JPH07106996B2 - 飽和した、ふつ素を含有するが塩素を含有しない炭化水素の製造方法 - Google Patents
飽和した、ふつ素を含有するが塩素を含有しない炭化水素の製造方法Info
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- JPH07106996B2 JPH07106996B2 JP3038038A JP3803891A JPH07106996B2 JP H07106996 B2 JPH07106996 B2 JP H07106996B2 JP 3038038 A JP3038038 A JP 3038038A JP 3803891 A JP3803891 A JP 3803891A JP H07106996 B2 JPH07106996 B2 JP H07106996B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】本発明は飽和したふっ素含有、塩素非含有
炭化水素の製造のための改良方法に関する。
炭化水素の製造のための改良方法に関する。
【０００２】１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ
ブタンは２−クロロ−及び／又は２，３−ジクロロ−
１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブテンの５０
±１０℃における接触水素化によって取得することがで
きるということは公知である（ファンヤオゼンら、Ｙｏ
ｕｊｉ Ｈｕｏｘｕｅ（２）、１２５〜１２８頁（１９
８４）、Ｃ．Ａ．１０１、５４５４８ｕ参照）。この場
合に反応後に存在する混合物は、２−クロロ化合物から
出発するときは５６％、２，３−ジクロロ化合物から出
発するときは１８％のみの所望の１，１，１，４，４，
４−ヘキサフルオロブタンを含有するにすぎない。
ブタンは２−クロロ−及び／又は２，３−ジクロロ−
１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブテンの５０
±１０℃における接触水素化によって取得することがで
きるということは公知である（ファンヤオゼンら、Ｙｏ
ｕｊｉ Ｈｕｏｘｕｅ（２）、１２５〜１２８頁（１９
８４）、Ｃ．Ａ．１０１、５４５４８ｕ参照）。この場
合に反応後に存在する混合物は、２−クロロ化合物から
出発するときは５６％、２，３−ジクロロ化合物から出
発するときは１８％のみの所望の１，１，１，４，４，
４−ヘキサフルオロブタンを含有するにすぎない。
【０００３】飽和した、ふっ素を含有するが塩素を含有
しない炭化水素は、最近、地球雰囲気のオゾン層に対し
て悪影響を有していない、合成フォーム材料のための絶
縁及び発泡ガスとして、またヒートポンプ系のための作
動液体として、特別な工業的関心を得ている（たとえ
ば、ドイツ公開特許明細書第３,７３５,４６７号及びド
イツ公開特許明細書第３,８１８,６９２号参照）。
しない炭化水素は、最近、地球雰囲気のオゾン層に対し
て悪影響を有していない、合成フォーム材料のための絶
縁及び発泡ガスとして、またヒートポンプ系のための作
動液体として、特別な工業的関心を得ている（たとえ
ば、ドイツ公開特許明細書第３,７３５,４６７号及びド
イツ公開特許明細書第３,８１８,６９２号参照）。
【０００４】式（Ｉ）
【０００５】
【化５】
【０００６】式中でＲfは、それぞれ、
【０００７】
【化６】
【０００８】を表わし、ここでｎは０〜７であり、但し
両方のｎの合計は１０以下であり、あるいは両方のＲf
は共同して
両方のｎの合計は１０以下であり、あるいは両方のＲf
は共同して
【０００９】
【化７】
【００１０】を表わす、の、飽和した、ふっ素を含有し
塩素を含有しない炭化水素は、式（Ｉ）
塩素を含有しない炭化水素は、式（Ｉ）
【００１１】
【化８】
【００１２】式中でＸは水素又は塩素を表わし、且つＲ
fは式（Ｉ）中に記した意味を有する、 の飽和した、ふっ素及び塩素含有炭化水素の接触的水素
化に際し、水素化を８０℃よりも高い温度において気相
で行なうことを特徴とする改良方法によって製造するこ
とができるということがここに見出された。
fは式（Ｉ）中に記した意味を有する、 の飽和した、ふっ素及び塩素含有炭化水素の接触的水素
化に際し、水素化を８０℃よりも高い温度において気相
で行なうことを特徴とする改良方法によって製造するこ
とができるということがここに見出された。
【００１３】式（Ｉ）及び（ＩＩ）中のＲfは、ｎが０
〜２である場合の
〜２である場合の
【００１４】
【化９】
【００１５】であることが好ましい。
【００１６】式（ＩＩ）の出発化合物は２−クロロ−
１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブト−２−エ
ン、２，３−ジクロロ−１，１，１，４，４，４−ヘキ
サフルオロブト−２−エン、１−クロロ−３，３，４，
４，５，５−ヘキサフルオロシクロペンテン及び１，２
−ジクロロ−３，３，４，４，５，５−ヘキサフルオロ
シクロペンテンである。これらの化合物はすべて公知で
あり、容易に入手することができる。
１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブト−２−エ
ン、２，３−ジクロロ−１，１，１，４，４，４−ヘキ
サフルオロブト−２−エン、１−クロロ−３，３，４，
４，５，５−ヘキサフルオロシクロペンテン及び１，２
−ジクロロ−３，３，４，４，５，５−ヘキサフルオロ
シクロペンテンである。これらの化合物はすべて公知で
あり、容易に入手することができる。
【００１７】接触的水素化は、たとえば、式（ＩＩ）の
化合物と水素の混合物を、強固に付着した水素化触媒上
に通じることにより、公知の方法で行なうことができ
る。式（ＩＩ）の化合物の水素に対するモル比は、たと
えば、１：３〜１：５０とすることができる。この比は
１：４〜１：２０であることが好ましい。
化合物と水素の混合物を、強固に付着した水素化触媒上
に通じることにより、公知の方法で行なうことができ
る。式（ＩＩ）の化合物の水素に対するモル比は、たと
えば、１：３〜１：５０とすることができる。この比は
１：４〜１：２０であることが好ましい。
【００１８】水素化は、たとえば、常圧又は加圧下に、
たとえば、常圧から２０バールまでの範囲で行なうこと
ができる。常圧で行なうことが好ましい。
たとえば、常圧から２０バールまでの範囲で行なうこと
ができる。常圧で行なうことが好ましい。
【００１９】適当な水素化触媒は特に担体材料上に遷移
金属を含有するものである。遷移金属の中でも、パラジ
ウムと白金、特にパラジウムが好ましい。担体材料の例
は、たとえば炭素繊維、石油コークス又は活性炭の形態
にある炭素、アルミナ、シリカ、硫酸バリウム、スピネ
ル、けい酸塩及び二酸化チタンである。活性炭とリチウ
ム−アルミニウムスピネルが好適である。触媒は、たと
えば、１ｌの担体材料について０.５〜５０ｇの遷移金
属を含有することができる。この含量は２〜２０ｇ／ｌ
の範囲であることが好ましい。
金属を含有するものである。遷移金属の中でも、パラジ
ウムと白金、特にパラジウムが好ましい。担体材料の例
は、たとえば炭素繊維、石油コークス又は活性炭の形態
にある炭素、アルミナ、シリカ、硫酸バリウム、スピネ
ル、けい酸塩及び二酸化チタンである。活性炭とリチウ
ム−アルミニウムスピネルが好適である。触媒は、たと
えば、１ｌの担体材料について０.５〜５０ｇの遷移金
属を含有することができる。この含量は２〜２０ｇ／ｌ
の範囲であることが好ましい。
【００２０】反応混合物の流速と触媒量は、たとえば、
２０〜２０００ｇ／ｌ・時間の範囲の触媒重量時間当り
空間速度のような具合に選ぶことができる。５０〜８０
０ｇ／ｌ・時間の範囲の重量時間当り空間速度が好適で
ある。
２０〜２０００ｇ／ｌ・時間の範囲の触媒重量時間当り
空間速度のような具合に選ぶことができる。５０〜８０
０ｇ／ｌ・時間の範囲の重量時間当り空間速度が好適で
ある。
【００２１】本発明の本質的な特徴は、接触的水素化を
８０℃よりも高い温度で行なうことである。９０〜４０
０℃、特に９５〜２５０℃の範囲の温度が好ましい。
８０℃よりも高い温度で行なうことである。９０〜４０
０℃、特に９５〜２５０℃の範囲の温度が好ましい。
【００２２】驚くべきことに、本発明による式（Ｉ）の
ふっ素含有、塩素非含有飽和炭化水素は、比較的低い温
度で行なう公知の方法におけるよりも著るしく良好な収
率で取得することができる。本発明の方法においては、
転化率と選択率は一般に、いずれも８０％以上であり、
転化率はしばしば９０％を越える。それ故、選択率は温
度の上昇と共に低下することが多く、且つ比較的高い温
度においては本発明にしたがって使用すべき物質の場合
には、ふっ化水素の脱離の危険、従ってふっ素化の程度
の低い生成物の生成のおそれが付加的に存在することか
ら、このことは、特に驚くべきことである。
ふっ素含有、塩素非含有飽和炭化水素は、比較的低い温
度で行なう公知の方法におけるよりも著るしく良好な収
率で取得することができる。本発明の方法においては、
転化率と選択率は一般に、いずれも８０％以上であり、
転化率はしばしば９０％を越える。それ故、選択率は温
度の上昇と共に低下することが多く、且つ比較的高い温
度においては本発明にしたがって使用すべき物質の場合
には、ふっ化水素の脱離の危険、従ってふっ素化の程度
の低い生成物の生成のおそれが付加的に存在することか
ら、このことは、特に驚くべきことである。
【００２３】本発明による反応後に存在する混合物は、
たとえば、生成した塩化水素を気体として逸出させたの
ち、常温において残る残留物を蒸留することによって、
後処理することができる。特に純粋な式（Ｉ）の化合物
を取得するためには、反応後に存在する混合物を、たと
えば、アルカリ水溶液によって洗浄し、次いで有機相を
分離して、炭素とマグネシウム上で蒸留すればよい。
たとえば、生成した塩化水素を気体として逸出させたの
ち、常温において残る残留物を蒸留することによって、
後処理することができる。特に純粋な式（Ｉ）の化合物
を取得するためには、反応後に存在する混合物を、たと
えば、アルカリ水溶液によって洗浄し、次いで有機相を
分離して、炭素とマグネシウム上で蒸留すればよい。
【００２４】
【実施例】実施例の遂行において用いた装置の説明： 加熱することができる垂直石英管に、それぞれの場合に
指示した２００ｍｌの触媒を充填し、窒素によるフラッ
シング後に、それぞれの場合に指示した仕込みを、常圧
で装入した。２５分後に、石英管を離れる気体をガスク
ロマトグラフィーによって調べた。
指示した２００ｍｌの触媒を充填し、窒素によるフラッ
シング後に、それぞれの場合に指示した仕込みを、常圧
で装入した。２５分後に、石英管を離れる気体をガスク
ロマトグラフィーによって調べた。
【００２５】実施例 １ 仕込み：０.３７モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
【００２６】触媒：Ｌｉ−Ａｌスピネル上のパラジウム
（１８ｇ／ｌ）。
（１８ｇ／ｌ）。
【００２７】反応条件：１５０℃、常圧。
【００２８】触媒重量時間当り空間速度：３６０ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００２９】転化率：９１％。
【００３０】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：７８％実施例 ２ 仕込み：０.６６モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、３モル／時間の水素。
率：７８％実施例 ２ 仕込み：０.６６モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、３モル／時間の水素。
【００３１】触媒：実施例１と同じ。
【００３２】反応条件：２００℃、常圧。
【００３３】触媒重量時間当り空間速度：６５０ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００３４】転化率：８６％。
【００３５】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：８１％。
率：８１％。
【００３６】実施例 ３ 仕込み：０.４１モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
【００３７】触媒：活性炭上のパラジウム（５ｇ／
ｌ）。
ｌ）。
【００３８】反応条件：１００℃、常圧。
【００３９】触媒重量時間当り空間速度：４１０ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００４０】転化率：１００％。
【００４１】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：１００％実施例 ４ 仕込み：０.３３モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、２モル／時間の水素。
率：１００％実施例 ４ 仕込み：０.３３モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、２モル／時間の水素。
【００４２】触媒：実施例３におけると同じ。
【００４３】反応条件：２００℃、常圧。
【００４４】触媒重量時間当り空間速度：３２０ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００４５】転化率：８９％。
【００４６】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：９１％実施例 ５ 仕込み：０.４１モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
率：９１％実施例 ５ 仕込み：０.４１モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
【００４７】触媒：Ｌｉ−Ａｌスピネル上のパラジウム
（５ｇ／ｌ）。
（５ｇ／ｌ）。
【００４８】反応条件：１００℃、常圧。
【００４９】触媒重量時間当り空間速度：４１０ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００５０】転化率：８２％。
【００５１】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：８３％実施例 ６ 仕込み：０.３７モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、３.７モル／時間の水素。
率：８３％実施例 ６ 仕込み：０.３７モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、３.７モル／時間の水素。
【００５２】触媒：Ｌｉ−Ａｌスピネル上のパラジウム
（１８ｇ／ｌ）。
（１８ｇ／ｌ）。
【００５３】反応条件：１５０℃、常圧。
【００５４】触媒重量時間当り空間速度：４４０ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００５５】転化率：９８％。
【００５６】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：８１.５％実施例 ７ ２００℃の温度を用いるほかは実施例５におけると同様
に遂行。
率：８１.５％実施例 ７ ２００℃の温度を用いるほかは実施例５におけると同様
に遂行。
【００５７】転化率：９３.９％。
【００５８】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：８４.３％。
率：８４.３％。
【００５９】実施例 ８ 仕込み：０.１７モル／時間のＣＦ3−ＣＨ＝ＣＣｌ−Ｃ
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
Ｆ3、２.５モル／時間の水素。
【００６０】触媒：実施例６におけると同じ。
【００６１】反応条件：２００℃、常圧。
【００６２】触媒重量時間当り空間速度：２００ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００６３】転化率：９９.５％。
【００６４】ＣＦ3−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＦ3に対する選択
率：９３.３％実施例 ９ 仕込み：０.１７モル／時間の１,２−ジクロロヘキサフ
ルオロシクロペンテン、２.５モル／時間の水素。
率：９３.３％実施例 ９ 仕込み：０.１７モル／時間の１,２−ジクロロヘキサフ
ルオロシクロペンテン、２.５モル／時間の水素。
【００６５】触媒：Ｌｉ−Ａｌスピネル上のパラジウム
（１８ｇ／ｌ）。
（１８ｇ／ｌ）。
【００６６】反応条件：２００℃、常圧。
【００６７】触媒重量時間当り空間速度：２１０ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００６８】転化率：９８.５％。
【００６９】１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ
シクロプロパンに対する選択率：９８％実施例 １０ 仕込み：７.７時間の経過における６.３の１，２−ジク
ロロヘキサフルオロシクロペンテン、４５モルの水素。
シクロプロパンに対する選択率：９８％実施例 １０ 仕込み：７.７時間の経過における６.３の１，２−ジク
ロロヘキサフルオロシクロペンテン、４５モルの水素。
【００７０】触媒：実施例９におけると同じ。
【００７１】反応条件：２００℃、常圧。
【００７２】触媒重量時間当り空間速度：２００ｇ／ｌ
・時間。
・時間。
【００７３】収率：１,０３５ｇ。
【００７４】１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ
シクロプロパンに対する選択率：９７％ 本発明の主な特徴および態様を記すと次のとおりであ
る。
シクロプロパンに対する選択率：９７％ 本発明の主な特徴および態様を記すと次のとおりであ
る。
【００７５】１．式（ＩＩ）
【００７６】
【化１０】
【００７７】式中でＸは水素又は塩素を表わし、且つＲ
fは、それぞれ、
fは、それぞれ、
【００７８】
【化１１】
【００７９】を表わし、ここでｎは０〜７であり、但し
両方のｎの合計は１０以下であり、あるいは両Ｒfが共
同して
両方のｎの合計は１０以下であり、あるいは両Ｒfが共
同して
【００８０】
【化１２】
【００８１】を表わす、の飽和した、ふっ素及び塩素を
含有する炭化水素を接触的に水素化することによる、式
（Ｉ）
含有する炭化水素を接触的に水素化することによる、式
（Ｉ）
【００８２】
【化１３】
【００８３】式中でＲfは式（ＩＩ）において示した意
味を有する、 の飽和した、ふっ素を含有するが塩素を含有しない炭化
水素の製造方法において、水素化を８０℃よりも高い温
度において気相で行なうことを特徴とする該方法。
味を有する、 の飽和した、ふっ素を含有するが塩素を含有しない炭化
水素の製造方法において、水素化を８０℃よりも高い温
度において気相で行なうことを特徴とする該方法。
【００８４】 ２．式（ＩＩ）の化合物の水素に対するモル比は１：３
乃至１：５０であることを特徴とする上記第１項記載の
方法。
乃至１：５０であることを特徴とする上記第１項記載の
方法。
【００８５】 ３．常圧から２０バールに至るまでの範囲の圧力で行な
うことを特徴とする上記第１〜２項記載の方法。
うことを特徴とする上記第１〜２項記載の方法。
【００８６】 ４．担体材料上の遷移金属を触媒として使用することを
特徴とする上記第１〜３項記載の方法。
特徴とする上記第１〜３項記載の方法。
【００８７】 ５．炭素、アルミナ、シリカ、硫酸バリウム、スピネ
ル、けい酸塩又は二酸化チタン上のパラジウム又は白金
を触媒として使用することを特徴とする上記第１〜４項
記載の方法。
ル、けい酸塩又は二酸化チタン上のパラジウム又は白金
を触媒として使用することを特徴とする上記第１〜４項
記載の方法。
【００８８】 ６．反応混合物の流速と触媒量は２０〜２,０００ｇ／
ｌ・時間の範囲の触媒重量時間当り空間速度が生じるよ
うに選ぶことを特徴とする上記第１〜５項記載の方法。
ｌ・時間の範囲の触媒重量時間当り空間速度が生じるよ
うに選ぶことを特徴とする上記第１〜５項記載の方法。
【００８９】 ７．９０〜４００℃の範囲の温度で行なうことを特徴と
する上記第１〜６項記載の方法。
する上記第１〜６項記載の方法。
【００９０】 ８．９５〜２５０℃の範囲の温度で行なうことを特徴と
する上記第１〜７項記載の方法。
する上記第１〜７項記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 23/08 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 ミヒヤエル・ネゲレ ドイツ連邦共和国デー5000ケルン80・ボル フスカウル６ (72)発明者 ハインツ・ツイーマン ドイツ連邦共和国デー5653ライヒリンゲン １・アムビーゼンベルク10 (56)参考文献 特開 平１−146831（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 式（ＩＩ） 【化１】 式中でＸは水素又は塩素を表わし、且つＲfは、それぞ
れ、 【化２】 を表わし、ここでｎは０〜７であり、但し両方のｎの合
計は１０以下であり、あるいは両Ｒfが共同して 【化３】 を表わす、の飽和した、ふっ素及び塩素を含有する炭化
水素を接触的に水素化することによる、式（Ｉ） 【化４】 式中でＲfは式（ＩＩ）において示した意味を有する、 の飽和した、ふっ素を含有するが塩素を含有しない炭化
水素の製造方法において、水素化を８０℃よりも高い温
度において気相で行なうことを特徴とする該方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4004494A DE4004494A1 (de) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | Verfahren zur herstellung von gesaettigten, fluorhaltigen und chlorfreien kohlenwasserstoffen |
| DE4004494.7 | 1990-02-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04211026A JPH04211026A (ja) | 1992-08-03 |
| JPH07106996B2 true JPH07106996B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=6400098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3038038A Expired - Fee Related JPH07106996B2 (ja) | 1990-02-14 | 1991-02-07 | 飽和した、ふつ素を含有するが塩素を含有しない炭化水素の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5530169A (ja) |
| EP (1) | EP0442087B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07106996B2 (ja) |
| CA (1) | CA2036221C (ja) |
| DE (2) | DE4004494A1 (ja) |
| ES (1) | ES2059976T3 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0587896A1 (en) * | 1991-11-22 | 1994-03-23 | Daikin Industries, Limited | Process for producing 1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane |
| DE4213975A1 (de) * | 1992-04-29 | 1993-11-04 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von hexafluorbutan und dabei zugaengliche zwischenprodukte |
| DE4215876A1 (de) * | 1992-05-14 | 1993-11-18 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Hexafluorbutan |
| EP0571920B1 (de) * | 1992-05-26 | 1997-01-15 | SOLVAY (Société Anonyme) | Verfahren zur Herstellung von Fluorkohlenwasserstoffen |
| WO1993024433A1 (en) * | 1992-06-03 | 1993-12-09 | Allied-Signal Inc. | Process producing a hydrofluorocarbon having at least one trifluoro group |
| WO1994007829A1 (en) * | 1992-09-30 | 1994-04-14 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Process for producing fluorinated saturated hydrocarbon |
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