの所期生成物及
び１０mgの〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−３−〔（４−メ
チルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−オキソ−２−
（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニルメトキシ）ア
ミノ〕ブタン酸エチルを単離した。所期生成物を塩化メ
チレン−ヘキサン混合物（７／３）より結晶化する。 ｍ．ｐ．＝８３−８４℃。 〔α〕D 25 ＝＋２０°（ｃ＝０．８７、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ27Ｈ29Ｏ8 ＮＳ 計算：Ｃ％６１．４６ Ｈ％５．５４ Ｎ％２．６５ Ｓ％６．１ 実測： ６１．２４ ５．３８ ２．６２ ５．８ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz ） １．１５ppm （ｔ、３Ｈ）；２．３（ｓ、３Ｈ）；４
（ｑｄ、２Ｈ）；４．３５（ｓ、２Ｈ）；４．４（ｄ、
１Ｈ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）；４．５８（ｓ、２Ｈ）；５．
２５（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）；７．０５−７．２
５（１２Ｈ）；７．６（ｄ、２Ｈ）；８．７７（ｓ広
い、１Ｈ）
【００２８】工程Ｂ”：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビ
ス（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジン
カルボン酸エチル ５ccのアセトンに溶解した０．５５ｍＭ（２９０mg）の
工程Ｂ’で得た生成物を、３当量（２２８mg）のＫ2 Ｃ
Ｏ3 を５mlのアセトンに加えてなる懸濁液に６０℃で添
加する。１時間かきまぜ、次いで濾過し、溶媒を蒸発乾
固させた後、１５６mg（収率＝８０％）の所期のアゼチ
ジノンをクロマトグラフィーにより単離した。 〔α〕D 25 ＝＋４０°（ｃ＝０．６３、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ20Ｈ21Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％６７．５９ Ｈ％５．９６ Ｎ％３．９４ 実測： ６７．３３ ５．９３ ３．８８ＮＭＲ 1 Ｈ（８０ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．６ppm （ｔ、３Ｈ）；４．０１（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4
＝１．５Ｈｚ）；４．２３（ｑ、２Ｈ）；４．５５
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．６８（ｓ、２
Ｈ）；５．１（ｓ、２Ｈ）；７．４−７．６（１０Ｈ）
ス（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジン
カルボン酸エチル ５ccのアセトンに溶解した０．５５ｍＭ（２９０mg）の
工程Ｂ’で得た生成物を、３当量（２２８mg）のＫ2 Ｃ
Ｏ3 を５mlのアセトンに加えてなる懸濁液に６０℃で添
加する。１時間かきまぜ、次いで濾過し、溶媒を蒸発乾
固させた後、１５６mg（収率＝８０％）の所期のアゼチ
ジノンをクロマトグラフィーにより単離した。 〔α〕D 25 ＝＋４０°（ｃ＝０．６３、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ20Ｈ21Ｏ5 Ｎ 計算：Ｃ％６７．５９ Ｈ％５．９６ Ｎ％３．９４ 実測： ６７．３３ ５．９３ ３．８８ＮＭＲ 1 Ｈ（８０ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．６ppm （ｔ、３Ｈ）；４．０１（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4
＝１．５Ｈｚ）；４．２３（ｑ、２Ｈ）；４．５５
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．５Ｈｚ）；４．６８（ｓ、２
Ｈ）；５．１（ｓ、２Ｈ）；７．４−７．６（１０Ｈ）
【００２９】例５：（２Ｓ−trans ）−１−ヒドロキシ
−４−オキソ−３−フェニルメトキシ−２−アゼチジン
カルボン酸メチル １７０mgの例２で得たアゼチジノンを１０ccの酢酸エチ
ルに溶解し、１７０mgの５％パラジウム担持炭の存在下
に３バールの圧力下に１時間水素化する。次いで触媒を
濾過し、蒸発させ、クロマトグラフィーした後、１００
mgの所期生成物を単離した。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz 、ＣＤＣl3） ３．７（ｓ、３Ｈ）；４．２８（ｄ広い、１Ｈ、Ｊ3.4
＝１．５Ｈｚ）；４．５５（ｄ広い、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝
１．５Ｈｚ）；４．５５（ｄ広い、１Ｈ、Ｊ3.4＝１．
５Ｈｚ）；４．６２（ｓ、２Ｈ）；７．２（ｓ、５Ｈ）
−４−オキソ−３−フェニルメトキシ−２−アゼチジン
カルボン酸メチル １７０mgの例２で得たアゼチジノンを１０ccの酢酸エチ
ルに溶解し、１７０mgの５％パラジウム担持炭の存在下
に３バールの圧力下に１時間水素化する。次いで触媒を
濾過し、蒸発させ、クロマトグラフィーした後、１００
mgの所期生成物を単離した。ＮＭＲ 1 Ｈ（６０ＭＨz 、ＣＤＣl3） ３．７（ｓ、３Ｈ）；４．２８（ｄ広い、１Ｈ、Ｊ3.4
＝１．５Ｈｚ）；４．５５（ｄ広い、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝
１．５Ｈｚ）；４．５５（ｄ広い、１Ｈ、Ｊ3.4＝１．
５Ｈｚ）；４．６２（ｓ、２Ｈ）；７．２（ｓ、５Ｈ）
【００３０】例６：（２Ｓ−trans ）−１−ヒドロキシ
−４−オキソ−３−フェニルメトキシ−２−アゼチジン
カルボン酸エチル １１５mgの例４で得たアゼチジノンを１０ccの酢酸エチ
ルに溶解してなる溶液に１１５mgの５％パラジウム担持
炭を加える。３バールで１時間水素化した後、触媒を濾
過し、溶媒を蒸発させる。クロマトグラフィーによって
６１mg（収率＝７７％）の所期アゼチジノンを単離し
た。ＮＭＲ 1 Ｈ（２００ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．９（ｔｄ、３Ｈ）；４．２２（ｑｄ、２Ｈ）；４．
２９（ｄ、１Ｈ、Ｊ3. 4 ＝１．２２Ｈｚ）；４．５２
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．２２Ｈｚ）；４．７０（ｑ、
２Ｈ）；７．５９（ｓ、５Ｈ）
−４−オキソ−３−フェニルメトキシ−２−アゼチジン
カルボン酸エチル １１５mgの例４で得たアゼチジノンを１０ccの酢酸エチ
ルに溶解してなる溶液に１１５mgの５％パラジウム担持
炭を加える。３バールで１時間水素化した後、触媒を濾
過し、溶媒を蒸発させる。クロマトグラフィーによって
６１mg（収率＝７７％）の所期アゼチジノンを単離し
た。ＮＭＲ 1 Ｈ（２００ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．９（ｔｄ、３Ｈ）；４．２２（ｑｄ、２Ｈ）；４．
２９（ｄ、１Ｈ、Ｊ3. 4 ＝１．２２Ｈｚ）；４．５２
（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝１．２２Ｈｚ）；４．７０（ｑ、
２Ｈ）；７．５９（ｓ、５Ｈ）
【００３１】例７：（２Ｓ−trans ）−４−オキソ−３
−メトキシ−２−アゼチジンカルボン酸エチル ２７０mgの例３で得たアゼチジノンを２５ccの酢酸エチ
ルに溶解してなる溶液を２７０mgの５％パラジウム担持
炭の存在下に３バールの水素により１時間還元する。結
晶を濾過し、溶媒を蒸発させる。残留物を５ccのメタノ
ールに溶解し、アルゴン雰囲気下に３０ccの炭酸水素ナ
トリウム水溶液（２．３５ｇ）及び４ccの２０％塩化チ
タン水溶液（７７１mg）に加える。１０％炭酸ナトリウ
ム水溶液によりｐＨを６．５に調節する。１時間かきま
ぜ、次いで酢酸エチルで抽出し、クロマトグラフィー
（溶離剤：酢酸エチル／ヘキサン２：８）した後、５０
mgの所期生成物を得た。 〔α〕D 25 ＝＋１５°（ｃ＝１．３、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ7 Ｈ11Ｏ4 Ｎ 計算：Ｃ％４８．５５ Ｈ％６．４０ Ｎ％８．０９ 実測： ４８．０１ ６．３９ ７．８８ＩＲ ：ＣＯＯＲ＝１７４０；νラクタム＝１７９５ＮＭＲ 1 Ｈν（２００ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．３２（ｔ、３Ｈ）；３．５５（ｓ、３Ｈ）；４．１
５（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4＝２Ｈｚ）；４．２７（ｑ、２
Ｈ）；４．６３（ｔ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝Ｊ3.1 ＝２Ｈ
ｚ）；６．４９（ｓ広い、１Ｈ）
−メトキシ−２−アゼチジンカルボン酸エチル ２７０mgの例３で得たアゼチジノンを２５ccの酢酸エチ
ルに溶解してなる溶液を２７０mgの５％パラジウム担持
炭の存在下に３バールの水素により１時間還元する。結
晶を濾過し、溶媒を蒸発させる。残留物を５ccのメタノ
ールに溶解し、アルゴン雰囲気下に３０ccの炭酸水素ナ
トリウム水溶液（２．３５ｇ）及び４ccの２０％塩化チ
タン水溶液（７７１mg）に加える。１０％炭酸ナトリウ
ム水溶液によりｐＨを６．５に調節する。１時間かきま
ぜ、次いで酢酸エチルで抽出し、クロマトグラフィー
（溶離剤：酢酸エチル／ヘキサン２：８）した後、５０
mgの所期生成物を得た。 〔α〕D 25 ＝＋１５°（ｃ＝１．３、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ7 Ｈ11Ｏ4 Ｎ 計算：Ｃ％４８．５５ Ｈ％６．４０ Ｎ％８．０９ 実測： ４８．０１ ６．３９ ７．８８ＩＲ ：ＣＯＯＲ＝１７４０；νラクタム＝１７９５ＮＭＲ 1 Ｈν（２００ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．３２（ｔ、３Ｈ）；３．５５（ｓ、３Ｈ）；４．１
５（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4＝２Ｈｚ）；４．２７（ｑ、２
Ｈ）；４．６３（ｔ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝Ｊ3.1 ＝２Ｈ
ｚ）；６．４９（ｓ広い、１Ｈ）
【００３２】例８：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス
（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸メチル工程Ａ ：〔２Ｓ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸のモノメチルエステル ５６０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチルを３．３ccの
りん酸塩緩衝液（０．１Ｍ、ｐＨ８）に溶解してなる溶
液に２００単位のブタ肝臓エステラーゼ（ＰＬＥ）をか
きまぜながら加える。１Ｎ水酸化ナトリウム溶液を加え
てｐＨを８に保つ。８時間反応させた後、出発物質をエ
ーテルで抽出する（３０％）。水性相をアンバーライト
ＩＲＮ７７（Ｈ+ ）で酸性化する。濾過し、酢酸エチル
で抽出した後、蒸発によって約１０％の出発物質を含む
２４０mgの所期生成物を得た。工程Ｂ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸メチル 工程Ａで得た混合物を１５０mgのＯ−ベンジルヒドロキ
シルアミン塩酸塩及び３００mgのエチル−１−ジメチル
アミノプロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩を含有
する５ccの含水テトラヒドロフランに溶解する。半時間
反応させた後、塩化メチレンで抽出を行い、所期生成物
（９０％）と工程Ａの出発物質（１０％）との混合物を
得た。工程Ｃ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−〔（４−メチ
ルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−オキソ−３−
（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニルメトキシ）ア
ミノ〕ブタン酸メチル 工程Ｂで得た生成物より出発し、４００mgの塩化トシル
を５ccのピリジンに溶解したものを用いて例２の工程
Ｂ’3 におけるように実施する。７２０mgの混合物を得
た。クロマトグラフィーした後、２００mgの所期生成物
を得た。工程Ｄ ：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス（フェニルメ
トキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカルボン酸エチ
ル 例２の工程Ｂ”3 におけるように実施し、例２で得た生
成物と同一の所期生成物を得た。
（フェニルメトキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカ
ルボン酸メチル工程Ａ ：〔２Ｓ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸のモノメチルエステル ５６０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチルを３．３ccの
りん酸塩緩衝液（０．１Ｍ、ｐＨ８）に溶解してなる溶
液に２００単位のブタ肝臓エステラーゼ（ＰＬＥ）をか
きまぜながら加える。１Ｎ水酸化ナトリウム溶液を加え
てｐＨを８に保つ。８時間反応させた後、出発物質をエ
ーテルで抽出する（３０％）。水性相をアンバーライト
ＩＲＮ７７（Ｈ+ ）で酸性化する。濾過し、酢酸エチル
で抽出した後、蒸発によって約１０％の出発物質を含む
２４０mgの所期生成物を得た。工程Ｂ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−
４−オキソ−３−フェニルメトキシ−４−〔（フェニル
メトキシ）アミノ〕ブタン酸メチル 工程Ａで得た混合物を１５０mgのＯ−ベンジルヒドロキ
シルアミン塩酸塩及び３００mgのエチル−１−ジメチル
アミノプロピル−３，３−カルボジイミド塩酸塩を含有
する５ccの含水テトラヒドロフランに溶解する。半時間
反応させた後、塩化メチレンで抽出を行い、所期生成物
（９０％）と工程Ａの出発物質（１０％）との混合物を
得た。工程Ｃ ：〔２Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−〔（４−メチ
ルフェニルスルホニル）オキシ〕−４−オキソ−３−
（フェニルメトキシ）−４−〔（フェニルメトキシ）ア
ミノ〕ブタン酸メチル 工程Ｂで得た生成物より出発し、４００mgの塩化トシル
を５ccのピリジンに溶解したものを用いて例２の工程
Ｂ’3 におけるように実施する。７２０mgの混合物を得
た。クロマトグラフィーした後、２００mgの所期生成物
を得た。工程Ｄ ：（２Ｓ−trans ）−１，３−ビス（フェニルメ
トキシ）−４−オキソ−２−アゼチジンカルボン酸エチ
ル 例２の工程Ｂ”3 におけるように実施し、例２で得た生
成物と同一の所期生成物を得た。
【００３３】例９：（２Ｓ−cis ）−１−アセトキシ−
４−オキソ〔〔（フェニルメトキシ）カルボニル〕アミ
ノ〕−２−アゼチジンカルボン酸エチル工程Ａ ：（２Ｓ−trans ）−１−アセトキシ−４−オキ
ソ−３−フェニルメトキシ−２−アゼチジンカルボン酸
エチル １５０mgの例６に記載のように得た（２Ｓ−trans ）−
１−ヒドロキシ−４−オキソ−３−フェニルメトキシ−
２−アゼチジンカルボン酸エチルを８ccの無水塩化メチ
レンに溶解し、０．０７ccの無水酢酸と０．０１２ccの
トリエチルアミンを加える。２時間反応させ、塩化メチ
レンで抽出した後、２００mgの混合物を得、次いで１３
６mgの所期生成物をクロマトグラフィーにより単離し
た。 〔α〕D 25 ＝＋９．５°（ｃ＝３．３１、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ15Ｈ17Ｏ6 Ｎ 計算：Ｃ％５８．６２ Ｈ％５．５８ Ｎ％４．５６ 実測： ５８．４５ ５．７４ ４．８４ＮＭＲ 1 Ｈ（８０ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．２７（ｔ、３Ｈ）；２．１６（ｓ、３Ｈ）；４．２
２（ｑ、２Ｈ）；４．５（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝２Ｈ
ｚ）；４．７７（ｓ広い、３Ｈ）；７．３５（ｓ、５
Ｈ）工程Ｂ ：（２Ｓ−trans ）−１−アセトキシ−４−オキ
ソ−３−〔（トリフルオルメチルスルホニル）オキシ〕
−２−アゼチジンカルボン酸エチル １２８mgの上で得た生成物を１５ccの酢酸エチルに溶解
して１２８mgの１０％パラジウム担持活性炭の存在下に
３バールの圧力下に１時間３０分水素化する。触媒を濾
過し、溶媒を蒸発させ、得られた生成物を６ccの塩化メ
チレンで溶解する。０．１ccのピリジンと０．０８ccの
トリフルオルメチルスルホン酸無水物を０℃で加える。
半時間反応させた後、反応混合物を冷塩化アンモニア水
に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。６０mgの所期生成物
を得た。ＮＭＲ 1 Ｈ（８０ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．３２（ｔ、３Ｈ）；２．２（ｓ、３Ｈ）；４．３２
（ｑ、２Ｈ）；４．７（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝２Ｈｚ）；５．
７（ｄ、１Ｈ、２Ｈｚ）工程Ｃ ：（２Ｓ−cis ）−１−アセトキシ−４−オキソ
−３−〔〔（フェニルメトキシ）カルボニル〕アミノ〕
−２−アゼチジンカルボン酸エチル ６０mgの上記工程Ａで得た生成物を８ccのベンゼンに溶
解し、３０mgのナトリウムアジドと５％塩化トリカプリ
ルメチルアンモニウムを６０℃で加える。１時間反応さ
せた後、塩化メチレンで抽出し、溶媒を蒸発し、残留物
を８ccの酢酸エチルに溶解し、１００mgの１０％パラジ
ウム担持活性炭の存在下に３バールの圧力下に水素化す
る。２時間後に触媒を濾過し、溶媒を蒸発させる。得ら
れた生成物を４ccのアセトン−水混合物（１：１）に溶
解し、０．０２４ccのクロルぎ酸ベンジルと２８mgの重
炭酸ナトリウムを加える。１時間反応させ、蒸発乾固
し、塩化メチレンで溶解した後、残留物をクロマトグラ
フィーし、２０mgの所期生成物を得た。
４−オキソ〔〔（フェニルメトキシ）カルボニル〕アミ
ノ〕−２−アゼチジンカルボン酸エチル工程Ａ ：（２Ｓ−trans ）−１−アセトキシ−４−オキ
ソ−３−フェニルメトキシ−２−アゼチジンカルボン酸
エチル １５０mgの例６に記載のように得た（２Ｓ−trans ）−
１−ヒドロキシ−４−オキソ−３−フェニルメトキシ−
２−アゼチジンカルボン酸エチルを８ccの無水塩化メチ
レンに溶解し、０．０７ccの無水酢酸と０．０１２ccの
トリエチルアミンを加える。２時間反応させ、塩化メチ
レンで抽出した後、２００mgの混合物を得、次いで１３
６mgの所期生成物をクロマトグラフィーにより単離し
た。 〔α〕D 25 ＝＋９．５°（ｃ＝３．３１、ＣＨＣl3）分析 ：Ｃ15Ｈ17Ｏ6 Ｎ 計算：Ｃ％５８．６２ Ｈ％５．５８ Ｎ％４．５６ 実測： ５８．４５ ５．７４ ４．８４ＮＭＲ 1 Ｈ（８０ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．２７（ｔ、３Ｈ）；２．１６（ｓ、３Ｈ）；４．２
２（ｑ、２Ｈ）；４．５（ｄ、１Ｈ、Ｊ3.4 ＝２Ｈ
ｚ）；４．７７（ｓ広い、３Ｈ）；７．３５（ｓ、５
Ｈ）工程Ｂ ：（２Ｓ−trans ）−１−アセトキシ−４−オキ
ソ−３−〔（トリフルオルメチルスルホニル）オキシ〕
−２−アゼチジンカルボン酸エチル １２８mgの上で得た生成物を１５ccの酢酸エチルに溶解
して１２８mgの１０％パラジウム担持活性炭の存在下に
３バールの圧力下に１時間３０分水素化する。触媒を濾
過し、溶媒を蒸発させ、得られた生成物を６ccの塩化メ
チレンで溶解する。０．１ccのピリジンと０．０８ccの
トリフルオルメチルスルホン酸無水物を０℃で加える。
半時間反応させた後、反応混合物を冷塩化アンモニア水
に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。６０mgの所期生成物
を得た。ＮＭＲ 1 Ｈ（８０ＭＨz 、ＣＤＣl3） １．３２（ｔ、３Ｈ）；２．２（ｓ、３Ｈ）；４．３２
（ｑ、２Ｈ）；４．７（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝２Ｈｚ）；５．
７（ｄ、１Ｈ、２Ｈｚ）工程Ｃ ：（２Ｓ−cis ）−１−アセトキシ−４−オキソ
−３−〔〔（フェニルメトキシ）カルボニル〕アミノ〕
−２−アゼチジンカルボン酸エチル ６０mgの上記工程Ａで得た生成物を８ccのベンゼンに溶
解し、３０mgのナトリウムアジドと５％塩化トリカプリ
ルメチルアンモニウムを６０℃で加える。１時間反応さ
せた後、塩化メチレンで抽出し、溶媒を蒸発し、残留物
を８ccの酢酸エチルに溶解し、１００mgの１０％パラジ
ウム担持活性炭の存在下に３バールの圧力下に水素化す
る。２時間後に触媒を濾過し、溶媒を蒸発させる。得ら
れた生成物を４ccのアセトン−水混合物（１：１）に溶
解し、０．０２４ccのクロルぎ酸ベンジルと２８mgの重
炭酸ナトリウムを加える。１時間反応させ、蒸発乾固
し、塩化メチレンで溶解した後、残留物をクロマトグラ
フィーし、２０mgの所期生成物を得た。
【００３４】製造例 前記の例の開始時で用いた化合物は次のように製造し
た。製造１ ：〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−３
−メトキシブタンジ酸ジメチル ４５０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ジヒドロ
キシブタンジ酸ジメチルと５０mgの無水塩化第一すずを
１０mlのアセトニトリルに溶解し、ジアゾメタンのエー
テル溶液を、溶液が黄色を留めるまで０℃で加える。溶
媒を真空下に蒸発乾固し、残留物を短いシリカゲルカラ
ムでクロマトグラフィーする（溶離剤：酢酸エチル／ヘ
キサン１／２）。生成物を蒸留し、２９２mgの所期生成
物を単離した。 ｂ．ｐ．0.4 ＝３５℃ 〔α〕D 25 ＝＋３２°（ｃ＝１．１４、ＣＨＣl3）
た。製造１ ：〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒドロキシ−３
−メトキシブタンジ酸ジメチル ４５０mgの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ジヒドロ
キシブタンジ酸ジメチルと５０mgの無水塩化第一すずを
１０mlのアセトニトリルに溶解し、ジアゾメタンのエー
テル溶液を、溶液が黄色を留めるまで０℃で加える。溶
媒を真空下に蒸発乾固し、残留物を短いシリカゲルカラ
ムでクロマトグラフィーする（溶離剤：酢酸エチル／ヘ
キサン１／２）。生成物を蒸留し、２９２mgの所期生成
物を単離した。 ｂ．ｐ．0.4 ＝３５℃ 〔α〕D 25 ＝＋３２°（ｃ＝１．１４、ＣＨＣl3）
【００３５】製造２：〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒ
ドロキシ−３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチル ３ｇの（４Ｒ−trans ）−２−メチル−２−フェニル−
１，３−ジオキソラン−４，５−ジカルボン酸ジメチル
と３ｇのナトリウムシアノほう水素化物を３５ccのアセ
トニトリルに溶解する。飽和ＨＣl エーテル溶液をｐＨ
が２となるまでかきまぜながら滴下する。周囲温度で２
時間後に、混合物をＮａＨＣＯ3 の飽和水溶液上に注
ぎ、ＣＨ2 Ｃl2で抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、
蒸発させる。その残留物を短いシリカカラムでクロマト
グラフィーする。シクロヘキサンで結晶化することによ
って所期の純モノベンジルエーテルを得た（２．５５
ｇ）。 ｍ．ｐ．＝６９℃ 〔α〕D 25 ＝＋８７°（ｃ＝０．９８、ＣＨＣl3）
ドロキシ−３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチル ３ｇの（４Ｒ−trans ）−２−メチル−２−フェニル−
１，３−ジオキソラン−４，５−ジカルボン酸ジメチル
と３ｇのナトリウムシアノほう水素化物を３５ccのアセ
トニトリルに溶解する。飽和ＨＣl エーテル溶液をｐＨ
が２となるまでかきまぜながら滴下する。周囲温度で２
時間後に、混合物をＮａＨＣＯ3 の飽和水溶液上に注
ぎ、ＣＨ2 Ｃl2で抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、
蒸発させる。その残留物を短いシリカカラムでクロマト
グラフィーする。シクロヘキサンで結晶化することによ
って所期の純モノベンジルエーテルを得た（２．５５
ｇ）。 ｍ．ｐ．＝６９℃ 〔α〕D 25 ＝＋８７°（ｃ＝０．９８、ＣＨＣl3）
【００３６】製造２’：〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−
ヒドロキシ−３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチル ３ｇの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ジヒドロキシ
ブタンジ酸ジメチルをアルゴン雰囲気下に無水テトラヒ
ドロフランに溶解する。１３．６mlの２．５Ｎのナトリ
ウムヘキサメチルジシラジドトルエン溶液を加え、次い
で１０分後に２．４mlの臭化ベンジルを加える。混合物
を５時間かきまぜ、次いで氷上に注ぎ、ＣＨ2 Ｃl2で抽
出する。有機相を水洗し、乾燥し、蒸発させる。残留物
をシリカゲルカラムでクロマトグラフィーする。最初に
溶出する生成物は〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ビ
ス（フェニルメトキシ）ブタンジ酸ジメチル（１．８２
ｇ）であり、次いで、製造２で得た生成物と同一の所期
生成物（１．３５ｇ）が溶出した。
ヒドロキシ−３−フェニルメトキシブタンジ酸ジメチル ３ｇの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ジヒドロキシ
ブタンジ酸ジメチルをアルゴン雰囲気下に無水テトラヒ
ドロフランに溶解する。１３．６mlの２．５Ｎのナトリ
ウムヘキサメチルジシラジドトルエン溶液を加え、次い
で１０分後に２．４mlの臭化ベンジルを加える。混合物
を５時間かきまぜ、次いで氷上に注ぎ、ＣＨ2 Ｃl2で抽
出する。有機相を水洗し、乾燥し、蒸発させる。残留物
をシリカゲルカラムでクロマトグラフィーする。最初に
溶出する生成物は〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ビ
ス（フェニルメトキシ）ブタンジ酸ジメチル（１．８２
ｇ）であり、次いで、製造２で得た生成物と同一の所期
生成物（１．３５ｇ）が溶出した。
【００３７】製造３：〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシブタンジ酸ジエチル １．５ｇの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ジヒドロ
キシブタンジ酸ジエチルと１００mgの無水塩化第一すず
を３０ccのアセトニトリルに溶解する。０℃でジアゾメ
タンエーテル溶液を、溶液が黄色を留めるまで加える。
溶媒を真空下に蒸発させ、残留物をシリカゲルカラムで
クロマトグラフィー（溶離酸：酢酸エチル／ヘキサン１
／３）することによって精製する。得られた生成物を蒸
留し、１．２ｇの所期生成物を単離した。 ｂ．ｐ．0.5 ＝１１５℃ 〔α〕D 25 ＝＋３７°（ｃ＝１．０９、ＣＨＣl3）
ドロキシ−３−メトキシブタンジ酸ジエチル １．５ｇの〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２，３−ジヒドロ
キシブタンジ酸ジエチルと１００mgの無水塩化第一すず
を３０ccのアセトニトリルに溶解する。０℃でジアゾメ
タンエーテル溶液を、溶液が黄色を留めるまで加える。
溶媒を真空下に蒸発させ、残留物をシリカゲルカラムで
クロマトグラフィー（溶離酸：酢酸エチル／ヘキサン１
／３）することによって精製する。得られた生成物を蒸
留し、１．２ｇの所期生成物を単離した。 ｂ．ｐ．0.5 ＝１１５℃ 〔α〕D 25 ＝＋３７°（ｃ＝１．０９、ＣＨＣl3）
【００３８】製造４：〔Ｒ−（Ｒ* ，Ｒ* ）〕−２−ヒ
ドロキシ−３−フェニルメトキシブタンジ酸ジエチル ３ｇの（４Ｒ−trans ）−２−メチル−２−フェニル−
１，３−ジオキソラン−４，５−ジカルボン酸ジエチル
と３ｇのナトリウムシアノほう水素化物を３５ccのアセ
トニトリルに溶解する。ＨＣl 飽和エーテル溶液を滴下
してｐＨを２に調節する。周囲温度で２時間かきまぜた
後、ＣＨ2 Ｃl2で抽出する。溶媒を真空蒸発させた後、
残留物をシリカゲルカラムで濾過し、所期生成物を油状
物の形で得た（２．２４ｇ）。 〔α〕D 25 ＝＋７３°（ｃ＝１．３５、ＣＨＣl3）
ドロキシ−３−フェニルメトキシブタンジ酸ジエチル ３ｇの（４Ｒ−trans ）−２−メチル−２−フェニル−
１，３−ジオキソラン−４，５−ジカルボン酸ジエチル
と３ｇのナトリウムシアノほう水素化物を３５ccのアセ
トニトリルに溶解する。ＨＣl 飽和エーテル溶液を滴下
してｐＨを２に調節する。周囲温度で２時間かきまぜた
後、ＣＨ2 Ｃl2で抽出する。溶媒を真空蒸発させた後、
残留物をシリカゲルカラムで濾過し、所期生成物を油状
物の形で得た（２．２４ｇ）。 〔α〕D 25 ＝＋７３°（ｃ＝１．３５、ＣＨＣl3）
Claims (4)
- 【請求項１】 次式VII 【化１】 （ここでＲは１〜４個の炭素原子を有するアルキル基を
表わし、Ｒ’ｄは水素原子又は保護されていてもよいヒ
ドロキシル基を表わし、Ｒ3 は水素原子又はＲ’3
（Ｒ’3 はアミノ基の保護基を表わす）を表わす）を有
する化合物を製造するにあたり、次式Ｉｄ 【化２】 （ここでＲは前記の意味を有し、Ｒ’2 はヒドロキシル
基の保護基を表わし、Ｒｄは水素原子又は保護されたヒ
ドロキシル基を表わす）の化合物に選択的脱保護反応を
行って次式VIII 【化３】 （ここでＲ及びＲｄは前記の意味を有する）の化合物を
得、この化合物に次式 Ｒ4 −ＯＨ （ここでＲ4 はスルホン酸残基を表わす）のスルホン酸
誘導体を作用させて次式IX 【化４】 （ここでＲ、Ｒｄ及びＲ4 は前記の意味を有する）の化
合物を得、式IXの化合物にアルカリ金属アジドを作用さ
せて次式Ｘ 【化５】 （ここでＲ及びＲｄは前記の意味を有する）の化合物を
得、式Ｘの化合物に水素化剤を作用させて次式 VIIａ 【化６】 （ここでＲ及びＲ’ｄは前記の意味を有する）の化合物
を得、必要ならば、式 VIIａの化合物にアミノ基の保護
基の導入剤を作用させて次式 VIIｂ 【化７】 （ここでＲ、Ｒ’ｄ及びＲ’3 は前記の意味を有する）
の化合物を得、式 VIIａ及び VIIｂの化合物のＲ’ｄが
保護されたヒドロキシル基を表わすときは、所望により
これらの化合物に選択的脱保護反応を行って次式VIIｃ 【化８】 （ここでＲ及びＲ3 は前記の意味を有する）の化合物を
得、所望ならばこの化合物に還元剤を作用させて次式 V
IIｄ 【化９】 （ここでＲ及びＲ3 は前記の意味を有する）の化合物を
得ることを特徴とする、式VII の化合物の製造方法。 - 【請求項２】 出発時においてＲｄが保護されたヒドロ
キシル基を表わす式Ｉｄの化合物を用いることを特徴と
する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 式ＩｄにおいてＲｄがアシルオキシ基を
表わすことを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 スルホン酸誘導体がトリフルオルメチル
スルホン酸の誘導体であることを特徴とする請求項１記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR84-16759 | 1984-11-02 | ||
| FR8416759A FR2572727B1 (fr) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | Nouveau procede de preparation de 2-azetidinones optiquement actives, produits intermediaires de ce procede et produits finals obtenus par le procede |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60244247A Division JPH0720927B2 (ja) | 1984-11-02 | 1985-11-01 | 光学活性な２―アゼチジノン誘導体及びその新製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06316561A JPH06316561A (ja) | 1994-11-15 |
| JPH0759553B2 true JPH0759553B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=9309226
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60244247A Expired - Lifetime JPH0720927B2 (ja) | 1984-11-02 | 1985-11-01 | 光学活性な２―アゼチジノン誘導体及びその新製造方法 |
| JP6093847A Expired - Lifetime JPH0759553B2 (ja) | 1984-11-02 | 1994-04-08 | ３−アミノ−２−アゼチジノン誘導体の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60244247A Expired - Lifetime JPH0720927B2 (ja) | 1984-11-02 | 1985-11-01 | 光学活性な２―アゼチジノン誘導体及びその新製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| JP (2) | JPH0720927B2 (ja) |
| CH (1) | CH670088A5 (ja) |
| DE (1) | DE3539104C2 (ja) |
| FR (1) | FR2572727B1 (ja) |
| GB (1) | GB2166438B (ja) |
| IT (1) | IT1184667B (ja) |
| NL (1) | NL8503001A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US4680391A (en) * | 1983-12-01 | 1987-07-14 | Merck & Co., Inc. | Substituted azetidinones as anti-inflammatory and antidegenerative agents |
-
1984
- 1984-11-02 FR FR8416759A patent/FR2572727B1/fr not_active Expired
-
1985
- 1985-10-28 US US06/791,774 patent/US4716226A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-10-31 IT IT48740/85A patent/IT1184667B/it active
- 1985-11-01 GB GB8526930A patent/GB2166438B/en not_active Expired
- 1985-11-01 CH CH4707/85A patent/CH670088A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1985-11-01 JP JP60244247A patent/JPH0720927B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-11-01 NL NL8503001A patent/NL8503001A/nl not_active Application Discontinuation
- 1985-11-04 DE DE3539104A patent/DE3539104C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-04-08 JP JP6093847A patent/JPH0759553B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| FR2572727B1 (fr) | 1989-05-19 |
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| IT8548740A0 (it) | 1985-10-31 |
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| JPS61158959A (ja) | 1986-07-18 |
| DE3539104C2 (de) | 1996-12-12 |
| JPH06316561A (ja) | 1994-11-15 |
| GB2166438A (en) | 1986-05-08 |
| JPH0720927B2 (ja) | 1995-03-08 |
| FR2572727A1 (fr) | 1986-05-09 |
| GB2166438B (en) | 1989-11-01 |
| CH670088A5 (ja) | 1989-05-12 |
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