JPH0759538B2 - 4−フルオロアニリン誘導体の製造方法 - Google Patents
4−フルオロアニリン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0759538B2 JPH0759538B2 JP63060289A JP6028988A JPH0759538B2 JP H0759538 B2 JPH0759538 B2 JP H0759538B2 JP 63060289 A JP63060289 A JP 63060289A JP 6028988 A JP6028988 A JP 6028988A JP H0759538 B2 JPH0759538 B2 JP H0759538B2
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- Japan
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- reaction
- derivative
- group
- producing
- fluoroaniline
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はニトロベンゼン誘導体から、殺菌剤、除草剤、
医薬の中間体として有用な物質である4−フルオロアニ
リン誘導体を製造する方法に関する。
医薬の中間体として有用な物質である4−フルオロアニ
リン誘導体を製造する方法に関する。
[従来の技術とその課題] 従来、フルオロアニリン誘導体を製造するための色々な
方法が公知である。通常用いられる方法はHF媒体中での
アニリンのジアゾ化分解によってフルオロベンゼンを得
た後にニトロ化、還元する方法[G.Shieman.およびR.Pi
llarski,Ber.62,3035(1925)]。ハロニトロベンゼン
のフッ化カリウムあるいはフッ化セシウムによるハロゲ
ンとフッ素の交換の後、還元する方法[G.C.Finger.お
よびC.W.Kruse,J.A.Chem.Soc.,78,6037(1956)]等が
あるが、これらの方法は工業的に実施するには、工程が
長くなること、選択性が低いこと、反応条件が厳しいこ
となどの問題点を有している。
方法が公知である。通常用いられる方法はHF媒体中での
アニリンのジアゾ化分解によってフルオロベンゼンを得
た後にニトロ化、還元する方法[G.Shieman.およびR.Pi
llarski,Ber.62,3035(1925)]。ハロニトロベンゼン
のフッ化カリウムあるいはフッ化セシウムによるハロゲ
ンとフッ素の交換の後、還元する方法[G.C.Finger.お
よびC.W.Kruse,J.A.Chem.Soc.,78,6037(1956)]等が
あるが、これらの方法は工業的に実施するには、工程が
長くなること、選択性が低いこと、反応条件が厳しいこ
となどの問題点を有している。
また米国特許第2,884,458号、同第3,639,482号、同第3,
558,707号、同第3,580,951号及び同第3,910,985号に記
載されている方法は、位置選択性が低いこと、生成物の
分離精製が難しく収率が低いことなどの問題点を有して
いる。
558,707号、同第3,580,951号及び同第3,910,985号に記
載されている方法は、位置選択性が低いこと、生成物の
分離精製が難しく収率が低いことなどの問題点を有して
いる。
[課題を解決するための手段] 上記したような問題点を考慮し鋭意検討した結果、フッ
化水素酸およびフッ素を含む酸の存在下で反応を行うこ
とにより、ニトロベンゼン誘導体から一段反応により同
時に水素化とフッ素化が行なわれ、容易にかつ高収率、
高選択率で4−フルオロアニリン誘導体が製造できるこ
とを見出した。
化水素酸およびフッ素を含む酸の存在下で反応を行うこ
とにより、ニトロベンゼン誘導体から一段反応により同
時に水素化とフッ素化が行なわれ、容易にかつ高収率、
高選択率で4−フルオロアニリン誘導体が製造できるこ
とを見出した。
すなわち本発明は、一般式 (ただし、式中R1はパーハロアルキル基もしくはパーハ
ロアルコキシ基を表し、R2,R3およびR4は同一もしくは
異なる置換基であって、水素、ハロゲン、アルキル基、
パーハロアルキル基およびハーハロアルコキシ基のなか
から選ばれる基を表す。)で表されるニトロベンゼン誘
導体から、一般式 (ただし、式中R1,R2,R3およびR4は前記と同じ。)で表
される4−フルオロアニリン誘導体を製造する際、水素
化触媒、フッ化水素酸およびフッ素を含む酸の存在下、
水素およびフッ化水素酸によって、ニトロベンゼン誘導
体の水素化およびフッ素化を同時に行なうことを特徴と
する、4−フルオロアニリン誘導体の製造方法である。
ロアルコキシ基を表し、R2,R3およびR4は同一もしくは
異なる置換基であって、水素、ハロゲン、アルキル基、
パーハロアルキル基およびハーハロアルコキシ基のなか
から選ばれる基を表す。)で表されるニトロベンゼン誘
導体から、一般式 (ただし、式中R1,R2,R3およびR4は前記と同じ。)で表
される4−フルオロアニリン誘導体を製造する際、水素
化触媒、フッ化水素酸およびフッ素を含む酸の存在下、
水素およびフッ化水素酸によって、ニトロベンゼン誘導
体の水素化およびフッ素化を同時に行なうことを特徴と
する、4−フルオロアニリン誘導体の製造方法である。
本発明の製造法において、4−フルオロアニリン誘導体
が選択的に製造されるのは、フッ素を含む酸が存在する
ためであるが、それは下記のような反応機構が存在する
ためと考えられる。
が選択的に製造されるのは、フッ素を含む酸が存在する
ためであるが、それは下記のような反応機構が存在する
ためと考えられる。
すなわち、ニトロベンゼン誘導体が水素化される場合、
途中でヒドロキシルアミンの構造をとると考えられる
が、この構造よりOH基が抜けた遷移状態の中間体構造を
とりやすいかどうかが、4−フルオロアニリン誘導体に
なりやすいかどうかを決定している。
途中でヒドロキシルアミンの構造をとると考えられる
が、この構造よりOH基が抜けた遷移状態の中間体構造を
とりやすいかどうかが、4−フルオロアニリン誘導体に
なりやすいかどうかを決定している。
つまり、上記遷移状態の分子は、フッ化水素の存在下で
簡単に4−フルオロアニリン誘導体となる。ここで、ヒ
ドロキシルアミンのOH基の引き抜きやすさは、周囲の媒
体の酸の強さによると考えられる。強酸であるHBF4等、
本発明のフッ素を含む酸は、ヒドロキシルアミンのOH基
を引き抜きやすく、従って4−フルオロアニリン誘導体
の選択率が非常に高いということになる。また、トリフ
ルオロメチル基等の電気陰性度の高い基がベンゼン核の
置換基としてついた場合、反応が不活性になるといわれ
ているが、本発明においては、反応をスムーズに進行さ
せることができた。
簡単に4−フルオロアニリン誘導体となる。ここで、ヒ
ドロキシルアミンのOH基の引き抜きやすさは、周囲の媒
体の酸の強さによると考えられる。強酸であるHBF4等、
本発明のフッ素を含む酸は、ヒドロキシルアミンのOH基
を引き抜きやすく、従って4−フルオロアニリン誘導体
の選択率が非常に高いということになる。また、トリフ
ルオロメチル基等の電気陰性度の高い基がベンゼン核の
置換基としてついた場合、反応が不活性になるといわれ
ているが、本発明においては、反応をスムーズに進行さ
せることができた。
本発明で原料として使用されるニトロベンゼン誘導体の
例としては2−トリフルオロメチルニトロベンゼン、3
−トリフルオロメチルニトロベンゼン、2−トリフルオ
ロメトキシニトロベンゼン、3−トリフルオロメトキシ
ベンゼン、2−クロロ−5−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼンおよび3−クロロ−5−トリフルオロメチルニ
トロベンゼン等をあげることができる。
例としては2−トリフルオロメチルニトロベンゼン、3
−トリフルオロメチルニトロベンゼン、2−トリフルオ
ロメトキシニトロベンゼン、3−トリフルオロメトキシ
ベンゼン、2−クロロ−5−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼンおよび3−クロロ−5−トリフルオロメチルニ
トロベンゼン等をあげることができる。
本発明は2−トリフルオロメチルニトロベンゼンおよび
3−トリフルオロメチルニトロベンゼンから各々対応す
る4−フルオロアニリン誘導体を得る場合にとりわけ有
利である。
3−トリフルオロメチルニトロベンゼンから各々対応す
る4−フルオロアニリン誘導体を得る場合にとりわけ有
利である。
本発明に使用する水素化触媒はルテニウム、ロジウム、
パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金のなか
から選ばれる一種以上の元素で、金属そのもの、酸化
物、ハロゲン化物および水酸化物の形の触媒のいずれも
使用でき、活性炭、アルミナ、およびシリカなどの任意
の担体上に付着して使用することもできる。これらの触
媒のなかで耐久性および性能より、酸化白金が最も好ま
しい。
パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金のなか
から選ばれる一種以上の元素で、金属そのもの、酸化
物、ハロゲン化物および水酸化物の形の触媒のいずれも
使用でき、活性炭、アルミナ、およびシリカなどの任意
の担体上に付着して使用することもできる。これらの触
媒のなかで耐久性および性能より、酸化白金が最も好ま
しい。
フッ素を含む酸としては、HBF4、HPF6、HAsF6、H2Ti
F6、H2SnF6およびH2SiF6のなかから選ばれる一種以上の
ものであり、これらの酸のなかでも選択性および収率よ
り、HBF4が最も好ましい。
F6、H2SnF6およびH2SiF6のなかから選ばれる一種以上の
ものであり、これらの酸のなかでも選択性および収率よ
り、HBF4が最も好ましい。
本発明で使用するフッ化水素酸は、水が存在していると
4−フルオロアニリン誘導体の収率が低下するので、無
水のものが好ましく、その使用する量はフッ化水素酸/
ニトロベンゼンのモル比で5〜100の範囲であり、好ま
しくは10〜20である。上記範囲以下では、反応速度がお
そくなり、それ以上では経済的でない。
4−フルオロアニリン誘導体の収率が低下するので、無
水のものが好ましく、その使用する量はフッ化水素酸/
ニトロベンゼンのモル比で5〜100の範囲であり、好ま
しくは10〜20である。上記範囲以下では、反応速度がお
そくなり、それ以上では経済的でない。
水素化触媒の使用する量はニトロベンゼンに対して0.01
〜5モル%であり、好ましくは0.1〜1モル%である。
上記範囲以下では、反応速度が遅くなり、それ以上でな
経済的でない。
〜5モル%であり、好ましくは0.1〜1モル%である。
上記範囲以下では、反応速度が遅くなり、それ以上でな
経済的でない。
フッ素を含む酸の使用する量は、ニトロベンゼンに対し
て0.5〜5モル%の範囲である。上記範囲以下では反応
が進まず、それ以上では経済的でない。
て0.5〜5モル%の範囲である。上記範囲以下では反応
が進まず、それ以上では経済的でない。
水素の圧力は0.1〜10Kg/cm2の範囲であり、反応圧力は
1〜20Kg/cm2の範囲である。圧力が上記範囲以下では反
応が進まず、それ以上では装置が高価になる。
1〜20Kg/cm2の範囲である。圧力が上記範囲以下では反
応が進まず、それ以上では装置が高価になる。
反応温度は0〜200℃の範囲であり、好ましくは30〜80
℃である。温度が上記範囲以下では反応が進まず、それ
以上では副反応が起こりやすく、タール化しやすい。
℃である。温度が上記範囲以下では反応が進まず、それ
以上では副反応が起こりやすく、タール化しやすい。
[実施例] 以下、実施例によって本発明を説明するが、これらの実
施例により本発明が制限されるものではない。
施例により本発明が制限されるものではない。
実施例1 50g(0.26モル)の3−トリフルオロメチルニトロベン
ゼン、0.3gのPtO2および200g(10モル)の無水フッ化水
素酸を電磁式撹拌装置を有する500mlステンレス製オー
トクレーブに入れ密閉した後、30g(0.44モル)のBF3を
圧入し、反応温度は60℃にする。水素を反応圧力よりも
1Kg/cm2高い圧力で連続的に供給し、4時間後水素の吸
収が止り反応が終了した。
ゼン、0.3gのPtO2および200g(10モル)の無水フッ化水
素酸を電磁式撹拌装置を有する500mlステンレス製オー
トクレーブに入れ密閉した後、30g(0.44モル)のBF3を
圧入し、反応温度は60℃にする。水素を反応圧力よりも
1Kg/cm2高い圧力で連続的に供給し、4時間後水素の吸
収が止り反応が終了した。
オートクレーブを氷で冷却し、圧力を下げてから内容物
を300gの氷に注いだ。この液に20%KOH水溶液を加えてp
H11のアルカリ性とした。この液を100mlのCH2Cl2で3回
抽出し、有機層を合せてMgSO4で乾燥した後、CH2Cl2を
減圧下で除去し、次の組成を有する45gの生成物を得
た。
を300gの氷に注いだ。この液に20%KOH水溶液を加えてp
H11のアルカリ性とした。この液を100mlのCH2Cl2で3回
抽出し、有機層を合せてMgSO4で乾燥した後、CH2Cl2を
減圧下で除去し、次の組成を有する45gの生成物を得
た。
4−フルオロ−3−トリフルオロメチルアニリン 85% 3−トリフルオロメチルアニリン 15% 実施例2 実施例1において3−トリフルオロメチルニトロベンゼ
ンの代りに2−トリフルオロメチルニトロベンゼンを使
用した以外は実施例1と同様に反応を実施した。反応終
了後処理及び分析した結果、次の組成を有する42gの生
成物を得た。
ンの代りに2−トリフルオロメチルニトロベンゼンを使
用した以外は実施例1と同様に反応を実施した。反応終
了後処理及び分析した結果、次の組成を有する42gの生
成物を得た。
4−フルオロ−2−トリフルオロメチルアニリン 83% 2−トリフルオロメチルアニリン 16% 実施例3 実施例1において3−トリフルオロメチルニトロベンゼ
ンの代りに2−クロロ−5−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼンを使用した以外は実施例1と同様に実施し、次
の組成を有する38gの生成物を得た。
ンの代りに2−クロロ−5−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼンを使用した以外は実施例1と同様に実施し、次
の組成を有する38gの生成物を得た。
2−クロロ−4−フルオロ−5−トリフルオロメチルア
ニリン 80% 2−クロロ−5−トリフルオロメチルアニリン 20% 実施例4 実施例1において3−トリフルオロメチルニトロベンゼ
ンの代りに2−トリフルオロメトキシニトロベンゼンを
使用した以外は実施例1と同様に実施し、次の組成を有
する40gの生成物を得た。
ニリン 80% 2−クロロ−5−トリフルオロメチルアニリン 20% 実施例4 実施例1において3−トリフルオロメチルニトロベンゼ
ンの代りに2−トリフルオロメトキシニトロベンゼンを
使用した以外は実施例1と同様に実施し、次の組成を有
する40gの生成物を得た。
4−フルオロ−2−トリフルオロメトキシアニリン85% 2−トリフルオロメトキシアニリン 15% 比較例1 50g(0.26モル)の3−トリフルオロメチルニトロベン
ゼン、0.3gのPtO2および200g(10モル)の無水フッ化水
素酸を電磁式撹拌装置を有する500mlステンレス製オー
トクレーブに入れ密閉した後、反応温度を60℃にする。
水素を反応圧力よりも1Kg/cm2高い圧力で連続的に供給
し、10時間後、反応を終了させた。オートクレーブを氷
で冷却し、圧力を下げてから内容物を300gの氷に注い
だ。この液に20%KOH水溶液を加えてpH11のアルカリ性
とした。この液を100mlのCH2Cl2で3回抽出し、有機層
を合せてMgSO4で乾燥した後、CH2Cl2を減圧下で除去
し、次の組成を有する5gの生成物を得た。
ゼン、0.3gのPtO2および200g(10モル)の無水フッ化水
素酸を電磁式撹拌装置を有する500mlステンレス製オー
トクレーブに入れ密閉した後、反応温度を60℃にする。
水素を反応圧力よりも1Kg/cm2高い圧力で連続的に供給
し、10時間後、反応を終了させた。オートクレーブを氷
で冷却し、圧力を下げてから内容物を300gの氷に注い
だ。この液に20%KOH水溶液を加えてpH11のアルカリ性
とした。この液を100mlのCH2Cl2で3回抽出し、有機層
を合せてMgSO4で乾燥した後、CH2Cl2を減圧下で除去
し、次の組成を有する5gの生成物を得た。
4−フルオロ−3−トリフルオロメチルアニリン 41% 3−トリフルオロメチルアニリン 59% [発明の効果] 本発明の方法は使用する触媒が極めて少なく、また反応
によって消費することがないので容易に回収でき、再使
用が可能であり、さらに反応工程が一段であることから
多段の反応に比較して優位な方法である。
によって消費することがないので容易に回収でき、再使
用が可能であり、さらに反応工程が一段であることから
多段の反応に比較して優位な方法である。
また本発明の方法は、有毒な触媒を使用しないこと、困
難な取り扱いを回避することが可能であることおよび反
応条件が温和であることなどの優れた点を有し、ニトロ
ベンゼン誘導体から4−フルオロアニリン誘導体を高い
収率で得ることができる。
難な取り扱いを回避することが可能であることおよび反
応条件が温和であることなどの優れた点を有し、ニトロ
ベンゼン誘導体から4−フルオロアニリン誘導体を高い
収率で得ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 217/84 // B01J 31/28 X 7508−4G C07B 61/00 300
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 (ただし、式中R1はパーハロアルキル基もしくはパーハ
ロアルコキシ基を表し、R2,R3およびR4は同一もしくは
異なる置換基であって、水素、ハロゲン、アルキル基、
パーハロアルキル基およびパーハロアルコキシ基のなか
から選ばれる基を表す。)で表されるニトロベンゼン誘
導体から、一般式 (ただし、式中R1,R2,R3およびR4は前記と同じ。)で表
される4−フルオロアニリン誘導体を製造する際、水素
化触媒、フッ化水素酸およびフッ素を含む酸の存在下、
水素およびフッ化水素酸によって、ニトロベンゼン誘導
体の水素化およびフッ素化を同時に行うことを特徴とす
る4−フルオロアニリン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63060289A JPH0759538B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 4−フルオロアニリン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63060289A JPH0759538B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 4−フルオロアニリン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01238560A JPH01238560A (ja) | 1989-09-22 |
JPH0759538B2 true JPH0759538B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=13137850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63060289A Expired - Lifetime JPH0759538B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 4−フルオロアニリン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0759538B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9005839D0 (en) * | 1990-03-15 | 1990-05-09 | Ici Plc | Preparation of fluoroanilines |
-
1988
- 1988-03-16 JP JP63060289A patent/JPH0759538B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01238560A (ja) | 1989-09-22 |
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